JPH10160405A - 薄層の厚みの測定装置および薄層の厚みを測定する方法 - Google Patents
薄層の厚みの測定装置および薄層の厚みを測定する方法Info
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- JPH10160405A JPH10160405A JP9323216A JP32321697A JPH10160405A JP H10160405 A JPH10160405 A JP H10160405A JP 9323216 A JP9323216 A JP 9323216A JP 32321697 A JP32321697 A JP 32321697A JP H10160405 A JPH10160405 A JP H10160405A
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Abstract
定する装置を提供する。 【解決手段】 支持アーム4の一方の末端領域に測定用
プローブ3を備え、プローブ3の測定用ポール8は、層
の表面に置くことができ、また、前記支持アーム4の下
部末端領域に制動装置を備え、支持アーム4の軸受装置
6を備え、かつ磁力を用いて支持アームを作動させる駆
動装置を備えてなり、前記軸受装置6は、ねじりコイル
ばね手段31を備え、その手段の二つの末端は各々、ピ
ボット面に対して横方向に、それ自体の軸受ブロック3
2,33に固定され、そしてピボット運動は、少なくと
も本質的に、ねじりコイルばね手段31のフックの法則
の範囲内にあり、かつ制動装置は渦流電流による制動の
原理で作動する。
Description
ームの前提部分による薄層の厚みの装置およびその装置
に関連する薄層の厚みを測定する方法に関する。
産業では、百万〜一千万個の範囲の莫大な数の部品が製
造されている。例えばノズルの端面と噴射弁のアンカリ
ングはクロムメッキされている。そのクロム層の厚み
は、3〜8μmの範囲内の予め決められた限度内でなけ
ればならない。その測定される面は、一般的に直径が4
mmで幅が0.5〜1.5mmの環状形態である。この
種の部品は、極めて正確な量の燃料を、エンジン室に、
電子制御によって噴射する。この噴射はある時間間隔で
行われそのサイクルタイムはタイミングシステムによっ
て予め決定しておかねばならない。これら部品の一般的
な応力サイクル数は約1億であり、それはエンジンを約
160,000km運転したことに相当する。これら部
品のクロム層が薄すぎると、こう着を起こす危険があ
る。すなわちエンジン室への燃料供給が不十分になる危
険がある。逆にクロム層が厚すぎると、噴射弁が閉じな
いで過剰量の燃料が噴射される危険がある。この場合、
エンジンが発火する危険さえあり、この場合、一般にメ
ーカーの責任になる。
無作為にサンプリングして測定するだけでなく、個々の
部品が各々、予め決められた許容差内に保持されている
ことを検査する必要がある。
のために使用される測定システムは、正確に機能するこ
とが不可欠な高度に鋭敏な部品を、容認可能な経費で連
続的に測定できるように、負荷に対する耐性が高くなけ
ればならない。
ロムの層を測定する場合、測定システムの実用寿命を長
くすることは困難である。
触覚測定法を用いると、測定される層が測定中に変形し
たりまたは他の様式で変化して測定が不正確になる危険
が常にあることである。上記のことに鑑み、本発明の目
的は、薄層の厚みを正確に測定することができ同時に長
い実用寿命を有する装置を提供することである。
的は、請求項1に係る発明の特徴部分によって達成する
ことができる。請求項1に係る薄層の厚みの測定装置
は、厚みが低μmの範囲内の薄層の厚みを測定する装置
であって、軽量の支持アームを備え、前記支持アームの
一端の領域に測定用プローブを備え、該プローブの測定
用ポールはピボット運動の後、該薄層の表面上に置くこ
とができ、前記支持アームの他の一端の領域に制動装置
を備え、支持アームの軸受装置を備え、該軸受装置の幾
何学的ピボット軸線が、ピボット運動の幾何学的ピボッ
ト面に垂直に延び、さらに前記支持アームの駆動装置を
備え、該駆動装置は磁力を利用して作動し、前記ピボッ
ト面に対して対称に設計されかつこの永久磁石を備え、
これら永久磁石は前記支持アームに接続され、そして該
永久磁石の同じ極が各場合に、該ピボット面の両側に位
置してなり; (a)前記軸受装置(6)がねじりコイルばね手段(3
1)を備え、その二つの末端が各々、前記ピボット面に
対し横方向へ、それら自体の軸受ブロック(32,3
3)に固定され、(b)前記ピボット運動が、少なくと
も本質的にねじりコイルばね手段(31)のフックの法
則の範囲内にあり、(c)前記制動装置が、渦電流制御
の原理で作動しそしてピボット面の両面に配置されかつ
各々ピボット面の方に向いた内面(72)を有する制電
プレート(67)を備え、永久磁石(24,25)の磁
極に向かい合いかつ該磁極から短い距離をおいて配置さ
れ、特にピボット面に平行に配置されて磁力線と交差
し、(d)電線路を通じてトリガーできる少なくとも一
つの電磁駆動コイル(71)が前記制電プレート(6
7)の外側に設けられている、というものである。
に配置されている測定用プローブは、磁力を使用して作
動する駆動装置によって、非常に迅速にかつ可能な最短
時間で層の表面まで移動する。この移動中、支持アーム
は、軸受装置でピボットし、ねぢりコイルばね手段が本
質的にフックの法則の範囲内でねじれる。その結果、上
記ピボッティングは事実上、摩擦なしで行われる。制動
装置が、測定用プローブが被測定表面を高速度でたたく
のを防止する。渦電流による制動の利点は、特に、静摩
擦から滑り摩擦に移行する間にかなり変動して、これが
特に測定用プローブが被測定層上に置かれる直前または
この作動中には不利になる機械的摩擦とは全く異なるこ
とである。渦電流による制御のその外の利点は、測定用
プローブの速度が低下するにつれて、制動力が低下し、
その結果、測定用プローブを被測定層上に穏やかに置く
ことが容易になることである。
る電気駆動コイルで実現される。
態は請求項2〜24の発明を形成している。
らに実施する必要があることは、層の厚みの測定を、高
い精密さで短時間内に実施することである。
は、測定を非常に迅速に行い、他方では、測定操作で起
こる被測定層の変化を避けることができる測定法を特定
することである。
記載の方法によって達成される。
する方法は、電気的方法を用いて薄層の厚みを測定する
方法であり、測定を行うため、測定用プローブを被測定
層上に置く方法であって; a)接近相において、測定用プローブ(3)を出発位置
から被測定層に向けて高速度で運び、 b)減速相において、測定用プローブ(3)が、層の上
に置かれて測定位置をとるときの速度まで減速され、測
定用プローブ(3)が被測定層の上に置かれるときの速
度は、その層が損傷する可能性がないように低く、 c)測定相において、被測定層上の測定位置における測
定用プローブ(3)の圧力が増大し、次いで d)戻り相において、測定用プローブ(3)が、復原力
によって出発位置まで戻される、というものである。
プローブは、接近相において、被測定層へ向けて高速度
で運ばれる。その結果、測定用プローブは、短時間で、
大部分の距離を進む。その結果、その全測定を行うのに
必要な時間はかなり短くなる。しかし、測定プローブ
が、被測定層をこの速度でたたくと、層が損傷する。し
たがって、続く減速相で、測定用プローブの移動は、被
測定層の損傷が起こりえない程度まで減速される。理想
的な状態では、測定用プローブは、被測定層と接触する
と、正確に静止する。
質または塵埃の粒子を除くため、次の測定相において、
測定用プローブは、作動中のコイルによって生成する測
定力によって被測定層に押圧される。
方法の戻り相で終わり、この相では、測定用プローブが
復原力によってその出発位置まで戻る。
コイルによって少なくとも、部分生成されることができ
る。
実施可能にする具体的方法を提供することである。
される。請求項27に係る発明は、厚みが低いμmの範
囲内にある薄層を測定する装置を制御する方法であっ
て;測定用ポール(8)が層の表面上に置かれるまでほ
とんど無限の距離から測定用プローブ(3)を移動させ
るため、電流を少なくとも一つの駆動コイル(71)に
供給し、その電流は、その第一の大きさで供給し続ける
と、測定用ポール(8)は層を打って衝撃を与え;測定
用プローブ(3)が近くの領域に到達したとき、測定用
ポール(8)は、電流を第一の大きさの何分の一かまで
減らして第二の大きさかまたはゼロにし、この第二の大
きさは、測定用ポール(8)が層上に置かれるまで維持
され;測定用ポール(8)が層上に置かれた後、測定用
ポール(8)被測定層をしっかり押圧するのに十分な高
い第三の大きさまで電流を増大する;というものであ
る。
ある。請求項28に係る発明は、請求項27のものにお
いて、測定操作の後、負の電流を供給して、測定用プロ
ーブ(3)戻りを加速する、というものである。
図面で例証する。
を示す。測定システム1は、本質的に基台2、測定用プ
ローブ3、支持アーム4および支持アーム4の軸受装置
6で構成されている。
有する測定物体の上に載置され、細長い支持アーム4の
一端7に配置されている。測定用プローブ3は、図1に
は見ることができないが、電磁界を発生させるため、励
磁巻線を備えている。その励磁巻線は、透磁性が高い材
料で製造された測定用ポールを囲み、そのポールの下端
は測定用プローブ3から突出している。球形の配置面3
を形成する硬質ピンが、測定用ポールのこの一端に設置
されている。さらに誘導巻線が測定用ポールのまわりに
巻かれている。励磁巻線によって発生する電磁界は、測
定用ポールの下端の被測定層の厚みの関数として変化す
る。その磁界の変化は、誘導コイルによって測定・評価
される。このような測定用プローブ3は、例えばドイツ
特許第C3437253号から公知である。
このアームはT字形である。中央部にV字形の溝11が
設けられたばね青銅製の薄い帯状体が、支持アーム4の
横ウエブ9を形成している。同じ材料で製造された縦ウ
エブ12が溝11の中にはめこまれ、接着剤の二つのシ
ーム13と14によって横ウエブ9に接着されている。
すなわち、横ウエブ9がその縦方向中央領域にV字形の
溝11を有し、その溝11が縦ウエブ12の縦方向の端
縁を収納している。接着剤による結合によって、支持ア
ーム4の質量を大きく増大することなく材料どうしを安
定して結合させることができる。ばね青銅を機械的に処
理している間に材料中に応力が生じるのを避けるため、
横ウエブ9と縦ウエブ12の外形は、厚みが例えば10
0μmのホイルを化学的にに切削加工して製造される。
図1に示されているように、縦ウエブ12は、タブ様で
幅広の三つの部分(タブ)16,17,18を備えてい
る。中央の第一タブ16は、支持アーム4を約1:2の
比率で二つの部分19,21に分割し、図1では下方に
向いている。第一タブ16には通孔22が設けられ、そ
の中に保持部材23が挿入されている。その保持部材2
3は第一タブ16に接着剤で結合されている。
7は短い部分19の末端に設置され、第一タブ16と同
様に図1において下方に向いている。この第二タブ17
はトングを形成し、その両面に、平坦な円筒形永久磁石
24,25が例えば接着剤による結合で固定されている
(図3(a))。これら二つの磁石24,25は、例え
ば1.2Tという高い界磁強度を有し、それらの磁極
は、二つの異なる磁極が互いに反対側にあるように配向
され、第二タブ17によって隔てられている。磁界線
は、第二の外部磁極に戻って入るように、外側に設置さ
れかつ第二タブ17に対して反対側に向いている磁極か
ら発生する。これによって、磁石24,26の外側に軸
に対し対称の磁界が生成する。
ブ12の第三タブ18が設置され、そのタブ18は、他
の二つのタブ16,17に対して反対方向、すなわち図
1において上方に向いている。第三タブ18の領域にお
いて、縦ウエブ12は横ウエブ9を超えて突出してい
る。したがって、第三タブ18上に、測定用プローブ3
を横ウエブ9からの干渉なしで保持することができる。
第三タブ18と測定用プローブ3は接着剤による結合に
よってしっかり結合されている。図1は第三タブ18の
上方に測定用プローブ3を線図で示している。
示す。保持部材23には幅の狭いカラー26が設けら
れ、そのカラー26は通孔22のエッジと接触して、保
持部材23の取付け位置が固定されている。図4(a)
において上方に向いている面上に、保持部材23は、平
坦部分27を有し、その平坦部分27には、その幅全体
を占める溝28が設けられている。さらに、保持部材2
3には半径方向の溝29が設置され、その溝29が保持
部材23の全長にわたって延びている。溝29は溝ベー
ス30を有し、そのベース30は本質的に保持部材23
の中心軸線にそって延びている。
ルトとして設計されたばね帯状体31が溝28に保持さ
れ、保持部材23に接着剤で結合されている。そのばね
帯状体31は支持アーム4のピボット軸線を形成し、そ
の軸線は保持部材23の中央軸線と一致している。支持
アーム4がピボットすると、ばね帯状体31がねじれる
が、ねじりは常にフックの法則の範囲内にあるので永久
的な機械的摩擦はない。その結果、測定は再現可能でか
つ高い測定精度で行うことができる。ばね帯状体31に
は成形中に機械的処理を行ったため、応力が生じること
があるがこの応力を避けるため、ばね帯状体31は、化
学的切削加工によってホイルから正しい形態にする。こ
のばね帯状体に適した材料は、銅−ベリウム(Cu−B
e)(ベリウムの比率は2%)である。
態の二つのテンショニングブラケット32,33が基台
2の互いに反対側の二つの面に、例えばねじで固定設置
されていることが図1と図2から分かる。テンショニン
グブラケット32,33は、ばね帯状体31と異なり、
支持アーム4と同様に安価なばね青銅製である。これら
ブラケット32,33は基台2の面に対し直角方向に延
出し、基台2に対して外側へセッチング(pretension, p
restressing)がなされている。テンショニングブラケッ
ト32,33は、自由端34,36(図2)に各々、二
つの溝穴37,38が設けられ、その結果、テンショニ
ングブラケット32,33は各々、この領域に三つのタ
ブ41,42,43を備えている。図2から最もよく分
かるように、それぞれの中央タブ42の上部領域は、十
分に内側へ湾曲して、その自由端44が下方に向いてい
る。その結果、タブ42の中央領域に丸い面46が生
じ、その面の上にばね帯状体31が載置されている。し
たがって、中央タブ42は、幅がばね帯状体31とほぼ
同じであることが有利であり、ばね帯状体は、テンショ
ニングブラケット32,33の上に載っているとき両側
が下方に湾曲している。連結するため、ばね帯状体31
は、例えば、前記丸い面46からある距離をおいてテン
ショニングブラケット32,33に接着剤で結合させ
る。ばね帯状体31をこのような方式で案内して連結す
ると、ばね帯状体31が変形するのを避けることができ
る。しかし、同時に、接着剤による結合によって、ばね
帯状体31は、その縦方向にわずかな引張応力がかかっ
ている。
して取り付けられ、ばね帯状体31のまわりをピボット
可能な二つのアームのレバーを形成している。支持アー
ム4のレバーアーム19,21の長さは、支持アーム4
が釣り合うように選択される。支持アーム4がピボット
すると、ばね帯状体31はねじれて復原力を発生する。
ばね帯状体31の復原力によって、支持アーム4は、常
にその水平の載置位置まで戻り、その復原力が除かれ
る。中央タブ42の丸い面46によって、ばね帯状体3
1が、ねじれたとき、いずれの部分もゆがんだりまたは
摩擦、ノッチングまたは追加のねじりのモーメントを起
こすいくつかの他の形態の負荷を受けることがないよう
に保証される。
て、支持アーム4を、確実に、帯状体31の縦方向に対
して横方向に向いている支持アーム4を適切に案内し
て、測定用ポールの高い位置決め精度に寄与している。
しかし、別の代表的実施態様で、このばね帯状体31は
ねじりワイヤで代替することができる。
コイルの各場合二つづつの電気接続リード線が、横ウエ
ブ9と縦ウエブ12の間のコーナー領域の保持部材23
に、対で案内されている。これら接続リード線は、次
に、支持アーム4から外側へ、テンショニングブラケッ
ト32,33の方へ、保持部材23の中央に本来、設け
られている溝29を通って案内される。接続リード線の
この種の対称形の案内によって、接続リード線は特に簡
単にかつ安定して取り付けることができるので、作動中
に移動せず、支持アーム4の平衡を阻害したりまたは摩
擦を生じることがない。さらに、支持アーム4がピボッ
トする場合、接続リード線は、そのピボット軸線とほと
んど正確に一致しているので実際には全く移動しない。
さらに、このリード線は、ピボット軸線のすぐ近くに位
置しかつ極めて短い能動レバーアームが結合されている
ため、支持アーム4にトルクを発生できない。なおこの
トルクは支持アーム4にかなりの影響を与える。最後
に、接続リード線は、保持部材23から、各テンショニン
グブラケット32,33の開口37を通って、例えば端
子に接続する。
ライン断面積4×10-4mm2 が十分であるように選択
される。原則として、絶縁中間被膜を介在させて支持ア
ーム4に接着剤で結合された、エッチングを行った導体
トラック(etched conductortrack)を通じて電流を送る
こともできる。このようにして、支持アーム4の重量を
さらに減らして簡単に製造することができる。
た測定システム1を示す。明確に示すため、基台2とテ
ンショニングブラケット32,33を備えてなる、支持
アーム4の軸受装置6は省略してある。この場合、底部
材51は本質的に長方形の開口52を有し、その寸法
は、一方ではテンショニングブラケット32,33をそ
の側部にスペースを置いて収容可能で、他方では基台2
を開口52の上に係合(載置)できる寸法である。基台
2には二つの細長い通孔が設けられ、その一方だけが見
えて参照番号53で示されているが、基台2は、底部材
51上で横方向に調節することができる。基台2は、設
置された位置で底部材51の方に向いている面に、二つ
の低い長方形の突出部56,57を有し、これらの突出
部は底部材51の横溝58と係合している。このよう
に、基台2は底部材51上で回転できない。同時に、そ
の縦方向の正確な位置が固定される。
示す。底部材51には支持アーム4用の溝穴59が設け
られ、その溝穴59は、支持アーム4がその中でピボッ
ト可能なように十分に長い。溝穴59の幅は、基台2
が、その細長い通孔にそって、調節可能性を最大限に利
用するときでも、溝穴59の側壁61,62と接触しな
いような寸法である。
るその部分(レバーアーム)21によって、底部材51
の上方に突出し、末端が閉鎖されているスリーブ63に
よって機械的損傷を受けないよう保護されている。その
スリーブ63は測定用開口64を備え、支持アーム4が
移動すると、測定用プローブ3は開口64を通過するこ
とができる。図6(b)から分かるように、底部材51
の開口52に平行して、細長い凹部66が設けられ、そ
の凹部66に、二つの同一のL字形の制動プレート67
が挿入されている。明確に示すため、図6(b)には、
測定システムを示していない。
広幅リム69の各外面に配置されている。制動板67が
凹部66中に装着されると、二つの制動板67の二つの
駆動コイル71が互いに同心で配置される。直流電流が
これら駆動コイル71に流れると、線対称の時間的に変
化しない磁界が、永久磁石として生成する。駆動コイル
71の対称結合軸線(joint axix of symmetry)70(図
5)は、前記装着位置で、永久磁石24,25の対称軸
線に対してずれた位置にあり、この場合、それぞれの磁
界は少なくとも一部分オーバーラップし、そしてこれら
磁界の極性が同じ場合、両者の間に引力が生じる。この
引力によって、支持アーム4が移動し、その結果、測定
用プローブ3が被測定表面に向かって移動する。
平面図を示す。制動板67は幅広リム69と幅狭リム7
3を備え、幅広リム69は厚みが幅狭リム73より薄
い。さらにトラフ様凹部74が幅広リム69の中央に配
置されている。これら二つの制動プレート67の幅広リ
ム69は底部材51の凹部66中に突出している。幅が
狭くて厚いリム73が互いに支え合い、その結果、幅広
リム69の方が寸法が小さいので幅広リム69の間に間
隙がある。この間隙の中に、横ウエブ9が溝11の幅ま
で狭くなっている。支持アーム4の領域が突出してい
る。取り付けられた位置で、永久磁石24,25は、制
動プレート67の幅広リム69の二つのトラフ様凹部7
4で形成されている空間内で自由に移動可能であり、制
動板間に形成された間隙はできるだけ小さくしてその空
隙内に延びる力線(force line)はできるだけ少なくす
る。
4,25と相互に作用して、支持アーム4を制動する渦
電流を生じ、制動プレート67は測定システム1に固定
配置される。渦電流による制動は、磁界と導体との間の
相対運動によって電流が誘導されるという原理に基づい
ている。その電流は、前記の相対運動とは反対の方向に
減速力を生成するように流される。前記相対移動の制動
を起こす減速力は、磁界が通過する導体の導電率が増大
するにつれて増大する。この理由のため、本発明によれ
ば、制動プレート67は電気銅で製造される。電気銅
は、特に導電率が高いことによって知られている。
なしで懸垂されているのでその運動を制動する必要があ
る。測定用プローブ3は、制動されずに、駆動コイル7
1に引き付けられると、減速されずに被測定層をたたい
てその層を損傷する。しかし機械的制動は、この方法に
よって起こる制動が過大に変動するので不適である。さ
らに、静摩擦から滑り摩擦に移行して摩擦係数が極端に
異なると、例えば測定用プローブ3がすでに被測定表面
にごく近い状態の場合、測定が困難になる。渦電流によ
る制動が特に有利なのは、測定用プローブ3が静止して
いるときは制動力が消失していることである。本発明の
構造では、永久磁石24,26が支持アーム4に配置さ
れ、静止している制動プレート67に対して移動可能で
あり、支持アーム4の重量が最小限に小さいこととあり
よって、過電流による制動の効率が最高になる。
い場合、渦電流による制動の機能を損なうことなく、銅
板を全メッキすることは容易に行うことができる。
だけ小さくして該システムの運動のエネルギーをできる
だけ小さくし、所定の制動作動によって迅速な減速を行
うことが、制動の態様にとって望ましい。
質量は約0.5gであり、その質量をさらに減少させれ
ば、設定される必要条件に対していくつもの利点がもた
らされるであろう。測定用プローブが、被測定層の上に
置かれるときに測定システムの速度を下げることが非常
に効果的である。運動のエネルギーは、速度の二乗のみ
ならず質量の一乗によって決まることは知られている。
れ、二つの末端プレート76,77だけがしめされてい
る。このように、全装置は、環境の影響と機械的損傷か
ら保護されている。
ものステップで実施される。図8は、測定用プローブ3
が進む距離を、相対距離で相対時間単位に対してプロッ
トして示す。相対距離単位は、被測定層が測定用プロー
ブに対してもはや作用しない場合のプローブの位置を示
す。相対距離単位は層が測定される位置を示す。図9
は、駆動コイル71を流れる電流の関連時間曲線を示
す。
駆動コイル71に流され、支持アーム4を強く加速し
て、測定用プローブ3を被測定層に向けて高速度で動か
す。測定用プローブ3が進む距離は、図8に実線Iで示
されている。高分解能プローブの場合、測定用プローブ
3は、例えば測定部位から1mmの距離の位置に配置さ
れている。分解能が余り高くないプローブの場合、測定
部位からの距離は2mmであり、このとき、無限点(出
発位置の測定用プローブ)から被測定物体までの時間は
ごくわずかに大きい。時間間隔T1の最後で測定用プロー
ブ3は部位A1すなわち被測定層に非常に近い位置にあ
る。コイル電流がその強さを維持すると、測定用プロー
ブ3は、点線で示されているように層を高速度で打つで
あろう。この場合、被測定層は損傷を受けかつ測定ポー
ルは速く摩耗するであろう。
程で、コイル電流は、かなり低い値にまたはゼロにまで
低下させる。ここで、支持アーム4は、渦電流制動の作
用およびばね帯状体31の復原力の増大によってかなり
減速される。渦電流制動の特性は、制動によって速度を
低下させて、測定用プローブ3を非常に低い速度で層上
に穏やかに置く特性である。この配置が行われる時点は
図8にA2で示してある。この時点でも、プローブシス
テム1の移動する質量が小さいことは有利な効果があ
る。すなわち、位置決め時の速度が低いと、プローブシ
ステム1の運度エネルギーは非常に小さいので、被測定
層は損傷を受けることなくかつ測定用ポールは保護され
る。
コイル電流は、測定用プローブ3に所定の圧力を生じさ
せるため、例えば最初のレベルで再び増大させる。その
圧力は、非常に優れた測定の再現性がえられるよう十分
に高いが、被測定層が変形しないように十分低い圧力で
ある。同時に、その圧力によって、あらゆる粒子が脇へ
おしやられる。この時間間隔T3中に、被測定層の厚み
が、誘導法によってそれ自体公知の方法で測定される。
を被測定物体から再び移動させる。この移動は、一方で
は、ばね帯状体31の復原力によって、他方ではコイル電
流の方向を逆にすることによって、駆動コイル71と永
久磁石24,25の間に反発力を生じさせて行われる。
特に、プローブ3を被測定層の上に置くときの速度がで
きるだけ低く保持されることは、層の厚みを測定する個
々のステップから明らかである。特に、本発明のシステ
ム全体の質量が非常に低いので、システムの慣性をかな
り低くできるから、上記のことが可能になることは明ら
かである。
を最大限保護しながら1秒間当り10回測定することが
できる。
周期的制動の場合をプロットした実線IIを示す。この
場合、測定用プローブ3は表面に漸近的に近づいて、測
定用ポールが、速度ゼロで表面上に置かれる。この方式
は、表面と測定用ポールを保護することについては最適
のシナリオである。しかし、測定用プローブを表面上ま
で運ぶのに、先に説明した本発明の実施態様の場合より
かなり長い時間がかかるので、これに対して単位時間当
り可能な測定回数が減少する。
すコイル電流の曲線は実線Iで示す曲線とは異なってい
る。例えば、そのコイル電流は段階的な場合(破線I
I)または連続曲線(一点鎖線III)の電流の場合が
ある。
とによって、測定用プローブ3を減速させることも考え
られる。しかしこれを行うには、極性を逆にして正確に
規定して観察する瞬間が必要である。減速作動が始まる
瞬間における変化が非常にわずかであっても、そのと
き、測定用ポールは、制御されていない状態で層の上に
置かれる。その結果、測定用ポールの摩耗が増大し、被
測定層が損傷しかつ測定の再現性が劣るようになる。
の測定を行って、測定用プローブが摩耗した場合、新品
と取り替えることができる。本発明の装置の他の部品
は、事実上、摩耗することなく作動し、さらに長期間に
わたって作動させることができる。
好ましい実施形態を列挙する。
の少なくとも一つがテンショニングブラケットによって
形成され、そのブラケットが、前記ねじりコイルばね手
段31を、その縦方向の引張り応力下に置く。
金属製フォイル帯状体で形成されている。
9の縦方向に対して本質的に横方向に延びている。
本質的に内部応力がない。
化学的切削加工でつくることによって製造される。
面に対し少なくとも本質的に垂直に延びる横ウエブ9お
よび前記ピボット面に対し少なくとも本質的に平行に延
びる縦ウエブ12を備え、そして縦ウエブ12は、縦方
向の端縁が横ウエブ9の中央に当接して一体にかつ応力
なしで結合されている。
も一方が、応力なしで化学的切削加工で製造される。
32,33を備えてなり、その一対の重ね板ばねは、セ
ッチングによって外側に湾曲しかつその自由末端の領域
に、フォイル帯状体31のそれぞれの末端領域が少なく
とも間接的に結合されている。
うち少なくとも一つの重ね板ばねが、その自由末端領域
34,36をフレームを用いてL字形に曲げられた丸い
面46を形成し、そしてフォイル帯状体31が自由L字
形ウエブ上に延び、丸い面46のまわりに延び、次いで
前記丸い面46から比較的大きな距離をおいた位置で重
ね板ばね32,33に連結されている。
軸線に平行に延びかつ曲げ半径である一定の半径を有す
る。
状体31の領域において、フォイル帯状体31がワンピ
ースで通過する突出タブ16を備えている。
体31を、その応力がかかっていない状態で保持する保
持部材23が設けられ、一方、その保持部材23は支持
アーム4にしっかりと結合されている。
ド線が、支持アームに取り付けられ、次で支持アーム4
のピボット軸線の近くで、保持部材23の少なくとも一
つの半径方向の溝29を通じて案内される。
り領域において、接続リード線に接続されていない。
対し、対称に、接着剤で結合されている。
ブ12の間のコーナー領域内にある。
域に、V字形の溝11を有し、その溝が縦ウエブ12の
縦方向の端縁を収納している。
帯状体31のフックの法則の範囲内の出発範囲内にあ
る。
ム4のトング17に取り付けられ、そのトングはピボッ
ト面内に正確に位置している。
体部分である。
74を有し、その凹部は、周囲面を有する永久磁石2
4,25を少なくとも一部分を収納し、したがって凹部
74は永久磁石24,25の磁界線のケージを形成して
いる。
が、永久磁石24,25の載置位置の方へ、ピボット運
動の方向に移動される。
少なくとも一つの駆動コイル71の磁界の強さにより有
意に大きい。
一つの駆動コイル71の磁界間の相互作用によって、復
原力の少なくとも一部分が生成する。
層を測定する装置を制御する方法であって;測定用ポー
ル8が層の表面上に置かれるまでほとんど無限の距離か
ら測定用プローブ3を移動させるため、電流を少なくと
も一つの駆動コイル71に供給し、その電流は、その第
一の大きさで供給し続けると、測定用ポール8は層を打
って衝撃を与え;測定用プローブ3が近くの領域に到達
したとき、測定用ポール8は、電流を第一の大きさの何
分の一かまで減らして第二の大きさかまたはゼロにし、
この第二の大きさは、測定用ポール8が層上に置かれる
まで維持され;測定用ポール8が層上に置かれた後、測
定用ポール8被測定層をしっかり押圧するのに十分な高
い第三の大きさまで電流を増大する。
て、測定用プローブ3戻りを加速する。
ば、薄層の厚みを正確に測定することができ同時に長い
実用寿命を有する装置を提供することができる。また、
本発明に係る薄層を測定する方法によれば、薄層の厚み
を正確に測定することができる。
図である。
とテンショニングラケットの断面図を示す。
る。(b)は支持アームの拡大した横断面図である。
保持部材の図4(a)中III−III線縦断面図であ
る。
である。
線図である。(b)は本発明の測定装置を上からみた線
図である。
ステムの移動距離を示す。
の制御電流を示す。
Claims (28)
- 【請求項1】 厚みが低μmの範囲内の薄層の厚みを測
定する装置であって、 軽量の支持アームを備え、 前記支持アームの一端の領域に測定用プローブを備え、
該プローブの測定用ポールはピボット運動の後、該薄層
の表面上に置くことができ、 前記支持アームの他の一端の領域に制動装置を備え、 支持アームの軸受装置を備え、該軸受装置の幾何学的ピ
ボット軸線が、ピボット運動の幾何学的ピボット面に垂
直に延び、さらに前記支持アームの駆動装置を備え、該
駆動装置は磁力を利用して作動し、前記ピボット面に対
して対称に設計されかつこの永久磁石を備え、これら永
久磁石は前記支持アームに接続され、そして該永久磁石
の同じ極が各場合に、該ピボット面の両側に位置してな
り; (a)前記軸受装置(6)がねじりコイルばね手段(3
1)を備え、その二つの末端が各々、前記ピボット面に
対し横方向へ、それら自体の軸受ブロック(32,3
3)に固定され、(b)前記ピボット運動が、少なくと
も本質的にねじりコイルばね手段(31)のフックの法
則の範囲内にあり、(c)前記制動装置が、渦電流制御
の原理で作動しそしてピボット面の両面に配置されかつ
各々ピボット面の方に向いた内面(72)を有する制電
プレート(67)を備え、永久磁石(24,25)の磁
極に向かい合いかつ該磁極から短い距離をおいて配置さ
れ、特にピボット面に平行に配置されて磁力線と交差
し、(d)電線路を通じてトリガーできる少なくとも一
つの電磁駆動コイル(71)が前記制電プレート(6
7)の外側に設けられている、 ことを特徴とする薄層の厚みの測定装置。 - 【請求項2】 前記二つの軸受ブロック(32,33)
の少なくとも一つがテンショニングブラケットによって
形成され、そのブラケットが、前記ねじりコイルばね手
段(31)を、その縦方向の引張り応力下に置くことを
特徴とする請求項1に記載の薄層の厚みの測定装置。 - 【請求項3】 前記ねじりコイルばね手段(31)が、
金属製フォイル帯状体で形成されていることを特徴とす
る請求項1に記載の薄層の厚みの測定装置。 - 【請求項4】 前記フォイル帯状体(31)、横ウエブ
(9)の縦方向に対して本質的に横方向に延びているこ
とを特徴とする請求項3に記載の薄層の厚みの測定装
置。 - 【請求項5】 フォイル帯状体(31)に、少なくとも
本質的に内部応力がないことを特徴とする請求項3に記
載の薄層の厚みの測定装置。 - 【請求項6】 フォイル帯状体(31)が、その外形を
化学的切削加工でつくることによって製造されることを
特徴とする請求項3に記載の薄層の厚みの測定装置。 - 【請求項7】 前記支持アーム(4)が、前記ピボット
面に対し少なくとも本質的に垂直に延びる横ウエブ
(9)および前記ピボット面に対し少なくとも本質的に
平行に延びる縦ウエブ(12)を備え、そして縦ウエブ
(12)は、縦方向の端縁が横ウエブ(9)の中央に当
接して一体にかつ応力なしで結合されていることを特徴
とする請求項1に記載の薄層の厚みの測定装置。 - 【請求項8】 前記ウエブ(9,12)のうち少なくと
も一方が、応力なしで化学的切削加工で製造されること
を特徴とする請求項7に記載の薄層の厚みの測定装置。 - 【請求項9】 前記軸受装置(6)が一対の重ね板ばね
(32,33)を備えてなり、その一対の重ね板ばね
は、セッチングによって外側に湾曲しかつその自由末端
の領域に、フォイル帯状体(31)のそれぞれの末端領
域が少なくとも間接的に結合されていることを特徴とす
る請求項1に記載の薄層の厚みの測定装置。 - 【請求項10】 前記一対の重ね板ばね(32,33)
のうち少なくとも一つの重ね板ばねが、その自由末端領
域(34,36)をフレームを用いてL字形に曲げられ
た丸い面(46)を形成し、そしてフォイル帯状体(3
1)が自由L字形ウエブ上に延び、丸い面(46)のま
わりに延び、次いで前記丸い面(46)から比較的大き
な距離をおいた位置で重ね板ばね(32,33)に連結
されていることを特徴とする請求項9に記載の薄層の厚
みの測定装置。 - 【請求項11】 前記丸い面(46)が、前記ピボット
軸線に平行に延びかつ曲げ半径である一定の半径を有す
ることを特徴とする請求項10に記載の薄層の厚みの測
定装置。 - 【請求項12】 前記支持アーム(4)が、フォイル帯
状体(31)の領域において、フォイル帯状体(31)
がワンピースで通過する突出タブ(16)を備えている
ことを特徴とする請求項1から11のいずれか一つに記
載の薄層の厚みの測定装置。 - 【請求項13】 溝(28)内に、平坦なフォイル帯状
体(31)を、その応力がかかっていない状態で保持す
る保持部材(23)が設けられ、一方、その保持部材
(23)は支持アーム(4)にしっかりと結合されてい
ることを特徴とする請求項1から12のいずれか一つに
記載の薄層の厚みの測定装置。 - 【請求項14】 測定用プローブ(3)の電気接続リー
ド線が、支持アームに取り付けられ、次で支持アーム
(4)のピボット軸線の近くで、保持部材(23)の少
なくとも一つの半径方向の溝(29)を通じて案内され
ることを特徴とする請求項13に記載の薄層の厚みの測
定装置。 - 【請求項15】 フォイル帯状体(31)が、そのねじ
り領域において、接続リード線に接続されていないこと
を特徴とする請求項1から14のいずれか一つに記載の
薄層の厚みの測定装置。 - 【請求項16】 接続リード線が、縦ウエブ(12)に
対し、対称に、接着剤で結合されていることを特徴とす
る請求項1から15のいずれか一つに記載の薄層の厚み
の測定装置。 - 【請求項17】 接着位置が、横ウエブ(9)と縦ウエ
ブ(12)の間のコーナー領域内にあることを特徴とす
る請求項16に記載の薄層の厚みの測定装置。 - 【請求項18】 横ウエブ(9)が、その縦方向中央領
域に、V字形の溝(11)を有し、その溝が縦ウエブ
(12)の縦方向の端縁を収納していることを特徴とす
る請求項7に記載の薄層の厚みの測定装置。 - 【請求項19】 ピボット運動が、金属製フォイル帯状
体(31)のフックの法則の範囲内の出発範囲内にある
ことを特徴とする請求項1に記載の薄層の厚みの測定装
置。 - 【請求項20】 永久磁石(24,25)が、支持アー
ム(4)のトング(17)に取り付けられ、そのトング
はピボット面内に正確に位置していることを特徴とする
請求項1に記載の薄層の厚みの測定装置。 - 【請求項21】 トング(17)が、縦ウエブ(12)
の一体部分であることを特徴とする請求項20に記載の
薄層の厚みの測定装置。 - 【請求項22】 制動プレート(67)がトラフ様凹部
(74)を有し、その凹部は、周囲面を有する永久磁石
(24,25)を少なくとも一部分を収納し、したがっ
て凹部(74)は永久磁石(24,25)の磁界線のケ
ージを形成していることを特徴とする請求項1に記載の
薄層の厚みの測定装置。 - 【請求項23】 少なくとも一つの駆動コイル(71)
が、永久磁石(24,25)の載置位置の方へ、ピボッ
ト運動の方向に移動されることを特徴とする請求項1に
記載の薄層の厚みの測定装置。 - 【請求項24】 永久磁石(24,25)の保磁力が、
少なくとも一つの駆動コイル(71)の磁界の強さによ
り有意に大きいことを特徴とする請求項1または23に
記載の薄層の厚みの測定装置。 - 【請求項25】 電気的方法を用いて薄層の厚みを測定
する方法であり、測定を行うため、測定用プローブを被
測定層上に置く方法であって; a)接近相において、測定用プローブ(3)を出発位置
から被測定層に向けて高速度で運び、 b)減速相において、測定用プローブ(3)が、層の上
に置かれて測定位置をとるときの速度まで減速され、測
定用プローブ(3)が被測定層の上に置かれるときの速
度は、その層が損傷する可能性がないように低く、 c)測定相において、被測定層上の測定位置における測
定用プローブ(3)の圧力が増大し、次いで d)戻り相において、測定用プローブ(3)が、復原力
によって出発位置まで戻される、 ことを特徴とする薄層の厚みを測定する方法。 - 【請求項26】 永久磁石(24,25)と少なくとも
一つの駆動コイル(71)の磁界間の相互作用によっ
て、復原力の少なくとも一部分が生成することを特徴と
する請求項25に記載の薄層の厚みを測定する方法。 - 【請求項27】 厚みが低いμmの範囲内にある薄層を
測定する装置を制御する方法であって;測定用ポール
(8)が層の表面上に置かれるまでほとんど無限の距離
から測定用プローブ(3)を移動させるため、電流を少
なくとも一つの駆動コイル(71)に供給し、その電流
は、その第一の大きさで供給し続けると、測定用ポール
(8)は層を打って衝撃を与え;測定用プローブ(3)
が近くの領域に到達したとき、測定用ポール(8)は、
電流を第一の大きさの何分の一かまで減らして第二の大
きさかまたはゼロにし、この第二の大きさは、測定用ポ
ール(8)が層上に置かれるまで維持され;測定用ポー
ル(8)が層上に置かれた後、測定用ポール(8)被測
定層をしっかり押圧するのに十分な高い第三の大きさま
で電流を増大する;ことを特徴とする薄層の厚みを測定
する方法。 - 【請求項28】 測定操作の後、負の電流を供給して、
測定用プローブ(3)戻りを加速することを、特徴とす
る請求項27に記載の薄層の厚みを測定する方法。
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