JPH10142422A - 偏光フィルムの製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 光学性能が非常に優れ、かつ耐熱時の寸法安
定性に優れた偏光フィルムの製造方法を提供すること。 【解決手段】 ポリビニルアルコール系偏光フィルムを
ホウ素化合物水溶液処理した後、水洗処理を施す工程に
おいて、該ホウ素化合物水溶液処理を２回以上にわたっ
て行い、第１のホウ素化合物処理でポリビニルアルコー
ル系偏光フィルム中のホウ素原子含有量を４重量％未満
とし、第２以降のホウ素化合物処理及び水洗処理を施し
た後のポリビニルアルコール系偏光フィルム中のホウ素
原子含有量を４〜７重量％とする偏光フィルムの製造方
法。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、光学性能が非常に
優れ、かつ耐熱時の寸法安定性に優れた偏光フィルムの
製造方法に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】近年、卓上電子計算機、電子時計、ワー
プロ、自動車や機械類の計器類等に液晶表示装置が用い
られ、これらに伴い偏光板の需要も増大している。偏光
板は一般に偏光能を有する偏光フィルムの両面あるいは
片面に、接着剤層を介して保護フィルムを形成させたも
のが繁用され、現在、知られている代表的なポリビニル
アルコール（以下、ＰＶＡと略記する）系偏光フィルム
としてはＰＶＡ系フィルムにヨウ素を染色させたものと
二色性染料を染色させたものがあり、これらはＰＶＡの
水溶液を製膜し、これを一軸延伸させて染色するか、染
色した後一軸延伸してからホウ素化合物で耐久性処理を
行ったものが用いられ、更にＰＶＡ系偏光フィルムの欠
点である耐湿性を保護するために保護フィルムが設けら
れ、該保護フィルムとしては酢酸セルロース系フィルム
が表面保護フィルムとして光学的透明性、無配向性等に
優れているため汎用されている。

【０００３】上記ＰＶＡ系偏光フィルムの耐湿性、耐湿
熱性の向上を目的とした製造方法として、例えば特開昭
６２−２２３７０４号公報ではＰＶＡ系偏光フィルムを
ホウ酸水溶液で耐久化処理するのに、第１処理浴を１０
〜５５℃、第２処理浴を５５〜８０℃の温度範囲にして
処理すること、特開昭６２−２２６１０４号公報では耐
久化処理液であるホウ酸水溶液の中に無機塩を添加する
こと、又、特開平７−１９８９３９号公報ではＰＶＡ系
フィルムの総重量に対してホウ素原子を４．５〜７．０
重量％含有させる工程を２つ以上有し、それぞれの工程
でホウ素化合物濃度の異なる処理液に浸漬することが提
案されている。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記公
報開示技術等では、偏光性能や耐久性については向上し
ているものの、得られた偏光フィルムの耐熱時の寸法安
定性については何ら考慮されておらず、本発明者等が詳
細に検討した結果、該公報開示技術等、例えば、特開昭
６２−２２３７０４号公報のホウ酸処理浴の温度規定や
特開平７−１９８９３９号公報の全ホウ素含有量規定の
みではまだまだ満足のいくものではなく、又、最近の技
術の高度化に伴い要求性能も益々高くなっており、更な
る高光学特性と優れた寸法安定性を備えもった偏光フィ
ルム、偏光板の開発が望まれている。更に、上記技術等
で得られた偏光板は偏光板クロスニコルでブルーリーク
が発生したり、ブルーリークを抑えると平行透過率が低
下したり、波長４００〜５００ｎｍ領域で平行透過率／
直交透過率の値（コントラスト）が上がりにくく、又、
波長５５０〜７８０ｎｍ領域でコントラストが低下した
りする等の不具合が生じることが判明した。本発明は、
このような背景下において、上記課題を解決した偏光フ
ィルムの製造方法を提供することを目的とする。

【０００５】

【課題を解決するための手段】しかるに、本発明者等は
かかる課題を解決すべく、ホウ素化合物処理工程、水洗
処理工程についてその条件を種々検討し、鋭意研究を重
ねた結果、ＰＶＡ系偏光フィルムをホウ素化合物水溶液
で処理した後、水洗処理を施す工程において、該ホウ素
化合物水溶液処理を２回以上にわたって行い、第１のホ
ウ素化合物処理でＰＶＡ系偏光フィルム中のホウ素原子
含有量を４重量％未満とし、第２以降のホウ素化合物処
理及び水洗処理を施した後のＰＶＡ系偏光フィルム中の
ホウ素原子含有量を４〜７重量％とすることにより、光
学性能や寸法安定性に非常に優れた高コントラストを有
する偏光フィルムが得られることを見いだし、本発明を
完成した。

【０００６】尚、コントラストとは上記の如く平行透過
率（Ａ）と直交透過率（Ｂ）の比（（Ａ）／（Ｂ））で
あり、平行透過率（Ａ）とは２枚の偏光板をその配向方
向が同一になるように重ね合わせた場合の透過率（％）
を、直交透過率（Ｂ）とは２枚の偏光板をその配向方向
が垂直になるように重ね合わせた場合の透過率（％）を
それぞれ意味する。

【０００７】

【発明の実施の形態】以下、本発明について具体的に説
明する。本発明の偏光フィルムは、ＰＶＡ系フィルムの
一軸延伸フィルムであり、ＰＶＡ系樹脂は通常、酢酸ビ
ニルを重合したポリ酢酸ビニルをケン化して製造される
が、本発明では必ずしもこれに限定されるものではな
く、少量の不飽和カルボン酸（塩、エステル、アミド、
ニトリル等を含む）、オレフィン類、ビニルエーテル
類、不飽和スルホン酸塩等、酢酸ビニルと共重合可能な
成分を含有していても良い。ＰＶＡ系樹脂における平均
ケン化度は８５〜１００モル％、好ましくは９８〜１０
０モル％が実用的である。又、本発明のＰＶＡ系樹脂の
平均重合度としては任意のものが使用可能であるが、１
５００〜１００００、好ましくは２０００〜１０００
０、より好ましくは３０００〜５０００が有利である。

【０００８】該偏光フィルムの製造方法としては、ま
ず、ＰＶＡ系樹脂を水又は有機溶媒に溶解した原液を流
延製膜して、該フィルムを延伸してヨウ素化合物あるい
は二色性染料の水溶液に浸漬し染色するか、延伸と染色
を同時に行うか、ヨウ素化合物あるいは二色性染料によ
り染色して延伸するかした後、ホウ素化合物処理する。
又、染色した後ホウ素化合物の溶液中で延伸することや
上記延伸を含め各段階で延伸することも好ましく、適宜
選択して用いることができる。

【０００９】原液調製に際して使用される溶媒として
は、例えば水はもちろん、ジメチルスルホキシド（ＤＭ
ＳＯ）、Ｎ−メチルピロリドン、グリセリン、エチレン
グリコール、プロピレングリコール、ジエチレングリコ
ール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコ
ール、トリメチロールプロパン等の多価アルコール、エ
チレンジアミン、ジエチレントリアミン等のアミン類及
びこれらの混合物が用いられる。

【００１０】上記有機溶媒中には少量、例えば５〜３０
重量％の水を含有させても差し支えない。原液中のＰＶ
Ａ系樹脂の濃度は５〜２０重量％が実用的である。該溶
剤を用いて得られたＰＶＡ製膜原液は、キャスト法、押
出法等任意の方法で製膜される。製膜方法としては乾・
湿式製膜法にて、即ち、該溶液を口金スリットから一旦
空気中、又は窒素、ヘリウム、アルゴン等の不活性雰囲
気中に吐出し、次いで凝固浴中に導いて未延伸フィルム
を形成せしめる。又は口金から吐出された製膜溶液は一
旦ローラー、あるいはベルトコンベアー等の上で溶剤を
一部乾燥した後で凝固浴中に導入しても差し支えない。

【００１１】又、凝固浴に用いる溶媒には前記ＰＶＡの
溶剤と混和性を有するもので、例えばメタノール、エタ
ノール、プロパノール、ブタノール等のアルコール類、
アセトン、ベンゼン、トルエン等が挙げられる。ＰＶＡ
系フィルムを得る方法としては、その他ＰＶＡ系樹脂の
溶液を凝固浴中に導入してフィルム化するいわゆるゲル
製膜法等も実施可能である。

【００１２】原反フィルムとしてはその膜厚は３０〜１
００μｍ、好ましくは５０〜９０μｍが必要である。３
０μｍ以下では延伸不能となり、１００μｍ以上では膜
厚精度が低下し不適当である。前記の如くして得られる
ＰＶＡ未延伸フィルムは次に染色及び延伸、ホウ素化合
物処理が施される。染色と延伸更にホウ素化合物処理は
別々に行っても同時に行っても良いが、本発明では少な
くともホウ素化合物処理工程中に一軸延伸を実施するこ
とが望ましい。

【００１３】フィルムへの染色つまり偏光素子の吸着は
フィルムに偏光素子を含有する液体を接触させることに
よって行われる。通常はヨウ素−ヨウ化カリウムの水溶
液が用いられ、ヨウ素の濃度は０．１〜２ｇ／ｌ、ヨウ
化カリウムの濃度は１０〜５０ｇ／ｌ、ヨウ素／ヨウ化
カリウムの重量比は２０〜１００が適当である。染色時
間は３０〜５００秒程度が実用的である。処理浴の温度
は３０〜８０℃が好ましい。水溶媒以外に水と相溶性の
ある有機溶媒を少量含有させても差し支えない。接触手
段としては浸漬、塗布、噴霧等の任意の手段が適用でき
る。

【００１４】染色処理されたフィルムは次いでホウ素化
合物水溶液によって処理された後、水洗されるわけであ
るが、本発明では該ホウ素化合物処理を２回以上行うこ
とが必要であり、第１のホウ素化合物水溶液処理におい
て、ＰＶＡ系偏光フィルム中のホウ素原子含有量を４重
量％未満、好ましくは２〜４重量％、更に好ましくは３
〜４重量％とし、第２以降のホウ素化合物水溶液処理に
おいて、該処理及び水洗処理を施した後のＰＶＡ系偏光
フィルム中のホウ素原子含有量を４〜７重量％、好まし
くは４〜６重量％、更に好ましくは４〜５重量％とする
ことが必要である。

【００１５】かかる第１のホウ素化合物水溶液処理にお
いて、ＰＶＡ系偏光フィルム中のホウ素原子含有量が４
重量％以上になると延伸時の張力が上昇し、延伸中のフ
ィルムの切断が発生し易くなり５倍以上の延伸が困難と
なったり、又、耐熱環境下に該偏光フィルムを放置する
と寸法変化が著しく大きくなり好ましくない。又、上記
第２以降のホウ素化合物水溶液処理において、水洗処理
後のＰＶＡ系偏光フィルム中のホウ素原子含有量が４重
量％未満では波長４６０ｎｍ付近におけるコントラスト
が大幅に低下し、７重量％を越えると耐熱環境下での偏
光フィルムの寸法変化が大きくなり好ましくない。上記
の如き特定のホウ素原子含有量にコントロールすること
により、コントラストに優れ、耐熱時の寸法安定性にも
優れた偏光フィルムが得られるのである。該ホウ素化合
物としては、ホウ酸、ホウ砂が実用的である。

【００１６】ホウ素化合物は水溶液又は水−有機溶媒混
合液の形で、第１のホウ素化合物水溶液処理においてホ
ウ素化合物水溶液の濃度は０．３〜０．９モル／ｌ、好
ましくは０．４〜０．８モル／ｌ程度で用いられ、第２
のホウ素化合物水溶液処理において濃度は０．４５〜
１．０モル／ｌ程度で用いられ、液中には少量のヨウ化
カリウムを共存させるのが実用上望ましい。処理法は浸
漬法が望ましいが勿論塗布法、噴霧法も実施可能であ
る。第１のホウ素化合物処理では２０〜６０℃、好まし
くは３０〜５５℃で、第２のホウ素化合物処理では３０
〜７０℃、好ましくは４０〜６５℃で処理することが好
ましい。かかる処理により、上記の如きホウ素原子含有
量を有する偏光フィルムが得られ、光学特性に優れ、か
つ耐熱時の寸法安定性に優れた偏光フィルムが得られ
る。

【００１７】延伸は一軸方向に総延伸倍率で４．５〜
７．０倍、好ましくは５．０〜７．０倍に延伸すること
が望ましい。この際、前記と直角方向にも若干の延伸
（幅方向の収縮を防止する程度あるいはそれ以上の延
伸）を行っても差し支えない。延伸時の温度条件は４０
〜１３０℃から選ぶのが望ましい。更に、かかる延伸倍
率は最終的に上記の範囲に設定されれば良く、延伸操作
は一段階のみならず、製造工程の任意の範囲の段階に実
施すれば良い。該総延伸倍率が４．５倍未満ではコント
ラストの改善効果が得られず、又、７．０倍を越えると
延伸中のフィルムの切断が発生し易くなり好ましくな
い。

【００１８】更に本発明においては、上記第１のホウ素
化合物水溶液処理中に延伸を施すことが好ましく、該区
間延伸倍率で１．６倍以上、好ましくは１．６〜４．５
倍とすることが望まれる。かかる延伸倍率が１．６倍未
満では４６０ｎｍ付近でのコントラストの改善効果が少
なく、一方４．５倍を越えると延伸時の張力が急激に上
昇し、耐熱時の寸法変化が大きくなり好ましくない。

【００１９】又、本発明では、上記の如く染色したＰＶ
Ａ系偏光フィルムをホウ素化合物を含む水溶液で処理す
ることが好ましいが、該ホウ素化合物処理を染色の前あ
るいは染色と同時に行い、偏光フィルムとすることも可
能である。

【００２０】ホウ素化合物水溶液処理後、水洗処理、必
要に応じて乾燥処理が施され、本発明の偏光フィルムが
得られる。該水洗処理は主に偏光フィルムの異物除去を
目的として行われるが、水洗の水量によっては偏光フィ
ルムの色調が大幅に変化する。本発明では、該水量がＰ
ＶＡ系フィルムの片面１ｍ²当たり３０ｌ以下であると
き、６４０ｎｍ付近のコントラストが向上し優れた効果
を発揮する。かかる水量が３０ｌ／ｍ²を越えると４６
０ｎｍ付近のコントラストが低下し好ましくない。

【００２１】更に、該水洗処理において、水温を１０℃
以下で行うことが好ましい。好適には０〜５℃である。
該水温が１０℃を越えると水洗の水量を極端に絞る必要
があり、異物の除去が不完全となり好ましくない。水洗
処理の処理時間は１５分以下、好ましくは１０〜１２０
秒間が適当である。水洗処理後、必要に応じて４０〜１
２０℃で０．５〜１０分間の乾燥処理を施した後、本発
明のＰＶＡ系偏光フィルムが得られ、該ＰＶＡ系偏光フ
ィルムには、その両面又は片面に光学的透明度と機械的
強度に優れた酢酸セルロース系保護フィルムが貼り合わ
される。本発明では必要に応じて、かかる水洗処理でＰ
ＶＡ系偏光フィルム中のホウ素原子含有量を調整するこ
とも可能であるが、該ホウ素原子含有量の調整について
は上記の如く第２以降のホウ素化合物水溶液処理でのホ
ウ素化合物水溶液の濃度、処理時間等により左右され
る。

【００２２】該酢酸セルロース系保護フィルムとしては
酢酸セルロース系フィルム、アクリル系フィルム、ポリ
エステル系フィルム、ポリオレフィン系フィルム、ポリ
カーボネート系フィルム、ポリエーテルエーテルケト系
フィルム、ポリスルホン系フィルム等が挙げられるが、
好適には二酢酸セルロースフィルム、三酢酸セルロース
フィルム等の酢酸セルロース系フィルム用いられ、更
に、必要に応じて、上記樹脂フィルムにサリチル酸エス
テル系化合物、ベンゾフェノール系化合物、ベンゾトリ
アゾール系化合物、シアノアクリレート系化合物、ニッ
ケル錯塩系化合物等の紫外線吸収剤を配合させることも
可能である。又、該保護フィルムの表面をアルカリでケ
ン化処理したり、プラズマ処理、グロー放電処理、コロ
ナ放電処理、高周波処理、電子線処理等を行うと、更に
効果的である。又、ＰＶＡ系偏光フィルムと保護フィル
ムとの接着に際しては、ＰＶＡ系、ウレタン系、アクリ
ル系等の接着剤が用いられる。

【００２３】かくして得られた偏光フィルムは、上記の
如き特定のホウ素化合物処理及び水洗処理を施し、特定
のホウ素原子含有量を有していることにより、光学性能
に優れ、かつ耐熱時の寸法安定性に非常に優れた効果を
示し、更に高いコントラスト、特に４６０ｎｍ付近で高
いコントラストを有する偏光板となるため、液晶表示装
置や車両用途、各種工業計器類、家庭用電化製品の表示
等に有用で、視認性がよくなるといった効果も併せ持つ
のである。

【００２４】更に、上記偏光板（本発明の偏光フィルム
に保護フィルムを貼合したもの）には必要に応じて透明
な粘着剤層を通常知られている方法で設けることができ
る。該粘着剤層としてはアクリル酸エステル、例えばア
クリル酸ブチル、アクリル酸エチル、アクリル酸メチ
ル、アクリル酸２−エチルヘキシル等とα−モノオレフ
ィンカルボン酸、例えばアクリル酸、マレイン酸、イタ
コン酸、メタクリル酸、クロトン酸等との共重合物（ア
クリルニトリル、酢酸ビニル、スチロールの如きビニル
単量体を添加したものも含む。）を主体とするものが、
偏光フィルムの偏光特性を阻害することがないので特に
好ましいが、これに限定されることなく、透明性を有す
る粘着剤であれば使用可能で、例えばポリビニルエーテ
ル系、ゴム系等でもよい。

【００２５】又、更に偏光板の片面（上記粘着剤が設け
られていない面）に各種機能層を設けることも可能であ
り、機能層としては、例えばアンチグレア層、ハードコ
ート層、アンチリフレクション層、ハーフリフレクショ
ン層、反射層、蓄光層、エレクトロルミネッセンス層な
どが挙げられ、更に各種２種以上の組み合わせをするこ
とも可能で、例えばアンチグレア層とアンチリフレクシ
ョン層、蓄光層と反射層、蓄光層とハーフリフレクショ
ン層、蓄光層と光拡散層、蓄光層とエレクトロルミネッ
センス層、ハーフリフレクション層とエレクトロルミネ
ッセンス層等の組み合わせが挙げられる。但し、これら
に限定されることはない。

【００２６】アンチグレア層とは、偏光板表面への蛍光
灯等の写り込み像を拡散し表示を見やすくしたり、指紋
等の付着を防止するためのもので、具体的には粒子径が
０．１〜２０μのシリカビーズ等の無機充填剤やアクリ
ル、スチレン、ジビニルベンゼン、メラミン、ベンゾグ
アナミン等の有機充填剤を配合したメラミン系樹脂、ウ
レタン系樹脂、アクリル系樹脂、アルキッド系樹脂、シ
リコーン系樹脂等の熱硬化性樹脂や多官能アクリル系の
紫外線或いは電子線等のエネルギー線硬化性樹脂等が用
いられ、保護層表面に、バーコート、ロールコート、グ
ラビアコート、エアナイフコート等の公知の塗工方法に
より塗工される。該アンチグレア層の厚みは１〜２０μ
程度である。

【００２７】ハードコート層とは、表面硬度をＨ（鉛筆
硬度）以上にして耐擦傷性を付与するもので、具体的に
はメラミン系樹脂、ウレタン系樹脂、アクリル系樹脂、
アルキッド系樹脂、シリコーン系樹脂等の熱硬化性樹脂
や多官能アクリル系樹脂を主成分とし、紫外線或いは電
子線等によるエネルギー線硬化性樹脂やＳｉＯ₂等の金
属酸化物等が用いられ、保護層表面に形成される。該層
の形成方法としては、樹脂の場合にはバーコート、ロー
ルコート、グラビアコート、エアナイフコート等の公知
の塗工方法が、又金属酸化物の場合には真空蒸着方法が
好適に採用される。該ハードコート層の厚みは１〜２０
μ程度である。

【００２８】更に、偏光板の耐久性、特に耐湿熱性の向
上を図るためにケイ素含有化合物からなる層をハードコ
ート層として設けることも有効である。該層の形成方法
としては、塗布法、浸漬法、等が採用され、該化合物層
の厚みは０．００１〜１００μ程度である。

【００２９】アンチリフレクション層とは、偏光板表面
での外光反射を抑制し表示を見やすくするためのもの
で、具体的にはフッ素系樹脂やＳｉＯ₂、ＭｇＦ₂、Ｚｒ
Ｏ₂、ＡｌＯ₃、ＴｉＯ₂等の金属酸化物等が用いられ、
保護フィルム層表面に形成される。該層の形成方法とし
ては、樹脂の場合にはバーコート、ロールコート、グラ
ビアコート、エアナイフコート等の公知の塗工方法が、
又金属酸化物の場合には真空蒸着方法が好適に採用さ
れ、該金属酸化物は２層以上積層されることが多く、該
アンチリフレクション層の厚みは０．０５〜１μ程度で
ある。又、アンチリフレクション層とアンチグレア層を
組み合わせて使用することも有効である。

【００３０】ハーフリフレクション層とは、昼間は外光
反射を利用し、夜間はバックライトからの透過光を利用
してディスプレイを表示させて低消費電力化を図るため
のもので、保護フィルム層の外側に形成される。具体的
には、鱗片状雲母、二酸化チタン被覆雲母、板状魚鱗
箔、六角板状塩基性炭酸鉛、酸塩化ビスマス等の微細雲
母又は真珠顔料、微小ガラスビーズ、ガラス粉砕粒等の
ガラス製品、プラスチックチップ、プラスチック粉砕粒
等のプラスチック製品等の透明及び／又は半透明粒子を
含有した粘着剤を用いて、（メタ）アクリル系樹脂、ア
セテート、ポリカーボネート、ポリエステル、ポリウレ
タン等の光学的透明性を有する合成樹脂層を偏光板と貼
り合わせたり、上記合成樹脂層上に上記透明及び／又は
半透明粒子を被着したフィルムを粘着剤を介して偏光板
と貼り合わせたりする等の方法が採られるが、これに限
られるものではない。該ハーフリフレクション層付き偏
光板は実用的には液晶パネルの下偏光板として用いら
れ、ハーフリフレクション層が下層となるように、即ち
ハーフリフレクション層が設けられていない保護層が液
晶パネルに貼合される。

【００３１】反射層とは、昼間に外光反射を利用してデ
ィスプレイを表示させてバックライトを省略するための
もので、具体的には三酢酸セルロース系フィルム等の酢
酸セルロース系フィルム、ポリエチレンテレフタレート
等の基材上にアルミニウム、銀等の高反射率を有する金
属を蒸着し、粘着剤を介して偏光板（一方の保護層）に
貼合される。該反射層付き偏光板は実用的には液晶パネ
ルの下偏光板として用いられ、反射層が下層となるよう
に、即ち反射層が設けられていない保護層が液晶パネル
に貼合される。

【００３２】蓄光層とは、昼間に外光を蓄えることで夜
間にはバックライト無しでディスプレイを表示させるこ
とができるためのもので、具体的には、硫化亜鉛、或い
は硫化カルシウムを母体とし、これに賦活剤として銅を
添加し、融剤を混ぜて焼成した緑色の蛍光体がよく用い
られたり、又、該蓄光型の塗料にラジウムやストロンチ
ウム等のα線、β線を放射する元素を微量加えて自ら発
光する発光型の塗料とし用いられる。該蓄光層は偏光板
の片面（一方の保護層）にアクリル樹脂等のバインダー
樹脂とともにコーティングされ、該蓄光層付き偏光板は
実用的には液晶パネルの下偏光板として用いられ、蓄光
層が下層となるように、即ち蓄光層が設けられていない
保護層が液晶パネルに貼合される。又、蓄光層の下層に
反射層を設けたり、蓄光層と偏光板の間にハーフリフレ
クション層を設けたすることも有効である。

【００３３】エレクトロルミネッセンス層とは、従来の
バックライトに代わり軽量化、薄膜化が図られるための
もので、実用的には液晶パネルの下偏光板の更に下層に
設けられる。エレクトロルミネッセンス材料としては、
無機材料のものと有機材料のものとがあり、無機材料と
しては硫化亜鉛等の蛍光体粒子が挙げられ、有機材料と
してはトリス（８−キノリノラト）アルミニウム錯体、
ビス（ベンゾキノリノラト）ベリリウム錯体等が挙げら
れる。実際の使用に際しては、エレクトロルミネッセン
ス層の片面（偏光板側）にＩＴＯ電極を、もう片面に誘
電体層及び背面電極を設けて、ＩＴＯ電極と背面電極に
電流を通し発光させる。又、エレクトロルミネッセンス
層と偏光板の間に蓄光層又はハーフリフレクション層を
設けたりすることも有効である。

【００３４】又、本発明の偏光フィルムは、ＰＶＡ、ポ
リカーボネート、ポリエステル、ポリアリレート、ポリ
イミド、ポリオレフィン、ポリスチレン、ポリサルホ
ン、ポリエーテルサルホン、ポリビニリデンフルオライ
ド／ポリメチルメタアクリレート、液晶ポリマー、トリ
アセチルセルロース系樹脂、環状ポリオレフィン、エチ
レン−酢酸ビニル共重合体ケン化物、ポリ塩化ビニル等
の位相差フィルムと積層して楕円偏光板としても有効で
ある。

【００３５】

【実施例】以下、本発明について実施例を挙げて具体的
に説明する。尚、実施例中「部」、「％」とあるのは特
に断りのない限り重量基準である。又、本発明でいう偏
光度は次式で示される。 ［（Ｈ₁₁−Ｈ₁）／（Ｈ₁₁＋Ｈ₁）］^1/2×１００（％） ここでＨ₁₁は２枚の偏光フィルムサンプルの重ね合わせ
時において、偏光フィルムの配向方向が同一方向になる
ように重ね合わせた状態で分光光度計を用いて測定した
透過率（％）、Ｈ₁は２枚のサンプルの重ね合わせ時に
おいて、偏光フィルムの配向方向が互いに直交する方向
になるように重ね合わせた状態で測定した透過率（％）
である。

【００３６】実施例１ 平均重合度２６００、ケン化度９９．５モル％のＰＶＡ
系樹脂を水に溶解し、５．０％の溶液を得た。該溶液を
ポリエチレンテレフタレートフィルム上に流延後乾燥し
原反フィルム（８０μｍ）を得た。該フィルムをチャッ
クに装着し、ヨウ素０．２ｇ／ｌ、ヨウ化カリウム６０
ｇ／ｌよりなる水溶液中に３０℃にて２４０秒浸漬し染
色した。次いでホウ酸３０ｇ／ｌ、ヨウ化カリウム５０
ｇ／ｌの組成からなる第１ホウ酸水溶液槽（温度５３
℃）に６分間浸漬するとともに、同時に２．１倍に一軸
延伸した（該延伸処理により総延伸倍率は５倍とな
る）。このときのＰＶＡ系偏光フィルム中のホウ素原子
含有量は３．６％であった。次にホウ酸７０ｇ／ｌ、ヨ
ウ化カリウム５０ｇ／ｌよりなる第２ホウ酸水溶液槽
（温度５０℃）に３０秒間浸漬した後、ＰＶＡ系偏光フ
ィルムの片面１ｍ²当たり２５ｌの水量で水洗処理（水
温１０℃）を行い、その後８０℃で２分間乾燥して偏光
フィルムを得た。このとき、水洗処理後のＰＶＡ系偏光
フィルム中のホウ素原子含有量は４．６％であった。次
に、得られた偏光フィルムの両面に、三酢酸セルロース
フィルムをＰＶＡ系接着剤（４％水溶液）により貼合
し、偏光板を得た。

【００３７】該偏光板の光学性能（４６０ｎｍのコント
ラスト、偏光度、透過率）を高速多波長複屈折測定装置
（大塚電子（株）製：ＲＥＴＳ−２０００）により測定
した。又、該偏光板を９０℃の環境下で１００時間放置
した後の寸法収縮率を測定した。尚、寸法収縮率は、該
偏光板を１８０ｍｍ（ＭＤ方向）×２５ｍｍ（ＴＤ方
向）の大きさにサンプリングし、耐熱試験前後のＭＤ方
向（一軸延伸方向）の長さを測定し、下式より算出し
た。寸法収縮率＝（耐熱試験前のＭＤ方向の長さ−耐熱
試験後のＭＤ方向の長さ）×１００／耐熱試験前のＭＤ
方向の長さ

【００３８】実施例２ 実施例１において、平均重合度３８００、ケン化度９
９．５モル％のＰＶＡ系樹脂を用いた以外は同様に行い
偏光フィルムを得た。このとき、第１ホウ酸水溶液処理
後のＰＶＡ系偏光フィルム中のホウ素原子含有量は３．
９％であり、第２ホウ酸水溶液処理後更に水洗処理を施
した後のＰＶＡ系偏光フィルム中のホウ素原子含有量は
４．７％であった。更に、実施例１と同様に三酢酸セル
ロースフィルムを貼合し偏光板を得た。該偏光板につい
て、実施例１と同様に光学性能及び寸法収縮率を測定し
た。

【００３９】実施例３ 実施例１において、平均重合度１７００、ケン化度９
９．５モル％のＰＶＡ系樹脂を用いた以外は同様に行い
偏光フィルムを得た。このとき、第１ホウ酸水溶液処理
後のＰＶＡ系偏光フィルム中のホウ素原子含有量は３．
６％であり、第２ホウ酸水溶液処理後更に水洗処理を施
した後のＰＶＡ系偏光フィルム中のホウ素原子含有量は
４．５％であった。更に、実施例１と同様に三酢酸セル
ロースフィルムを貼合し偏光板を得た。該偏光板につい
て、実施例１と同様に光学性能及び寸法収縮率を測定し
た。

【００４０】実施例４ 実施例において、第１ホウ酸水溶液槽での延伸倍率を
２．５倍（該延伸処理により総延伸倍率は６倍となる）
にした以外は同様に行い偏光フィルムを得た。このと
き、第１ホウ酸水溶液処理後のＰＶＡ系偏光フィルム中
のホウ素原子含有量は３．７％であり、第２ホウ酸水溶
液処理後更に水洗処理を施した後のＰＶＡ系偏光フィル
ム中のホウ素原子含有量は４．８％であった。更に、実
施例１と同様に三酢酸セルロースフィルムを貼合し偏光
板を得た。該偏光板について、実施例１と同様に光学性
能及び寸法収縮率を測定した。

【００４１】実施例５ 実施例１において、平均重合度３３００、ケン化度９
９．５％のＰＶＡ系樹脂を用い、第１ホウ酸水溶液槽の
ホウ酸濃度を２５ｇ／ｌにした以外は同様に行い偏光フ
ィルムを得た。このとき、第１ホウ酸水溶液処理後のＰ
ＶＡ系偏光フィルム中のホウ素原子含有量は３．１％で
あり、第２ホウ酸水溶液処理後更に水洗処理を施した後
のＰＶＡ系偏光フィルム中のホウ素原子含有量は４．７
％であった。更に、実施例１と同様に三酢酸セルロース
フィルムを貼合し偏光板を得た。該偏光板について、実
施例１と同様に光学性能及び寸法収縮率を測定した。

【００４２】実施例６ 実施例１において、平均重合度４５００、ケン化度９
９．５％のＰＶＡ系樹脂を用い、第２ホウ酸水溶液槽の
ホウ酸濃度を５０ｇ／ｌにした以外は同様に行い偏光フ
ィルムを得た。このとき、第１ホウ酸水溶液処理後のＰ
ＶＡ系偏光フィルム中のホウ素原子含有量は３．９％で
あり、第２ホウ酸水溶液処理後更に水洗処理を施した後
のＰＶＡ系偏光フィルム中のホウ素原子含有量は４．３
％であった。更に、実施例１と同様に三酢酸セルロース
フィルムを貼合し偏光板を得た。該偏光板について、実
施例１と同様に光学性能及び寸法収縮率を測定した。

【００４３】実施例７ 実施例１において、平均重合度２６００、ケン化度９
９．５％のＰＶＡ系樹脂を用い、水洗処理で水量をＰＶ
Ａ系偏光フィルムの片面１ｍ²当たり５０ｌ（水温１０
℃）用いた以外は同様に行い偏光フィルムを得た。この
とき、第１ホウ酸水溶液処理後のＰＶＡ系偏光フィルム
中のホウ素原子含有量は３．９％であり、第２ホウ酸水
溶液処理後更に水洗処理を施した後のＰＶＡ系偏光フィ
ルム中のホウ素原子含有量は４．１％であった。更に、
実施例１と同様に三酢酸セルロースフィルムを貼合し偏
光板を得た。該偏光板について、実施例１と同様に光学
性能及び寸法収縮率を測定した。

【００４４】実施例８ 実施例１において、平均重合度３３００、ケン化度９
９．５％のＰＶＡ系樹脂を用い、水洗処理の水温を２０
℃にした以外は同様に行い偏光フィルムを得た。このと
き、第１ホウ酸水溶液処理後のＰＶＡ系偏光フィルム中
のホウ素原子含有量は３．９％であり、第２ホウ酸水溶
液処理後更に水洗処理を施した後のＰＶＡ系偏光フィル
ム中のホウ素原子含有量は４．１％であった。更に、実
施例１と同様に三酢酸セルロースフィルムを貼合し偏光
板を得た。該偏光板について、実施例１と同様に光学性
能及び寸法収縮率を測定した。

【００４５】実施例９ 実施例１において、平均重合度３３００、ケン化度９
９．５％のＰＶＡ系樹脂を用い、第１ホウ酸水溶液槽中
での延伸倍率を１．４倍（該延伸処理により総延伸倍率
は５倍となる）にした以外は同様に行い偏光フィルムを
得た。このとき、第１ホウ酸水溶液処理後のＰＶＡ系偏
光フィルム中のホウ素原子含有量は３．９％であり、第
２ホウ酸水溶液処理後更に水洗処理を施した後のＰＶＡ
系偏光フィルム中のホウ素原子含有量は４．７％であっ
た。更に、実施例１と同様に三酢酸セルロースフィルム
を貼合し偏光板を得た。該偏光板について、実施例１と
同様に光学性能及び寸法収縮率を測定した。

【００４６】比較例１ 実施例１において、平均重合度２６００、ケン化度９
９．５％のＰＶＡ系樹脂を用い、第２ホウ酸水溶液処理
を行わなかった以外は同様に行い偏光フィルムを得た。
このとき、第１ホウ酸水溶液処理後のＰＶＡ系偏光フィ
ルム中のホウ素原子含有量は３．６％であり、水洗処理
を施した後のＰＶＡ系偏光フィルム中のホウ素原子含有
量は３．３％であった。更に、実施例１と同様に三酢酸
セルロースフィルムを貼合し偏光板を得た。該偏光板に
ついて、実施例１と同様に光学性能及び寸法収縮率を測
定した。

【００４７】比較例２ 実施例１において、平均重合度２６００、ケン化度９
９．５％のＰＶＡ系樹脂を用い、第２ホウ酸水溶液槽の
ホウ酸濃度を４０ｇ／ｌにした以外は同様に行い偏光フ
ィルムを得た。このとき、第１ホウ酸水溶液処理後のＰ
ＶＡ系偏光フィルム中のホウ素原子含有量は３．６％で
あり、第２ホウ酸水溶液処理後更に水洗処理を施した後
のＰＶＡ系偏光フィルム中のホウ素原子含有量は３．８
％であった。更に、実施例１と同様に三酢酸セルロース
フィルムを貼合し偏光板を得た。該偏光板について、実
施例１と同様に光学性能及び寸法収縮率を測定した。

【００４８】比較例３ 実施例１において、平均重合度２６００、ケン化度９
９．５％のＰＶＡ系樹脂を用い、第２ホウ酸水溶液槽の
ホウ酸濃度を１００ｇ／ｌにした以外は同様に行い偏光
フィルムを得た。このとき、第１ホウ酸水溶液処理後の
ＰＶＡ系偏光フィルム中のホウ素原子含有量は３．６％
であり、第２ホウ酸水溶液処理後更に水洗処理を施した
後のＰＶＡ系偏光フィルム中のホウ素原子含有量は５．
２％であった。更に、実施例１と同様に三酢酸セルロー
スフィルムを貼合し偏光板を得た。該偏光板について、
実施例１と同様に光学性能及び寸法収縮率を測定した。

【００４９】比較例４ 実施例１において、平均重合度２６００、ケン化度９
９．５％のＰＶＡ系樹脂を用い、第１ホウ酸水溶液槽の
ホウ酸濃度を５０ｇ／ｌにした以外は同様に行い偏光フ
ィルムを得た。このとき、第１ホウ酸水溶液処理後のＰ
ＶＡ系偏光フィルム中のホウ素原子含有量は４．８％で
あり、第２ホウ酸水溶液処理更に水洗処理を施した後の
ＰＶＡ系偏光フィルム中のホウ素原子含有量は４．９％
であった。更に、実施例１と同様に三酢酸セルロースフ
ィルムを貼合し偏光板を得た。該偏光板について、実施
例１と同様に光学性能及び寸法収縮率を測定した。実施
例、比較例のそれぞれの測定結果を表１に示す。

【００５０】

【表１】 ４６０ｎｍ ４６０ｎｍ （Ａ） （Ｂ） コントラスト 偏光度 透過率 寸法収縮率 （％） （％） （Ａ）/（Ｂ） （％） （％） （％） 実施例１ 35.19 0.17 ２０７ ９９.５ ４４.２ １.２ 〃 ２ 35.21 0.16 ２２０ ９９.８ ４４.２ １.２ 〃 ３ 34.50 0.23 １５０ ９９.７ ４３.５ １.１ 〃 ４ 36.95 0.05 ７３９ ９９.９ ４４.５ １.２ 〃 ５ 36.75 0.15 ２４５ ９９.９ ４３.６ １.２ 〃 ６ 37.26 0.18 ２０７ ９９.８ ４４.３ １.１ 〃 ７ 35.91 0.21 １７１ ９９.８ ４３.７ １.１ 〃 ８ 36.00 0.24 １５０ ９９.７ ４４.５ １.１ 〃 ９ 34.31 0.21 １６３ ９８.０ ４３.５ １.１ 比較例１ 36.54 0.58 ６３ ９９.８ ４３.７ １.０ 〃 ２ 35.84 0.56 ６４ ９９.８ ４３.７ １.１ 〃 ３ 36.90 0.18 ２０５ ９９.８ ４４.２ １.６ 〃 ４ 35.14 0.14 ２５１ ９９.９ ４３.６ １.８ 注）（Ａ）：平行透過率（％） （Ｂ）：直交透過率（％）

【００５１】

【発明の効果】本発明の偏光フィルムは、上記の如き、
特定のホウ素化合物水溶液処理を２回以上行い、更に水
洗処理を施し、該ホウ素化合物水溶液処理によりそれぞ
れ特定量のホウ素原子含有量を有しているため、光学性
能に優れ、かつ耐熱時の寸法安定性に非常に優れた効果
を示し、更に高いコントラストを有する偏光板となるた
め、液晶表示装置や車両用途、各種工業計器類、家庭用
電化製品の表示等に有用で、視認性がよくなるといった
効果等も併せ持つものである。

─────────────────────────────────────────────────────

【手続補正書】

【提出日】平成１０年２月１２日

【手続補正１】

【補正対象書類名】明細書

【補正対象項目名】００２２

【補正方法】変更

【補正内容】

【００２２】保護フィルムとしては酢酸セルロース系フ
ィルム、アクリル系フィルム、ポリエステル系フィル
ム、ポリオレフィン系フィルム、ポリカーボネート系フ
ィルム、ポリエーテルエーテルケト系フィルム、ポリス
ルホン系フィルム等が挙げられるが、好適には二酢酸セ
ルロースフィルム、三酢酸セルロースフィルム等の酢酸
セルロース系フィルム用いられ、更に、必要に応じて、
上記樹脂フィルムにサリチル酸エステル系化合物、ベン
ゾフェノール系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、
シアノアクリレート系化合物、ニッケル錯塩系化合物等
の紫外線吸収剤を配合させることも可能である。又、該
保護フィルムの表面をアルカリでケン化処理したり、プ
ラズマ処理、グロー放電処理、コロナ放電処理、高周波
処理、電子線処理等を行うと、更に効果的である。又、
ＰＶＡ系偏光フィルムと保護フィルムとの接着に際して
は、ＰＶＡ系、ウレタン系、アクリル系等の接着剤が用
いられる。

Claims (6)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 ポリビニルアルコール系偏光フィルムを
   ホウ素化合物水溶液で処理した後、水洗処理を施す工程
   において、該ホウ素化合物水溶液処理を２回以上にわた
   って行い、第１のホウ素化合物処理でポリビニルアルコ
   ール系偏光フィルム中のホウ素原子含有量を４重量％未
   満とし、第２以降のホウ素化合物処理及び水洗処理を施
   した後のポリビニルアルコール系偏光フィルム中のホウ
   素原子含有量を４〜７重量％とすることを特徴とする偏
   光フィルムの製造方法。
2. 【請求項２】 総延伸倍率で４．５〜７．０倍に延伸さ
   れた偏光フィルムであることを特徴とする請求項１記載
   の偏光フィルムの製造方法。
3. 【請求項３】 第１のホウ素化合物処理における区間延
   伸倍率が１．６倍以上であることを特徴とする請求項１
   又は２記載の偏光フィルムの製造方法。
4. 【請求項４】 水洗処理において、水量がポリビニルア
   ルコール系偏光フィルムの片面１ｍ²当たり３０ｌ以下
   であることを特徴とする請求項１記載の偏光フィルムの
   製造方法。
5. 【請求項５】 水洗処理において、水温が１０℃以下で
   あることを特徴とする請求項１又は４記載の偏光フィル
   ムの製造方法。
6. 【請求項６】 ポリビニルアルコール系偏光フィルムが
   重合度２０００〜１００００のポリビニルアルコール系
   樹脂からなることを特徴とする請求項１〜５いずれか記
   載の偏光フィルムの製造方法。