JPH10193788A - 光記録媒体 - Google Patents

光記録媒体

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JPH10193788A
JPH10193788A JP8358570A JP35857096A JPH10193788A JP H10193788 A JPH10193788 A JP H10193788A JP 8358570 A JP8358570 A JP 8358570A JP 35857096 A JP35857096 A JP 35857096A JP H10193788 A JPH10193788 A JP H10193788A
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泰伸 植野
Tsutomu Sato
勉 佐藤
Tatsuya Tomura
辰也 戸村
Noboru Sasa
登 笹
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 高密度記録が可能な630〜720nmのレ
ーザを用いた光ピックアップに適用できる追記型光記録
媒体、及び770〜830nmに高い屈折率を有し、保
存安定性及び再生安定性に優れたCD−R用の記録媒
体、更には現状システムで記録、再生が可能で且つ次世
代の高密度光ディスクシステムにおいても再生のみは可
能なCD−R用の記録媒体を提供すること。 【解決手段】 下記一般式(I)で示される金属キレー
ト化合物の少なくとも1種あるいは該化合物と680〜
750nmに最大吸収波長を有する有機色素とを記録層
に含有させる。 【化1】

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、記録媒体に関する
ものであって、特に光ビームを照射することにより、記
録材料の透過率、反射率等の光学的な変化を生じさせ、
情報の記録、再生を行ない、且つ追記が可能な光記録媒
体に関するものである。
【0002】
【従来の技術】従来、有機色素薄膜を記録層とする記録
媒体において、該有機色素薄膜にフタロシアニン化合物
を使用したもの(例えば特開昭58−183296号公
報その他)、シアニン系色素を使用したもの(例えば特
開昭57−82093号公報その他)、あるいはフェナ
レン系色素、ナフトキノン系色素などを使用したものが
知られている。たゞ、フタロシアニン化合物は、熱、光
等に対する安定性が極めて高いため、情報記録感度が低
く記録に時間を要するし、また有機溶剤への溶解性が乏
しく、従来は蒸着法しか薄膜化はできず生産性が悪いと
いう難点を有している。フェナレン系色素又はナフトキ
ノン系色素は、蒸着させやすい利点を有する反面、反射
率が低いという欠点がある。シアニン系色素は、塗布に
よるコーティングが容易であるという利点を有する反
面、耐光性に劣り、再生光による劣化を起こすという欠
点がある。
【0003】加えて、近年、高記録密度化を図るべく、
従来の光ディスクで使用されてきた波長域より短波長に
発振波長(630〜720nm)を有する半導体レーザ
が実用化されはじめている。ところが、これまでデータ
用追記光型ディスクとして、シアニン色素やフタロシア
ニン色素を記録材料として用いた数多くの提案がなされ
ている(例えば、シアニン色素を記録材料として用いた
ものには、特開昭57−82093号、特開昭58−5
6892号、特開昭58−112790号、特開昭58
−114989号、特開昭59−85791号、特開昭
60−83236号、特開昭60−89842号、特開
昭61−25886号各公報等が、また、フタロシアニ
ン色素を記録材料として用いたものには、特開昭61−
150243号、特開昭61−177287号、特開昭
61−154888号、特開昭61−246091号、
特開昭62−39286号、特開昭63−37791
号、特開昭63−39888号各公報等がある)が、耐
光性、保存安定性に優れ、且つ700nm以下のレーザ
を用いた光ピックアップで記録、再生が可能な記録材料
は、未だ開発されていないのが現状である。
【0004】更に、基板上に有機色素、金属反射層、保
護層を順次積層してなる追記コンパクトディスク型(C
D−R)記録媒体は、そのCD規格を満足するには高い
反射率を必要とし、そのため再生波長域(770〜83
0nm)に高い屈折率を有し、且つ安定性の高い有機色
素の開発が必要である。これまでCD−R記録媒体とし
て、シアニン色素/金属反射層、フタロシアニン色素/
金属反射層又はアゾ金属キレート色素/金属反射層など
を記録材料として用いた数多くの提案がなされている
(例えば、シアニン色素/金属反射層を記録材料として
用いたものには、特開平1−159842号、特開平2
−42652号、特開平2−13656号、特開平2−
168446号各公報等が、フタロシアニン色素を記録
材料として用いたものには、特開平1−176585
号、特開平3−215466号、特開平4−11388
6号、特開平4−226390号、特開平5−1272
号、特開平5−171052号、特開平5−11645
6号、特開平5−69860号、特開平5−13904
4号各公報等が、またアゾ金属キレート色素を記録材料
として用いたものには、特開平4−46186号、特開
平4−141489号、特開平4−361088号、特
開平5−279580号各公報等がある)が、上記のよ
うな点に関しては未だ不十分である。また、CD−R記
録媒体は上記再生波長域に高い反射率が得られる様設定
してあるため、700nm以下の波長域では反射率は極
めて低く、レーザ波長の短波長化に対応できず、現在の
CD−Rシステムで記録、再生している情報が、将来の
システムでは再生出来ない事態を招く。このような点に
解決を与える記録材料は、未だ見出されていない。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】従って、本発明は上記
のような状況に鑑みてなされたものであって、記録感度
を高め高速記録を実現するとともに、有機溶剤への溶解
性を高め生産性の高い溶剤塗工可能な金属キレート化合
物を記録材料とする、高密度記録が可能な630〜72
0nmのレーザを用いた光ピックアップに適用できる記
録媒体を提供すること、及び安定性が高く770〜83
0nmに高い屈折率を有する金属キレート化合物を記録
材料とする、保存安定性、再生安定性の高い高反射率の
CD−Rメディアを提供すること、更には現状システム
で記録・再生が可能で且つ次世代の高密度光ディスクシ
ステムにおいても再生可能なCD−Rメディアを提供す
ることを目的とする。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明者らは鋭意研究を
重ねた結果、特定の構造を有する金属キレート化合物を
主成分とする記録層を設けることにより、高密度記録が
可能な630〜720nmの半導体レーザを用いる光ピ
ックアップに適用可能なことを見出し、また本化合物を
用いることにより、770〜830nmの波長域に高い
反射率を得ることが可能であることを見出し、更には本
化合物を現在CD−R用記録材料として用いられている
有機色素と混合して用いることにより、700nm以下
の波長域にも高い反射率を得ることが可能であることを
見出し、本発明を完成するに至った。
【0007】即ち、本発明によれば、第一に、基板上に
直接又は下引き層を介して記録層を設け、更に必要に応
じて、その上に保護層を設けてなる光記録媒体におい
て、前記記録層中に下記一般式(I)で示される化合物
の少なくとも1種を含有してなることを特徴とする光記
録媒体が提供される。
【化1】 (式中、M、R1〜R9、X及びnはそれぞれ以下のもの
を表す。 M:3族、4族、5族、6族、7族、8族、9族若しく
は10族の金属原子、又はその酸化物若しくはハロゲン
化物、 R1、R2:それぞれ独立に、置換若しくは無置換のアル
キル基、置換若しくは無置換のアリール基、又は置換若
しくは無置換のアルケニル基、 R3〜R9:それぞれ独立に、水素原子、ニトロ基、又は
ハロゲン原子、 X:陰イオン、 n:2又は3。) 第二に、前記記録層と保護層との間に反射層を設けてな
り、CDフォーマット信号の記録を行なう追記コンパク
トディスク型の記録媒体であることを特徴とする上記第
一に記載した光記録媒体が提供される。第三に、前記記
録層が前記一般式(I)で示される化合物の少なくとも
1種と680nm〜750nmに最大吸収波長を有する
有機色素とを含有してなることを特徴とする上記第二に
記載した光記録媒体が提供される。第四に、前記680
nm〜750nmに最大吸収波長を有する有機色素がペ
ンタメチンのシアニン色素、フタロシアニン色素及びア
ゾ金属キレート色素の少なくとも1種である上記第三に
記載した光記録媒体が提供される。第五に、前記記録層
が波長630〜720nmのレーザ光によって記録され
るものである上記第一に記載した光記録媒体が提供され
る。第六に、前記記録層が波長770〜830nmのレ
ーザ光によって記録されるものである上記第二〜第四の
いずれかに記載した光記録媒体が提供される。第七に、
前記反射層がアルミニウム又は金からなる上記第一〜第
六のいずれかに記載した光記録媒体が提供される。第八
に、前記保護層が紫外線硬化型樹脂からなる上記第一〜
第七のいずれかに記載した光記録媒体が提供される。
【0008】本発明で使用する前記一般式(I)で示さ
れる金属キレート化合物は、有機溶剤への溶解性が高
く、しかも波長630〜720nmに高い吸収能、光反
射性を有し、630〜720nmの半導体レーザを用い
たピックアップに適用できるため、該化合物を記録層に
含有させた追記型光記録媒体は、現状の770〜830
nm対応の記録媒体に比べ、1.6〜1.8倍の高密度
化が可能になる。また、前記一般式(I)で示される化
合物は、770〜830nmに高い屈折率を示し且つ高
い安定性を有するため、基板上に記録層、反射層、保護
層を順次積層してなるCD−R記録媒体において、該化
合物を含有する記録層を設けると、高反射率で保存安定
性及び再生安定性に優れたものとなる。更に、別の態様
では、前記一般式(I)で示される少なくとも1種の化
合物と、680〜750nmに最大吸収波長を有する有
機色素との混合物からなる記録層を設けたことから、現
状システムでのCD−R記録媒体として使用でき、しか
も次世代の高密度光ディスクシステムとなっても、記載
された情報を再生することが可能なものとなる。
【0009】
【発明の実施の形態】以下、本発明を詳しく説明する。
本発明の光記録媒体は、記録層中に下記一般式(I)で
示されるピリドフェノオキサジン金属キレート化合物の
少なくとも1種を含有してなることを特徴とする。
【化1】
【0010】まず、本発明で使用する上記一般式(I)
で示されるピリドフェノオキサジン金属キレート化合物
について説明すると、該化合物は新規物質である。一般
式(I)において、Mは3族、4族、5族、6族、7
族、8族、9族若しくは10族の金属原子、又はその酸
化物若しくはハロゲン化物を表すが、その具体例として
は、Sc、Y等の3族原子、Ti、Zr、Hf等の4族
原子、V、Nb、Ta等の5族原子、Cr、Mo、W等
の6族原子、Mn、Tc、Re等の7族原子、Fe、C
o、Ni、Ru、Rh、Pd、Os、Ir、Pt等の8
族原子、Cu、Ag、Au等の9族原子、Zn、Cd、
Hg等の10族原子、又はこれらの酸化物若しくはフッ
化物、塩化物、臭化物、ヨウ化物等のハロゲン化物が挙
げられる。
【0011】前記一般式(I)において、R1及びR
2は、それぞれ独立に、置換若しくは無置換のアルキル
基、置換若しくは無置換のアリール基、又は置換若しく
は無置換のアルケニル基を表すが、R1及びR2のアルキ
ル基の具体例としては、次のものが挙げられる。メチル
基、エチル基、n−プロピル基、n−ブチル基、n−ペ
ンチル基、n−ヘキシル基、n−ヘプチル基、n−オク
チル基、n−ノニル基、n−デシル基、n−ウンデシル
基、n−ドデシル基、n−トリデシル基、n−テトラデ
シル基、n−ペンタデシル基、n−ヘキサデシル基、n
−ヘプタデシル基、n−オクタデシル基、n−ノナデシ
ル基、n−イコシル基等の一級アルキル基;イソブチル
基、イソアミル基、2−メチルブチル基、2−メチルペ
ンチル基、3−メチルペンチル基、4−メチルペンチル
基、2−エチルブチル基、2−メチルヘキシル基、3−
メチルヘキシル基、4−メチルヘキシル基、5−メチル
ヘキシル基、2−エチルペンチル基、3−エチルペンチ
ル基、2−メチルヘプチル基、3−メチルヘプチル基、
4−メチルヘプチル基、5−メチルヘプチル基、2−エ
チルヘキシル基、3−エチルヘキシル基、イソプロピル
基、sec−ブチル基、1−エチルプロピル基、1−メ
チルブチル基、1,2−ジメチルプロピル基、1−メチ
ルヘプチル基、1−エチルブチル基、1,3−ジメチル
ブチル基、1,2−ジメチルブチル基、1−エチル−2
−メチルプロピル基、1−メチルヘキシル基、1−エチ
ルヘプチル基、1−プロピルブチル基、1−イソプロピ
ル−2−メチルプロピル基、1−エチル−2−メチルブ
チル基、1−エチル−2−メチルブチル基、1−プロピ
ル−2−メチルプロピル基、1−メチルヘプチル基、1
−エチルヘキシル基、1−プロピルペンチル基、1−イ
ソプロピルペンチル基、1−イソプロピル−2−メチル
ブチル基、1−イソプロピル−3−メチルブチル基、1
−メチルオクチル基、1−エチルヘプチル基、1−プロ
ピルヘキシル基、1−イソブチル−3−メチルブチル基
等の二級アルキル基;ネオペンチル基、tert−ブチ
ル基、tert−ヘキシル基、tert−アミル基、t
ert−オクチル基等の三級アルキル基;シクロヘキシ
ル基、4−メチルシクロヘキシル基、4−エチルシクロ
ヘキシル基、4−tert−ブチルシクロヘキシル基、
4−(2−エチルヘキシル)シクロヘキシル基、ボルニ
ル基、イソボルニル基、アダマンタン基等のシクロアル
キル基等。
【0012】更に、これら一級及び二級アルキル基は、
ヒドロキシル基あるいはハロゲン原子を以て置換されて
いてもよく、また酸素、硫黄、窒素などの原子を介して
前記のアルキル基で置換されていてもよい。酸素を介し
置換されているアルキル基としては、メトキシメチル
基、メトキシエチル基、エトキシメチル基、エトキシエ
チル基、ブトキシエチル基、エトキシエトキシエチル
基、フェノキシエチル基、メトキシプロピル基、エトキ
シプロピル基などが、硫黄を介し置換されているアルキ
ル基としては、メチルチオエチル基、エチルチオエチル
基、エチルチオプロピル基、フェニルチオエチル基など
が、窒素を介して置換されているアルキル基としては、
ジメチルアミノエチル基、ジエチルアミノエチル基、ジ
エチルアミノプロピル基などが挙げられる。
【0013】また、その他に、トリメチルシリル置換メ
チル基、トリメチルシリル置換エチル基、トリメトキシ
シリル置換プロピル基、トリメトキシシリル置換フェニ
ル基などのシリル置換アルキル基や、アダマンチル基、
1−クロロ−2−アダマンチル基、2−クロロ−1−ア
ダマンチル基、1−ブロム−2−アダマンチル基などの
アダマン残基、あるいは特願平7−47806号記載の
置換されてもよい若しくはメチレン基を介して置換され
ていてもよいボルナン残基、ノルボルナン残基及びノル
ボンネン残基から選ばれた環状炭化水素基等の特定の環
状アルキル基などが挙げられる。
【0014】また、アリール基としては、フェニル基、
エチルフェニル基、ブチルフェニル基、ノニルフェニル
基、ナフチル基、ブチルナフチル基、ノニルナフチル基
等が挙げられる。なお、アリール基はヒドロキシル基や
ハロゲン等で置換されていてもよく、また酸素、硫黄、
窒素等の原子を介して前記アリール基で置換されていて
もよい。酸素を介して置換されているアリール基として
は、フェノキシエチル基、メトキシフェニル基、ブトキ
シフェニル基等が、硫黄を介して置換されているアリー
ル基としては、フェニルチオエチル基、メチルチオエチ
ル基、ブチルチオエチル基等が、窒素を介して置換され
ているアリール基としては、ジメチルアミノフェニル
基、ジブチルアミノフェニル基等が挙げられる。
【0015】また、アルケニル基としては、エチレン
基、プロピレン基、ブチレン基、ヘキセン基、オクテン
基、ドデセン基、シクロヘキセン基、ブチルヘキセン基
等が挙げられる。なお、アルケニル基はヒドロキシル基
やハロゲン原子等で置換されていてもよい。
【0016】前記一般式(I)において、R3〜R9はそ
れぞれ独立に、水素原子、ニトロ基又はハロゲン原子で
あり、ハロゲン原子の具体例としてはCl、Br、F各
原子が挙げられる。
【0017】また、前記一般式(I)において、Xは陰
イオンを表すが、その具体例としては、表1に示すよう
なものが挙げられる。
【表1】
【0018】本発明のピリドフェノオキサジン金属キレ
ート化合物は、例えば次の方法によって製造することが
できる。まず、例えば日本化学会第68秋季年会講演予
稿集502頁に記載の方法に従って配位子を得る。すな
わち、下記一般式(A)で示される化合物と、下記一般
式(B)で示される化合物とを反応させ下記一般式
(C)で示される配粒子を得る。
【化2】 (式中、R6〜R9は前記定義に同じ。)
【化3】 (式中、R1〜R5は前記定義に同じ。)
【化4】 (式中、R1〜R9は前記定義に同じ。) 次いで、上記一般式(C)で示される配位子と下記一般
式(D)で示される金属塩とを反応させることにより、
前記一般式(I)で示される化合物を得ることができ
る。 MX ・・・・・(D) (式中、M及びXは前記定義に同じ。)
【0019】本発明の前記一般式(I)で示される金属
キレート化合物の具体例としては、例えば表2−(1)
及び表2−(2)で示されるものが挙げられる。
【0020】
【表2−(1)】
【0021】
【表2−(2)】
【0022】また、記録層においては、前記したよう
に、前記一般式(I)で示される少なくとも1種の化合
物と、680〜750nmに最大吸収波長を有する有機
色素との混合物を主成分とすることにより、現状システ
ムで記録再生が可能であるとともに、次世代システムに
おいても再生のみは可能なCD−R記録媒体となる。こ
の場合の680〜750nmに最大吸収波長を有する色
素としては、ペンタメチンのシアニン色素、フタロシア
ニン色素及びアゾ金属キレート色素が好ましい。
【0023】ペンタメチンのシアニン色素の好ましい例
としては、下記一般式(II)で示されるものが挙げられ
る。
【化5】 式中、R21、R22は炭素数1〜3のアルキル基、R23
24は炭素数1〜6の置換又は未置換のアルキル基、X
は酸アニオンを表わす。なお、芳香族環は他の芳香族環
と縮合されていてもよく、また、アルキル基、ハロゲン
原子、アルコキシ基又はアシル基で置換されていてもよ
い。
【0024】フタロシアニン色素の好ましい例として
は、下記一般式(III−1)若しくは(III−2)で示さ
れるものが挙げられる。
【化6】 式中、M1はNi、Pd、Cu、Zn、Co、Mn、F
e、TiO又はVOを、X5〜X8はそれぞれ独立に置換
位置α位の−OR又は−SRを、Rは置換されていても
よい炭素数3〜12の直鎖、分岐若しくは脂環式アルキ
ル基又は同じく置換されていてもよいアリール基を表わ
す。X5〜X8以外のベンゼン環の置換基は水素原子又は
ハロゲン原子である。
【0025】
【化7】 式中、M2は、Si、Ge、In、又はSnを、X9〜X
12はそれぞれ独立に置換位置α位の−OR又は−SR
を、Rは置換されていてもよい炭素数3〜12の直鎖、
分岐若しくは脂環式アルキル基又は同じく置換されてい
てもよいアリール基を、Y5、Y6は−OSiR2526
27、−OCOR252627、又は−OPOR252627
を表わし、R25〜R27はそれぞれ独立に炭素数1〜10
のアルキル基又はアリール基を表わす。X9〜X12以外
のベンゼン環の置換基は、水素原子又はハロゲン原子で
ある。
【0026】また、アゾ金属キレート色素の好ましい例
としては、下記一般式(IV)で示されるアゾ系化合物と
金属とのアゾ金属キレート化合物の1種又は2種以上が
挙げられ、、金属の好ましい例としては、Ni、Pt、
Pd、Co、Cu、Znなどが挙げられる。
【化8】 式中、Aはそれが結合している炭素原子及び窒素原子と
一緒になって複素環を形成する残基を表わし、Bはそれ
が結合している二つの炭素原子と一緒になって芳香環又
は複素環を形成する残基を表わし、またXは活性水素を
有する基を表わす。
【0027】本発明の前記一般式(I)で示される少な
くとも1種の色素と前記一般式(II)〜(IV)で示され
る少なくとも1種の色素とを併用する場合の重量組成比
は、本発明色素/〔(II)〜(IV)の色素〕=10/1
00〜90/100、好ましくは40/100〜20/
100である。また、両色素を併用した場合の記録層の
膜厚は500Å〜5μm、好ましくは1000Å〜50
00Åである。
【0028】次に、本発明の記録媒体の構成について述
べる。図1は、本発明の記録媒体に適用し得る層構成例
を示す図で、これは追記型光ディスクの例である。基板
1の上に、必要に応じて下引き層3を介して、記録層2
を設け、更に必要に応じ保護層4が設けられている。ま
た、必要に応じて基板1の下にハードコート層を設ける
ことができる。図2は、本発明の記録媒体に適用し得る
別のタイプの層構成例を示す図で、これはCD−Rメデ
ィアの例である。図1の構成の記録層2の上に反射層6
が設けられている。なお、本発明の記録媒体は、図1及
び図2に示した構成の記録層(有機薄膜層)を内側にし
て、他の基板と空間を介して密封したエアーサンドイッ
チ構造にしてもよく、また保護層を介して接着した貼合
せ構造にしてもよい。
【0029】次に、構成各層の必要特性及びその構成材
料について述べる。 1)基板 基板の必要特性としては、基板側より記録再生を行なう
場合には使用レーザ光に対して透明でなければならない
が、記録層側から記録再生を行なう場合は透明である必
要はない。基板材料としては、例えばポリエステル、ア
クリル樹脂、ポリアミド、ポリカーボネート樹脂、ポリ
オレフィン樹脂、フェノール樹脂、エポキシ樹脂、ポリ
イミドなどのプラスチック、ガラス、セラミックあるい
は金属などを用いることができる。なお、基板の表面に
トラッキング用の案内溝や案内ピット、更にアドレス信
号などのプレフォーマットが形成されていてもよい。
【0030】2)記録層 記録層はレーザ光の照射により何らかの光学的変化を生
じさせその変化により情報を記録できるものであって、
この記録層中には前記一般式(I)で示される化合物の
少なくとも1種が含有されている必要がある。更に、こ
れらの色素は光学特性、記録感度、信号特性の向上のた
め、他の有機色素及び金属、金属化合物と混合又は積層
化して用いることも、もちろん可能である。この場合の
他の有機色素としては、ポリメチン色素、ナフタロシア
ニン系、フタロシアニン系、スクアリリウム系、クロコ
ニウム系、ピリリウム系、ナフトキノン系、アントラキ
ノン(インダンスレン)系、キサンテン系、トリフェニ
ルメタン系、アズレン系、テトラヒドロコリン系、フェ
ナンスレン系、トリフェノチアジン系染料、及び金属錯
体化合物などが挙げられる。また金属、金属化合物例と
しては、In、Te、Bi、Se、Sb、Ge、Sn、
Al、Be、TeO2、SnO、As、Cdなどが挙げ
られ、それぞれを分散混合あるいは積層の形態で用いる
ことができる。更に、上記染料中に高分子材料、例えば
アイオノマー樹脂、ポリアミド樹脂、ビニル系樹脂、天
然高分子、シリコーン、液状ゴムなどの種々の材料若し
くはシランカップリング剤などを分散混合しても良い
し、特性改良の目的で、安定剤(例えば遷移金属錯
体)、分散剤、難燃剤、滑剤、帯電防止剤、界面活性
剤、可塑剤などと一緒に用いることができる。
【0031】記録層の形成は蒸着、スパッタリング、C
VD又は溶剤塗布などの通常の手段によって行なうこと
ができる。塗布法を用いる場合には、上記染料などを有
機溶剤に溶解して、スプレー、ローラーコーティング、
ディッピング又はスピンコーティングなどの慣用のコー
ティング法で行なうことができる。用いられる有機溶剤
としては、一般にメタノール、エタノール、イソプロパ
ノールなどアルコール類、アセトン、メチルエチルケト
ン、シクロヘキサノンなどのケトン類、N,N−ジメチ
ルアセトアミド、N,N−ジメチルホルムアミドなどの
アミド類、ジメチルスルホキシドなどのスルホキシド
類、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジエチルエーテ
ル、エチレングリコールモノメチルエーテルなどのエー
テル類、酢酸メチル、酢酸エチルなどのエステル類、ク
ロロホルム、塩化メチレン、ジクロロエタン、四塩化炭
素、トリクロロエタンなどの脂肪族ハロゲン化炭素類、
ベンゼン、キシレン、モノクロロベンゼン、ジクロロベ
ンゼンなどの芳香族類、あるいはメトキシエタノール、
エトキシエタノールなどのセルソルブ類、ヘキサン、ペ
ンタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサンなどの
炭化水素類などが挙げられる。記録層の膜厚は、100
Å〜10μm、好ましくは200Å〜2000Åが適当
である。
【0032】3)下引き層 下引き層は、接着性の向上、水又はガスなどに対す
るバリヤー、記録層の保存安定性の向上、反射率の
向上、溶剤からの基板の保護、案内溝、案内ピッ
ト、プレフォーマットの形成などを目的として使用され
る。の目的に対しては高分子材料、例えばアイオノマ
ー樹脂、ポリアミド、ビニル系樹脂、天然樹脂、天然高
分子、シリコーン、液状ゴムなどの種々の高分子化合物
及びシランカップリング剤などを用いることができ、
及びの目的に対しては、上記高分子材料以外に無機化
合物、例えばSiO2、MgF2、SiO、TiO2、Z
nO、TiN、SiNなどがあり、更に金属又は半金
属、例えばZn、Cu、Ni、Cr、Ge、Se、A
u、Ag、Alなどを用いることができる。また、の
目的に対しては、金属、例えばAl、Au、Agなど
や、金属光沢を有する有機薄膜、例えばメチン染料、キ
サンテン系染料などを用いることができ、及びの目
的に対しては、紫外線硬化樹脂、熱硬化樹脂、熱可塑性
樹脂などを用いることができる。下引き層の膜厚は0.
01〜30μm、好ましくは0.05〜10μmが適当
である。
【0033】4)保護層、基板表面ハードコート層 保護層又は基板表面ハードコート層は、記録層(反射
吸収層)を傷、埃、汚れなどから保護する、記録層
(反射吸収層)の保存安定性の向上、反射率の向上な
どを目的として使用される。これらの目的に対しては、
前記の下引き層に示した材料を用いることができる。ま
た、無機材料としてSiO、SiO2なども用いること
もでき、有機材料としてポリメチルアクリレート、ポリ
カーボネート、エポキシ樹脂、ポリスチレン、ポリエス
テル樹脂、ビニル樹脂、セルロース、脂肪族炭化水素樹
脂、天然ゴム、スチレン−ブタジエン樹脂、クロロプレ
ンゴム、ワックス、アルキッド樹脂、乾性油、ロジンな
どの熱軟化性、熱溶融性樹脂も用いることができる。上
記材料のうち最も好ましいものは、生産性に優れた紫外
線硬化樹脂である。保護層又は基板表面ハードコート層
の膜厚は0.01〜30μm、好ましくは0.05〜1
0μmが適当である。
【0034】5)反射層 反射層は単体で高反射率の得られる腐食されにくい金
属、半金属などが使用できる。材料例としては、Au、
Ag、Al、Cr、Ni、Fe、Snなどが挙げられ、
反射率、生産性の点からAu、Ag、Alが最も好まし
い。これらの金属、半金属は単独で使用してもよく、2
種以上の合金としてもよい。膜形成法としては蒸着、ス
パッタリングなどが挙げられ、膜厚としては50〜50
00Å、好ましくは100〜3000Åである。
【0035】本発明において、前記の下引き層、保護層
及び基板表面ハードコート層には記録層の場合と同様
に、安定剤、分散剤、難燃剤、滑剤、帯電防止剤、界面
活性剤、可塑剤などを含有させることができる。
【0036】
【実施例】以下実施例について本発明を説明するが、本
発明これらに限定されるものではない。
【0037】実施例1 実施例1 厚さ1.2μmのポリメチルメタクリレート基板上にフ
ォトポリマーにて、深さ1200Å、半値幅0.4μ
m、トラックピッチ1.4μmの案内溝を形成した基板
上に、化合物具体例No.1のクロロホルム溶液をスピ
ンナー塗布し、厚さ800Åの記録層を設けて記録媒体
を得た。
【0038】実施例2〜8 実施例1において、化合物具体例No.1の代わりに、
化合物具体例No.2、No.3、No.4、No.
5、No.6、No.7、No.8を用いたこと以外
は、実施例1と同様にして実施例2〜8の記録媒体を得
た。
【0039】比較例1 実施例1において、化合物具体例No.1の代わりに下
記式(V)で示される化合物を用いたこと以外は、実施
例1と同様にして比較例1の記録媒体を得た。
【化9】
【0040】前記の実施例1〜9及び比較例1の記録媒
体を用い、下記の記録条件で基板から光を入射して記録
し、その後記録位置を再生光によりC/N比及び反射率
を測定した。その結果を表3に示す。 記録条件: レーザ発振波長 680nm 記録周波数 1.25MHz 記録線速 1.2m/sec 再生条件: レーザ発振波長 680nm 再生パワー 0.25〜0.3mWの連続光 スキャニングバンド巾 30KHz 耐光テスト条件: 耐光テスト 4万Lux、Xe光、50時間連続照射 保存テスト 85℃、85%、720時間放置
【0041】
【表3】
【0042】実施例9 深さ1000Å、半値幅0.45μm、トラックピッチ
1.6μmの案内溝を有する厚さ1.2mmの射出成形
ポリカーボネート基板上に、化合物具体例No.9をメ
チルシクロヘキサン、2−メトキシエタノール、メチル
エチルケトン、テトラヒドロフランの混合溶液に溶解し
た液をスピンナー塗布し、厚さ1800Åの記録層を形
成し、次いでその上にスパッタ法により金2000Åの
反射層を設け、更にその上にアクリル系フォトポリマー
にて5μmの保護層を設け、記録媒体を得た。
【0043】実施例10〜16 実施例9において、化合物具体例No.9の代わりにそ
れぞれ化合物具体例No.10、No.11、No.1
2、No.13、No.14、No.15、No.16
を用いたこと以外は、実施例9と同様にして実施例10
〜16の記録媒体を得た。
【0044】比較例2 実施例9において、化合物具体例No.9の代わりに比
較例1で用いた前記式(V)で示される化合物を用いた
こと以外は、実施例10と同様にして比較例2の記録媒
体を得た。
【0045】実施例9〜16及び比較例2の記録媒体に
発振波長780nm、ビーム径1.4μmの半導体レー
ザ光を用い、トラッキングしながらEFM信号を記録し
(線速1.4m/sec)、同じレーザの連続光で再生
し、再生波形を観察した。その結果を表4に示す。
【0046】
【表4】
【0047】実施例17 深さ1000Å、半値幅0.45μm、トラックピッチ
1.6μmの案内溝を有する厚さ1.2mmの射出成形
ポリカーボネート基板上に、下記の式(VI)で示される
化合物と化合物具体例No.17とを、重量比(1/
1)のメチルシクロヘキサン、2−メトキシエタノー
ル、メチルエチルケトン、テトラヒドロフラン混合溶媒
に溶解し、スピンナー塗布して、厚さ1700Åの記録
層を形成し、次いで、スパッタ法により金2000Åの
反射層を形成して、更にその上にアクリル系フォトポリ
マーにて5μmの保護層を設け、記録媒体を得た。
【0048】
【化10】
【0049】実施例18〜20 実施例17において、化合物具体例No.17の代わり
にそれぞれ化合物具体例No.18、No.19、N
o.20を用いたこと以外は、実施例17と同様にして
実施例18〜20の記録媒体を得た。
【0050】実施例21〜24 実施例17において、化合物具体例No.17の代わり
にそれぞれ化合物具体例No.21、No.22、N
o.23、No.24を用い、且つ前記式(VI)で示さ
れる化合物の代わりに下記式(VII)で示される化合物
を用いたこと以外は、実施例17と同様にして実施例2
1〜24の記録媒体を得た。
【0051】
【化11】
【0052】比較例3、4 実施例17において、記録層をそれぞれ前記一般式(V
I)で示される化合物のみ、前記一般式(VII)で示され
る化合物のみとしたこと以外は、実施例17と同様にし
て比較例3、4の記録媒体を得た。
【0053】実施例17〜24及び比較例3、4の記録
媒体に発振波長780nm、ビーム径1.6μmの半導
体レーザ光を用い、トラッキングしながらEFM信号を
記録し(線速1.4m/sec)、前記レーザ及び発振
波長680nm、ビーム径1.4μmの半導体レーザの
連続光で再生し、再生波形を観察した。その結果を表5
に示す。
【0054】
【表5】
【0055】
【発明の効果】請求項1の光記録媒体は、前記一般式
(I)で示される金属キレート化合物を記録層中に含有
してなるものとしたことから、波長630〜720nm
に高い光吸収能と光反射性を有しているため、高密度記
録が可能な630〜720nmの半導体レーザを用いた
ピックアップに適応でき、現状の770〜830nmの
光記録媒体に比べ記録密度で1.6〜1.8倍の高密度
化追記型記録媒体が提供できる。
【0056】請求項2の光記録媒体は、記録層上に反射
層を積層したCD−R記録媒体の記録層中に前記一般式
(I)で示される金属キレート化合物を含有してなるも
のとしたことから、波長770〜830nmに高い屈折
率を示し、且つ高い安定性を有するため、高反射率で保
存安定性及び再生安定性に優れたCD−R記録媒体が提
供できる。
【0057】請求項3の光記録媒体は、前記一般式
(I)で示される化合物の少なくとも1種と680〜7
50nmに最大吸収波長を有する有機色素とを記録層中
に含有してなるものとしたことから、現状システムでの
CD−R記録媒体として使用でき、しかも次世代の高密
度光ディスクシステムとなっても、記録された情報を再
生することが可能になる。
【0058】請求項4の光記録媒体は、680〜750
nmに最大吸収波長を有する有機色素として、ペンタメ
チンのシアニン色素、フタロシアニン色素及びアゾ金属
キレート色素の少なくとも一種を選択したことから、高
品位の信号特性が記録可能となる。
【0059】請求項5の光記録媒体は、前記記録層が波
長630〜720nmのレーザ光によって記録されるも
のであることから、現状の770〜830nmの光記録
媒体に比べ記録密度で1.6〜1.8倍の高密度化追加
型記録媒体が提供できる。
【0060】請求項6の光記録媒体は、前記記録層が波
長770〜830nmのレーザ光によって記録されるも
のであることから現行システムでの優れたCD−R記録
媒体が提供できる。
【0061】請求項7の光記録媒体は、前記反射層がア
ルミニウム又は金からなるものとしたことから、生産性
の良い高反射率化、CD−Rメディア化が可能となる。
【0062】請求項8の光記録媒体は、前記保護層が紫
外線硬化型樹脂からなるものとしたことから、生産性の
高い保護層化したメディア化が可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の記録媒体に適用し得る通常の追記型光
記録媒体としての層構成例を示す図である。
【図2】本発明の記録媒体に適用し得るCD−R用とし
ての層構成例を示す図である。
【符号の説明】
1 基板 2 記録層(有機色素層) 3 下引き層 4 保護層 5 ハードコート層 6 反射層
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 笹 登 東京都大田区中馬込1丁目3番6号 株式 会社リコー内

Claims (8)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 基板上に直接又は下引き層を介して記録
    層を設け、更に必要に応じて、その上に保護層を設けて
    なる光記録媒体において、前記記録層中に下記一般式
    (I)で示される化合物の少なくとも1種を含有してな
    ることを特徴とする光記録媒体。 【化1】 (式中、M、R1〜R9、X及びnはそれぞれ以下のもの
    を表す。 M:3族、4族、5族、6族、7族、8族、9族若しく
    は10族の金属原子、又はその酸化物若しくはハロゲン
    化物、 R1、R2:それぞれ独立に、置換若しくは無置換のアル
    キル基、置換若しくは無置換のアリール基、又は置換若
    しくは無置換のアルケニル基、 R3〜R9:それぞれ独立に、水素原子、ニトロ基、又は
    ハロゲン原子、 X:陰イオン、 n:2又は3。)
  2. 【請求項2】 前記記録層と保護層との間に反射層を設
    けてなり、CDフォーマット信号の記録を行なう追記コ
    ンパクトディスク型の記録媒体であることを特徴とする
    請求項1に記載の光記録媒体。
  3. 【請求項3】 前記記録層が前記一般式(I)で示され
    る化合物の少なくとも1種と680nm〜750nmに
    最大吸収波長を有する有機色素とを含有してなることを
    特徴とする請求項2に記載の光記録媒体。
  4. 【請求項4】 前記680nm〜750nmに最大吸収
    波長を有する有機色素がペンタメチンのシアニン色素、
    フタロシアニン色素及びアゾ金属キレート色素の少なく
    とも1種である請求項3に記載の光記録媒体。
  5. 【請求項5】 前記記録層が波長630〜720nmの
    レーザ光によって記録されるものである請求項1に記載
    の光記録媒体。
  6. 【請求項6】 前記記録層が波長770〜830nmの
    レーザ光によって記録されるものである請求項2〜4の
    いずれかに記載の光記録媒体。
  7. 【請求項7】 前記反射層がアルミニウム又は金からな
    る請求項1〜6のいずれかに記載の光記録媒体。
  8. 【請求項8】 前記保護層が紫外線硬化型樹脂からなる
    請求項1〜7のいずれかに記載の光記録媒体。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007119481A (ja) * 1999-01-27 2007-05-17 Mitsubishi Chemicals Corp 有機電界発光素子の有機層形成用化合物、およびそれを用いた有機電界発光素子

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2007119481A (ja) * 1999-01-27 2007-05-17 Mitsubishi Chemicals Corp 有機電界発光素子の有機層形成用化合物、およびそれを用いた有機電界発光素子

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