JP2003514890A - 2−(2−ヒドロキシフェニル)−2−(アルコキシイミノ)−n−メチルアセトアミド誘導体の製造方法 - Google Patents
2−(2−ヒドロキシフェニル)−2−(アルコキシイミノ)−n−メチルアセトアミド誘導体の製造方法Info
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Abstract
(57)【要約】
本発明は2−(2−ヒドロキシフェニル)−2−(アルコキシイミノ)−N−メチルアセトアミド誘導体の数種の新規な製造方法、それらの製造のための新規な中間生成物、およびこれらの中間生成物の製造方法に関する。
Description
【0001】
本発明は2−(2−ヒドロキシフェニル)−2−(アルコキシイミノ)−N−
メチルアセトアミド誘導体の複数の新規な製造方法、それらの製造のための新規
な中間体、およびこれらの中間体の製造方法に関する。
メチルアセトアミド誘導体の複数の新規な製造方法、それらの製造のための新規
な中間体、およびこれらの中間体の製造方法に関する。
【0002】
2−(2−ヒドロキシフェニル)−2−(メトキシイミノ)−酢酸メチル(A
)または1−ベンゾフラン−2,3−ジオン3−(O−メチルオキシム)(B)
をメチルアミンと反応させる場合に2−(2−ヒドロキシフェニル)−2−(メ
トキシイミノ)−N−メチルアセトアミド(C)が得られることは既知である(
例えば、EP−A398692またはWO95−24396参照):
)または1−ベンゾフラン−2,3−ジオン3−(O−メチルオキシム)(B)
をメチルアミンと反応させる場合に2−(2−ヒドロキシフェニル)−2−(メ
トキシイミノ)−N−メチルアセトアミド(C)が得られることは既知である(
例えば、EP−A398692またはWO95−24396参照):
【0003】
【化14】
【0004】
これらの方法は出発物質を得るのが難しいという欠点を有する。
今回、a)式(II)
【0005】
【化15】
【0006】
の2−(2−ヒドロキシフェニル)−2−(ヒドロキシイミノ)−N−メチルア
セトアミドを、適宜希釈剤の存在下でそして適宜酸受容体の存在下で、適宜相間
移動触媒の存在下で、式(III) R−X (III) [式中、 Rは置換されたまたは未置換のアルキルを表し、そして Xはハロゲン、−O−CO−O−R、−O−SO2−R1または−O−SO2−O
−Rを表し、ここでRは以上で定義された通りでありそしてR1はアルキルまた
は場合によりアルキル−置換されていてもよいフェニルを表す] のアルキル化剤と反応させる場合に、或いは b)式(IV)
セトアミドを、適宜希釈剤の存在下でそして適宜酸受容体の存在下で、適宜相間
移動触媒の存在下で、式(III) R−X (III) [式中、 Rは置換されたまたは未置換のアルキルを表し、そして Xはハロゲン、−O−CO−O−R、−O−SO2−R1または−O−SO2−O
−Rを表し、ここでRは以上で定義された通りでありそしてR1はアルキルまた
は場合によりアルキル−置換されていてもよいフェニルを表す] のアルキル化剤と反応させる場合に、或いは b)式(IV)
【0007】
【化16】
【0008】
の2−(2−ヒドロキシフェニル)−2−(メチルイミノ)−N−メチルアセト
アミドを、適宜希釈剤の存在下でそして適宜緩衝媒体の存在下で、式(V) R−O−NH2 (V) [式中、 Rは以上で定義された通りである] のアルコキシアミン類−またはその酸付加錯体(acid addition complex)−と
反応させる場合に、或いは c)式(VI)
アミドを、適宜希釈剤の存在下でそして適宜緩衝媒体の存在下で、式(V) R−O−NH2 (V) [式中、 Rは以上で定義された通りである] のアルコキシアミン類−またはその酸付加錯体(acid addition complex)−と
反応させる場合に、或いは c)式(VI)
【0009】
【化17】
【0010】
の2−(2−ヒドロキシフェニル)−2−(オキソ)−N−メチルアセトアミド
を、適宜希釈剤の存在下でそして適宜緩衝媒体の存在下で、式(V) R−O−NH2 (V) [式中、 Rは以上で定義された通りである] のアルコキシアミン類−またはその酸付加錯体−と反応させる場合に、 一般式(I)
を、適宜希釈剤の存在下でそして適宜緩衝媒体の存在下で、式(V) R−O−NH2 (V) [式中、 Rは以上で定義された通りである] のアルコキシアミン類−またはその酸付加錯体−と反応させる場合に、 一般式(I)
【0011】
【化18】
【0012】
[式中、
Rは以上で定義された通りである]
の2−(2−ヒドロキシフェニル)−2−(アルコキシイミノ)−N−メチルア
セトアミド誘導体が得られることが見いだされた。
セトアミド誘導体が得られることが見いだされた。
【0013】
Rの定義では、飽和炭化水素連鎖、例えばアルキルは、各場合とも直鎖状もし
くは分枝鎖状である。特に、アルキルはC1−C4−アルキル、好ましくはメチル
、エチル、n−もしくはi−プロピル、n−、s−もしくはi−ブチル、n−ペ
ンチルもしくはi−ペンチル、特にメチル、エチルまたはn−プロピル、を表す
。
くは分枝鎖状である。特に、アルキルはC1−C4−アルキル、好ましくはメチル
、エチル、n−もしくはi−プロピル、n−、s−もしくはi−ブチル、n−ペ
ンチルもしくはi−ペンチル、特にメチル、エチルまたはn−プロピル、を表す
。
【0014】
アルキルのための好ましい置換基はハロゲンである。
【0015】
ハロゲンは一般的には弗素、塩素、臭素またはヨウ素、好ましくは弗素、塩素
または臭素、特に弗素または塩素を表す。
または臭素、特に弗素または塩素を表す。
【0016】
アリールは芳香族の、単−または多環式炭化水素環、例えば、フェニル、ナフ
チル、アントラニル、フェナントリル、好ましくはフェニルまたはナフチル、特
にフェニルを表す。
チル、アントラニル、フェナントリル、好ましくはフェニルまたはナフチル、特
にフェニルを表す。
【0017】
アリール用の適する置換基はアルキルまたはハロゲンである。
【0018】
Rは特にメチル、エチル、フルオロメチルおよびジフルオロメチルを表す。
【0019】
Rは特に好ましくはメチルを表す。
【0020】
R1は特に好ましくはメチルまたはトリルを表す。
【0021】
上記の一般的なまたは好ましい基の定義は式(I)の最終生成物および、対応
して、各場合とも製造に必要な出発物質または中間体の両者に適用される。
して、各場合とも製造に必要な出発物質または中間体の両者に適用される。
【0022】
基の各々の組み合わせまたは好ましい組み合わせにおいてこれらの基に関して
示された特別な基の定義は、示された基の特定の組み合わせとは独立して、他の
好ましい範囲の基の定義によっても所望に応じて置換される。
示された特別な基の定義は、示された基の特定の組み合わせとは独立して、他の
好ましい範囲の基の定義によっても所望に応じて置換される。
【0023】
適宜、本発明に従う化合物は異なる可能な異性体形態、特に立体異性体、例え
ば、EおよびZ、の混合物として存在しうる。特許請求されるものはEおよびZ
異性体、並びにこれらの異性体の所望する混合物の両者である。
ば、EおよびZ、の混合物として存在しうる。特許請求されるものはEおよびZ
異性体、並びにこれらの異性体の所望する混合物の両者である。
【0024】
本発明に従う方法a)におけるアルキル化が選択的に高い収率でオキシム基の
酸素原子の位置で起きることは非常に驚異的である。一般的には、オキシム類の
アルキル化では、O−およびN−アルキル化生成物の混合物が製造される。選択
的なO−アルキル化はその他の方法では製造するのに費用がかかるかまたは難し
い銀塩を用いてのみ実現可能である(H. Metzger in Houben-Weyl, Methoden de
r org. Chemie, Volume X/4, page 217 ff., 1968 参照)。
酸素原子の位置で起きることは非常に驚異的である。一般的には、オキシム類の
アルキル化では、O−およびN−アルキル化生成物の混合物が製造される。選択
的なO−アルキル化はその他の方法では製造するのに費用がかかるかまたは難し
い銀塩を用いてのみ実現可能である(H. Metzger in Houben-Weyl, Methoden de
r org. Chemie, Volume X/4, page 217 ff., 1968 参照)。
【0025】
本発明に従う方法a)は多くの利点を有する。しかして、式(I)の2−(2
−ヒドロキシフェニル)−2−(アルコキシイミノ)−N−メチルアセトアミド
誘導体は高い収率および純度で容易に得られうる出発物質から、技術的問題を全
く引き起こさない条件下で得ることができる。
−ヒドロキシフェニル)−2−(アルコキシイミノ)−N−メチルアセトアミド
誘導体は高い収率および純度で容易に得られうる出発物質から、技術的問題を全
く引き起こさない条件下で得ることができる。
【0026】
本発明に従う方法b)におけるイミノ基の選択的な交換が副反応なしで且つ非
常に簡単な条件下で起きることは非常に驚異的である。
常に簡単な条件下で起きることは非常に驚異的である。
【0027】
本発明に従う方法b)は多くの利点を有する。しかして、式(I)の2−(2
−ヒドロキシフェニル)−2−(アルコキシイミノ)−N−メチルアセトアミド
誘導体は高い収率および純度で容易に得られうる出発物質から、技術的問題を全
く引き起こさない条件下で得ることができる。
−ヒドロキシフェニル)−2−(アルコキシイミノ)−N−メチルアセトアミド
誘導体は高い収率および純度で容易に得られうる出発物質から、技術的問題を全
く引き起こさない条件下で得ることができる。
【0028】
本発明に従う方法c)において、式(I)の誘導体が高い収率および高い純度
で得られることは非常に驚異的である。
で得られることは非常に驚異的である。
【0029】
本発明に従う方法c)は多くの利点を有する。しかして、式(I)の2−(2
−ヒドロキシフェニル)−2−(アルコキシイミノ)−N−メチルアセトアミド
誘導体は高い収率および純度で容易に得られうる出発物質から、技術的問題を全
く引き起こさない条件下で得ることができる。
−ヒドロキシフェニル)−2−(アルコキシイミノ)−N−メチルアセトアミド
誘導体は高い収率および純度で容易に得られうる出発物質から、技術的問題を全
く引き起こさない条件下で得ることができる。
【0030】
本発明に従う方法a)を行うための出発物質として必要な式(II)の2−(2
−ヒドロキシフェニル)−2−(ヒドロキシイミノ)−N−メチルアセトアミド
はこれまで開示されておらず、そしてこれも新規な化学化合物として、本発明の
主題の一部を形成する。
−ヒドロキシフェニル)−2−(ヒドロキシイミノ)−N−メチルアセトアミド
はこれまで開示されておらず、そしてこれも新規な化学化合物として、本発明の
主題の一部を形成する。
【0031】
d)式(IV)
【0032】
【化19】
【0033】
の2−(2−ヒドロキシフェニル)−2−(メチルイミノ)−N−メチルアセト
アミドを、適宜希釈剤の存在下でそして適宜緩衝媒体の存在下で、ヒドロキシル
アミンまたはその酸付加錯体と反応させる場合に、 或いは e)式(VI)
アミドを、適宜希釈剤の存在下でそして適宜緩衝媒体の存在下で、ヒドロキシル
アミンまたはその酸付加錯体と反応させる場合に、 或いは e)式(VI)
【0034】
【化20】
【0035】
の2−(2−ヒドロキシフェニル)−2−オキソ−N−メチルアセトアミドを、
適宜希釈剤の存在下でそして適宜緩衝媒体の存在下で、ヒドロキシルアミンまた
はその酸付加錯体と反応させる場合に、 式(II)の2−(2−ヒドロキシフェニル)−2−(ヒドロキシイミノ)−N−
メチルアセトアミドが得られる。
適宜希釈剤の存在下でそして適宜緩衝媒体の存在下で、ヒドロキシルアミンまた
はその酸付加錯体と反応させる場合に、 式(II)の2−(2−ヒドロキシフェニル)−2−(ヒドロキシイミノ)−N−
メチルアセトアミドが得られる。
【0036】
本発明に従う方法d)によるイミノ基の選択的な交換が簡単で且つ穏やかな条
件下でそして副反応なしに進行することは非常に驚異的である。
件下でそして副反応なしに進行することは非常に驚異的である。
【0037】
本発明に従う方法d)は多くの利点を有する。しかして、式(II)の2−(2
−ヒドロキシフェニル)−2−(ヒドロキシイミノ)−N−メチルアセトアミド
は高い収率および純度で容易に得られうる出発物質から、技術的問題を全く引き
起こさない条件下で得ることができる。
−ヒドロキシフェニル)−2−(ヒドロキシイミノ)−N−メチルアセトアミド
は高い収率および純度で容易に得られうる出発物質から、技術的問題を全く引き
起こさない条件下で得ることができる。
【0038】
本発明に従う方法e)によるヒドロキシルアミンとの反応がケト基の位置で選
択的に起きることは非常に驚異的である。
択的に起きることは非常に驚異的である。
【0039】
本発明に従う方法e)は多くの利点を有する。しかして、式(II)の2−(2
−ヒドロキシフェニル)−2−(ヒドロキシイミノ)−N−メチルアセトアミド
は高い収率および純度で容易に得られうる出発物質から、技術的問題を全く引き
起こさない条件下で得ることができる。
−ヒドロキシフェニル)−2−(ヒドロキシイミノ)−N−メチルアセトアミド
は高い収率および純度で容易に得られうる出発物質から、技術的問題を全く引き
起こさない条件下で得ることができる。
【0040】
本発明に従う方法b)およびd)を行うための出発物質として必要な式(IV)
の2−(2−ヒドロキシフェニル)−2−(メチルイミノ)−N−メチルアセト
アミドはこれまで開示されておらず、そしてこれも新規な化学化合物として、本
発明の主題の一部を形成する。
の2−(2−ヒドロキシフェニル)−2−(メチルイミノ)−N−メチルアセト
アミドはこれまで開示されておらず、そしてこれも新規な化学化合物として、本
発明の主題の一部を形成する。
【0041】
f)一般式(VII)
【0042】
【化21】
【0043】
[式中、
Aはアルキルまたは場合により置換されていてもよいアリールを表す]
の(2−ヒドロキシフェニル)−オキソ酢酸アルキルを、適宜希釈剤の存在下で
、メチルアミンと反応させる場合に、 或いは g)式(VIII)
、メチルアミンと反応させる場合に、 或いは g)式(VIII)
【0044】
【化22】
【0045】
の1−ベンゾフラン−2,3−ジオンを、適宜希釈剤の存在下で、メチルアミン
と反応させる場合に、 式(IV)
と反応させる場合に、 式(IV)
【0046】
【化23】
【0047】
の2−(2−ヒドロキシフェニル)−2−(メチルイミノ)−N−メチルアセト
アミドが得られる。
アミドが得られる。
【0048】
イミン類はしばしば不安定な化合物であり、それらはほとんどの場合に脱水剤
を用いて脱水条件下でまたは触媒を用いてのみ製造できるため(S. Dayagi, Y.
Degani in The Chemistry of the carbon-nitrogen bond, page 64, Intersc. P
ubl. (1970) in The chemistry of functional groups, S. Patai, editor 参照
)、本発明に従う方法f)およびg)により、式(IV)の2−(2−ヒドロキシ
フェニル)−2−(メチルイミノ)−N−メチルアセトアミドがメチルアミン水
溶液を用いても自発的に生成しそして安定な生成物として単離できることは非常
に驚異的である。
を用いて脱水条件下でまたは触媒を用いてのみ製造できるため(S. Dayagi, Y.
Degani in The Chemistry of the carbon-nitrogen bond, page 64, Intersc. P
ubl. (1970) in The chemistry of functional groups, S. Patai, editor 参照
)、本発明に従う方法f)およびg)により、式(IV)の2−(2−ヒドロキシ
フェニル)−2−(メチルイミノ)−N−メチルアセトアミドがメチルアミン水
溶液を用いても自発的に生成しそして安定な生成物として単離できることは非常
に驚異的である。
【0049】
本発明に従う方法f)およびg)は多くの利点を有する。しかして、式(IV)
の2−(2−ヒドロキシフェニル)−2−(メチルイミノ)−N−メチルアセト
アミドは高い収率および純度で容易に得られうる出発物質から、技術的問題を全
く引き起こさない条件下で得ることができる。
の2−(2−ヒドロキシフェニル)−2−(メチルイミノ)−N−メチルアセト
アミドは高い収率および純度で容易に得られうる出発物質から、技術的問題を全
く引き起こさない条件下で得ることができる。
【0050】
式(VII)は本発明に従う方法f)を行うための出発物質として必要な(2−
ヒドロキシフェニル)−オキソ酢酸アルキル類の一般的な定義を与える。この式
(VII)において、Aはアルキルまたは場合により置換されていてもよいアリー
ル、好ましくはメチル、エチル、n−もしくはi−プロピル、n−、s−もしく
はi−ブチル、n−ペンチル、i−ペンチルまたは置換されたフェニルを表し、
ここで置換基は好ましくは下記のリストから選択される:弗素、塩素、臭素、メ
チル、エチル、n−もしくはi−プロピル、n−、s−、i−もしくはt−ブチ
ル。
ヒドロキシフェニル)−オキソ酢酸アルキル類の一般的な定義を与える。この式
(VII)において、Aはアルキルまたは場合により置換されていてもよいアリー
ル、好ましくはメチル、エチル、n−もしくはi−プロピル、n−、s−もしく
はi−ブチル、n−ペンチル、i−ペンチルまたは置換されたフェニルを表し、
ここで置換基は好ましくは下記のリストから選択される:弗素、塩素、臭素、メ
チル、エチル、n−もしくはi−プロピル、n−、s−、i−もしくはt−ブチ
ル。
【0051】
一般式(VII)の(2−ヒドロキシフェニル)−オキソ酢酸アルキル類は既知
でありそして既知の方法により製造することができる(例えば、J. Chem. Soc.,
Chem. Commun. (1972), (11), 668 参照)。
でありそして既知の方法により製造することができる(例えば、J. Chem. Soc.,
Chem. Commun. (1972), (11), 668 参照)。
【0052】
本発明に従う方法c)およびe)を行うための出発物質として必要な式(VI)
の2−(2−ヒドロキシフェニル)−2−N−メチルアセトアミドはこれまで開
示されておらず、そしてこれも新規な化学化合物として、本発明の主題の一部を
形成する。
の2−(2−ヒドロキシフェニル)−2−N−メチルアセトアミドはこれまで開
示されておらず、そしてこれも新規な化学化合物として、本発明の主題の一部を
形成する。
【0053】
h)一般式(VII)
【0054】
【化24】
【0055】
[式中、
Aはアルキルまたは場合により置換されていてもよいアリールを表す]
の(2−ヒドロキシフェニル)−オキソ酢酸アルキルを、適宜希釈剤の存在下で
、メチルアミンと反応させ、そして反応後に、反応混合物を酸で処理する場合に
、 或いは i)式(VIII)
、メチルアミンと反応させ、そして反応後に、反応混合物を酸で処理する場合に
、 或いは i)式(VIII)
【0056】
【化25】
【0057】
の1−ベンゾフラン−2,3−ジオンを、適宜希釈剤の存在下で、メチルアミン
と反応させ、そして反応後に、反応混合物を酸で処理する場合に、 式(VI)
と反応させ、そして反応後に、反応混合物を酸で処理する場合に、 式(VI)
【0058】
【化26】
【0059】
の2−(2−ヒドロキシフェニル)−2−オキソ−N−メチルアセトアミドが得
られる。
られる。
【0060】
本発明に従う方法i)およびh)により、式(VI)の2−(2−ヒドロキシフ
ェニル)−2−オキソ−N−メチルアセトアミドが良好な収率で得られることは
非常に驚異的である。
ェニル)−2−オキソ−N−メチルアセトアミドが良好な収率で得られることは
非常に驚異的である。
【0061】
本発明に従う方法i)およびh)は多くの利点を有する。しかして、式(VI)
の2−(2−ヒドロキシフェニル)−2−オキソ−N−メチルアセトアミドは高
い収率および純度で容易に得られうる出発物質から、技術的問題を全く引き起こ
さない条件下で得ることができる。
の2−(2−ヒドロキシフェニル)−2−オキソ−N−メチルアセトアミドは高
い収率および純度で容易に得られうる出発物質から、技術的問題を全く引き起こ
さない条件下で得ることができる。
【0062】
一般式(VII)の(2−ヒドロキシフェニル)−オキソ酢酸アルキル類は既知
でありそして既知の方法により製造することができる(例えば、J. Chem. Soc.,
Chem. Commun. (1972), (11), 668 参照)。
でありそして既知の方法により製造することができる(例えば、J. Chem. Soc.,
Chem. Commun. (1972), (11), 668 参照)。
【0063】
本発明に従う方法a)を行うために出発物質としてさらに必要な式(III)の
適するアルキル化剤は、アルキル基を転移させうる全ての化学化合物である。ク
ロロメタン、ブロモメタン、ヨードメタン、硫酸ジメチルおよび炭酸ジメチルが
好ましい。硫酸ジメチルおよびクロロメタンが特に好ましい。
適するアルキル化剤は、アルキル基を転移させうる全ての化学化合物である。ク
ロロメタン、ブロモメタン、ヨードメタン、硫酸ジメチルおよび炭酸ジメチルが
好ましい。硫酸ジメチルおよびクロロメタンが特に好ましい。
【0064】
本発明に従う方法b)およびc)を行うために出発物質としてさらに必要な式
(V)のアルコキシアミン類およびそれらの酸付加錯体は、市販されている合成
用の化学物質である。好ましい酸付加錯体は塩酸塩類、硫酸水素塩類または硫酸
塩類である。
(V)のアルコキシアミン類およびそれらの酸付加錯体は、市販されている合成
用の化学物質である。好ましい酸付加錯体は塩酸塩類、硫酸水素塩類または硫酸
塩類である。
【0065】
本発明に従う方法d)およびe)を行うために出発物質としてさらに必要なヒ
ドロキシルアミンおよびその酸付加錯体は、市販されている合成用の化学物質で
ある。好ましい酸付加錯体は塩酸塩類、硫酸水素塩類または硫酸塩類である。
ドロキシルアミンおよびその酸付加錯体は、市販されている合成用の化学物質で
ある。好ましい酸付加錯体は塩酸塩類、硫酸水素塩類または硫酸塩類である。
【0066】
本発明に従う方法f)、g)、h)およびi)を行うために出発物質としてさ
らに必要なメチルアミンは、市販されている合成用の化学物質である。それは気
体状およびアルコールまたは水溶液状の両者で使用することができる。
らに必要なメチルアミンは、市販されている合成用の化学物質である。それは気
体状およびアルコールまたは水溶液状の両者で使用することができる。
【0067】
本発明に従う方法g)およびi)を行うために出発物質としてさらに必要な1
−ベンゾフラン−2,3−ジオンは既知であり(K. Fries, W. Pfaffendorf, Che
m. Ber. 45, 156, (1912) 参照)そして既知の方法により製造することができる
(例えば、W. Logemann et al., Chem. Ber. 96, 2248, (1963), G.A. Russell
et al., J. Am. Chem. Soc. 92, 2762 (1970) 参照)。
−ベンゾフラン−2,3−ジオンは既知であり(K. Fries, W. Pfaffendorf, Che
m. Ber. 45, 156, (1912) 参照)そして既知の方法により製造することができる
(例えば、W. Logemann et al., Chem. Ber. 96, 2248, (1963), G.A. Russell
et al., J. Am. Chem. Soc. 92, 2762 (1970) 参照)。
【0068】
本発明に従う方法a)を行うために適する希釈剤は全ての不活性有機溶媒であ
る。これらは、例としてそして好ましいものとして、脂肪族、脂環式もしくは芳
香族の炭化水素類、例えば、石油エーテル、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサ
ン、メチルシクロヘキサン、ベンゼン、トルエン、キシレンまたはデカリン;ハ
ロゲン化された炭化水素類、例えば、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、ジク
ロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素、ジクロロエタンまたはトリクロロエタ
ン;エーテル類、例えば、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチル
t−ブチルエーテル、メチルt−アミルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフ
ラン、1,2−ジメトキシエタン、1,2−ジエトキシエタンまたはアニソール;
ケトン類、例えば、アセトン、ブタノン、メチルイソブチルケトンまたはシクロ
ヘキサノン;ニトリル類、例えば、アセトニトリル、プロピオニトリル、n−も
しくはi−ブチロニトリルまたはベンゾニトリル;アミド類、例えば、N,N−
ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、N−メチルホルムアニ
リド、N−メチルピロリドンまたはヘキサメチル燐酸トリアミド;エステル類、
例えば酢酸メチルまたは酢酸エチル;スルホキシド類、例えばジメチルスルホキ
シド;スルホン類、例えばスルホラン;アルコール類、例えばメタノール、エタ
ノール、n−もしくはi−プロパノール、n−、i−、sec−もしくはter
t−ブタノール、エタンジオール、プロパン−1,2−ジオール、エトキシエタ
ノール、メトキシエタノール、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエ
チレングリコールモノエチルエーテル、それらと水または純水とも混合物を包含
する。
る。これらは、例としてそして好ましいものとして、脂肪族、脂環式もしくは芳
香族の炭化水素類、例えば、石油エーテル、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサ
ン、メチルシクロヘキサン、ベンゼン、トルエン、キシレンまたはデカリン;ハ
ロゲン化された炭化水素類、例えば、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、ジク
ロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素、ジクロロエタンまたはトリクロロエタ
ン;エーテル類、例えば、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチル
t−ブチルエーテル、メチルt−アミルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフ
ラン、1,2−ジメトキシエタン、1,2−ジエトキシエタンまたはアニソール;
ケトン類、例えば、アセトン、ブタノン、メチルイソブチルケトンまたはシクロ
ヘキサノン;ニトリル類、例えば、アセトニトリル、プロピオニトリル、n−も
しくはi−ブチロニトリルまたはベンゾニトリル;アミド類、例えば、N,N−
ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、N−メチルホルムアニ
リド、N−メチルピロリドンまたはヘキサメチル燐酸トリアミド;エステル類、
例えば酢酸メチルまたは酢酸エチル;スルホキシド類、例えばジメチルスルホキ
シド;スルホン類、例えばスルホラン;アルコール類、例えばメタノール、エタ
ノール、n−もしくはi−プロパノール、n−、i−、sec−もしくはter
t−ブタノール、エタンジオール、プロパン−1,2−ジオール、エトキシエタ
ノール、メトキシエタノール、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエ
チレングリコールモノエチルエーテル、それらと水または純水とも混合物を包含
する。
【0069】
本発明に従う方法a)は、適宜、適当な酸結合剤の存在下で行われる。適する
酸結合剤は全ての慣用の無機または有機塩基である。これらは、例としてそして
好ましいものとして、アルカリ土類金属もしくはアルカリ金属の水酸化物類、ア
ルコキシド類、酢酸塩類、炭酸塩類または炭酸水素塩類、例えば、ナトリウムメ
トキシド、ナトリウムエトキシド、カリウムtert−ブトキシド、水酸化ナト
リウム、水酸化カリウム、酢酸ナトリウム、酢酸カリウム、炭酸ナトリウム、炭
酸カリウム、炭酸水素カリウムまたは炭酸水素ナトリウム、並びに第三級アミン
類、例えば、トリメチルアミン、トリエチルアミン、トリブチルアミン、N,N
−ジメチルアニリン、N,N−ジメチルベンジルアミン、ピリジン、N−メチル
ピペリジン、N−メチルモルホリン、N,N−ジメチルアミノピリジン、ジアザ
ビシクロオクタン(DABCO)、ジアザビシクロノネン(DBN)またはジア
ザビシクロウンデセン(DBU)を包含する。炭酸カリウム、水酸化ナトリウム
または水酸化カリウムを方法a)で使用することが好ましい。
酸結合剤は全ての慣用の無機または有機塩基である。これらは、例としてそして
好ましいものとして、アルカリ土類金属もしくはアルカリ金属の水酸化物類、ア
ルコキシド類、酢酸塩類、炭酸塩類または炭酸水素塩類、例えば、ナトリウムメ
トキシド、ナトリウムエトキシド、カリウムtert−ブトキシド、水酸化ナト
リウム、水酸化カリウム、酢酸ナトリウム、酢酸カリウム、炭酸ナトリウム、炭
酸カリウム、炭酸水素カリウムまたは炭酸水素ナトリウム、並びに第三級アミン
類、例えば、トリメチルアミン、トリエチルアミン、トリブチルアミン、N,N
−ジメチルアニリン、N,N−ジメチルベンジルアミン、ピリジン、N−メチル
ピペリジン、N−メチルモルホリン、N,N−ジメチルアミノピリジン、ジアザ
ビシクロオクタン(DABCO)、ジアザビシクロノネン(DBN)またはジア
ザビシクロウンデセン(DBU)を包含する。炭酸カリウム、水酸化ナトリウム
または水酸化カリウムを方法a)で使用することが好ましい。
【0070】
本発明に従う方法a)は、適宜、適する相間移動触媒の存在下で行われる。適
する相間移動触媒は、例としてそして好ましいものとして、第四級アンモニウム
塩、例えば、臭化、塩化、硫酸水素もしくは硫酸テトラブチルアンモニウム、臭
化もしくは塩化、硫酸または硫酸水素メチル−トリオクチルアンモニウム、また
は臭化もしくは塩化、硫酸または硫酸水素4−ジメチルアミノ−N−(2−エチ
ルヘキシル)−ピリジニウム、第四級ホスホニウム塩、例えば、臭化もしくは塩
化トリブチル−テトラデシルホスホニウム、臭化もしくは塩化テトラフェニルホ
スホニウム、クラウンエーテル類、例えば、ジベンゾ−18−クラウン−6、グ
アニジニウム塩、例えば、塩化ヘキサアルキルグアニジニウム、並びにポリエチ
レングリコール誘導体である。臭化テトラブチルアンモニウムまたは塩化テトラ
ブチルアンモニウムを本発明に従う方法a)で使用することが好ましい。
する相間移動触媒は、例としてそして好ましいものとして、第四級アンモニウム
塩、例えば、臭化、塩化、硫酸水素もしくは硫酸テトラブチルアンモニウム、臭
化もしくは塩化、硫酸または硫酸水素メチル−トリオクチルアンモニウム、また
は臭化もしくは塩化、硫酸または硫酸水素4−ジメチルアミノ−N−(2−エチ
ルヘキシル)−ピリジニウム、第四級ホスホニウム塩、例えば、臭化もしくは塩
化トリブチル−テトラデシルホスホニウム、臭化もしくは塩化テトラフェニルホ
スホニウム、クラウンエーテル類、例えば、ジベンゾ−18−クラウン−6、グ
アニジニウム塩、例えば、塩化ヘキサアルキルグアニジニウム、並びにポリエチ
レングリコール誘導体である。臭化テトラブチルアンモニウムまたは塩化テトラ
ブチルアンモニウムを本発明に従う方法a)で使用することが好ましい。
【0071】
本発明に従う方法a)を行う場合には、反応温度は比較的広い範囲内で変える
ことができる。一般的には、この方法は−80℃〜100℃の温度において、好
ましくは0℃〜60℃の温度において行われる。
ことができる。一般的には、この方法は−80℃〜100℃の温度において、好
ましくは0℃〜60℃の温度において行われる。
【0072】
一般的には、本発明に従う方法a)は大気圧で行われる。しかしながら、一般
的には0.1バール〜10バールの間の、高められたまたは減じられた圧力下で
行うことも可能である。
的には0.1バール〜10バールの間の、高められたまたは減じられた圧力下で
行うことも可能である。
【0073】
式(I)の化合物を製造するための本発明に従う方法a)を行うためには、1
モルの式(II)の2−(2−ヒドロキシフェニル)−2−(ヒドロキシイミノ)
−N−メチルアセトアミド当たり一般的には1〜15モル、好ましくは1〜4モ
ルの式(III)のアルキル化剤が使用される。
モルの式(II)の2−(2−ヒドロキシフェニル)−2−(ヒドロキシイミノ)
−N−メチルアセトアミド当たり一般的には1〜15モル、好ましくは1〜4モ
ルの式(III)のアルキル化剤が使用される。
【0074】
本発明に従う方法a)は一般的には下記の通りにして行われる:式(II)の2
−(2−ヒドロキシフェニル)−2−(ヒドロキシイミノ)−N−メチルアセト
アミドを、好ましくは希釈剤の存在下で、塩基および、適宜、相間移動触媒と混
合する。式(III)のアルキル化剤を加えそして混合物を、適宜高められた温度
において、反応が完了するまで撹拌する。反応が終了した後に、混合物を慣習的
な方法で処理する。例えば、揮発性溶媒成分を蒸留除去しそして混合物を水と混
合して、生成物を結晶化させる。
−(2−ヒドロキシフェニル)−2−(ヒドロキシイミノ)−N−メチルアセト
アミドを、好ましくは希釈剤の存在下で、塩基および、適宜、相間移動触媒と混
合する。式(III)のアルキル化剤を加えそして混合物を、適宜高められた温度
において、反応が完了するまで撹拌する。反応が終了した後に、混合物を慣習的
な方法で処理する。例えば、揮発性溶媒成分を蒸留除去しそして混合物を水と混
合して、生成物を結晶化させる。
【0075】
本発明に従う方法b)、c)、d)およびe)を行うために適する希釈剤は全
ての不活性有機溶媒である。これらは、例としてそして好ましいものとして、エ
ーテル類、例えば、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチルt−ブ
チルエーテル、メチルt−アミルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、
1,2−ジメトキシエタン、1,2−ジエトキシエタンまたはアニソール;ニトリ
ル類、例えば、アセトニトリル、プロピオニトリル、n−もしくはi−ブチロニ
トリルまたはベンゾニトリル;アミド類、例えば、N,N−ジメチルホルムアミ
ド、N,N−ジメチルアセトアミド、N−メチルホルムアニリド、N−メチルピ
ロリドンまたはヘキサメチル燐酸トリアミド;エステル類、例えば酢酸メチルま
たは酢酸エチル;スルホキシド類、例えばジメチルスルホキシド;スルホン類、
例えばスルホラン;アルコール類、例えばメタノール、エタノール、n−もしく
はi−プロパノール、n−、i−、sec−もしくはtert−ブタノール、エ
タンジオール、プロパン−1,2−ジオール、エトキシエタノール、メトキシエ
タノール、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモ
ノエチルエーテルを包含する。好ましい希釈剤はアルコール類、それらと水また
は純水との混合物である。
ての不活性有機溶媒である。これらは、例としてそして好ましいものとして、エ
ーテル類、例えば、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチルt−ブ
チルエーテル、メチルt−アミルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、
1,2−ジメトキシエタン、1,2−ジエトキシエタンまたはアニソール;ニトリ
ル類、例えば、アセトニトリル、プロピオニトリル、n−もしくはi−ブチロニ
トリルまたはベンゾニトリル;アミド類、例えば、N,N−ジメチルホルムアミ
ド、N,N−ジメチルアセトアミド、N−メチルホルムアニリド、N−メチルピ
ロリドンまたはヘキサメチル燐酸トリアミド;エステル類、例えば酢酸メチルま
たは酢酸エチル;スルホキシド類、例えばジメチルスルホキシド;スルホン類、
例えばスルホラン;アルコール類、例えばメタノール、エタノール、n−もしく
はi−プロパノール、n−、i−、sec−もしくはtert−ブタノール、エ
タンジオール、プロパン−1,2−ジオール、エトキシエタノール、メトキシエ
タノール、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモ
ノエチルエーテルを包含する。好ましい希釈剤はアルコール類、それらと水また
は純水との混合物である。
【0076】
本発明に従う方法b)、c)、d)およびe)は、適宜、緩衝媒体の存在下で
行われる。適する緩衝媒体はpHを1〜7の範囲内に緩衝する全ての慣用の酸/
塩混合物である。酢酸/酢酸ナトリウムの混合物または緩衝媒体なしが好ましい
。
行われる。適する緩衝媒体はpHを1〜7の範囲内に緩衝する全ての慣用の酸/
塩混合物である。酢酸/酢酸ナトリウムの混合物または緩衝媒体なしが好ましい
。
【0077】
本発明に従う方法b)、c)、d)およびe)を行う場合には、反応温度は比
較的広い範囲内で変えることができる。一般的には、これらの方法は−20℃〜
150℃の温度において、好ましくは0℃〜80℃の温度において行われる。
較的広い範囲内で変えることができる。一般的には、これらの方法は−20℃〜
150℃の温度において、好ましくは0℃〜80℃の温度において行われる。
【0078】
本発明に従う方法b)、c)、d)およびe)は一般的には大気圧で行われる
。しかしながら、一般的には0.1バール〜10バールの間の、高められたまた
は減じられた圧力下で行うことも可能である。
。しかしながら、一般的には0.1バール〜10バールの間の、高められたまた
は減じられた圧力下で行うことも可能である。
【0079】
式(I)の化合物を製造するための本発明に従う方法b)を行うためには、1
モルの式(IV)の2−(2−ヒドロキシフェニル)−2−(メチルイミノ)−N
−メチルアセトアミド当たり一般的には1〜15モル、好ましくは1〜4モルの
式(V)のアルコキシアミンまたはその酸付加錯体が使用される。
モルの式(IV)の2−(2−ヒドロキシフェニル)−2−(メチルイミノ)−N
−メチルアセトアミド当たり一般的には1〜15モル、好ましくは1〜4モルの
式(V)のアルコキシアミンまたはその酸付加錯体が使用される。
【0080】
式(I)の化合物を製造するための本発明に従う方法c)を行うためには、1
モルの式(VI)の2−(2−ヒドロキシフェニル)−2−(オキソ)−N−メチ
ルアセトアミド当たり一般的には1〜15モル、好ましくは1〜4モルの式(V
)のアルコキシアミンまたはその酸付加錯体が使用される。
モルの式(VI)の2−(2−ヒドロキシフェニル)−2−(オキソ)−N−メチ
ルアセトアミド当たり一般的には1〜15モル、好ましくは1〜4モルの式(V
)のアルコキシアミンまたはその酸付加錯体が使用される。
【0081】
式(II)の化合物を製造するための本発明に従う方法d)を行うためには、1
モルの式(IV)の2−(2−ヒドロキシフェニル)−2−(メチルイミノ)−N
−メチルアセトアミド当たり一般的には1〜15モル、好ましくは1〜4モルの
ヒドロキシルアミンまたはその酸付加錯体が使用される。
モルの式(IV)の2−(2−ヒドロキシフェニル)−2−(メチルイミノ)−N
−メチルアセトアミド当たり一般的には1〜15モル、好ましくは1〜4モルの
ヒドロキシルアミンまたはその酸付加錯体が使用される。
【0082】
式(II)の化合物を製造するための本発明に従う方法e)を行うためには、1
モルの式(VI)の2−(2−ヒドロキシフェニル)−2−(オキソ)−N−メチ
ルアセトアミド当たり一般的には1〜15モル、好ましくは1〜4モルのヒドロ
キシルアミンまたはその酸付加錯体が使用される。
モルの式(VI)の2−(2−ヒドロキシフェニル)−2−(オキソ)−N−メチ
ルアセトアミド当たり一般的には1〜15モル、好ましくは1〜4モルのヒドロ
キシルアミンまたはその酸付加錯体が使用される。
【0083】
本発明に従う方法b)およびc)は一般的には下記の通りにして行われる。式
(IV)の2−(2−ヒドロキシフェニル)−2−(メチルイミノ)−N−メチル
アセトアミドまたは式(VI)の2−(2−ヒドロキシフェニル)−2−(オキソ
)−N−メチルアセトアミドを、好ましくは希釈剤の存在下で、アルコキシアミ
ンまたはその酸付加錯体および、適宜、緩衝媒体と混合し、そして加熱する。反
応が終了した後に、混合物を慣用の方法で処理する。例えば、揮発性溶媒成分を
蒸留除去しそして混合物を水と混合して、生成物を結晶化させる。
(IV)の2−(2−ヒドロキシフェニル)−2−(メチルイミノ)−N−メチル
アセトアミドまたは式(VI)の2−(2−ヒドロキシフェニル)−2−(オキソ
)−N−メチルアセトアミドを、好ましくは希釈剤の存在下で、アルコキシアミ
ンまたはその酸付加錯体および、適宜、緩衝媒体と混合し、そして加熱する。反
応が終了した後に、混合物を慣用の方法で処理する。例えば、揮発性溶媒成分を
蒸留除去しそして混合物を水と混合して、生成物を結晶化させる。
【0084】
本発明に従う方法d)およびe)は一般的には下記の通りにして行われる。式
(IV)の2−(2−ヒドロキシフェニル)−2−(メチルイミノ)−N−メチル
アセトアミドまたは式(VI)の2−(2−ヒドロキシフェニル)−2−(オキソ
)−N−メチルアセトアミドを、好ましくは希釈剤の存在下で、ヒドロキシルア
ミンまたはその酸付加錯体および、適宜、緩衝媒体と混合し、そして加熱する。
反応が終了した後に、混合物を慣用の方法で処理する。例えば、揮発性溶媒成分
を蒸留除去しそして混合物を水と混合して、生成物を結晶化させる。
(IV)の2−(2−ヒドロキシフェニル)−2−(メチルイミノ)−N−メチル
アセトアミドまたは式(VI)の2−(2−ヒドロキシフェニル)−2−(オキソ
)−N−メチルアセトアミドを、好ましくは希釈剤の存在下で、ヒドロキシルア
ミンまたはその酸付加錯体および、適宜、緩衝媒体と混合し、そして加熱する。
反応が終了した後に、混合物を慣用の方法で処理する。例えば、揮発性溶媒成分
を蒸留除去しそして混合物を水と混合して、生成物を結晶化させる。
【0085】
本発明に従う方法f)、g)、h)およびi)を行うために適する希釈剤は全
ての不活性有機溶媒である。これらは、例としてそして好ましいものとして、脂
環式もしくは芳香族の炭化水素類、例えば、シクロヘキサン、メチルシクロヘキ
サン、ベンゼン、トルエン、キシレンまたはデカリン;ハロゲン化された炭化水
素類、例えば、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、ジクロロメタンまたはトリ
クロロエタン;エーテル類、例えば、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテ
ル、メチルt−ブチルエーテル、メチルt−アミルエーテル、ジオキサン、テト
ラヒドロフラン、1,2−ジメトキシエタン、1,2−ジエトキシエタンまたはア
ニソール;ケトン類、例えば、アセトン、ブタノン、メチルイソブチルケトンま
たはシクロヘキサノン;ニトリル類、例えば、アセトニトリル、プロピオニトリ
ル、n−もしくはi−ブチロニトリルまたはベンゾニトリル;スルホキシド類、
例えばジメチルスルホキシド;スルホン類、例えばスルホラン;アルコール類、
例えばメタノール、エタノール、n−もしくはi−プロパノール、n−、i−、
sec−もしくはtert−ブタノール、エタンジオール、プロパン−1,2−
ジオール、エトキシエタノール、メトキシエタノール、ジエチレングリコールモ
ノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、それらと水また
は純水とも混合物を包含する。
ての不活性有機溶媒である。これらは、例としてそして好ましいものとして、脂
環式もしくは芳香族の炭化水素類、例えば、シクロヘキサン、メチルシクロヘキ
サン、ベンゼン、トルエン、キシレンまたはデカリン;ハロゲン化された炭化水
素類、例えば、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、ジクロロメタンまたはトリ
クロロエタン;エーテル類、例えば、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテ
ル、メチルt−ブチルエーテル、メチルt−アミルエーテル、ジオキサン、テト
ラヒドロフラン、1,2−ジメトキシエタン、1,2−ジエトキシエタンまたはア
ニソール;ケトン類、例えば、アセトン、ブタノン、メチルイソブチルケトンま
たはシクロヘキサノン;ニトリル類、例えば、アセトニトリル、プロピオニトリ
ル、n−もしくはi−ブチロニトリルまたはベンゾニトリル;スルホキシド類、
例えばジメチルスルホキシド;スルホン類、例えばスルホラン;アルコール類、
例えばメタノール、エタノール、n−もしくはi−プロパノール、n−、i−、
sec−もしくはtert−ブタノール、エタンジオール、プロパン−1,2−
ジオール、エトキシエタノール、メトキシエタノール、ジエチレングリコールモ
ノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、それらと水また
は純水とも混合物を包含する。
【0086】
本発明に従う方法f)、g)、h)およびi)を行う場合には、反応温度は比
較的広い範囲内で変えることができる。一般的には、これらの方法は−60℃〜
100℃の温度において、好ましくは0℃〜80℃の温度において行われる。
較的広い範囲内で変えることができる。一般的には、これらの方法は−60℃〜
100℃の温度において、好ましくは0℃〜80℃の温度において行われる。
【0087】
本発明に従う方法f)、g)、h)およびi)は一般的には大気圧で行われる
。しかしながら、一般的には0.1バール〜10バールの間の、高められたまた
は減じられた圧力下で行うことも可能である。
。しかしながら、一般的には0.1バール〜10バールの間の、高められたまた
は減じられた圧力下で行うことも可能である。
【0088】
本発明に従う方法h)およびi)では、使用される酸類は鉱酸類またはカルボ
ン酸類、特に希鉱酸類または酢酸である。
ン酸類、特に希鉱酸類または酢酸である。
【0089】
一般式(IV)の化合物を製造するための本発明に従う方法f)を行うためには
、1モルの一般式(VII)の(2−ヒドロキシフェニル)−オキソ酢酸アルキル
当たり一般的には2〜30モル、好ましくは2〜10モルのメチルアミンが使用
される。
、1モルの一般式(VII)の(2−ヒドロキシフェニル)−オキソ酢酸アルキル
当たり一般的には2〜30モル、好ましくは2〜10モルのメチルアミンが使用
される。
【0090】
式(IV)の化合物を製造するための本発明に従う方法g)を行うためには、1
モルの式(VIII)の1−ベンゾフラン−2,3−ジオン当たり一般的には2〜3
0モル、好ましくは2〜10モルのメチルアミンが使用される。
モルの式(VIII)の1−ベンゾフラン−2,3−ジオン当たり一般的には2〜3
0モル、好ましくは2〜10モルのメチルアミンが使用される。
【0091】
式(VI)の2−(2−ヒドロキシフェニル)−2−オキソ−N−メチルアセト
アミドを製造するための本発明に従う方法h)を行うためには、1モルの式(VI
I)の化合物当たり一般的には2〜30モル、好ましくは2〜10モルのメチル
アミンが使用される。
アミドを製造するための本発明に従う方法h)を行うためには、1モルの式(VI
I)の化合物当たり一般的には2〜30モル、好ましくは2〜10モルのメチル
アミンが使用される。
【0092】
式(VI)の2−(2−ヒドロキシフェニル)−2−オキソ−N−メチルアセト
アミドを製造するための本発明に従う方法i)を行うためには、1モルの式(VI
II)の1−ベンゾフラン−2,3−ジオン当たり一般的には2〜30モル、好ま
しくは2〜10モルのメチルアミンが使用される。
アミドを製造するための本発明に従う方法i)を行うためには、1モルの式(VI
II)の1−ベンゾフラン−2,3−ジオン当たり一般的には2〜30モル、好ま
しくは2〜10モルのメチルアミンが使用される。
【0093】
本発明に従う方法f)およびg)は一般的には下記の通りにして行われる。一
般式(VII)の(2−ヒドロキシフェニル)−オキソ酢酸アルキルまたは式(VII
I)の1−ベンゾフラン−2,3−ジオンを、好ましくは希釈剤の存在下で、気体
状メチルアミンまたはその水性もしくはアルコール溶液と混合する。反応が終了
した後に、混合物を慣用の方法で処理する。例えば、揮発性成分を蒸留除去する
かまたは生成物を濾別して、生成物を高純度で与える。
般式(VII)の(2−ヒドロキシフェニル)−オキソ酢酸アルキルまたは式(VII
I)の1−ベンゾフラン−2,3−ジオンを、好ましくは希釈剤の存在下で、気体
状メチルアミンまたはその水性もしくはアルコール溶液と混合する。反応が終了
した後に、混合物を慣用の方法で処理する。例えば、揮発性成分を蒸留除去する
かまたは生成物を濾別して、生成物を高純度で与える。
【0094】
本発明に従う方法h)およびi)は一般的には下記の通りにして行われる。一
般式(VII)の(2−ヒドロキシフェニル)−オキソ酢酸アルキルまたは式(VII
I)の1−ベンゾフラン−2,3−ジオンを、好ましくは希釈剤の存在下で、気体
状メチルアミンまたはその水性もしくはアルコール溶液と混合する。反応が終了
した後に、混合物を酸類で処理し、そして次に慣用の方法で処理する。例えば、
揮発性成分を蒸留除去して、生成物を高純度で与える。
般式(VII)の(2−ヒドロキシフェニル)−オキソ酢酸アルキルまたは式(VII
I)の1−ベンゾフラン−2,3−ジオンを、好ましくは希釈剤の存在下で、気体
状メチルアミンまたはその水性もしくはアルコール溶液と混合する。反応が終了
した後に、混合物を酸類で処理し、そして次に慣用の方法で処理する。例えば、
揮発性成分を蒸留除去して、生成物を高純度で与える。
【0095】
式(I)の2−(2−ヒドロキシフェニル)−2−(アルコキシイミノ)−N
−メチルアセトアミド誘導体は殺菌・殺カビ剤の製造のための中間体として使用
することができる(例えば、EP−A398692参照)。
−メチルアセトアミド誘導体は殺菌・殺カビ剤の製造のための中間体として使用
することができる(例えば、EP−A398692参照)。
【0096】
式(II)並びに式(IV)および(VI)の化合物は、特に殺菌・殺カビ剤の製造
のための、中間体として使用することができる。
のための、中間体として使用することができる。
【0097】
以下の実施例は本発明を説明するために役立つ。しかしながら、本発明は実施
例に限定されるものではない。
例に限定されるものではない。
【0098】
製造実施例: 実施例1
【0099】
【化27】
【0100】
1gの2−(2−ヒドロキシフェニル)−2−オキソ−酢酸メチル(80%純
度、4.4ミリモル)を10mlのジオキサンの中に溶解しそして1.74gの3
0%強度メチルアミン水溶液(16.8ミリモル)と混合し、そして混合物を室
温において30分間にわたり撹拌する。混合物を減圧下で蒸発乾固し、アセトニ
トリルと混合しそして再び減圧下で蒸発乾固する。油状で得られた粗製生成物を
石油エーテル/ジイソプロピルエーテル(3:2)と共に撹拌して、結晶化させ
る。沈澱を吸引濾別しそして減圧下で乾燥する。これが0.65g(理論値の7
7%)の2−(2−ヒドロキシフェニル)−N−メチル−2−(メチルイミノ)
アセトアミドを与える。 NMR(D6−DMSO):δ=2.8(d,3H)、3.28(s,3H)、6.
9(m,2H)、7.2(m,1H)、7.35(m,1H)、8.9(b,1H)、
14.2(s,1H)ppm実施例2
度、4.4ミリモル)を10mlのジオキサンの中に溶解しそして1.74gの3
0%強度メチルアミン水溶液(16.8ミリモル)と混合し、そして混合物を室
温において30分間にわたり撹拌する。混合物を減圧下で蒸発乾固し、アセトニ
トリルと混合しそして再び減圧下で蒸発乾固する。油状で得られた粗製生成物を
石油エーテル/ジイソプロピルエーテル(3:2)と共に撹拌して、結晶化させ
る。沈澱を吸引濾別しそして減圧下で乾燥する。これが0.65g(理論値の7
7%)の2−(2−ヒドロキシフェニル)−N−メチル−2−(メチルイミノ)
アセトアミドを与える。 NMR(D6−DMSO):δ=2.8(d,3H)、3.28(s,3H)、6.
9(m,2H)、7.2(m,1H)、7.35(m,1H)、8.9(b,1H)、
14.2(s,1H)ppm実施例2
【0101】
【化28】
【0102】
0.6gの2−(2−ヒドロキシフェニル)−N−メチル−2−(メチルイミ
ノ)アセトアミド(3.12ミリモル)を12mlのメタノールおよび3mlの
水の中に溶解し、そして混合物を0.52gのメトキシアミン塩酸塩(6.25ミ
リモル)と混合しそして室温において18時間にわたり撹拌する。減圧下で、反
応溶液を濃縮して固体残渣を与え、それを氷水と共に撹拌し、吸引濾別しそして
クレー上で乾燥する。これが0.5g(理論値の77%)の2−(2−ヒドロキ
シフェニル)−2−(メトキシイミノ)−N−メチルアセトアミドを与える。実施例3
ノ)アセトアミド(3.12ミリモル)を12mlのメタノールおよび3mlの
水の中に溶解し、そして混合物を0.52gのメトキシアミン塩酸塩(6.25ミ
リモル)と混合しそして室温において18時間にわたり撹拌する。減圧下で、反
応溶液を濃縮して固体残渣を与え、それを氷水と共に撹拌し、吸引濾別しそして
クレー上で乾燥する。これが0.5g(理論値の77%)の2−(2−ヒドロキ
シフェニル)−2−(メトキシイミノ)−N−メチルアセトアミドを与える。実施例3
【0103】
【化29】
【0104】
2.4gの2−(2−ヒドロキシフェニル)−2−オキソ−酢酸メチル(80
%純度、10.7ミリモル)を25mlのエチレングリコールジメチルエーテル
の中に溶解しそして1.93gの30%強度メチルアミン水溶液(18.6ミリモ
ル)と混合し、そして混合物を室温において30分間にわたり撹拌する。混合物
を20mlの飽和NaCl溶液と混合しそして各場合とも25mlの酢酸エチル
で3回抽出する。一緒にした有機相を50mlの10%強度水性塩酸と共に15
分間にわたり撹拌することにより抽出する。有機相を乾燥しそして減圧下で濃縮
して油(2.45g)を与える。
%純度、10.7ミリモル)を25mlのエチレングリコールジメチルエーテル
の中に溶解しそして1.93gの30%強度メチルアミン水溶液(18.6ミリモ
ル)と混合し、そして混合物を室温において30分間にわたり撹拌する。混合物
を20mlの飽和NaCl溶液と混合しそして各場合とも25mlの酢酸エチル
で3回抽出する。一緒にした有機相を50mlの10%強度水性塩酸と共に15
分間にわたり撹拌することにより抽出する。有機相を乾燥しそして減圧下で濃縮
して油(2.45g)を与える。
【0105】
カラムクロマトグラフィー(シリカゲル/CH2Cl2)が1.3g(理論値の
76%)の2−(2−ヒドロキシフェニル)−2−(オキソ)−N−メチルアセ
トアミドを与える。 NMR(D6−DMSO):δ=2.77(d,3H)、6.97(m,2H)、7
.55(m,1H)、7.71(m,1H)、8.8(b,1H)、11.1(s,1H
)ppm。
76%)の2−(2−ヒドロキシフェニル)−2−(オキソ)−N−メチルアセ
トアミドを与える。 NMR(D6−DMSO):δ=2.77(d,3H)、6.97(m,2H)、7
.55(m,1H)、7.71(m,1H)、8.8(b,1H)、11.1(s,1H
)ppm。
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(81)指定国 EP(AT,BE,CH,CY,
DE,DK,ES,FI,FR,GB,GR,IE,I
T,LU,MC,NL,PT,SE,TR),OA(BF
,BJ,CF,CG,CI,CM,GA,GN,GW,
ML,MR,NE,SN,TD,TG),AP(GH,G
M,KE,LS,MW,MZ,SD,SL,SZ,TZ
,UG,ZW),EA(AM,AZ,BY,KG,KZ,
MD,RU,TJ,TM),AE,AG,AL,AM,
AT,AU,AZ,BA,BB,BG,BR,BY,B
Z,CA,CH,CN,CR,CU,CZ,DE,DK
,DM,DZ,EE,ES,FI,GB,GD,GE,
GH,GM,HR,HU,ID,IL,IN,IS,J
P,KE,KG,KP,KR,KZ,LC,LK,LR
,LS,LT,LU,LV,MA,MD,MG,MK,
MN,MW,MX,MZ,NO,NZ,PL,PT,R
O,RU,SD,SE,SG,SI,SK,SL,TJ
,TM,TR,TT,TZ,UA,UG,US,UZ,
VN,YU,ZA,ZW
(72)発明者 ガイアー,ヘルベルト
ドイツ40789モンハイム・ザントシユトラ
ーセ66
(72)発明者 ムルダー,ルベルトウス
ドイツ58135ハゲン−ハスペ・アウフデム
ゲレンカンプ44
(72)発明者 ミユー,トルステン
ドイツ51375レーフエルクーゼン・アムブ
ラウエンベルク6
(72)発明者 ランチユ,ラインハルト
ドイツ42115ブツペルタール・アムブツシ
ユホイスヘン51
(72)発明者 バイントリツト,ホルガー
ドイツ40764ランゲンフエルト・ルーベシ
エネシユトラーセ91
Fターム(参考) 4H006 AA01 AA02 AB03 AB84 AC53
AC59 BA65 BA66 BA92 BB11
BB15 BB22 BB25 BC10 BC11
Claims (10)
- 【請求項1】 a)式(II) 【化1】 の化合物を、適宜希釈剤の存在下でそして適宜酸受容体の存在下で、適宜相間移
動触媒の存在下で、式(III) R−X (III) [式中、 Rは置換されたまたは未置換のアルキルを表し、そして Xはハロゲン、−O−CO−O−R、−O−SO2−R1または−O−SO2−O
−Rを表し、ここでRは以上で定義された通りでありそしてR1はアルキルまた
は場合によりアルキル−置換されていてもよいフェニルを表す] のアルキル化剤と反応させるか、或いは b)式(IV) 【化2】 の化合物を、適宜希釈剤の存在下でそして適宜緩衝媒体の存在下で、式(V) R−O−NH2 (V) [式中、 Rは以上で定義された通りである] のアルコキシアミン類−またはその酸付加錯体−と反応させるか、或いは c)式(VI) 【化3】 の化合物を、適宜希釈剤の存在下でそして適宜緩衝媒体の存在下で、式(V) R−O−NH2 (V) [式中、 Rは以上で定義された通りである] のアルコキシアミン類−またはその酸付加錯体−と反応させる ことを特徴とする式(I) 【化4】 [式中、 Rは以上で定義された通りである] の化合物の製造方法。 - 【請求項2】 式(II) 【化5】 の化合物。
- 【請求項3】 d)式(IV) 【化6】 の化合物を、適宜希釈剤の存在下でそして適宜緩衝媒体の存在下で、ヒドロキシ
ルアミンまたはその酸付加錯体と反応させるか、或いは e)式(VI) 【化7】 の化合物を、適宜希釈剤の存在下でそして適宜緩衝媒体の存在下で、ヒドロキシ
ルアミンまたはその酸付加錯体と反応させる ことを特徴とする請求項2で定義した式(II)の化合物の製造方法。 - 【請求項4】 式(IV) 【化8】 の化合物。
- 【請求項5】 f)式(VII) 【化9】 [式中、 Aはアルキルまたは場合により置換されていてもよいアリールを表す] の化合物を、適宜希釈剤の存在下で、メチルアミンと反応させるか、或いは g)式(VIII) 【化10】 の化合物を、適宜希釈剤の存在下で、メチルアミンと反応させる ことを特徴とする請求項4で定義した式(IV)の化合物の製造方法。
- 【請求項6】 式(VI) 【化11】 の化合物。
- 【請求項7】 h)式(VII) 【化12】 [式中、 Aはアルキルまたは場合により置換されていてもよいアリールを表す] の化合物を、適宜希釈剤の存在下で、メチルアミンと反応させ、そして反応後に
、反応混合物を酸で処理するか、或いは i)式(VIII) 【化13】 の化合物を、適宜希釈剤の存在下で、メチルアミンと反応させ、そして反応後に
、反応混合物を酸で処理する ことを特徴とする請求項6で定義した式(VI)の化合物の製造方法。 - 【請求項8】 中間体としての式(II)の化合物の使用。
- 【請求項9】 中間体としての式(IV)の化合物の使用。
- 【請求項10】 中間体としての式(VI)の化合物の使用。
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