JPH10175966A - ３−（１−ヒドロキシフエニル−１−アルコキシイミノメチル）ジオキサジンの製造法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 （修正有） 【課題】 殺菌・殺カビ性を有する化合物の製造のため
の中間体として有用な３−（１−ヒドロキシフェニル−
１−アルコキシイミノメチル）ジオキサジンの製造のた
めの新規な方法を提供する。 【解決手段】 下記式（Ｉ） ［式中、Ａはアルキルを示し；Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³及びＲ⁴は
同一又は異なり、水素、ハロゲン、シアノ、ニトロ、ハ
ロゲン−置換されていることができるアルキルなどを示
し；Ｚ¹、Ｚ²、Ｚ³及びＺ⁴は同一又は異なり、水素、ア
ルキル、ハロゲノアルキル又はヒドロキシアルキルを示
すか、あるいはＺ¹とＺ²、又はＺ¹とＺ³、又はＺ³とＺ⁴
はそれらが結合している各炭素原子と一緒になって環状
脂肪族環を形成する］の３−（１−ヒドロキシフェニル
−１−アルコキシイミノメチル）ジオキサジンは、下記
式（ＩＩ） のＯ−ヒドロキシエチル−Ｏ’−アルキル−ベンゾフラ
ンジオンジオキシムを転位させることにより製造され
る。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】本発明は、殺菌・殺カビ性を有する化合物
の製造のための中間体として既知の３−（１−ヒドロキ
シフェニル−１−アルコキシイミノメチル）ジオキサジ
ン（ＷＯ ９５−０４７２８）の製造のための新規な方
法に関する。さらに本発明は新規な３−（１−ヒドロキ
シフェニル−１−アルコキシイミノメチル）ジオキサジ
ン、その製造のための新規な中間体及び新規な中間体の
製造のための複数の方法に関する。

【０００２】ある種の３−（１−ヒドロキシフェニル−
１−アルコキシイミノメチル）−ジオキサジンを対応す
るヒドロキシフェニル酢酸エステルから出発して製造で
きることはすでに開示されている（ＷＯ ９５−０４７
２８を参照されたい）。かくして例えばヒドロキシフェ
ニル酢酸メチル（ａ）をジヒドロピランと反応させ、得
られるジヒドロピラニルエーテル（ｂ）を亜硝酸ｔ−ブ
チルを用いて２−［２−（テトラヒドロピラン−２−イ
ルオキシ）−フェニル］−２−ヒドロキシイミノ酢酸メ
チル（ｃ）に転化させ、この化合物をヨードメタンを用
いてアルキル化して２−［２−（テトラヒドロピラン−
２−イルオキシ）−フェニル］−２−メトキシイミノ酢
酸メチル（ｄ）を得、これをヒドロキシルアミンと反応
させて２−［２−（テトラヒドロピラン−２−イルオキ
シ）−フェニル］−２−メトキシイミノ−Ｎ−ヒドロキ
シアセトアミド（ｅ）を得、それをジブロモエタンを用
いて環化して３−｛１−［２−（テトラヒドロピラン−
２−イルオキシ）−フェニル］−１−メトキシイミノ−
メチル｝−５，６−ジヒドロ−１，４，２−ジオキサジ
ン（ｆ）を得、最後に酸触媒反応を用いてテトラヒドロ
ピラニル基を除去することにより（５，６−ジヒドロ
［１，４，２］ジオキサジン−３−イル）−（２−ヒド
ロキシフェニル）−メタノン−Ｏ−メチルオキシム
（１）を製造することができる。この合成は下記の反応
式により示すことができる：

【０００３】

【化８】

【０００４】この方法の主な欠点は、多数の段階を時々
は低い収率で行わなければならないことであり、これは
原価効率に決定的に悪影響を有する。

【０００５】今回、（プロセスａ）式（ＩＩ）

【０００６】

【化９】

【０００７】［式中、Ａはアルキルを示し、Ｒ¹、Ｒ²、
Ｒ³及びＲ⁴は同一又は異なり、それぞれ互いに独立して
水素、ハロゲン、シアノ、ニトロ、それぞれ場合により
ハロゲン−置換されていることができるアルキル、アル
コキシ、アルキルチオ、アルキルスルフィニル又はアル
キルスルホニルを示し、Ｚ¹、Ｚ²、Ｚ³及びＺ⁴は同一又
は異なり、それぞれ互いに独立して水素、アルキル、ハ
ロゲノアルキル又はヒドロキシアルキルを示すか、ある
いはＺ¹とＺ²、又はＺ¹とＺ³、又はＺ³とＺ⁴はそれらが
結合している各炭素原子と一緒になって環状脂肪族環を
形成する］のＯ−ヒドロキシエチル−Ｏ’−アルキル−
ベンゾフランジオンジオキシムを、適宜希釈剤の存在下
に、及び適宜、塩基又は酸の存在下において転位させ、
立体異性体の混合物として存在し得る得られる生成物を
適宜、希釈剤の存在下に、及び適宜、酸の存在下におい
て適宜、異性化させて所望のＥ異性体を得る場合に、一
般式（Ｉ）

【０００８】

【化１０】

【０００９】［式中、Ａ、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｚ¹、
Ｚ²、Ｚ³及びＺ⁴はそれぞれ上記で定義された通りであ
る］の新規な及び既知の３−（１−ヒドロキシフェニル
−１−アルコキシイミノメチル）ジオキサジンが得られ
ることが見いだされた。

【００１０】定義において、アルコキシ又はアルキルチ
オの場合のように複素原子と組み合わされた場合を含む
アルキルなどの飽和又は不飽和炭化水素鎖は、それぞれ
直鎖状もしくは分枝鎖状である。

【００１１】本発明に従って製造することができる化合
物及びその前駆体は、適宜、種々の考え得る異性体の、
特に例えばＥ及びＺ異性体などの立体異性体の混合物と
して、ならびに適宜、互変異性体として存在することが
できる。Ｅ及びＺ異性体の両方、ならびにこれらの異性
体の混合物、ならびに考え得る互変異性体が特許請求さ
れている。

【００１２】本発明のプロセスａ）の方法は、好ましく
は、Ａがメチル、エチル、ｎ−もしくはｉ−プロピルを
示し、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³及びＲ⁴が同一又は異なり、それぞ
れ互いに独立して水素、ハロゲン、シアノ、ニトロを示
すか、あるいはそれぞれ炭素数が１〜６であり、そのそ
れぞれが場合により１〜５個のハロゲン原子により置換
されていることができるアルキル、アルコキシ、アルキ
ルチオ、アルキルスルフィニル又はアルキルスルホニル
を示し、Ｚ¹、Ｚ²、Ｚ³及びＺ⁴が同一又は異なり、それ
ぞれ互いに独立して水素、それぞれ炭素数が１〜４のア
ルキル又はヒドロキシアルキル、あるいは炭素数が１〜
４であり且つ１〜５個の同一又は異なるハロゲン原子を
有するハロゲノアルキルを示すか、あるいはＺ¹とＺ²、
又はＺ¹とＺ³、又はＺ³とＺ⁴はそれらが結合している各
炭素原子と一緒になって炭素数が５、６又は７の環状脂
肪族環を形成する式（Ｉ）の化合物の製造に用いられ
る。

【００１３】Ａがメチル又はエチルを示し、Ｒ¹、Ｒ²、
Ｒ³及びＲ⁴が同一又は異なり、それぞれ互いに独立して
水素、フッ素、塩素、臭素、シアノ、ニトロ、メチル、
エチル、ｎ−もしくはｉ−プロピル、ｎ−、ｉ−、ｓ−
もしくはｔ−ブチル、メトキシ、エトキシ、ｎ−もしく
はｉ−プロポキシ、メチルチオ、エチルチオ、メチルス
ルフィニル、エチルスルフィニル、メチルスルホニル又
はエチルスルホニル、トリフルオロメチル、トリフルオ
ロエチル、ジフルオロメトキシ、トリフルオロメトキ
シ、ジフルオロクロロメトキシ、トリフルオロエトキ
シ、ジフルオロメチルチオ、ジフルオロクロロメチルチ
オ、トリフルオロメチルチオ、トリフルオロメチルスル
フィニル又はトリフルオロメチルスルホニルを示し、Ｚ
¹、Ｚ²、Ｚ³及びＺ⁴が同一又は異なり、それぞれ互いに
独立して水素、メチル、エチル、ｎ−もしくはｉ−プロ
ピル、ｎ−、ｉ−、ｓ−もしくはｔ−ブチル、ヒドロキ
シメチル、トリフルオロメチル又はトリフルオロエチル
を示すか、あるいはＺ¹とＺ²、又はＺ¹とＺ³、又はＺ³
とＺ⁴がそれらが結合している各炭素原子と一緒になっ
て炭素数が５、６又は７の環状脂肪族環を形成する式
（Ｉ）の化合物の製造が特に好ましい。

【００１４】本発明は式（Ｉ−ａ）

【００１５】

【化１１】

【００１６】［式中、Ａ、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｚ¹、
Ｚ²、Ｚ³及びＺ⁴はそれぞれ上記で定義された通りであ
るが、置換基Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｚ¹、Ｚ²、Ｚ³及び
Ｚ⁴の少なくとも１つは水素と異なる］の新規な３−
（１−ヒドロキシフェニル−１−アルコキシスミノメチ
ル）ジオキサジンにも関する。

【００１７】上記の一般的又は好ましい基の定義は、式
（Ｉ）の化合物及びまた、対応して、製造のためのそれ
ぞれの場合に必要な出発材料又は中間体の両方に適用さ
れる。

【００１８】これらの基の定義は随意、互いに結合する
ことができる、すなわち与えられる好ましい化合物の範
囲の間の組み合わせを含むことができる。

【００１９】式（ＩＩ）は本発明のプロセスａ）を行う
ための出発材料として必要なＯ−ヒドロキシエチル−
Ｏ’−アルキル−ベンゾフランジオンジオキシムの一般
的定義を示す。この式（ＩＩ）において、Ａ、Ｒ¹、
Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｚ¹、Ｚ²、Ｚ³及びＺ⁴はそれぞれ、本
発明に従って製造することができる式（Ｉ）の化合物の
記載と関連して、Ａ、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｚ¹、Ｚ²、
Ｚ³及びＺ⁴に関して好ましいか又は特に好ましいとして
すでに挙げた意味を有するのが好ましいか又は特に好ま
しい。

【００２０】式（ＩＩ）の出発材料は以前に開示されて
はおらず、それらも新規な化合物として本出願の主題の
一部を形成する。

【００２１】式（ＩＩ）のＯ−ヒドロキシエチル−Ｏ’
−アルキル−ベンゾフランジオンジオキシムは、（プロ
セスｂ）式（ＩＩＩ）

【００２２】

【化１２】

【００２３】［式中、Ａ、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³及びＲ⁴はそれ
ぞれ上記で定義された通りである］のＯ−アルキル−ベ
ンゾフランジオンジオキシムを式（ＩＶ）

【００２４】

【化１３】

【００２５】［式中、Ｙ¹はハロゲン、アルキルスルホ
ニルオキシ、アリールスルホニルオキシ又はアルカノイ
ルオキシを示し、Ｇは水素を示すか、あるいはＹ¹及び
Ｇは単結合により連結され、ここでＹ¹は酸素を示し、
Ｇは

【００２６】

【化１４】

【００２７】を示すか、あるいはＹ¹及びＧは一緒にな
って単結合を示し、Ｚ¹、Ｚ²、Ｚ³及びＺ⁴はそれぞれ上
記で定義された通りである］のエタン誘導体と、適宜、
希釈剤の存在下で、及び適宜、塩基の存在下において反
応させると得られる。

【００２８】式（ＩＩＩ）は、本発明のプロセスｂ）を
行うための出発材料として必要なＯ−アルキル−ベンゾ
フランジオンジオキシムの一般的定義を示す。この式
（ＩＩＩ）において、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³及びＲ⁴はそれぞ
れ、本発明に従って製造できる式（Ｉ）の化合物の記載
と関連してＲ¹、Ｒ²、Ｒ³及びＲ⁴に関して好ましいか又
は特に好ましいとしてすでに挙げた意味を有するのが好
ましいか又は特に好ましい。

【００２９】式（ＩＩＩ）の出発材料は以前に開示され
てはおらず、それらも新規な化合物として本出願の主題
の一部を形成する。

【００３０】式（ＩＩＩ）のＯ−アルキル−ベンゾフラ
ンジオンジオキシムは、（プロセスｃ）式（Ｖ）

【００３１】

【化１５】

【００３２】［式中、Ａ、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³及びＲ⁴はそれ
ぞれ上記で定義された通りである］のω−ニトロ−２−
ヒドロキシアセトフェノンオキシムを適宜、希釈剤の存
在下で塩基と反応させる、あるいは（プロセスｄ）式
（ＶＩ）

【００３３】

【化１６】

【００３４】［式中、Ａ、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³及びＲ⁴はそれ
ぞれ上記で定義された通りである］のＯ−アルキル−ベ
ンゾフラノンオキシムを適宜、希釈剤の存在下で、及び
適宜、酸もしくは塩基の存在下でアルカリ金属亜硝酸塩
又は亜硝酸アルキルと反応させると得られる。

【００３５】式（Ｖ）は、本発明のプロセスｃ）を行う
ための出発材料として必要なω−ニトロ−２−ヒドロキ
シアセトフェノンオキシムの一般的定義を示す。この式
（Ｖ）において、Ａ、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³及びＲ⁴はそれぞ
れ、本発明に従って製造できる式（Ｉ）の化合物の記載
と関連してＡ、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³及びＲ⁴に関して好ましい
か又は特に好ましいとしてすでに挙げた意味を有するの
が好ましいか又は特に好ましい。

【００３６】式（Ｖ）の出発材料は以前に開示されては
おらず、それも新規な化合物として本出願の主題の一部
を形成する。

【００３７】式（Ｖ）のω−ニトロ−２−ヒドロキシア
セトフェノンオキシムは、（プロセスｅ）式（ＶＩＩ）

【００３８】

【化１７】

【００３９】［式中、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³及びＲ⁴はそれぞれ
上記で定義された通りである］のω−ニトロ−２−ヒド
ロキシアセトフェノンを式（ＶＩＩＩ） Ａ−Ｏ−ＮＨ₂ （ＶＩＩＩ） ［式中、Ａは上記で定義された通りである］のアルコキ
シアミン−あるいはその酸付加錯体−と、適宜、希釈剤
の存在下で、及び適宜、酸受容体の存在下で反応させる
と得られる。

【００４０】式（ＶＩＩ）は、本発明のプロセスｅ）を
行うための出発材料として必要なω−ニトロ−２−ヒド
ロキシアセトフェノンの一般的定義を示す。この式（Ｖ
ＩＩ）において、Ａ、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³及びＲ⁴はそれぞ
れ、本発明に従って製造できる式（Ｉ）の化合物の記載
と関連してＡ、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³及びＲ⁴に関して好ましい
か又は特に好ましいとしてすでに挙げた意味を有するの
が好ましいか又は特に好ましい。

【００４１】式（ＶＩＩ）の出発材料は既知であり、既
知の方法により得ることができる（Ｐｒｏｃ．−Ｉｎｄ
ｉａｎ Ａｃａｄ．Ｓｃｉ．Ｓｅｃｔ．Ａ，８３，１９
７６，２３８，２３９，２４２；Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｒｅ
ｓ．Ｍｉｎｉｐｒｉｎｔ，１９７８，８６５，８７７；
Ｊ．Ａｍｅｒ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，６７＜１９４５＞
９９，１０１；Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ，５，１９８２，３
９７−３９９）。

【００４２】式（ＶＩ）は、本発明のプロセスｄ）を行
うための出発材料として必要なＯ−アルキル−ベンゾフ
ラノンオキシムの一般的定義を示す。この式（ＶＩ）に
おいて、Ａ、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³及びＲ⁴はそれぞれ、本発明
に従って製造できる式（Ｉ）の化合物の記載と関連して
Ａ、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³及びＲ⁴に関して好ましいか又は特に
好ましいとしてすでに挙げた意味を有するのが好ましい
か又は特に好ましい。

【００４３】式（ＶＩ）の出発材料は以前に開示されて
はおらず、それらも新規な化合物として本出願の主題の
一部を形成する。

【００４４】式（ＶＩ）のＯ−アルキル−ベンゾフラン
ジオンジオキシムは、（プロセスｆ）式（ＩＸ）

【００４５】

【化１８】

【００４６】［式中、Ａ、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³及びＲ⁴はそれ
ぞれ上記で定義された通りであり、Ｘはハロゲンを示
す］のω−ハロゲノ−２−ヒドロキシアセトフェノンオ
キシムを適宜、希釈剤の存在下で塩基と反応させるか、
あるいは（プロセスｇ）式（Ｘ）

【００４７】

【化１９】

【００４８】［式中、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³及びＲ⁴はそれぞれ
上記で定義された通りである］のベンゾフラノンを式
（ＶＩＩＩ）のアルコキシアミン−もしくはその酸付加
錯体−と、適宜、希釈剤の存在下で、及び適宜、酸受容
体の存在下で反応させるか、あるいは（プロセスｈ）式
（ＸＩ）

【００４９】

【化２０】

【００５０】［式中、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³及びＲ⁴はそれぞれ
上記で定義された通りである］のベンゾフラノンオキシ
ムを式 Ａ−Ｙ （ＸＩＩ） ［式中、Ａは上記で定義された通りであり、Ｙはハロゲ
ン、アルキルスルホニルオキシ、アルコキシスルホニル
オキシ又はアリールスルホニルオキシを示す］のアルキ
ル化剤と、適宜、希釈剤の存在下で、及び適宜、塩基の
存在下で反応させると得られる。

【００５１】式（ＩＸ）は、本発明のプロセスｆ）を行
うための出発材料として必要なω−ハロゲノ−２−ヒド
ロキシアセトフェノンオキシムの一般的定義を示す。こ
の式（ＩＸ）において、Ａ、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³及びＲ⁴はそ
れぞれ、本発明に従って製造できる式（Ｉ）の化合物の
記載と関連してＡ、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³及びＲ⁴に関して好ま
しいか又は特に好ましいとしてすでに挙げた意味を有す
るのが好ましいか又は特に好ましい。Ｘはハロゲン、好
ましくは塩素又は臭素を示す。

【００５２】式（ＩＸ）の出発材料は以前に開示されて
はおらず、それらも新規な化合物として本出願の主題を
形成する。

【００５３】式（ＩＸ）のω−ハロゲノ−２−ヒドロキ
シアセトフェノンオキシムは、（プロセスｉ）式（ＸＩ
ＩＩ）

【００５４】

【化２１】

【００５５】［式中、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴及びＸはそれ
ぞれ上記で定義された通りである］のω−ハロゲノ−２
−ヒドロキシアセトフェノンを式（ＶＩＩＩ）のアルコ
キシアミン−もしくはその酸付加錯体−と、適宜、希釈
剤の存在下で、及び適宜、酸受容体の存在下で反応させ
ると得られる。

【００５６】式（ＸＩＩＩ）は、本発明のプロセスｉ）
を行うための出発材料として必要なω−ハロゲノ−２−
ヒドロキシアセトフェノンの一般的定義を示す。この式
（ＸＩＩＩ）において、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³及びＲ⁴はそれぞ
れ、本発明に従って製造できる式（Ｉ）の化合物の記載
と関連してＲ¹、Ｒ²、Ｒ³及びＲ⁴に関して好ましいか又
は特に好ましいとしてすでに挙げた意味を有するのが好
ましいか又は特に好ましい。Ｘはハロゲン、好ましくは
塩素又は臭素を示す。

【００５７】式（ＸＩＩＩ）のω−ハロゲノ−２−ヒド
ロキシアセトフェノンは既知であり、既知の方法により
製造することができる（Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．（１９
９０），５５（１４），４３７１−７及びＳｙｎｔｈｅ
ｓｉｓ（１９８８），（７），５４５−６）。

【００５８】式（Ｘ）は、本発明のプロセスｇ）を行う
ための出発材料として必要なベンゾフラノンの一般的定
義を示す。この式（Ｘ）において、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³及び
Ｒ⁴はそれぞれ、本発明に従って製造できる式（Ｉ）の
化合物の記載と関連してＲ¹、Ｒ²、Ｒ³及びＲ⁴に関して
好ましいか又は特に好ましいとしてすでに挙げた意味を
有するのが好ましいか又は特に好ましい。

【００５９】式（Ｘ）のベンゾフラノンは既知であり、
既知の方法により製造することができる（Ｆｒｉｅｄｌ
ａｅｎｄｅｒ；Ｎｅｕｄｏｅｒｆｅｒ，Ｃｈｅｍ．Ｂ
ｒ．３０＜１８９７＞，１０８１）。

【００６０】式（ＸＩ）は、本発明のプロセスｈ）を行
うための出発材料として必要なベンゾフラノンオキシム
の一般的定義を示す。この式（ＸＩ）において、Ｒ¹、
Ｒ²、Ｒ³及びＲ⁴はそれぞれ、本発明に従って製造でき
る式（Ｉ）の化合物の記載と関連してＲ¹、Ｒ²、Ｒ³及
びＲ⁴に関して好ましいか又は特に好ましいとしてすで
に挙げた意味を有するのが好ましいか又は特に好まし
い。

【００６１】式（ＸＩ）のベンゾフラノンオキシムは既
知であり、既知の方法により製造することができる（例
えばＳｔｏｅｒｍｅｒ，Ｂａｒｔｓｃｈ，Ｃｈｅｍ．Ｂ
ｅｒ．，３３＜１９００＞，３１８０を参照された
い）。

【００６２】式（ＸＩＩ）は本発明のプロセスｈ）を行
うための出発材料としてさらに必要なアルキル化剤の一
般的定義を示す。この式（ＸＩＩ）において、Ａは本発
明に従って製造することができる式（Ｉ）の化合物の記
載と関連してＡに関して好ましいか又は特に好ましいと
してすでに挙げた意味を有するのが好ましいか又は特に
好ましい。Ｙはハロゲン、好ましくは塩素、臭素又はヨ
ウ素、アルキルスルホニルオキシ、好ましくはメチルス
ルホニルオキシ、アルコキシスルホニルオキシ、好まし
くはメトキシスルホニルオキシ、あるいはアリールスル
ホニルオキシ、好ましくは４−トリルスルホニルオキシ
を示す。

【００６３】式（ＸＩＩ）のアルキル化剤は合成のため
の既知の化学品である。

【００６４】式（ＶＩＩＩ）は本発明のプロセスｅ）、
ｇ）及びｉ）を行うための出発材料としてさらに必要な
アルコキシアミンの一般的定義を示す。この式（ＶＩＩ
Ｉ）において、Ａは本発明に従って製造することができ
る式（Ｉ）の化合物の記載と関連してＡに関して好まし
いか又は特に好ましいとしてすでに挙げた意味を有する
のが好ましいか又は特に好ましい。式（ＶＩＩＩ）のア
ルコキシアミンの好ましい酸付加錯体は、それらの塩酸
塩、硫酸塩及び水素硫酸塩である。

【００６５】式（ＶＩＩＩ）のアルコキシアミン及びそ
れらの酸付加錯体は合成のための既知の化学品である。

【００６６】式（ＩＶ）は本発明のプロセスｂ）を行う
ための出発材料としてさらに必要なエタン誘導体の一般
的定義を示す。この式（ＩＶ）において、Ｚ¹、Ｚ²、Ｚ
³及びＺ⁴は本発明に従って製造することができる式
（Ｉ）の化合物の記載と関連してＺ¹、Ｚ²、Ｚ³及びＺ⁴
に関して好ましいか又は特に好ましいとしてすでに挙げ
た意味を有するのが好ましいか又は特に好ましい。Ｙ¹
はハロゲン、好ましくは塩素、臭素又はヨウ素、アルキ
ルスルホニルオキシ、好ましくはメチルスルホニルオキ
シ、アリールスルホニルオキシ、好ましくは４−トリル
スルホニルオキシ、あるいはアルカノイルオキシ、好ま
しくはアセチルオキシを示す。Ｇは水素を示すか、又は
単結合によりＹ¹に連結され、その場合Ｙ¹は酸素を示
し、Ｇはカルボニルを示すか、あるいはＧ及びＹ¹は一
緒になって単結合を示す。

【００６７】式（ＩＶ）のエタン誘導体は合成のための
既知の化学品である。

【００６８】本発明のプロセスａ）を酸の存在下で行う
場合、適した希釈剤はすべての不活性有機溶媒である。
これらには好ましくは脂肪族、脂環式又は芳香族炭化水
素、例えば石油エーテル、ヘキサン、ヘプタン、シクロ
ヘキサン、メチルシクロヘキサン、ベンゼン、トルエ
ン、キシレン又はデカリン；ハロゲン化炭化水素、例え
ばクロロベンゼン、ジクロロベンゼン、ジクロロメタ
ン、クロロホルム、四塩化炭素、ジクロロエタン又はト
リクロロエタン；エーテル類、例えばジエチルエーテ
ル、ジイソプロピルエーテル、ジオキサン、１，２−ジ
メトキシエタン、１，２−ジエトキシエタン又はアニソ
ール；エステル類、例えば酢酸メチル又は酢酸エチル、
あるいはスルホン類、例えばスルホラン、ならびに上記
の希釈剤のいずれかの混合物が含まれる。特に好ましい
希釈剤はエーテル類、例えばジエチルエーテル、１，２
−ジエトキシエタン又はアニソール；芳香族炭化水素、
例えばベンゼン、トルエン又はキシレンである。

【００６９】本発明のプロセスａ）を塩基の存在下で行
う場合、適した希釈剤は水及びすべての有機溶媒であ
る。これらには好ましくは脂肪族、脂環式又は芳香族炭
化水素、例えば石油エーテル、ヘキサン、ヘプタン、シ
クロヘキサン、メチルシクロヘキサン、ベンゼン、トル
エン、キシレン又はデカリン；ハロゲン化炭化水素、例
えばクロロベンゼン、ジクロロベンゼン、ジクロロメタ
ン、クロロホルム、四塩化炭素、ジクロロエタン又はト
リクロロエタン；エーテル類、例えばジエチルエーテ
ル、ジイソプロピルエーテル、メチルｔ−ブチルエーテ
ル、メチルｔ−アミルエーテル、ジオキサン、テトラヒ
ドロフラン、１，２−ジメトキシエタン、１，２−ジエ
トキシエタン又はアニソール；ニトリル類、例えばアセ
トニトリル、プロピオニトリル、ｎ−もしくはｉ−ブチ
ロニトリル又はベンゾニトリル；アミド類、例えばＮ，
Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトア
ミド、Ｎ−メチルホルムアニリド、Ｎ−メチルピロリド
ン又はヘキサメチルリン酸トリアミド；エステル類、例
えば酢酸メチル又は酢酸エチル；スルホキシド類、例え
ばジメチルスルホキシド；スルホン類、例えばスルホラ
ン；アルコール類、例えばメタノール、エタノール、ｎ
−もしくはｉ−プロパノール、ｎ−、ｉ−、ｓｅｃ−も
しくはｔｅｒｔ−ブタノール、エタンジオール、プロパ
ン−１，２−ジオール、エトキシエタノール、メトキシ
エタノール、ジエチレングリコールモノメチルエーテ
ル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ならび
に水とのそれらの混合物が含まれる。好ましい希釈剤は
水、アルコール類、例えばメタノール、エタノール、ｎ
−もしくはｉ−プロパノール、ｎ−、ｉ−、ｓｅｃ−も
しくはｔｅｒｔ−ブタノール、エタンジオール、プロパ
ン−１，２−ジオール、エトキシエタノール、メトキシ
エタノール、ジエチレングリコールモノメチルエーテ
ル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル；ならび
に水とのそれらの混合物である。この場合に特に好まし
い希釈剤は水又はアルコール類、例えばメタノール、エ
タノール、ｎ−もしくはｉ−プロパノール、ｎ−、ｉ
−、ｓｅｃ−もしくはｔｅｒｔ−ブタノール、エタンジ
オール、プロパン−１，２−ジオール、エトキシエタノ
ール、メトキシエタノール、ジエチレングリコールモノ
メチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエー
テル、ならびに水とのそれらの混合物である。

【００７０】本発明のプロセスｂ）を行うのに適した希
釈剤は、水及びすべての有機溶媒である。これらには好
ましくは脂肪族、脂環式又は芳香族炭化水素、例えば石
油エーテル、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン、メ
チルシクロヘキサン、ベンゼン、トルエン、キシレン又
はデカリン；ハロゲン化炭化水素、例えばクロロベンゼ
ン、ジクロロベンゼン、ジクロロメタン、クロロホル
ム、四塩化炭素、ジクロロエタン又はトリクロロエタ
ン；エーテル類、例えばジエチルエーテル、ジイソプロ
ピルエーテル、メチルｔ−ブチルエーテル、メチルｔ−
アミルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、
１，２−ジメトキシエタン、１，２−ジエトキシエタン
又はアニソール；ニトリル類、例えばアセトニトリル、
プロピオニトリル、ｎ−もしくはｉ−ブチロニトリル又
はベンゾニトリル；アミド類、例えばＮ，Ｎ−ジメチル
ホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メ
チルホルムアニリド、Ｎ−メチルピロリドン又はヘキサ
メチルリン酸トリアミド；エステル類、例えば酢酸メチ
ル又は酢酸エチル；スルホキシド類、例えばジメチルス
ルホキシド；スルホン類、例えばスルホラン；アルコー
ル類、例えばメタノール、エタノール、ｎ−もしくはｉ
−プロパノール、ｎ−、ｉ−、ｓｅｃ−もしくはｔｅｒ
ｔ−ブタノール、エタンジオール、プロパン−１，２−
ジオール、エトキシエタノール、メトキシエタノール、
ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレン
グリコールモノエチルエーテル、ならびに水とのそれら
の混合物が含まれる。好ましい希釈剤は水、アルコール
類、例えばメタノール、エタノール、ｎ−もしくはｉ−
プロパノール、ｎ−、ｉ−、ｓｅｃ−もしくはｔｅｒｔ
−ブタノール、エタンジオール、プロパン−１，２−ジ
オール、エトキシエタノール、メトキシエタノール、ジ
エチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレング
リコールモノエチルエーテル；ならびに水とのそれらの
混合物である。特に好ましい希釈剤は水又はアルコール
類、例えばメタノール、エタノール、ｎ−もしくはｉ−
プロパノール、ｎ−、ｉ−、ｓｅｃ−もしくはｔｅｒｔ
−ブタノール、エタンジオール、プロパン−１，２−ジ
オール、エトキシエタノール、メトキシエタノール、ジ
エチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレング
リコールモノエチルエーテル、ならびに水とのそれらの
混合物である。

【００７１】本発明のプロセスｃ）を行うのに適した希
釈剤は水及びすべての有機溶媒である。これらには好ま
しくは脂肪族、脂環式又は芳香族炭化水素、例えば石油
エーテル、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン、メチ
ルシクロヘキサン、ベンゼン、トルエン、キシレン又は
デカリン；ハロゲン化炭化水素、例えばクロロベンゼ
ン、ジクロロベンゼン、ジクロロメタン、クロロホル
ム、四塩化炭素、ジクロロエタン又はトリクロロエタ
ン；エーテル類、例えばジエチルエーテル、ジイソプロ
ピルエーテル、メチルｔ−ブチルエーテル、メチルｔ−
アミルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、
１，２−ジメトキシエタン、１，２−ジエトキシエタン
又はアニソール；ケトン類、例えばアセトン、ブタノ
ン、メチルイソブチルケトン又はシクロヘキサノン；ニ
トリル類、例えばアセトニトリル、プロピオニトリル、
ｎ−もしくはｉ−ブチロニトリル又はベンゾニトリル；
アミド類、例えばＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，
Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルホルムアニリ
ド、Ｎ−メチルピロリドン又はヘキサメチルリン酸トリ
アミド；エステル類、例えば酢酸メチル又は酢酸エチ
ル；スルホキシド類、例えばジメチルスルホキシド；ス
ルホン類、例えばスルホラン；アルコール類、例えばメ
タノール、エタノール、ｎ−もしくはｉ−プロパノー
ル、ｎ−、ｉ−、ｓｅｃ−もしくはｔｅｒｔ−ブタノー
ル、エタンジオール、プロパン−１，２−ジオール、エ
トキシエタノール、メトキシエタノール、ジエチレング
リコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモ
ノエチルエーテル、ならびに水とのそれらの混合物が含
まれる。好ましい希釈剤は水、アルコール類、例えばメ
タノール、エタノール、ｎ−もしくはｉ−プロパノー
ル、ｎ−、ｉ−、ｓｅｃ−もしくはｔｅｒｔ−ブタノー
ル、エタンジオール、プロパン−１，２−ジオール、エ
トキシエタノール、メトキシエタノール、ジエチレング
リコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモ
ノエチルエーテル；あるいはニトリル類、例えばアセト
ニトリル、プロピオニトリル、ｎ−もしくはｉ−ブチロ
ニトリル又はベンゾニトリル、ならびに水とのそれらの
混合物である。

【００７２】本発明のプロセスｄ）を行うのに適した希
釈剤は水及びすべての不活性有機溶媒である。これらに
は好ましくは脂肪族、脂環式又は芳香族炭化水素、例え
ば石油エーテル、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサ
ン、メチルシクロヘキサン、ベンゼン、トルエン、キシ
レン又はデカリン；ハロゲン化炭化水素、例えばクロロ
ベンゼン、ジクロロベンゼン、ジクロロメタン、クロロ
ホルム、四塩化炭素、ジクロロエタン又はトリクロロエ
タン；エーテル類、例えばジエチルエーテル、ジイソプ
ロピルエーテル、メチルｔ−ブチルエーテル、メチルｔ
−アミルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、
１，２−ジメトキシエタン、１，２−ジエトキシエタン
又はアニソール；ニトリル類、例えばアセトニトリル、
プロピオニトリル、ｎ−もしくはｉ−ブチロニトリル又
はベンゾニトリル；アミド類、例えばＮ，Ｎ−ジメチル
ホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メ
チルホルムアニリド、Ｎ−メチルピロリドン又はヘキサ
メチルリン酸トリアミド；有機酸、例えば酢酸；エステ
ル類、例えば酢酸メチル、酢酸エチル又は酢酸ブチル；
スルホキシド類、例えばジメチルスルホキシド；スルホ
ン類、例えばスルホラン；アルコール類、例えばメタノ
ール、エタノール、ｎ−もしくはｉ−プロパノール、ｎ
−、ｉ−、ｓｅｃ−もしくはｔｅｒｔ−ブタノール、エ
タンジオール、プロパン−１，２−ジオール、エトキシ
エタノール、メトキシエタノール、ジエチレングリコー
ルモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチ
ルエーテル、ならびに水とのそれらの混合物あるいは純
粋な水が含まれる。

【００７３】本発明のプロセスｅ）、ｇ）及びｉ）を行
うのに適した希釈剤はすべての不活性有機溶媒である。
これらには好ましくは芳香族炭化水素、例えばベンゼ
ン、トルエン又はキシレン；ハロゲン化炭化水素、例え
ばクロロベンゼン、ジクロロベンゼン、ジクロロメタ
ン、クロロホルム、四塩化炭素、ジクロロエタン又はト
リクロロエタン；エーテル類、例えばジエチルエーテ
ル、ジイソプロピルエーテル、メチルｔ−ブチルエーテ
ル、メチルｔ−アミルエーテル、ジオキサン、テトラヒ
ドロフラン、１，２−ジメトキシエタン、１，２−ジエ
トキシエタン又はアニソール；アミド類、例えばＮ，Ｎ
−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミ
ド、Ｎ−メチルホルムアニリド、Ｎ−メチルピロリドン
又はヘキサメチルリン酸トリアミド；有機酸、例えば酢
酸；エステル類、例えば酢酸メチル又は酢酸エチル；ス
ルホキシド類、例えばジメチルスルホキシド；スルホン
類、例えばスルホラン；アルコール類、例えばメタノー
ル、エタノール、ｎ−もしくはｉ−プロパノール、ｎ
−、ｉ−、ｓｅｃ−もしくはｔｅｒｔ−ブタノール、エ
タンジオール、プロパン−１，２−ジオール、エトキシ
エタノール、メトキシエタノール、ジエチレングリコー
ルモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチ
ルエーテル、ならびに水とのそれらの混合物あるいは純
粋な水が含まれる。特に好ましい希釈剤はアミド類、例
えばＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチル
アセトアミド、Ｎ−メチルホルムアニリド、Ｎ−メチル
ピロリドン又はヘキサメチルリン酸トリアミド；アルコ
ール類、例えばメタノール、エタノール、ｎ−もしくは
ｉ−プロパノール、ｎ−、ｉ−、ｓｅｃ−もしくはｔｅ
ｒｔ−ブタノール、エタンジオール、プロパン−１，２
−ジオール、エトキシエタノール、メトキシエタノー
ル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチ
レングリコールモノエチルエーテル、水とのそれらの混
合物、あるいは純粋な水である。さらに２相混合物、例
えば水／トルエンも特に好ましい。

【００７４】本発明のプロセスｆ）を行うのに適した希
釈剤はすべての不活性な有機溶媒である。これらには好
ましくは脂肪族、脂環式又は芳香族炭化水素、例えば石
油エーテル、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン、メ
チルシクロヘキサン、ベンゼン、トルエン、キシレン又
はデカリン；ハロゲン化炭化水素、例えばクロロベンゼ
ン、ジクロロベンゼン、ジクロロメタン、クロロホル
ム、四塩化炭素、ジクロロエタン又はトリクロロエタ
ン；エーテル類、例えばジエチルエーテル、ジイソプロ
ピルエーテル、メチルｔ−ブチルエーテル、メチルｔ−
アミルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、
１，２−ジメトキシエタン、１，２−ジエトキシエタン
又はアニソール；ケトン類、例えばアセトン、ブタノ
ン、メチルイソブチルケトン又はシクロヘキサノン；ニ
トリル類、例えばアセトニトリル、プロピオニトリル、
ｎ−もしくはｉ−ブチロニトリル又はベンゾニトリル；
アミド類、例えばＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，
Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルホルムアニリ
ド、Ｎ−メチルピロリドン又はヘキサメチルリン酸トリ
アミド；エステル類、例えば酢酸メチル又は酢酸エチ
ル；スルホキシド類、例えばジメチルスルホキシド；ス
ルホン類、例えばスルホラン；アルコール類、例えばメ
タノール、エタノール、ｎ−もしくはｉ−プロパノー
ル、ｎ−、ｉ−、ｓｅｃ−もしくはｔｅｒｔ−ブタノー
ル、エタンジオール、プロパン−１，２−ジオール、エ
トキシエタノール、メトキシエタノール、ジエチレング
リコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモ
ノエチルエーテル、ならびに水とのそれらの混合物ある
いは純粋な水、ならびに例えば水／トルエンなどの２相
混合物が含まれる。特に好ましい希釈剤は脂肪族、脂環
式又は芳香族炭化水素、例えば石油エーテル、ヘキサ
ン、ヘプタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサ
ン、ベンゼン、トルエン、キシレン又はデカリン；ハロ
ゲン化炭化水素、例えばクロロベンゼン、ジクロロベン
ゼン、ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素、ジ
クロロエタン又はトリクロロエタン；エーテル類、例え
ばジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチル
ｔ−ブチルエーテル、メチルｔ−アミルエーテル、ジオ
キサン、テトラヒドロフラン、１，２−ジメトキシエタ
ン、１，２−ジエトキシエタン又はアニソール；ならび
に例えば水／トルエンなどの２相混合物である。

【００７５】本発明に従って製造することができる式
（Ｉ）の化合物の異性化を行うのに適した希釈剤は、す
べての不活性有機溶媒である。これらには好ましくは脂
肪族、脂環式又は芳香族炭化水素、例えば石油エーテ
ル、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン、メチルシク
ロヘキサン、ベンゼン、トルエン、キシレン又はデカリ
ン；ハロゲン化炭化水素、例えばクロロベンゼン、ジク
ロロベンゼン、ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化
炭素、ジクロロエタン又はトリクロロエタン；エーテル
類、例えばジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテ
ル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、１，２−ジメト
キシエタン、１，２−ジエトキシエタン又はアニソー
ル；エステル類、例えば酢酸メチル又は酢酸エチル；ス
ルホキシド類、例えばジメチルスルホキシド；あるいは
スルホン類、例えばスルホランが含まれる。

【００７６】本発明に従って製造することができる式
（Ｉ）の化合物の異性化は、適宜、酸の存在下で行われ
る。適した酸はすべての無機及び有機プロトン性酸、な
らびにルイス酸である。これらには例えば塩化水素、臭
化水素、硫酸、リン酸、蟻酸、酢酸、三フッ化酢酸、メ
タンスルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸、トル
エンスルホン酸、三フッ化ホウ素（エーテレートとして
も）、三臭化ホウ素が含まれる。

【００７７】本発明のプロセスａ）は、適宜、酸又は塩
基の存在下で行われる。適した酸はすべての無機及び有
機プロトン性酸、ならびにルイス酸、ならびに又すべて
のポリマー酸である。これらには例えば塩化水素、臭化
水素、硫酸、蟻酸、酢酸、三フッ化酢酸、メタンスルホ
ン酸、トリフルオロメタンスルホン酸、トルエンスルホ
ン酸、三フッ化ホウ素（エーテレートとしても）、三臭
化ホウ素、三塩化アルミニウム、塩化亜鉛、塩化鉄（Ｉ
ＩＩ）、五塩化アンチモン、酸性イオン交換剤、酸性ア
ルミナ及び酸性シリカゲルが含まれる。塩化水素又は臭
化水素が好ましい。適した塩基はすべての通常の無機又
は有機塩基である。これらには好ましくはアルカリ土類
金属もしくはアルカリ金属水素化物、水酸化物、アミド
類、アルコキシド類、酢酸塩、炭酸塩又は重炭酸塩、例
えば水素化ナトリウム、ナトリウムアミド、ナトリウム
メトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウムｔｅｒｔ
−ブトキシド、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水
酸化アンモニウム、酢酸ナトリウム、酢酸カリウム、酢
酸カルシウム、酢酸アンモニウム、炭酸ナトリウム、炭
酸カリウム、重炭酸カリウム、重炭酸ナトリウム又は炭
酸アンモニウム、ならびに第３アミン類、例えばトリメ
チルアミン、トリエチルアミン、トリブチルアミン、
Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、Ｎ，Ｎ−ジメチルベンジル
アミン、ピリジン、Ｎ−メチルピペリジン、Ｎ−メチル
モルホリン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノピリジン、ジアザ
ビシクロオクタン（ＤＡＢＣＯ）、ジアザビシクロノネ
ン（ＤＢＮ）、あるいはジアザビシクロウンデセン（Ｄ
ＢＵ）が含まれる。特に好ましい塩基はナトリウムメト
キシド、ナトリウムエトキシド、カリウムｔｅｒｔ−ブ
トキシド、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化
アンモニウム及び第３アミン類、例えばトリメチルアミ
ン、トリエチルアミン、トリブチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジ
メチルアニリン、Ｎ，Ｎ−ジメチルベンジルアミン、ピ
リジン、Ｎ−メチルピペリジン、Ｎ−メチルモルホリ
ン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノピリジン、ジアザビシクロ
オクタン（ＤＡＢＣＯ）、ジアザビシクロノネン（ＤＢ
Ｎ）又はジアザビシクロウンデセン（ＤＢＵ）である。

【００７８】本発明のプロセスｂ）は適宜、適した酸受
容体の存在下で行われる。適した酸受容体はすべての通
常の無機もしくは有機塩基である。これらには好ましく
はアルカリ土類金属もしくはアルカリ金属水素化物、水
酸化物、アミド類、アルコキシド類、酢酸塩、炭酸塩又
は重炭酸塩、例えば水素化ナトリウム、ナトリウムアミ
ド、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カ
リウムｔｅｒｔ−ブトキシド、水酸化ナトリウム、水酸
化カリウム、水酸化アンモニウム、酢酸ナトリウム、酢
酸カリウム、酢酸カルシウム、酢酸アンモニウム、炭酸
ナトリウム、炭酸カリウム、重炭酸カリウム、重炭酸ナ
トリウム又は炭酸アンモニウム、ならびに第３アミン
類、例えばトリメチルアミン、トリエチルアミン、トリ
ブチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、Ｎ，Ｎ−ジ
メチルベンジルアミン、ピリジン、Ｎ−メチルピペリジ
ン、Ｎ−メチルモルホリン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノピ
リジン、ジアザビシクロオクタン（ＤＡＢＣＯ）、ジア
ザビシクロノネン（ＤＢＮ）、あるいはジアザビシクロ
ウンデセン（ＤＢＵ）が含まれる。特に好ましい塩基は
ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウ
ムｔｅｒｔ−ブトキシド、水酸化ナトリウム、水酸化カ
リウム、水酸化アンモニウム及び第３アミン類、例えば
トリメチルアミン、トリエチルアミン、トリブチルアミ
ン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、Ｎ，Ｎ−ジメチルベン
ジルアミン、ピリジン、Ｎ−メチルピペリジン、Ｎ−メ
チルモルホリン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノピリジン、ジ
アザビシクロオクタン（ＤＡＢＣＯ）、ジアザビシクロ
ノネン（ＤＢＮ）又はジアザビシクロウンデセン（ＤＢ
Ｕ）である。

【００７９】本発明のプロセスｃ）は適宜、適した酸受
容体の存在下で行われる。適した酸受容体はすべての通
常の無機もしくは有機塩基である。これらには好ましく
はアルカリ土類金属もしくはアルカリ金属水素化物、水
酸化物、アミド類、アルコキシド類、酢酸塩、炭酸塩又
は重炭酸塩、例えば水素化ナトリウム、ナトリウムアミ
ド、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カ
リウムｔｅｒｔ−ブトキシド、水酸化ナトリウム、水酸
化カリウム、水酸化アンモニウム、酢酸ナトリウム、酢
酸カリウム、酢酸カルシウム、酢酸アンモニウム、炭酸
ナトリウム、炭酸カリウム、重炭酸カリウム、重炭酸ナ
トリウム又は炭酸アンモニウム、ならびに第３アミン
類、例えばトリメチルアミン、トリエチルアミン、トリ
ブチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、Ｎ，Ｎ−ジ
メチルベンジルアミン、ピリジン、Ｎ−メチルピペリジ
ン、Ｎ−メチルモルホリン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノピ
リジン、ジアザビシクロオクタン（ＤＡＢＣＯ）、ジア
ザビシクロノネン（ＤＢＮ）、あるいはジアザビシクロ
ウンデセン（ＤＢＵ）が含まれる。特に好ましい塩基は
アルカリ土類金属もしくはアルカリ金属水酸化物、アル
コキシド、炭酸塩もしくは重炭酸塩、例えば水酸化ナト
リウム、水酸化カリウム、水酸化アンモニウム、炭酸ナ
トリウム、炭酸カリウム、重炭酸カリウム、重炭酸ナト
リウム又は炭酸アンモニウム、及び第３アミン類、例え
ばトリメチルアミン、トリエチルアミン、トリブチルア
ミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、Ｎ，Ｎ−ジメチルベ
ンジルアミン、ピリジン、Ｎ−メチルピペリジン、Ｎ−
メチルモルホリン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノピリジン、
ジアザビシクロオクタン（ＤＡＢＣＯ）、ジアザビシク
ロノネン（ＤＢＮ）又はジアザビシクロウンデセン（Ｄ
ＢＵ）である。

【００８０】本発明のプロセスｄ）は適宜、酸又は塩基
の存在下で行われる。適した酸はすべての無機及び有機
プロトン性酸である。これらには例えば塩化水素、硫
酸、リン酸、蟻酸、酢酸、三フッ化酢酸、メタンスルホ
ン酸、トリフルオロメタンスルホン酸又はトルエンスル
ホン酸が含まれる。適した塩基はすべての通常の無機又
は有機塩基である。これらには好ましくはアルカリ土類
金属もしくはアルカリ金属水素化物、水酸化物又はアル
コキシド類、例えば水素化ナトリウム、ナトリウムメト
キシド、ナトリウムエトキシド、カリウムｔｅｒｔ−ブ
トキシド、水酸化ナトリウム又は水酸化カリウムが含ま
れる。

【００８１】本発明のプロセスｅ）、ｇ）及びｉ）は適
宜、適した酸受容体の存在下で行われる。適した酸受容
体はすべての通常の無機もしくは有機塩基である。これ
らには好ましくはアルカリ土類金属もしくはアルカリ金
属水酸化物、アルコキシド類、酢酸塩、炭酸塩又は重炭
酸塩、例えばナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキ
シド、カリウムｔｅｒｔ−ブトキシド、水酸化ナトリウ
ム、水酸化カリウム、水酸化アンモニウム、酢酸ナトリ
ウム、酢酸カリウム、酢酸カルシウム、酢酸アンモニウ
ム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、重炭酸カリウム、
重炭酸ナトリウム又は炭酸アンモニウム、ならびに第３
アミン類、例えばトリメチルアミン、トリエチルアミ
ン、トリブチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、
Ｎ，Ｎ−ジメチルベンジルアミン、ピリジン、Ｎ−メチ
ルピペリジン、Ｎ−メチルモルホリン、Ｎ，Ｎ−ジメチ
ルアミノピリジン、ジアザビシクロオクタン（ＤＡＢＣ
Ｏ）、ジアザビシクロノネン（ＤＢＮ）、あるいはジア
ザビシクロウンデセン（ＤＢＵ）が含まれる。

【００８２】本発明のプロセスａ）及びｂ）の実行にお
いて、反応温度は比較的広い範囲に及んで変化させるこ
とができる。反応は一般に−２０℃〜１００℃の温度、
好ましくは０℃〜８０℃の温度で行われる。

【００８３】本発明のプロセスｃ）の実行において、反
応温度は比較的広い範囲に及んで変化させることができ
る。反応は一般に０℃〜１５０℃の温度、好ましくは２
０℃〜１００℃の温度で行われる。

【００８４】本発明のプロセスｅ）、ｇ）及びｉ）の実
行において、反応温度は比較的広い範囲に及んで変化さ
せることができる。反応は一般に０℃〜１５０℃の温
度、好ましくは０℃〜８０℃の温度で行われる。

【００８５】本発明のプロセスｄ）の実行において、反
応温度は比較的広い範囲に及んで変化させることができ
る。反応は一般に−２０℃〜１５０℃の温度、好ましく
は０℃〜１００℃の温度で行われる。

【００８６】本発明のプロセスｆ）の実行において、反
応温度は比較的広い範囲に及んで変化させることができ
る。反応は一般に０℃〜２００℃の温度、好ましくは２
０℃〜１５０℃の温度で行われる。

【００８７】式（Ｉ）の化合物の製造のための本発明の
プロセスａ）の実行においては、式（ＩＩ）のＯ−ヒド
ロキシエチル−Ｏ’−アルキル−ベンゾフランジオンジ
オキシムの１モル当たり一般に１〜１５モル、好ましく
は２〜６モルの塩基が用いられる。

【００８８】式（ＩＩ）の化合物の製造のための本発明
のプロセスｂ）の実行においては、式（ＩＩＩ）のＯ−
アルキル−ベンゾフランジオンジオキシムの１モル当た
り一般に１〜１５モル、好ましくは３〜６モルの式（Ｉ
Ｖ）のエタン誘導体が用いられる。

【００８９】式（ＩＩＩ）の化合物の製造のための本発
明のプロセスｃ）の実行においては、式（Ｖ）のω−ニ
トロ−２−ヒドロキシアセトフェノンオキシムの１モル
当たり一般に１〜１５モル、好ましくは２〜８モルの塩
基が用いられる。

【００９０】式（ＩＩＩ）の化合物の製造のための本発
明のプロセスｄ）の実行においては、式（ＶＩ）のＯ−
アルキル−ベンゾフラノンオキシムの１モル当たり一般
に１〜５モル、好ましくは１〜３モルのアルカリ金属亜
硝酸塩又は亜硝酸アルカリが用いられる。

【００９１】式（Ｖ）、（ＶＩ）及び（ＩＸ）の化合物
の製造のための本発明のプロセスｅ）、ｇ）及びｉ）の
実行においては、それぞれ式（ＶＩＩ）のω−ニトロ−
２−ヒドロキシアセトフェノン、式（Ｘ）のベンゾフラ
ノン及び式（ＸＩＩＩ）のω−ハロゲノ−２−ヒドロキ
シアセトフェノンの１モル当たり、それぞれ一般に１〜
１５モル、好ましくは１〜８モルの式（ＶＩＩＩ）のア
ルコキシアミン−もしくはその酸付加錯体−が用いられ
る。

【００９２】式（ＶＩ）の化合物の製造のための本発明
のプロセスｆ）の実行においては、式（ＩＸ）のω−ハ
ロゲノ−２−ヒドロキシアセトフェノンオキシムの１モ
ル当たり一般に１〜１５モル、好ましくは１〜５モルの
塩基が用いられる。

【００９３】本発明のプロセスａ）〜ｉ）は一般に大気
圧において行われる。しかし高圧又は減圧において−一
般に０．１バール〜１０バールにおいてプロセスを行う
こともできる。

【００９４】好ましいプロセス変法（Ａ）の場合、プロ
セスｅ）に記載されている通り、式（ＶＩＩ）のω−ニ
トロ−２−ヒドロキシアセトフェノンを適宜、緩衝系、
例えば酢酸ナトリウム／酢酸中で式（ＶＩＩＩ）のアル
コキシアミン−もしくはその酸付加錯体−と反応させる
ことにより式（Ｖ）のω−ニトロ−２−ヒドロキシアセ
トフェノンオキシムに転化させる。化合物（Ｖ）を塩
基、例えば重炭酸ナトリウム水溶液と反応させて式（Ｉ
ＩＩ）のＯ−アルキル−ベンゾフランジオンジオキシム
を得る。式（ＩＩＩ）のＯ−アルキル−ベンゾフランジ
オンジオキシムを塩基性溶液、例えばアルカリ金属水酸
化物水溶液中で式（ＩＶ）のエタン誘導体と反応させ、
式（ＩＩ）のＯ−ヒドロキシエチル−Ｏ’−アルキル−
ベンゾフランジオンジオキシムを得、それを好ましくは
仕上げなしでさらに塩基性溶液中で反応させ、所望の３
−（１−ヒドロキシフェニル−１−アルコキシイミノメ
チル）ジオキサジンを得る。これを適宜、例えば酢酸エ
チルなどの有機溶媒中で塩化水素などの酸を用いる処理
により所望のＥ異性体に異性化させる。

【００９５】さらに好ましいプロセス変法（Ｂ）の場
合、プロセスｉ）に記載されている通り、式（ＸＩＩ
Ｉ）のω−ハロゲノ−２−ヒドロキシアセトフェノンを
適宜、緩衝系、例えば酢酸ナトリウム／酢酸中で式（Ｖ
ＩＩＩ）のアルコキシアミン−もしくはその酸付加錯体
−と反応させることにより式（ＩＸ）のω−ハロゲノ−
２−ヒドロキシアセトフェノンオキシムに転化させる。
式（ＩＸ）の化合物を水／メチルｔ−ブチルエーテル系
において塩基、例えば重炭酸ナトリウムで処理すること
により環化し、式（ＶＩ）のＯ−アルキル−ベンゾフラ
ノンオキシムを得る。酸性又は塩基性溶液中でアルカリ
金属亜硝酸塩又は亜硝酸アルキルで処理すると、式（Ｖ
Ｉ）のＯ−アルキル−ベンゾフラノンオキシムは式（Ｉ
ＩＩ）のＯ−アルキル−ベンゾフランジオンジオキシム
を与える。式（ＩＩＩ）のＯ−アルキル−ベンゾフラン
ジオンジオキシムを塩基性溶液、例えばアルカリ金属水
酸化物水溶液中で式（ＩＶ）のエタン誘導体と反応さ
せ、式（ＩＩ）のＯ−ヒドロキシエチル−Ｏ’−アルキ
ル−ベンゾフランジオンジオキシムを得、それを好まし
くは仕上げなしでさらに塩基性溶液中で反応させ、所望
の３−（１−ヒドロキシフェニル−１−アルコキシイミ
ノメチル）ジオキサジンを得る。これを適宜、例えば酢
酸エチルなどの有機溶媒中で塩化水素などの酸を用いる
処理により所望のＥ異性体に異性化させる。

【００９６】第３の好ましいプロセス変法（Ｃ）の場
合、プロセスｇ）に記載されている通り、式（Ｘ）のベ
ンゾフラノンを適宜、緩衝系、例えば酢酸ナトリウム／
酢酸中で式（ＶＩＩＩ）のアルコキシアミン−もしくは
その酸付加錯体−と反応させることにより、式（ＶＩ）
のＯ−アルキルベンゾフラノンオキシムに転化させる。
酸性又は塩基性溶液中でアルカリ金属亜硝酸塩又は亜硝
酸アルキルで処理すると、式（ＶＩ）のＯ−アルキル−
ベンゾフラノンオキシムは式（ＩＩＩ）のＯ−アルキル
−ベンゾフランジオンジオキシムを与える。式（ＩＩ
Ｉ）のＯ−アルキル−ベンゾフランジオンジオキシムを
塩基性溶液、例えばアルカリ金属水酸化物水溶液中で式
（ＩＶ）のエタン誘導体と反応させ、式（ＩＩ）のＯ−
ヒドロキシエチル−Ｏ’−アルキル−ベンゾフランジオ
ンジオキシムを得、それを好ましくは仕上げなしでさら
に塩基性溶液中で反応させ、所望の３−（１−ヒドロキ
シフェニル−１−アルコキシイミノメチル）ジオキサジ
ンを得る。これを適宜、例えば酢酸エチルなどの有機溶
媒中で塩化水素などの酸を用いる処理により所望のＥ異
性体に異性化させる。

【００９７】本発明の方法が、特に組み合わされた時
に、高収率で高純度の生成物を与えることは非常に驚く
べきことである。一般式（Ｖ）の化合物が塩基で処理さ
れると、室温などの低温で水の存在下においてさえ容易
に水を脱離させて環化し、高収率の式（ＩＩＩ）の化合
物を与え、それを濾過により簡単に高純度で単離できる
ことは、特に驚くべきことである。既知の文献に従う
と、これらの条件下では式（Ｖ）の化合物の脱プロトン
化のみが予想されるべきであった。さらに、式（ＩＩ
Ｉ）の化合物がアルカリ性条件下で問題なくエポキシド
と反応し、式（ＩＩ）の化合物を与えることができ、そ
れを今度は適宜、仕上げなしでさえ、直接所望の３−
（１−ヒドロキシフェニル−１−アルコキシイミノメチ
ル）ジオキサジンに環化できることは、特に驚くべきこ
とである。例えばＣｈｅｍ．Ｂｅｒ．１９０２，１６４
０は、ベンゾフランジオンモノオキシムが酸を用いる、
及び塩基を用いる両方の処理により分裂してサリチル酸
誘導体又はヒドロキシフェニルグリオキサル酸誘導体を
与えると記載している。かくして式（ＩＩＩ）の化合物
は与えられた反応条件下で同様に分解することが予想さ
れてしかるべきであった。式（ＶＩ）の化合物の容易な
ニトロソ化（プロセスｄ）も驚くべきことであり、それ
はオキシムに対してα位に位置するメチル又はメチレン
基のニトロソ化は、ケト基に対してα位に位置するメチ
ル又はメチレン基と対照的に、以前には記載がないから
である。

【００９８】本発明の方法は複数の利点を有する。かく
して該方法は大量の３−（１−ヒドロキシフェニル−１
−アルコキシイミノメチル）ジオキサジンを高収率及び
高純度で製造することを可能にする。出発材料として必
要な式（ＩＶ）のエタン誘導体、式（ＶＩＩ）のω−ニ
トロ−２−ヒドロキシアセトフェノン、式（Ｘ）のベン
ゾフラノン及び式（ＸＩＩＩ）のω−ハロゲノ−２−ヒ
ドロキシアセトフェノンを大量にでも、低い経費で容易
に得られ得ることは、さらなる利点である。

【００９９】

【実施例】製造及びプロセス実施例： 実施例１： プロセス変法（Ａ）

【０１００】

【化２２】

【０１０１】段階１ 化合物（Ｖ−１）

【０１０２】

【化２３】

【０１０３】プロセスｅ） ２０℃において７３．５ｇ（０．８８モル）のメトキシ
アミン塩酸塩を、５００ｍｌのメタノール中の８０．０
ｇ（０．４４モル）のｏ−ヒドロキシ−ω−ニトロアセ
トフェノンの溶液に加え、混合物を４５〜５０℃におい
て８〜１２時間撹拌する。溶液を２０℃に冷却し、１ｌ
の氷−水中に注ぎ、１時間撹拌する。結晶性生成物を濾
過し、５００ｍｌの水を用いて１回に少量で洗浄し、真
空乾燥室において４０℃で乾燥する。７２ｇ（理論値の
７４．６％）の１−（２−ヒドロキシフェニル）−２−
ニトロ−エタノン Ｏ−メチル−オキシムが立体異性体
の混合物として得られる。

【０１０４】ＨＰＬＣ：ｌｏｇＰ＝１．８７（１２．３
％），２．２７（８３．５％）段階２ 化合物（ＩＩＩ−１）

【０１０５】

【化２４】

【０１０６】プロセスｃ） ７１．８ｇの１−（２−ヒドロキシ−フェニル）−２−
ニトロ−エタノン Ｏ−メチル−オキシムを７００ｍｌ
の水中の１２１ｇ（０．３４２モル）の重炭酸ナトリウ
ムの溶液に加える。３０分以内に混合物を９０〜９５℃
に加熱し、そうすると未溶解の出発材料が溶融し、反応
し、生成物が析出する。混合物を２０℃に冷却し、生成
物を濾過し、５００ｍｌの水を用いて１回に少量で洗浄
し、空気乾燥する。５７．４ｇ（理論値の９１．３％）
のベンゾフラン−２，３−ジオン３−（Ｏ−メチル−オ
キシム） ２−オキシムが２つの立体異性体の混合物と
して得られる。

【０１０７】ＨＰＬＣ：ｌｏｇＰ＝１．５６（２８．４
％），１．７２（７１．６％）段階３ 化合物（ＩＩ−１）

【０１０８】

【化２５】

【０１０９】プロセスｂ） ２０℃において、２６４．３ｇ（６．０モル）のエチレ
ンオキシドを２ｌの水中の１９２．２ｇ（１．０モル）
のベンゾフラン−２，３−ジオン ３−（Ｏ−メチル−
オキシム） ２−オキシムの溶液中に８５分間かけて通
過させる。溶液を５℃に冷却し、７０ｇ（１．０６モ
ル）の水酸化ナトリウムペレットを加え、そうすると温
度が１０℃に上昇する。さらに冷却せずに混合物をさら
に１６５分間撹拌し、形成される沈澱を吸引濾過し、５
００ｍｌの氷−水を用いて１回に少量で洗浄し、真空乾
燥室において４０℃で乾燥する。１４３．０ｇ（理論値
の６１％）のベンゾフラン−２，３−ジオン ２−［Ｏ
−（２−ヒドロキシ−エチル）−オキシム］ ３−（Ｏ
−メチル−オキシム）が２つの立体異性体の混合物とし
て得られる。

【０１１０】ＨＰＬＣ：ｌｏｇＰ−１．６５（０．５
％），１．７９（９９．５％）段階４ 化合物（Ｉ−１）

【０１１１】

【化２６】

【０１１２】プロセスａ） ２５０ｍｌの水中の２５．６ｇ（０．１０８４モル）の
ベンゾフラン−２，３−ジオン ２−［Ｏ−（２−ヒド
ロキシ−エチル）−オキシム］ ３−（Ｏ−メチル−オ
キシム）及び１４．２ｇ（０．２１６モル）の水酸化カ
リウムペレットの溶液を６０℃において１９５分間撹拌
する。溶液１０℃に冷却し、氷酢酸を用いてｐＨ５〜６
に酸性化する。結晶性生成物を吸引濾過し、２００ｍｌ
の水を用いて１回に少量で洗浄し、真空乾燥炉中で４５
℃において乾燥する。１７．７ｇ（理論値の６７．７
％）のＥ−（５．６−ジヒドロ−［１，４，２］ジオキ
サジン−３−イル）−（２−ヒドロキシ−フェニル）−
メタノン Ｏ−メチル−オキシムが得られる。

【０１１３】ＨＰＬＣ：ｌｏｇＰ＝１．２２実施例２ 化合物（Ｉ−１）

【０１１４】

【化２７】

【０１１５】プロセスａ）及びｂ）のワン−ポット変法 ２０℃において、１９．８ｇ（０．３モル）の水酸化カ
リウムペレットを４００ｍｌの水中の３８．４ｇ（０．
２モル）のベンゾフラン−２，３−ジオン ３−（Ｏ−
メチル−オキシム） ２−オキシムの懸濁液に加え、混
合物を３０分間撹拌し、そうすると溶液が生成する。２
０℃において、１７．６ｇ（０．４モル）のエチレンオ
キシドを７５分間かけて導入し、混合物を２０℃で終夜
撹拌すると沈澱が生成する。次いで混合物を６０℃で１
１時間撹拌すると沈澱が再溶解する。溶液を冷却し、氷
酢酸を用いてｐＨ５〜６に酸性化する。結晶性生成物を
吸引濾過し、３００ｍｌの水を用いて１回に少量で洗浄
し、真空乾燥室中で４５℃において乾燥する。１９．６
ｇ（理論値の３９．３％）の（５，６−ジヒドロ−
［１，４，２］ジオキサジン−３−イル）−（２−ヒド
ロキシ−フェニル）−メタノン Ｏ−メチル−オキシム
が得られる。

【０１１６】ＨＰＬＣ：ｌｏｇＰ＝１．２４（Ｅ異性体
９４．２％）；２．０５（Ｚ異性体０．６％）実施例３ 化合物（Ｉ−１）

【０１１７】

【化２８】

【０１１８】異性化 １１２ｇの塩化水素を８０６ｇ（４．１９モル）の
（５，６−ジヒドロ−［１，４，２］ジオキサジン−３
−イル）−（２−ヒドロキシ−フェニル）−メタノン
Ｏ−メチル−オキシム（３３．３％のＺ異性体、６６．
６％のＥ異性体）の溶液中に６０分かけて導入し、そう
すると溶液は２０℃〜２７℃に温まる。混合物を２０℃
でさらに１８時間撹拌し、続いて減圧下で濃縮する。残
留物を真空乾燥室中で４０℃において乾燥する。９４．
８％（ＨＰＬＣ）のＥ異性体含有率を有する８０６ｇ
（理論値の１００％）の（５，６−ジヒドロ−［１，
４，２］ジオキサジン−３−イル）−（２−ヒドロキシ
−フェニル）−メタノン Ｏ−メチル−オキシムが得ら
れる。

【０１１９】実施例４ 化合物（ＩＩＩ−１）

【０１２０】

【化２９】

【０１２１】プロセスｄ） ４０ｍｌのｔｅｒｔ−ブタノール中に３．９２ｇ（０．
０３５モル）のカリウムｔｅｒｔ−ブトキシドを溶解す
る。この溶液に１０ｍｌのｔｅｒｔ−ブタノール中の
５．７ｇ（０．０３５モル）のベンゾフラン−３−オン
Ｏ−メチル−オキシム及び７．２ｇ（０．０７モル）
の亜硝酸ｔｅｒｔ−ブチルの溶液を加える。混合物を冷
却せずに２時間撹拌し、次いで２０ｍｌの２Ｎ塩酸水溶
液と混合する。結晶性生成物を濾過し、水で繰り返し洗
浄し、デシケーター中で乾燥する。３．１９ｇ（理論値
の４７．１％）のベンゾフラン−２，３−ジオン ３−
（Ｏ−メチル−オキシム） ２−オキシムが８６．３３
％の異性体Ａ及び１２．９８％の異性体Ｂ（ＨＰＬＣ）
を含む２つの異性体の混合物として得られる。

【０１２２】¹Ｈ ＮＭＲスペクトル（ＤＭＳＯ−ｄ₆／
ＴＭＳ）：δ＝４．１０（３Ｈ，異性体Ｂ）；４．１１
（３Ｈ；異性体Ａ）；７．２１／７．２４／７．２６
（１Ｈ）；７．３１／７．３４（１Ｈ）；７．５１／
７．５３／７．５６（１Ｈ）；７．６３／７．６５（１
Ｈ，異性体Ｂ） ８．０２／８．０５（１Ｈ，異性体
Ａ）；１１．３６（１Ｈ，異性体Ａ）；１１．７５（１
Ｈ，異性体Ｂ）ｐｐｍ。

【０１２３】ｔｅｒｔ−ブタノールの代わりに酢酸ブチ
ルを用いると、同一の結果が得られる。

【０１２４】実施例５ 化合物（ＩＩＩ−１）

【０１２５】

【化３０】

【０１２６】プロセスｄ） −１０℃において、２ｇ（０．０１９モル）の亜硝酸ｔ
ｅｒｔ−ブチルを、乾燥塩化水素で飽和された３０ｍｌ
の酢酸エチルに滴下し、混合物をこの温度で１５分間撹
拌する。−１０℃において、５ｍｌの酢酸エチルに溶解
された１．６ｇ（０．００９８モル）のベンゾフラン−
３−オン Ｏ−メチル−オキシムを次いで加え、温度を
０℃に上昇させ、混合物をこの温度で３０分間撹拌す
る。結晶性生成物を濾過し、１．０８ｇの結晶性ベンゾ
フラン−２，３−ジオン ３−（Ｏ−メチル−オキシ
ム） ２−オキシムを、ＨＰＬＣに従い５４．７％（理
論値の５６％）の異性体Ｂ及び４２．９％の異性体Ａを
含む２つの立体異性体の混合物として得る。

【０１２７】¹Ｈ ＮＭＲスペクトル（ＣＤＣｌ₃／ＴＭ
Ｓ）：δ＝４．１０（３Ｈ，異性体Ｂ）；４．１１（３
Ｈ，異性体Ａ）；７．２１−７．２６（１Ｈ）；７．３
１−７．３５（１Ｈ）；７．５−７．６５（２Ｈ，異性
体Ｂ＋１Ｈ，異性体Ａ）；８．０２−８．０５（１Ｈ，
異性体Ａ）；１１．３６（１Ｈ，異性体Ａ）；１１．７
５（１Ｈ，異性体Ｂ）ｐｐｍ。

【０１２８】類似の方法で５−メチルベンゾフラン−
２，３−ジオン ３−（Ｏ−メチル−オキシム） ２−
オキシム（ＩＩＩ−２）を得た。

【０１２９】¹Ｈ ＮＭＲスペクトル（ＣＤＣｌ₃／ＴＭ
Ｓ）：δ＝２．２４（３Ｈ，異性体Ｂ）；２．２５（３
Ｈ，異性体Ａ）ｐｐｍ。

【０１３０】実施例６ 化合物（ＶＩ−１）

【０１３１】

【化３１】

【０１３２】プロセスｆ） ７４ｇ（０．３０３モル）の２−ブロモ−１−（２−ヒ
ドロキシ−フェニル）−エタノン Ｏ−メチル−オキシ
ムを３５０ｍｌのｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテルに溶
解し、４００ｍｌの水中の４０ｇ（０．３７７モル）の
炭酸ナトリウムの溶液と共に激しく撹拌しながら５日間
還流下で加熱する。有機相を分離し、硫酸ナトリウム上
で乾燥し、溶媒を減圧下で蒸留し、４５．５ｇ（理論値
の８２．８％、ＨＰＬＣ分析に従い９０％のＺ異性体）
の粗ベンゾフラン−３−オン Ｏ−メチル−オキシムを
得る。

【０１３３】¹Ｈ ＮＭＲスペクトル（ＤＭＳＯ−ｄ₆／
ＴＭＳ）：δ＝３．９３（３Ｈ）；５．１６（２Ｈ）；
７．０−７．０７（２Ｈ）；７．３９−７．４５（１
Ｈ）；７．５４−７．５７（１Ｈ）ｐｐｍ。

【０１３４】類似の方法で５−メチルベンゾフラン−３
−オン Ｏ−メチル−オキシム（ＶＩ−２）を得た。

【０１３５】ＧＣ／ＭＳ：Ｍ⁺＝１７７；ＨＰＬＣ：ｌ
ｏｇＰ＝２．８８実施例７ 化合物（ＶＩ−１）

【０１３６】

【化３２】

【０１３７】プロセスｇ） ６．７ｇ（０．０５モル）のベンゾフラン−３−オンを
５０ｍｌのメタノール中の４．２ｇ（０．０５モル）の
Ｏ−メチルヒドロキシルアミン塩酸塩及び４．１ｇ
（０．０５モル）の酢酸ナトリウムと一緒に３時間、還
流下で加熱する。溶媒を減圧下で蒸留し、反応混合物を
水中に注ぎ、酢酸エチルで抽出する。有機相を飽和炭酸
ナトリウム水溶液で洗浄する。有機相を硫酸ナトリウム
上で乾燥し、溶媒を減圧下で蒸留する。７．２７ｇ（理
論値の８９．２％）の粗ベンゾフラン−３−オン Ｏ−
メチル−オキシムが得られる。分析のために、Ｋｕｇｅ
ｌｒｏｈｒを用い、２トール及び７０℃において粗生成
物を蒸留する。油が得られ、それはＮＭＲ分析及びＨＰ
ＬＣ分析の両方に従うと、２つの立体異性体を含む（７
９％の異性体Ｂ及び２１％の異性体Ａ）。

【０１３８】¹Ｈ−ＮＭＲスペクトル（ＤＭＳＯ−ｄ₆／
ＴＭＳ）：δ＝３．９３（３Ｈ，異性体Ｂ）；３．９３
（３Ｈ，異性体Ａ）；５．１１（２Ｈ，異性体Ａ）；
５．１６（２Ｈ，異性体Ｂ）；７．０−７．０７（２
Ｈ）；７．３９−７．４５（１Ｈ）；７．５４／７．５
７（１Ｈ，異性体Ｂ）；７．９５−８．０２（１Ｈ，異
性体Ａ）ｐｐｍ。

【０１３９】実施例８ 化合物（ＶＩ−１）

【０１４０】

【化３３】

【０１４１】プロセスｈ） ３．７ｇのベンゾフラン−３−オンオキシムを１５ｍｌ
のジメチルホルムアミドに溶解する。２０℃において１
ｇの水素化ナトリウム（６０％）を加え、気体の発生が
止むまで混合物を撹拌する。次いで３．１５ｇの硫酸ジ
メチルを滴下し、混合物を２０℃で２４時間撹拌する。
反応混合物を水中に注ぎ、酢酸エチルで抽出し、有機相
を硫酸ナトリウム上で乾燥し、溶媒を減圧下で蒸留す
る。残留物をｎ−ヘキサン／アセトン（４：１）を用い
てシリカゲル上のクロマトグラフィーにかける。１．７
ｇ（理論値の４２％）のベンゾフラン−３−オン Ｏ−
メチル−オキシムが油として得られる。

【０１４２】¹Ｈ−ＮＭＲスペクトル（ＤＭＳＯ−ｄ₆／
ＴＭＳ）：δ＝３．９３（３Ｈ）；５．１６（２Ｈ）；
７．０−７．０７（２Ｈ）；７．３９−７．４５（１
Ｈ）；７．５４／７．５７（１Ｈ）ｐｐｍ。

【０１４３】実施例９ 化合物（ＩＸ−１）

【０１４４】

【化３４】

【０１４５】プロセスｉ） ５００ｍｌのメタノール中の１０７．５ｇ（０．５モ
ル）のω−ブロモ−２−ヒドロキシ−アセトフェノンを
４１．７５ｇ（０．５モル）のＯ−メチルヒドロキシル
アミン塩酸塩と共に還流下で４時間加熱する。メタノー
ルを減圧下で蒸留し、残留物を５００ｍｌの水と混合
し、１００ｍｌの酢酸エチルで４回抽出する。有機相を
硫酸ナトリウム上で乾燥し、溶媒を減圧下で蒸留する。
０℃において、残留物を石油エーテルと共に撹拌し、７
４ｇ（理論値の５２％）の結晶性２−ブロモ−１−（２
−ヒドロキシ−フェニル）−エタノン Ｏ−メチル−オ
キシムを２つの立体異性体（５３％の異性体Ｂ及び３３
％の異性体Ａ）の混合物として得る。

【０１４６】¹Ｈ ＮＭＲスペクトル（ＣＤＣｌ₃／ＴＭ
Ｓ）：δ＝３．９８（３Ｈ，異性体Ｂ）；３．９９（３
Ｈ，異性体Ａ）；４．５３（３Ｈ，異性体Ａ）；４．６
９（３Ｈ，異性体Ｂ）；６．８５−６．９３（２Ｈ）；
７．２６−７．３５（２Ｈ）；１０．２１（１Ｈ，異性
体Ｂ）；１０．２５（１Ｈ，異性体Ａ）ｐｐｍ。

【０１４７】類似の方法で２−クロロ−１−（２−ヒド
ロキシ−５−メチル−フェニル）−エタノン Ｏ−メチ
ル−オキシム（ＩＸ−２）が得られた。

【０１４８】¹Ｈ ＮＭＲスペクトル（ＣＤＣｌ₃／ＴＭ
Ｓ）：δ＝２．３２（ｓ，３Ｈ）；４．０８（ｓ，３
Ｈ）ｐｐｍ。

【０１４９】実施例１及び２と同様にして、及び本発明
のプロセスａ）の一般的記載に従って、表１に挙げられ
ている式（Ｉ−ａ）の化合物が得られた：

【０１５０】

【化３５】

【０１５１】

【表１】

【０１５２】実施例１、化合物（ＩＩ−１）と同様にし
て、及び本発明のプロセスｂ）の一般的記載に従って表
２に挙げられている式（ＩＩ−ａ）の化合物が得られ
た：

【０１５３】

【化３６】

【０１５４】

【表２】

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 ヘルベルト・ガイアー ドイツ40789モンハイム・ザントシユトラ ーセ66 (72)発明者 ペーター・ゲルデス ドイツ52080アーヘン・バルトシユトラー セ75

Claims (6)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 ａ）式 【化１】 ［式中、Ａはアルキルを示し、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³及びＲ⁴は
   同一又は異なり、それぞれ互いに独立して水素、ハロゲ
   ン、シアノ、ニトロ、それぞれ場合によりハロゲン−置
   換されていることができるアルキル、アルコキシ、アル
   キルチオ、アルキルスルフィニル又はアルキルスルホニ
   ルを示し、Ｚ¹、Ｚ²、Ｚ³及びＺ⁴は同一又は異なり、そ
   れぞれ互いに独立して水素、アルキル、ハロゲノアルキ
   ル又はヒドロキシアルキルを示すか、あるいはＺ¹と
   Ｚ²、又はＺ¹とＺ³、又はＺ³とＺ⁴はそれらが結合して
   いる各炭素原子と一緒になって環状脂肪族環を形成す
   る］のＯ−ヒドロキシエチル−Ｏ’−アルキル−ベンゾ
   フランジオンジオキシムを、適宜、希釈剤の存在下に、
   及び適宜、塩基又は酸の存在下において転位させ、立体
   異性体の混合物として存在し得る得られる生成物を適
   宜、希釈剤の存在下に、及び適宜、酸の存在下において
   適宜、異性化させて所望のＥ異性体を得ることを特徴と
   する式 【化２】 ［式中、Ａ、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｚ¹、Ｚ²、Ｚ³及び
   Ｚ⁴はそれぞれ上記で定義された通りである］の化合物
   の製造法。
2. 【請求項２】 Ａがメチル、エチル、ｎ−もしくはｉ−
   プロピルを示し、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³及びＲ⁴が同一又は異な
   り、それぞれ互いに独立して水素、ハロゲン、シアノ、
   ニトロを示すか、あるいはそれぞれ炭素数が１〜６であ
   り、そのそれぞれが場合により１〜５個のハロゲン原子
   により置換されていることができるアルキル、アルコキ
   シ、アルキルチオ、アルキルスルフィニル又はアルキル
   スルホニルを示し、Ｚ¹、Ｚ²、Ｚ³及びＺ⁴が同一又は異
   なり、それぞれ互いに独立して水素、それぞれ炭素数が
   １〜４のアルキル又はヒドロキシアルキル、あるいは炭
   素数が１〜４であり且つ１〜５個の同一又は異なるハロ
   ゲン原子を有するハロゲノアルキルを示すか、あるいは
   Ｚ¹とＺ²、又はＺ¹とＺ³、又はＺ³とＺ⁴はそれらが結合
   している各炭素原子と一緒になって炭素数が５、６又は
   ７の環状脂肪族環を形成する式（Ｉ）の化合物を製造す
   る請求項１に記載の方法。
3. 【請求項３】 Ａがメチル又はエチルを示し、Ｒ¹、
   Ｒ²、Ｒ³及びＲ⁴が同一又は異なり、それぞれ互いに独
   立して水素、フッ素、塩素、臭素、シアノ、ニトロ、メ
   チル、エチル、ｎ−もしくはｉ−プロピル、ｎ−、ｉ
   −、ｓ−もしくはｔ−ブチル、メトキシ、エトキシ、ｎ
   −もしくはｉ−プロポキシ、メチルチオ、エチルチオ、
   メチルスルフィニル、エチルスルフィニル、メチルスル
   ホニル又はエチルスルホニル、トリフルオロメチル、ト
   リフルオロエチル、ジフルオロメトキシ、トリフルオロ
   メトキシ、ジフルオロクロロメトキシ、トリフルオロエ
   トキシ、ジフルオロメチルチオ、ジフルオロクロロメチ
   ルチオ、トリフルオロメチルチオ、トリフルオロメチル
   スルフィニル又はトリフルオロメチルスルホニルを示
   し、Ｚ¹、Ｚ²、Ｚ³及びＺ⁴が同一又は異なり、それぞれ
   互いに独立して水素、メチル、エチル、ｎ−もしくはｉ
   −プロピル、ｎ−、ｉ−、ｓ−もしくはｔ−ブチル、ヒ
   ドロキシメチル、トリフルオロメチル又はトリフルオロ
   エチルを示すか、あるいはＺ¹とＺ²、又はＺ¹とＺ³、又
   はＺ³とＺ⁴がそれらが結合している各炭素原子と一緒に
   なって炭素数が５、６又は７の環状脂肪族環を形成する
   式（Ｉ）の化合物を製造する請求項１に記載の方法。
4. 【請求項４】 式（Ｉ−ａ） 【化３】 ［式中、Ａはアルキルを示し、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³及びＲ⁴は
   同一又は異なり、それぞれ互いに独立して水素、ハロゲ
   ン、シアノ、ニトロ、それぞれ場合によりハロゲン−置
   換されていることができるアルキル、アルコキシ、アル
   キルチオ、アルキルスルフィニル又はアルキルスルホニ
   ルを示し、Ｚ¹、Ｚ²、Ｚ³及びＺ⁴は同一又は異なり、そ
   れぞれ互いに独立して水素、アルキル、ハロゲノアルキ
   ル又はヒドロキシアルキルを示すか、あるいはＺ¹と
   Ｚ²、又はＺ¹とＺ³、又はＺ³とＺ⁴はそれらが結合して
   いる各炭素原子と一緒になって環状脂肪族環を形成する
   が、ここで置換基Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｚ¹、Ｚ²、Ｚ³
   及びＺ⁴の少なくとも１つは水素と異なる］の化合物。
5. 【請求項５】 式（ＩＩ） 【化４】 ［式中、Ａ、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｚ¹、Ｚ²、Ｚ³及び
   Ｚ⁴はそれぞれ請求項１において定義された通りであ
   る］の化合物。
6. 【請求項６】 ｂ）式（ＩＩＩ） 【化５】 ［式中、Ａ、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³及びＲ⁴はそれぞれ上記で定
   義された通りである］のＯ−アルキル−ベンゾフランジ
   オンジオキシムを式（ＩＶ） 【化６】 ［式中、Ｙ¹はハロゲン、アルキルスルホニルオキシ、
   アリールスルホニルオキシ又はアルカノイルオキシを示
   し、Ｇは水素を示すか、あるいはＹ¹及びＧは単結合に
   より連結され、ここでＹ¹は酸素を示し、Ｇは 【化７】 を示すか、あるいはＹ¹及びＧは一緒になって単結合を
   示し、Ｚ¹、Ｚ²、Ｚ³及びＺ⁴はそれぞれ上記で定義され
   た通りである］のエタン誘導体と、適宜、希釈剤の存在
   下で、及び適宜、塩基の存在下において反応させること
   を特徴とする請求項５に定義されている式（ＩＩ）の化
   合物の製造法。