JP3412077B2 - 光記録媒体 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、情報記録媒体に関
するものであって、特に光ビームを照射することによ
り、記録材料の透過率、反射率等の光学的な変化を生じ
させ、情報の記録、再生を行ない、且つ追記が可能な情
報記録媒体に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】現在の追記光型ディスクシステム（ＷＯ
ＲＭ、ＣＤ−Ｒ）では、使用レーザの発振波長が７７０
ｎｍ〜７９０ｎｍにあり、記録媒体は上記波長で記録、
再生が可能なように構成されている。今後、情報量の増
大に伴い記録媒体の大容量化への流れは必須である。従
って、記録、再生に用いるレーザ波長が短波長化するこ
とも必然的に起ってくることが容易に予想される。た
ゞ、データ用追記光型ディスクとして、シアニン色素や
フタロシアニン色素を記録材として用いた数多くの提案
がなされているが、耐光性、保存安定性に優れ、且つ７
００ｎｍ以下のレーザを用いた光ピックアップで記録、
再生が可能な記録材料は、未だ開発されていないのが現
状である。

【０００３】現在のＣＤ−Ｒディスクシステムも、使用
レーザの発振波長である７７０ｎｍ〜７９０ｎｍで、記
録、再生が可能なように構成されている。このシステム
も上記同様に、大容量化、レーザ波長が短波長化は必須
である。この点、現在のＣＤ及びＣＤ−ＲＯＭは、基板
自体の凹凸上にＡｌがコーティングしてあり、Ａｌの反
射率の波長依存性が小さいため、将来、レーザ波長が短
波長化されても再生は可能である。しかしながら、ＣＤ
−Ｒは記録層に６８０ｎｍ〜７５０ｎｍに最大吸収波長
を有する色素を用い、その光学定数及び膜厚構成から７
７０ｎｍ〜７９０ｎｍに高い反射率が得られる様設定し
てあるため、７００ｎｍ以下の波長域では反射率は極め
て低く、レーザ波長の短波長化に対応できず、現在のＣ
Ｄ−Ｒシステムで記録、再生している情報が、将来のシ
ステムでは再生出来ない事態を招く。これまでＣＤ−Ｒ
として、シアニン色素／金属反射層、フタロシアニン色
素／金属反射層又はアゾ金属キレート色素／金属反射層
などを記録材として用いた数多くの提案がなされている
が、このような点に解決を与えるものは未だ見出されて
いない。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】従って、本発明は上記
のような状況に鑑みてなされたものであって、上記従来
システムに比べて、短波長に発振波長を有する半導体レ
ーザを用いる高密度光ディスクシステムに適用可能な耐
光性、保存安定性に優れた光記録媒体用の記録材料を提
供するとともに、現状システムで記録、再生が可能で且
つ次世代の高密度光ディスクシステムにおいても再生可
能なＣＤ−Ｒ媒体用の記録材料を提供すること目的とす
る。

【０００５】

【課題を解決するための手段】本発明者らは鋭意検討を
重ねた結果、特定の構造を有する色素を主成分とする記
録層を設けることにより、発振波長７００ｎｍ以下の半
導体レーザを用いる高密度光ディスクシステムに適用可
能なことを見出し、更には本色素を現在ＣＤ−Ｒ用記録
材料として用いられている有機色素と混合して用いるこ
とにより、７００ｎｍ以下の波長域にも高い反射率を得
ることが可能であることを見出し、本発明を完成するに
至った。

【０００６】即ち、本発明によれば、第一に、基板上に
直接又は下引き層を介して記録層を設け、更に必要に応
じて、その上に反射層、保護層を設けてなる光記録媒体
において、前記記録層中に下記一般式（Ｉ）〜（ＩＶ）
で示される化合物の少なくとも一種を含有してなること
を特徴とする光記録媒体が提供される。

【化１】

【化２】

【化３】

【化４】 〔式中、Ｘ¹〜Ｘ⁴、Ｙ¹、Ｙ²、ｍ、ｎ、Ｍ、Ａ、Ａ’、
Ｂ及びＢ’は、それぞれ以下のものを表わす。 Ｘ¹〜Ｘ⁴：それぞれ独立に水素原子、置換若しくは未置
換の直鎖若しくは分岐のアルキル基又は置換若しくは未
置換のフェニル基、 Ｙ¹、Ｙ²：それぞれ独立に置換若しくは未置換の直鎖若
しくは分岐のアルキル基、直鎖、分岐若しくは脂環式の
アルキルを含むアルコキシ基、アルキルチオ基、置換若
しくは未置換のアリールオキシ基、アリールチオ基又は
シリル基、 ｍ、ｎ：０〜２の整数、 上記特定の置換基以外の置換基：水素原子又はハロゲン
原子、 Ｍ：２個の水素原子、ハロゲン原子若しくは酸素原子を
有してもよい２価、３価若しくは４価の金属原子、又は
−（ＯＲ¹）o 基、−（ＯＳｉＲ²Ｒ³Ｒ⁴）p 基、−（Ｏ
ＰＯＲ⁵Ｒ⁶）ｑ 基若しくは−（ＯＣＯＲ⁷）ｒ基を有し
てもよい金属原子、 Ｒ¹〜Ｒ⁷：それぞれ独立に水素原子、置換若しくは未置
換の１価の脂肪族炭化水素基又は置換若しくは未置換の
１価の芳香族炭化水素基、 ｏ、ｐ、ｑ、ｒ：０〜２の整数、 Ａ、Ａ’：等しくても異なっていてもよく必ず連結され
ている置換基であって、置換若しくは未置換の２価の脂
肪族炭化水素基又は置換若しくは未置換の２価の芳香族
炭化水素基、 Ｂ、Ｂ’：等しくても異なっていてもよく必ず連結され
ている置換基であって、エーテル結合を有していてもよ
い置換若しくは未置換の２価の脂肪族炭化水素基又は置
換若しくは未置換の２価の芳香族炭化水素基。〕 第二に、上記第一に記載した光記録媒体において、前記
記録層が前記一般式（Ｉ）〜（ＩＶ）で示される化合物
の少なくとも一種と６８０ｎｍ〜７５０ｎｍに最大吸収
波長を有する有機色素とを含有してなることを特徴とす
る光記録媒体が提供される。第三に、上記第二に記載し
た光記録媒体において、前記６８０ｎｍ〜７５０ｎｍに
最大吸収波長を有する有機色素がペンタメチンのシアニ
ン色素、フタロシアニン色素及びアゾ金属キレート色素
の少なくとも一種である光記録媒体が提供される。第四
に、上記第一に記載した光記録媒体において、前記反射
層がアルミニウム又は金からなる光記録媒体が提供され
る。第五に、上記第一に記載した光記録媒体において、
前記保護層が紫外線硬化型樹脂からなる光記録媒体が提
供される。

【０００７】本発明の光記録媒体は、前記一般式（Ｉ）
〜（ＩＶ）で示される化合物の少なくとも１種を含有す
る記録層を設けたことから、７００ｎｍ以下の波長域の
レーザ光で記録、再生が可能で、しかも耐光性且つ保存
安定性に優れたものとなり、また別の態様では、前記一
般式（Ｉ）〜（ＩＶ）で示される少なくとも１種の化合
物と、６８０〜７５０ｎｍに最大吸収波長を有する有機
色素との混合物からなる記録層を設けたことから、現状
システムでのＣＤ−Ｒ媒体として使用でき、しかも次世
代の高密度光ディスクシステムとなっても、記載された
情報を再生することが可能なものとなる。

【０００８】

【発明の実施の形態】以下、本発明を詳しく説明する。
本発明の光記録媒体は、記録層中に前記一般式（Ｉ）〜
（ＩＶ）で示される化合物の少なくとも一種を含有して
なることを特徴とする。まず、本発明で使用する前記一
般式（Ｉ）〜（ＩＶ）で示される化合物について説明す
ると、前記一般式（Ｉ）〜（ＩＶ）において、Ｘ¹〜Ｘ⁴
はそれぞれ独立に水素原子、置換若しくは未置換の直鎖
若しくは分岐のアルキル基又は置換若しくは未置換のフ
ェニル基を表わす。

【０００９】この場合のアルキル基の具体例としては、
例えば、次のものが挙げられる。メチル基、エチル基、
ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｎ−ペ
ンチル基、ネオペンチル基、イソアミル基、２−メチル
ブチル基、ｎ−ヘキシル基、２−メチルペンチル基、３
−メチルペンチル基、４−メチルペンチル基、２−エチ
ルブチル基、ｎ−ヘプチル基、２−メチルヘキシル基、
３−メチルヘキシル基、４−メチルヘキシル基、５−メ
チルヘキシル基、２−エチルペンチル基、３−エチルペ
ンチル基、ｎ−オクチル基、２−メチルヘプチル基、３
−メチルヘプチル基、４−メチルヘプチル基、５−メチ
ルヘプチル基、２−エチルヘキシル基、３−エチルヘキ
シル基、ｎ−ノニル基、ｎ−デシル基、ｎ−ドデシル基
等の一級アルキル基；イソプロピル基、ｓｅｃ−ブチル
基、１−エチルプロピル基、１−メチルブチル基、１，
２−ジメチルプロピル基、１−メチルヘプチル基、１−
エチルブチル基、１，３−ジメチルブチル基、１，２−
ジメチルブチル基、１−エチル−２−メチルプロピル
基、１−メチルヘキシル基、１−エチルヘプチル基、１
−プロピルブチル基、１−イソプロピル−２−メチルプ
ロピル基、１−エチル−２−メチルブチル基、１−エチ
ル−２−メチルブチル基、１−プロピル−２−メチルプ
ロピル基、１−メチルヘプチル基、１−エチルヘキシル
基、１−プロピルペンチル基、１−イソプロピルぺンチ
ル基、１−イソプロピル−２−メチルブチル基、１−イ
ソプロピル−３−メチルブチル基、１−メチルオクチル
基、１−エチルヘプチル基、１−プロピルヘキシル基、
１−イソブチル−３−メチルブチル基等の二級アルキル
基；ｔｅｒｔ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ヘキシル基、ｔｅ
ｒｔ−アミル基、ｔｅｒｔ−オクチル基等の三級アルキ
ル基；シクロヘキシル基、４−メチルシクロヘキシル
基、４−エチルシクロヘキシル基、４−ｔｅｒｔ−ブチ
ルシクロヘキシル基、４−（２−エチルヘキシル）シク
ロヘキシル基、ボルニル基、イソボルニル基、アダマン
タン基等のシクロアルキル基等。

【００１０】また、置換若しくは未置換のフェニル基と
具体例としては、例えばフェニル基、エチルフェニル
基、ｔｅｒｔ−ブチルフェニル基、ブチルフェニル基、
ノニルフェニル基等が挙げられる。

【００１１】前記一般式（Ｉ）及び（ＩＩＩ）におい
て、Ｙ¹及びＹ²はそれぞれ独立に置換若しくは未置換の
直鎖若しくは分岐のアルキル基、直鎖、分岐若しくは脂
環式のアルキルを含むアルコキシ基、アルキルチオ基、
置換若しくは未置換のアリールオキシ基、アリールチオ
基又はシリル基を表わし、またｍ及びｎは置換数を表わ
し０〜２の整数である。なお、前記特定の置換基以外の
置換基は水素原子又はハロゲン原子である。

【００１２】置換若しくは未置換の直鎖若しくは分岐の
アルキル基の具体例としては、前記Ｘ¹〜Ｘ⁴に関するア
ルキル基の具体例と同様のものが挙げられる。また、ア
ルコキシ基の具体例としては、メトキシメチル基、メト
キシエチル基、エトキシメチル基、エトキシエチル基、
ブトキシエチル基、エトキシエトキシエチル基、メトキ
シプロピル基、エトキシプロピル基などが挙げられ、ま
たアルキルチオ基の具体例としては、メチルチオエチル
基、エチルチオエチル基、エチルプロピル基などが挙げ
られる。

【００１３】また、アリールオキシ基及びアリールチオ
基のアリール基の具体例としては、フェニル基、エチル
フェニル基、ブチルフェニル基、ノニルフェニル基、ナ
フチル基、ブチルナフチル基、ノニルナフチル基等が挙
げられる。なお、アリールオキシ基の具体例としては、
フェノキシエチル基、メトキシフェニル基、ブトキシフ
ェニル基等が、アリールチオ基の具体例としては、フェ
ニルチオエチル基、メチルチオフェニル基、ブチルチオ
フェニル基等が挙げられる。

【００１４】また、シリル基としては、トリメチルシリ
ル基、トリエチルシリル基、トリブチルシリル基、ｔｅ
ｒｔ−ブチルジメチルシリル基、トリフェニルシリル
基、クロロプロピルジメチルシリル基、ビニルジメチル
シリル基、イソプロピルジエチルシリル基、フェニルジ
メチルシリル基などのシリル基や、トリメチルシリル置
換メチル基、トリメチルシリル置換エチル基、トリメト
キシシリル置換プロピル基、トリメトキシシリル置換フ
ェニル基などのシリル置換アルキル基などが挙げられ
る。なお、ハロゲン原子としては、臭素原子、塩素原
子、フッ素原子等が挙げられる。

【００１５】前記一般式（Ｉ）〜（ＩＶ）において、Ｍ
は２個の水素原子、ハロゲン原子若しくは酸素原子を有
してもよい２価、３価若しくは４価の金属原子、又は−
（ＯＲ¹）o 基、−（ＯＳｉＲ²Ｒ³Ｒ⁴）p 基、−（ＯＰ
ＯＲ⁵Ｒ⁶）ｑ 基若しくは−（ＯＣＯＲ⁷）ｒ基を有して
もよい金属原子を表わし、こゝでＲ¹〜Ｒ⁷はそれぞれ独
立に水素原子、置換若しくは未置換の１価の脂肪族炭化
水素基又は置換若しくは未置換の１価の芳香族炭化水素
基であり、ｏ、ｐ、ｑ、ｒは０〜２の整数である。

【００１６】この場合のＭの具体例としては、水素原
子；Ｃａ、Ｍｇ、Ｚｕ、Ｃｕ、Ｎｉ、Ｐｄ、Ｆｅ、Ｐ
ｂ、Ｃｏ、Ｐｔ、Ｃｄ、Ｒｕなどの二価の金属；Ａｌ、
Ｉｎ、Ｆｅ、Ｇａ、Ｔｌ、Ｍｎなどの三価金属のハロゲ
ン化物、ヒドロキシル化物、アルコキシ化物、トリアル
キルシロキシ基など；及びＳｉ、Ｔｉ、Ｓｎ、Ｃｒ、Ｇ
ａ、Ｓｎ、Ｍｎ、Ｚｒ、Ｖなどの四価金属のハロゲン化
物、アルコキシ化物、ヒドロキシル化物、トリアルキル
シロキシ化物、酸化物などが挙げられる。また、前記Ｒ
¹〜Ｒ⁷の定義中、１価の脂肪族炭化水素基としては、メ
チル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチ
ル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブ
チル基、アミル基、ヘキシル基、オクチル基、デシル
基、ドデシル基、オクタデシル基等のアルキル基や、ビ
ニル基、アリル基、イソプロペニル基、１−ブテニル
基、２−ブテニル基、２−ペンテニル基等のアルケニル
基などが挙げられる。１価の芳香族炭化水素基として
は、フェニル基、ベンジル基などが挙げられる。また、
それらの置換基としては、フッ素、塩素、臭素などのハ
ロゲン原子、三フッ化炭素基、シアノ基、エステル基な
どが挙げられる。

【００１７】前記一般式（ＩＩ）〜（ＩＶ）において、
Ａ及びＡ’は等しくても異なっていてもよく必ず連結さ
れている置換基であって、置換若しくは未置換の２価の
脂肪族炭化水素基又は置換若しくは未置換の２価の芳香
族炭化水素基を表わし、またＢ及びＢ’は等しくても異
なっていてもよく必ず連結されている置換基であって、
エーテル結合を有していてもよい置換若しくは未置換の
２価の脂肪族炭化水素基又は置換若しくは未置換の２価
の芳香族炭化水素基を表わすが、これらは特に制限はな
く、連結されている基であればよい。−Ａ−Ａ’−、−
Ｂ−Ｂ’−としては、例えば表１に挙げられるような基
が好ましい。

【００１８】

【表１】

【００１９】前記一般式（Ｉ）〜（ＩＶ）で表わされる
化合物の具体例としては、例えば表２〜表５に示される
ものが挙げられる。

【００２０】

【表２】

【００２１】

【表３】

【００２２】

【表４】

【００２３】

【表５】

【００２４】また、記録層においては、前記したよう
に、前記一般式（Ｉ）〜（ＩＶ）で示される少なくとも
１種の化合物と、６８０〜７５０ｎｍに最大吸収波長を
有する有機色素との混合物を主成分とすることにより、
現状システムで記録再生が可能であるとともに、次世代
システムにおいても再生のみは可能なＣＤ−Ｒ記録媒体
となる。この場合の６８０〜７５０ｎｍに最大吸収波長
を有する色素としては、ペンタメチンのシアニン色素、
フタロシアニン色素及びアゾ金属キレート色素が好まし
い。

【００２５】ペンタメチンのシアニン色素の好ましい例
としては、下記一般式（Ｖ）で示されるものが挙げられ
る。

【化５】 式中、Ｒ¹¹、Ｒ¹²は炭素数１〜３のアルキル基、Ｒ¹³、
Ｒ¹⁴は炭素数１〜６の置換又は未置換のアルキル基、Ｘ
は酸アニオンを表わす。なお、芳香族環は他の芳香族環
と縮合されていてもよく、また、アルキル基、ハロゲン
原子、アルコキシ基又はアシル基で置換されていてもよ
い。

【００２６】フタロシアニン色素の好ましい例として
は、下記一般式（ＶＩ−１）若しくは（ＶＩ−２）で示
されるものが挙げられる。

【化６】 式中、Ｍ¹はＮｉ、Ｐｂ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｃｏ、Ｍｎ、Ｆ
ｅ、ＴｉＯ又はＶＯを、Ｘ⁵〜Ｘ⁸はそれぞれ独立に置換
位置α位の−ＯＲ又は−ＳＲを、Ｒは置換されていても
よい炭素数３〜１２の直鎖、分岐若しくは脂環式アルキ
ル基又は同じく置換されていてもよいアリール基を表わ
す。Ｘ⁵〜Ｘ⁸以外のベンゼン環の置換基は水素原子又は
ハロゲン原子である。

【００２７】

【化７】 式中、Ｍ²は、Ｓｉ、Ｇｅ、Ｉｎ、又はＳｎを、Ｘ⁹〜Ｘ
¹²はそれぞれ独立に置換位置α位の−ＯＲ又は−ＳＲ
を、Ｒは置換されていてもよい炭素数３〜１２の直鎖、
分岐若しくは脂環式アルキル基又は同じく置換されてい
てもよいアリール基を、Ｙ³、Ｙ⁴は−ＯＳｉＲ¹⁵Ｒ¹⁶Ｒ
¹⁷、−ＯＣＯＲ¹⁵Ｒ¹⁶Ｒ¹⁷、又は−ＯＰＯＲ¹⁵Ｒ¹⁶Ｒ¹⁷
を表わし、Ｒ¹⁵〜Ｒ¹⁷はそれぞれ独立に炭素数１〜１０
のアルキル基又はアリール基を表わす。Ｘ⁹〜Ｘ¹²以外
のベンゼン環の置換基は、水素原子又はハロゲン原子で
ある。

【００２８】また、アゾ金属キレート色素の好ましい例
としては、下記一般式（ＶＩＩ）で示されるアゾ系化合
物と金属とのアゾ金属キレート化合物の一種又は二種以
上が挙げられ、、金属の好ましい例としては、Ｎｉ、Ｐ
ｔ、Ｐｄ、Ｃｏ、Ｃｕ、Ｚｎなどが挙げられる。

【化８】 式中、Ａはそれが結合している炭素原子及び窒素原子と
一緒になって複素環を形成する残基を表わし、Ｂはそれ
が結合している二つの炭素原子と一緒になって芳香環又
は複素環を形成する残基を表わし、またＸは活性水素を
有する基を表わす。

【００２９】本発明の前記一般式（Ｉ）〜（ＩＶ）で示
される少なくとも一種の色素と前記（Ｖ）〜（ＶＩＩ）
で示される少なくとも一種の色素とを併用する場合の重
量組成比は、本発明色素／〔（Ｖ）〜（ＶＩＩ）の色
素〕＝１０／１００〜９０／１００、好ましくは４０／
１００〜２０／１００である。また、両色素を併用した
場合の記録層の膜厚は５００Å〜５μｍ、好ましくは１
０００Å〜５０００Åである。

【００３０】なお、記録層においては、前記一般式
（Ｉ）〜（ＩＶ）で示される化合物、あるいは該化合物
と前記特定の有機色素とを混合するのみではなく、光学
特性、記録感度、信号特性の向上のため、他の有機色素
及び金属、金属化合物と混合又は積層化して用いること
も、もちろん可能である。この場合、有機色素として
は、ポリメチン色素、ナフタロシアニン系、フタロシア
ニン系、スクアリリウム系、クロコニウム系、ピリリウ
ム系、ナフトキノン系、アントラキノン（インダンスレ
ン）系、キサンテン系、トリフェニルメタン系、アズレ
ン系、テトラヒドロコリン系、フェナンスレン系、トリ
フェノチアジン系染料、及び金属錯体化合物などが挙げ
られる。また金属、金属化合物例としては、Ｉｎ、Ｔ
ｅ、Ｂｉ、Ｉｎ、Ｓｅ、Ｓｂ、Ｇｅ、Ｓｎ、Ａｌ、Ｂ
ｅ、ＴｅＯ₂、ＳｎＯ、Ａｓ、Ｃｄなどが挙げられ、そ
れぞれを分散混合あるいは積層の形態で用いることがで
きる。更に、染料中に高分子材料、例えばアイオノマー
樹脂、ポリアミド樹脂、ビニル系樹脂、天然高分子、シ
リコーン、液状ゴムなどの種々の材料若しくはシランカ
ップリング剤などを分散混合しても良いし、特性改良の
目的で、安定剤（例えば遷移金属錯体）、分散剤、難燃
剤、滑剤、帯電防止剤、界面活性剤、可塑剤などと一緒
に用いることができる。

【００３１】次に、本発明の記録媒体の構成について述
べる。図１は、本発明の記録媒体に適用し得る層構成例
を示す図で、これは追記型光ディスクの例である。基板
１の上に、必要に応じて下引き層３を介して、記録層２
を設け、更に必要に応じ保護層４が設けられている。ま
た、必要に応じて基板１の下にハードコート層を設ける
ことができる。図２は、本発明の記録媒体に適用し得る
別のタイプの層構成例を示す図で、これはＣＤ−Ｒメデ
ィアの例である。図１の構成の記録層２の上に反射層６
が設けられている。なお、本発明の記録媒体は、図１及
び図２に示した構成の記録層（有機薄膜層）を内側にし
て、他の基板と空間を介して密封したエアーサンドイッ
チ構造にしてもよく、また保護層を介して接着した貼合
せ構造にしてもよい。

【００３２】次に、構成各層の必要特性及びその構成材
料について述べる。 １）基板 基板の必要特性としては、基板側より記録再生を行なう
場合には使用レーザー光に対して透明でなければならな
いが、記録層側から記録再生を行なう場合は透明である
必要はない。基板材料としては、例えばポリエステル、
アクリル樹脂、ポリアミド、ポリカーボネート樹脂、ポ
リオレフィン樹脂、フェノール樹脂、エポキシ樹脂、ポ
リイミドなどのプラスチック、ガラス、セラミックある
いは金属などを用いることができる。なお、基板の表面
にトラッキング用の案内溝や案内ピット、更にアドレス
信号などのプレフォーマットが形成されていてもよい。

【００３３】２）記録層 記録層はレーザー光の照射により何らかの光学的変化を
生じさせその変化により情報を記録できるものであっ
て、この記録層中には前述したように前記一般式（Ｉ）
〜（ＩＶ）で示される化合物の少なくとも一種、場合に
より更に前記（Ｖ）〜（ＶＩＩ）で示される色素の少な
くとも一種が含有されている必要がある。記録層の形成
は蒸着、スパッタリング、ＣＶＤ又は溶剤塗布などの通
常の手段によって行なうことができる。塗布法を用いる
場合には、上記化合物などを有機溶剤に溶解して、スプ
レー、ローラーコーティング、ディッピング又はスピン
コーティングなどの慣用のコーティング法で行なうこと
ができる。用いられる有機溶剤としては、一般にメタノ
ール、エタノール、イソプロパノールなどアルコール
類、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン
などのケトン類、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ，
Ｎ−ジメチルホルムアミドなどのアミド類、ジメチルス
ルホキシドなどのスルホキシド類、テトラヒドロフラ
ン、ジオキサン、ジエチルエーテル、エチレングリコー
ルモノメチルエーテルなどのエーテル類、酢酸メチル、
酢酸エチルなどのエステル類、クロロホルム、塩化メチ
レン、ジクロロエタン、四塩化炭素、トリクロロエタン
などの脂肪族ハロゲン化炭素類、ベンゼン、キシレン、
モノクロロベンゼン、ジクロロベンゼンなどの芳香族
類、あるいはメトキシエタノール、エトキシエタノール
などのセルソルブ類、ヘキサン、ペンタン、シクロヘキ
サン、メチルシクロヘキサンなどの炭化水素類などが挙
げられる。記録層の膜厚は、１００Å〜１０μｍ、好ま
しくは２００Å〜２０００Åが適当である。

【００３４】３）下引き層 下引き層は、接着性の向上、水又はガスなどに対す
るバリヤー、記録層の保存安定性の向上、反射率の
向上、溶剤からの基板の保護、案内溝、案内ピッ
ト、プレフォーマットの形成などを目的として使用され
る。の目的に対しては高分子材料、例えばアイオノマ
ー樹脂、ポリアミド、ビニル系樹脂、天然樹脂、天然高
分子、シリコーン、液状ゴムなどの種々の高分子化合物
及びシランカップリング剤などを用いることができ、
及びの目的に対しては、上記高分子材料以外に無機化
合物、例えばＳｉＯ₂、ＭｇＦ₂、ＳｉＯ、ＴｉＯ₂、Ｚ
ｎＯ、ＴｉＮ、ＳｉＮなどがあり、更に金属又は半金
属、例えばＺｎ、Ｃｕ、Ｎｉ、Ｃｒ、Ｇｅ、Ｓｅ、Ａ
ｕ、Ａｇ、Ａｌなどを用いることができる。また、の
目的に対しては、金属、例えばＡｌ、Ａｕ、Ａｇなど
や、金属光沢を有する有機薄膜、例えばメチン染料、キ
サンテン系染料などを用いることができ、及びの目
的に対しては、紫外線硬化樹脂、熱硬化樹脂、熱可塑性
樹脂などを用いることができる。下引き層の膜厚は０．
０１〜３０μｍ、好ましくは０．０５〜１０μｍが適当
である。

【００３５】４）反射層 反射層は単体で高反射率の得られる腐食されにくい金
属、半金属などが使用できる。具体的材料としては、Ａ
ｕ、Ａｇ、Ａｌ、Ｃｒ、Ｎｉ、Ｆｅ、Ｓｎなどが挙げら
れ、反射率、生産性の点からＡｕ、Ａｌが最も好まし
い。これらの金属、半金属は単独で使用してもよく、２
種以上の合金としてもよい。膜形成法としては蒸着、ス
パッタリングなどが挙げられ、膜厚としては５０〜５０
００Å、好ましくは１００〜３０００Åである。

【００３６】５）保護層、基板表面ハードコート層 保護層又は基板表面ハードコート層は、記録層（反射
吸収層）を傷、埃、汚れなどから保護する、記録層
（反射吸収層）の保存安定性の向上、反射率の向上な
どを目的として使用される。これらの目的に対しては、
前記の下引き層に示した材料を用いることができる。ま
た、無機材料としてＳｉＯ、ＳｉＯ₂なども用いること
もでき、有機材料としてポリメチルアクリレート、ポリ
カーボネート、エポキシ樹脂、ポリスチレン、ポリエス
テル樹脂、ビニル樹脂、セルロース、脂肪族炭化水素樹
脂、天然ゴム、スチレン−ブタジエン樹脂、クロロプレ
ンゴム、ワックス、アルキッド樹脂、乾性油、ロジンな
どの熱軟化性、熱溶融性樹脂も用いることができる。上
記材料のうち最も好ましいものは、生産性に優れた紫外
線硬化樹脂である。保護層又は基板表面ハードコート層
の膜厚は０．０１〜３０μｍ、好ましくは０．０５〜１
０μｍが適当である。

【００３７】本発明において、前記の下引き層、保護層
及び基板表面ハードコート層には記録層の場合と同様
に、安定剤、分散剤、難燃剤、滑剤、帯電防止剤、界面
活性剤、可塑剤などを含有させることができる。

【００３８】

【実施例】以下実施例について本発明を説明するが、本
発明これらに限定されるものではない。

【００３９】実施例１ 実施例１ 厚さ１．２μｍのポリメチルメタアクリレート基板上に
フォトポリマーにて、深さ１２００Å、半値幅０．４μ
ｍ、トラックピッチ１．４μｍの案内溝を形成した基板
上に、表２の化合物Ｎｏ．１の１，２−ジクロロエタン
溶液をスピンナー塗布し、厚さ８００Åの記録層を設け
て記録媒体を得た。

【００４０】実施例２〜８ 実施例１において、表２の化合物Ｎｏ．１の代わりに、
それぞれ表３〜５の化合物Ｎｏ．５、Ｎｏ．６、Ｎｏ．
７、Ｎｏ．８、Ｎｏ．１６、Ｎｏ．２１、Ｎｏ．２４を
用いたこと以外は、実施例１と同様にして実施例２〜８
の記録媒体を得た。

【００４１】比較例１ 実施例１において、表２の化合物Ｎｏ．１の代わりに下
記式（ＶＩＩＩ）で示される化合物を用いたこと以外
は、実施例１と同様にして比較例１の記録媒体を得た。

【化９】

【００４２】前記の実施例１〜８及び比較例１の記録媒
体を用い、下記の記録条件で基板から光を入射して記録
し、その後記録位置を再生光によりＣ／Ｎ及び反射率を
測定した。その結果を表６に示す。 記録条件： レーザー発振波長 ６８０ｎｍ 記録周波数 １．２５ＭＨｚ 記録線速 １．２ｍ／ｓｅｃ 再生条件： レーザー発振波長 ６８０ｎｍ 再生パワー ０．２５〜０．３ｍＷの連続光 スキャニングバンド巾 ３０ＫＨｚ 耐光テスト条件： 耐光テスト ４万Ｌｕｘ、Ｘｅ光、５０時間連続照射 保存テスト ８５℃、８５％、７２０時間放置

【００４３】

【表６】

【００４４】実施例９ 深さ１０００Å、半値幅０．４５μｍ、トラックピッチ
１．６μｍの案内溝を有する厚さ１．２ｍｍの射出成形
ポリカーボネート基板上に、表２の化合物Ｎｏ．１のメ
チルシクロヘキサン、２−メトキシエタノール、メチル
エチルケトン、テトラヒドロフランの混合溶液をスピン
ナー塗布し、厚さ１８００Åの記録層を形成し、次いで
その上にスパッタ法によりＡｕ２０００Åの反射層を設
け、更にその上にアクリル系フォトポリマーにて５μｍ
の保護層を設け、記録媒体を得た。

【００４５】実施例１０〜１６ 実施例９において、表２の化合物Ｎｏ．１の代わりにそ
れぞれ表３〜５の化合物Ｎｏ．５、Ｎｏ．６、Ｎｏ．
９、Ｎｏ．１５、Ｎｏ．２２、Ｎｏ．２３、Ｎｏ．２７
を用いたこと以外は、実施例９と同様にして実施例１０
〜１６の記録媒体を得た。

【００４６】比較例２ 実施例９において、表２の化合物Ｎｏ．１の代わりに比
較例１で用いた前記一般式（ＶＩＩＩ）で示される化合
物を用いたこと以外は、実施例９と同様にして比較例２
の記録媒体を得た。

【００４７】実施例９〜１６及び比較例２の記録媒体に
発振波長６８０ｎｍ、ビーム径１．４μｍの半導体レー
ザー光を用い、トラッキングしながらＥＦＭ信号を記録
し（線速１．４ｍ／ｓｅｃ）、同じレーザーの連続光で
再生し、再生波形を観察した。その結果を表７に示す。

【００４８】

【表７】

【００４９】実施例１７ 深さ１０００Å、半値幅０．４５μｍ、トラックピッチ
１．６μｍの案内溝を有する厚さ１．２ｍｍの射出成形
ポリカーボネート基板上に、下記の一般式（ＩＸ）で示
される化合物と表２の化合物Ｎｏ．２とを、重量比（１
／１）のメチルシクロヘキサン、２−メトキシエタノー
ル、メチルエチルケトン、テトラヒドロフラン混合溶媒
に溶解し、スピンナー塗布して、厚さ１７００Åの記録
層を形成し、次いで、スパッタ法によりＡｕ２０００Å
の反射層を形成して、更にその上にアクリル系フォトポ
リマーにて５μｍの保護層を設け、記録媒体を得た。

【００５０】

【化１０】

【００５１】実施例１８〜１９ 実施例１７において、表２の化合物Ｎｏ．２の代わりに
それぞれ表３の化合物Ｎｏ．５、Ｎｏ．１２を用いたこ
と以外は、実施例１７と同様にして実施例１８〜１９の
記録媒体を得た。

【００５２】実施例２０〜２１ 実施例１７において、表２の化合物Ｎｏ．２の代わりに
それぞれ表３の化合物Ｎｏ．１５、表４の化合物Ｎｏ．
１６を用い、且つ前記一般式（ＩＸ）で示される化合物
の代わりに下記一般式（Ｘ）で示される化合物を用いた
こと以外は、実施例１７と同様にして実施例２０〜２１
の記録媒体を得た。

【００５３】

【化１１】

【００５４】実施例２２〜２３ 実施例１７において、表２の化合物Ｎｏ．２の代わりに
それぞれ表３の化合物Ｎｏ．８、Ｎｏ．９を用い、且つ
前記一般式（ＩＸ）で示される化合物の代わりに下記一
般式（ＸＩ）で示される化合物を用いたこと以外は、実
施例１７と同様にして実施例２２〜２３の記録媒体を得
た。

【００５５】

【化１２】

【００５６】比較例３〜５ 実施例１７において、記録層をそれぞれ前記一般式（Ｉ
Ｘ）で示される化合物のみ、前記一般式（Ｘ）で示され
る化合物のみ、前記一般式（ＸＩ）で示される化合物の
みとしたこと以外は、実施例１７と同様にして比較例３
〜５の記録媒体を得た。

【００５７】実施例１７〜２３及び比較例３〜５の記録
媒体に発振波長７８０ｎｍ、ビーム径１．６μｍの半導
体レーザー光を用い、トラッキングしながらＥＦＭ信号
を記録し（線速１．４ｍ／ｓｅｃ）、前記レーザー及び
発振波長６８０ｎｍ、ビーム径１．４μｍの半導体レー
ザーの連続光で再生し、再生波形を観察した。その結果
を表８に示す。

【００５８】

【表８】

【００５９】

【発明の効果】請求項１の光記録媒体は、前記一般式
（Ｉ）〜（ＩＶ）で示される化合物の少なくとも一種を
記録層中に含有してなるものとしたことから、波長７０
０ｎｍ以下に高い光吸収能と光反射性を有しているた
め、高密度記録が可能な７００ｎｍ以下の波長域のレー
ザー光で記録、再生が可能であり、しかも耐光性、保存
安定性に優れている。

【００６０】請求項２の光記録媒体は、前記一般式
（Ｉ）〜（ＩＶ）で示される化合物の少なくとも一種と
６８０〜７５０ｎｍに最大吸収波長を有する有機色素と
を記録層中に含有してなるものとしたことから、現状シ
ステムでのＣＤ−Ｒとして使用でき、しかも次世代の高
密度光ディスクシステムとなっても、記録された情報を
再生することが可能になる。

【００６１】請求項３の光記録媒体は、６８０〜７５０
ｎｍに最大吸収波長を有する有機色素として、ペンタメ
チンのシアニン色素、フタロシアニン色素及びアゾ金属
キレート色素の少なくとも一種を選択したことから、高
品位の信号特性が記録可能となる。

【００６２】請求項４の光記録媒体は、前記反射層がア
ルミニウム又は金からなるものとしたことから、生産性
の良い高反射率化、ＣＤ−Ｒメディア化が可能となる。

【００６３】請求項６の光情報記録媒体は、前記保護層
が紫外線硬化型樹脂からなるものとしたことから、生産
性の高い保護層化したメディア化が可能となる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の記録媒体に適用し得る通常の追記型光
記録媒体としての層構成例を示す図である。

【図２】本発明の記録媒体に適用し得るＣＤ−Ｒ用とし
ての層構成例を示す図である。

【符号の説明】

１ 基板 ２ 記録層（有機色素層） ３ 下引き層 ４ 保護層 ５ ハードコート層 ６ 反射層

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 植野 泰伸 東京都大田区中馬込１丁目３番６号 株 式会社リコー内 (56)参考文献 特開 平２−276676（ＪＰ，Ａ) 特開 平４−106159（ＪＰ，Ａ) 特開 平１−264895（ＪＰ，Ａ) 特開 平７−268227（ＪＰ，Ａ) 特開 平８−282111（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.⁷，ＤＢ名) B41M 5/26 G11B 7/24 516 ＣＡＰＬＵＳ（ＳＴＮ) ＲＥＧＩＳＴＲＹ（ＳＴＮ) ＭＡＲＰＡＴ（ＳＴＮ)

Claims (5)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 基板上に直接又は下引き層を介して記録
   層を設け、更に必要に応じて、その上に反射層、保護層
   を設けてなる光記録媒体において、前記記録層中に下記
   一般式（Ｉ）〜（ＩＶ）で示される化合物の少なくとも
   一種を含有してなることを特徴とする光記録媒体。 【化１】 【化２】 【化３】 【化４】 〔式中、Ｘ¹〜Ｘ⁴、Ｙ¹、Ｙ²、ｍ、ｎ、Ｍ、Ａ、Ａ’、
   Ｂ及びＢ’は、それぞれ以下のものを表わす。 Ｘ¹〜Ｘ⁴：それぞれ独立に水素原子、置換若しくは未置
   換の直鎖若しくは分岐のアルキル基又は置換若しくは未
   置換のフェニル基、 Ｙ¹、Ｙ²：それぞれ独立に置換若しくは未置換の直鎖若
   しくは分岐のアルキル基、直鎖、分岐若しくは脂環式の
   アルキルを含むアルコキシ基、アルキルチオ基、置換若
   しくは未置換のアリールオキシ基、アリールチオ基又は
   シリル基、 ｍ、ｎ：０〜２の整数、 上記特定の置換基以外の置換基：水素原子又はハロゲン
   原子、 Ｍ：２個の水素原子、ハロゲン原子若しくは酸素原子を
   有してもよい２価、３価若しくは４価の金属原子、又は
   −（ＯＲ¹）o 基、−（ＯＳｉＲ²Ｒ³Ｒ⁴）p 基、−（Ｏ
   ＰＯＲ⁵Ｒ⁶）ｑ 基若しくは−（ＯＣＯＲ⁷）ｒ基を有し
   てもよい金属原子、 Ｒ¹〜Ｒ⁷：それぞれ独立に水素原子、置換若しくは未置
   換の１価の脂肪族炭化水素基又は置換若しくは未置換の
   １価の芳香族炭化水素基、 ｏ、ｐ、ｑ、ｒ：０〜２の整数、 Ａ、Ａ’：等しくても異なっていてもよく必ず連結され
   ている置換基であって、置換若しくは未置換の２価の脂
   肪族炭化水素基又は置換若しくは未置換の２価の芳香族
   炭化水素基、 Ｂ、Ｂ’：等しくても異なっていてもよく必ず連結され
   ている置換基であって、エーテル結合を有していてもよ
   い置換若しくは未置換の２価の脂肪族炭化水素基又は置
   換若しくは未置換の２価の芳香族炭化水素基。〕
2. 【請求項２】 前記記録層が前記一般式（Ｉ）〜（Ｉ
   Ｖ）で示される化合物の少なくとも一種と６８０ｎｍ〜
   ７５０ｎｍに最大吸収波長を有する有機色素とを含有し
   てなることを特徴とする請求項１記載の光記録媒体。
3. 【請求項３】 前記６８０ｎｍ〜７５０ｎｍに最大吸収
   波長を有する有機色素がペンタメチンのシアニン色素、
   フタロシアニン色素及びアゾ金属キレート色素の少なく
   とも一種である請求項２記載の光記録媒体。
4. 【請求項４】 前記反射層がアルミニウム又は金からな
   る請求項１記載の光記録媒体。
5. 【請求項５】 前記保護層が紫外線硬化型樹脂からなる
   請求項１記載の光記録媒体。