JPH10135121A - 投影露光装置 - Google Patents

投影露光装置

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JPH10135121A
JPH10135121A JP8303683A JP30368396A JPH10135121A JP H10135121 A JPH10135121 A JP H10135121A JP 8303683 A JP8303683 A JP 8303683A JP 30368396 A JP30368396 A JP 30368396A JP H10135121 A JPH10135121 A JP H10135121A
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JP
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holder
mask holder
projection exposure
pattern
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JP8303683A
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English (en)
Inventor
Masahiko Yasuda
雅彦 安田
Shinji Mizutani
真士 水谷
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Nikon Corp
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Nikon Corp
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Publication date
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  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 マスクの自重によるたわみや熱的な変形を軽
減してマスクパターンの投影を良好に行う。 【解決手段】 マスク10は、同じ熱膨張率の材料で一
定の厚みに形成されたマスクホルダ12に吸引装置14
によって吸着固定される。マスクホルダ12の吸着面が
平面となっているため、マスク10は、吸着用溝を除い
たほぼ全面でマスクホルダ12の面と接触して自重によ
るたわみが軽減される。また、光源18により露光光が
照射されてマスク10の温度が上昇しても、その熱はマ
スクホルダ12に伝達されてマスクホルダ12の温度が
上昇する。両者は同じ熱膨張率のため、マスク10の熱
はマスクホルダ12に良好に伝達され、温度変化に伴う
マスク10とマスクホルダ12の熱的な変形が同程度と
なってマスク10の熱的な歪みも軽減される。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】この発明は、半導体集積回路
や液晶表示素子などの製造工程において使用される投影
露光装置にかかり、更に具体的には、そのマスク(もし
くはレチクル)の保持技術に関するものである。
【0002】
【背景技術と発明が解決しようとする課題】従来の投影
露光装置では、マスクを保持する台であるマスクホルダ
によってマスク周辺部が下から支持されている。図6
(A)にはその様子が示されており、マスク100は、
周辺部がマスクホルダ102によって支持されている。
マスクホルダ102とマスク100との接触面には、吸
引用の孔もしくは溝が設けられており、これを真空源に
よって吸引することで、マスク100の位置ずれが抑制
される構成となっている。
【0003】しかしながら、このようなマスク保持手法
では、マスクは同図(A)に示すようにマスク100が
自重でたわみ、マスク100上に形成されているパタ−
ンの横ずれや像面の湾曲などが生じるという不都合があ
る。更に、露光時には露光光がマスク100に照射され
るが、このとき照射熱によってマスク100の温度が上
昇し、この照射熱によってマスク100が膨張する。と
ころが、マスク100の周縁がマスクホルダ102に固
定されているため、同図(B)に示すようにマスク10
0に歪みが更に生じ、パタ−ンが歪んでディスト−ショ
ンが変化したり、像面の湾曲が更に悪化してパターン面
内における焦点深度が低下するという不都合もある。
【0004】この発明は、以上の点に着目したもので、
マスクの自重によるたわみによって生じるパタ−ンの横
ずれや像面の湾曲,熱的なマスクの変形によって生じる
ディスト−ションや像面湾曲などを軽減して、マスクパ
ターンの投影を良好に行うことをその目的とするもので
ある。
【0005】
【課題を解決するための手段】前記目的を達成するた
め、この発明の投影露光装置は、マスクホルダに保持さ
れたマスクに形成されたパターンの像を、露光対象に投
影する際に、前記マスクホルダを、前記マスクと近似し
た熱膨張率の材料によって形成するとともに、前記マス
クの表裏いずれかの面の少なくとも一部の領域に面接触
する形状としたことを特徴とする。
【0006】主要な態様によれば、前記マスクホルダ
は、前記マスクと面接触する部分で前記マスクを吸引し
て保持する吸引手段を備えたことを特徴とする。他の態
様によれば、前記マスクホルダは、前記マスクに照明光
を照射するための照明光学系又は前記マスクのパターン
像を前記露光対象上に投影するための投影露光系の一部
を兼用したことを特徴とする。
【0007】本発明によれば、熱膨張などによってマス
クが変形すればマスクホルダも対応して変形するため、
熱的な変形が軽減される。また、マスクホルダが、マス
クの表裏いずれかの面の少なくとも一部の領域に面接触
する形状となっているので、自重による変形も軽減され
る。このため、マスクパターンの投影を良好に行うこと
ができる。
【0008】この発明の前記及び他の目的,特徴,利点
は、以下の詳細な説明及び添付図面から明瞭になろう。
【0009】
【発明の実施の形態】以下、発明の実施の形態につい
て、実施例を参照しながら詳細に説明する。
【実施例1】最初に、図1及び図2を参照しながら実施
例1について説明する。図1には、実施例1にかかる投
影露光装置の主要部が示されている。同図において、マ
スク10は、本実施例にかかるマスクホルダ12によっ
て保持されている。このマスクホルダ12には、真空用
の吸引装置14がパイプ16によって接続されている。
マスク10の上方には露光用の光を出力する光源18が
設けられており、この光源18とマスク10との間に
は、照明光学系20が設けられている。マスク10の露
光光透過側には投影光学系22を挟んで露光対象である
ウエハ24が配置されている。
【0010】本実施例における投影露光の動作は、一般
的な投影露光装置と同様である。すなわち、光源18か
ら射出された露光光は、照明光学系20を通じてマスク
10に照射される。そして、マスク10に描写されてい
るパタ−ンは、露光光により、投影光学系22を通じて
ウエハ24上に投影される。ところで、本実施例では、
マスクホルダ12がマスク10と同一の物性,特に同一
の熱膨張係数の素材によって形成されている。また、そ
の形状,特に厚みは自重によるたわみを抑えるように十
分な厚さとなっており、上下面は平行平面として仕上げ
られている。
【0011】図2(A)にはマスクホルダ12が拡大し
て示されており、同図の#2−#2線に沿って矢印方向
に見た端面が図2(B)に示されている。これらの図の
ように、マスクホルダ12は、全体が円柱ないしは肉厚
の円板の形状となっており、マスク10が点線で示すよ
うに位置する上面12Aと下面12Bは、平行平面とな
っている。上面12Aには、マスク10の位置に対応し
て溝12Cが四角形状に形成されている。溝12Cは、
マスクホルダ12内部に形成された通気路12Dを介し
て、マスクホルダ12の側面に形成された吸引口12E
に接続している。この吸引口12Eが、上述したパイプ
16を介して吸引装置14に接続されている。更に、本
実施例では、マスクホルダ12がマスク10と同一の材
料によって形成されている。例えば、マスク10及びマ
スクホルダ12のいずれもが石英によって形成される。
【0012】次に、本実施例の作用を説明する。マスク
10は、図1あるいは図2に示すように、マスクホルダ
12の上面12A上に載せられる。溝12Cは、マスク
12によって全体が覆われる。上述したように、マスク
ホルダ12の上面12Aは平面となっている。このた
め、マスク10は、溝12Cの部分を除いた部分がマス
クホルダ12の上面12Aと接触するようになる。この
状態でマスクホルダ12の溝12Cが吸引装置14によ
って真空に引かれると(図2(B)矢印F参照)、マス
ク10はマスクホルダ12上に吸着,固定される。これ
により、マスク10の中央部分のパターン領域は、全体
がマスクホルダ12の上面12Aに密着するようにな
る。他方、マスクホルダ12は、上述したように自重に
よるたわみが抑えられた厚みとなっている。従って、図
6(A)に示したマスク10の自重によるたわみは、マ
スクホルダ12によって良好に軽減されることとなる。
【0013】次に、以上のようにマスク10をマスクホ
ルダ12に固定し、アライメントなど所定の工程の後に
露光が開始される。すると、露光光の照射によってマス
ク10の温度が上昇するようになる。更に、この温度上
昇に伴って、マスク10の熱がマスクホルダ12に伝達
され、マスクホルダ12の温度も上昇する。ここで、本
実施例では、上述したようにマスク10とマスクホルダ
12が同一の材料,例えば石英によって形成されてい
る。すなわち、マスク10とマスクホルダ12とは、同
一の熱膨張係数となっている。このため、マスク10の
熱は、マスクホルダ12との密着部分を通じて良好にマ
スクホルダ12に伝達され、両者の温度差は小さい。ま
た、温度変化に伴うマスク10とマスクホルダ12の熱
的な変形も同程度となり、マスク10とマスクホルダ1
2は一緒に伸縮する。従って、図6(B)に示したよう
なマスク10の熱的な歪みも良好に軽減されることとな
る。
【0014】なお、露光光は、マスク10のパターン部
分及びマスクホルダ12の中央部分を透過する。しか
し、マスクホルダ12の上面12A,下面12Bが上述
したように平行平面となっているため、マスクホルダ1
2の存在によって露光動作に悪影響が生ずる恐れはな
い。
【0015】このように、実施例1によれば、マスクの
自重によるたわみや熱的な変形が軽減される。このた
め、自重たわみによるパタ−ンの横ずれや像面湾曲,熱
的変形によるディスト−ションや像面湾曲などが軽減さ
れ、マスクパタ−ンの正確で安定した像を得ることがで
きる。
【0016】
【実施例2】次に、図3を参照しながら実施例2につい
て説明する。前記実施例と対応する構成部分には同一の
符号を用いる(以下の実施例も同様)。実施例1ではマ
スクがマスクホルダの上面側に吸着固定されているが、
この実施例2では下面側に吸着固定されている。
【0017】図3において、本実施例におけるマスクホ
ルダ30は、上述した実施例1のマスクホルダ12の上
下を逆にした構成となっており、下面30A側に吸引用
の溝(図示せず)が形成されている。マスク10は、下
側,すなわち投影光学系22側からマスクホルダ30に
吸引装置14による吸引によって吸着,固定される。更
に、本実施例では、マスクホルダ30が上側,すなわち
照明光学系20側となっているので、マスク10のパタ
ーン面に保護用のペリクル32が装着されている。
【0018】本実施例でも、マスクホルダ30は、マス
ク10と同一の熱膨張率の材料によって形成されてい
る。従って、前記実施例1と同様に熱的な変形に伴うデ
ィスト−ションや像面湾曲などは良好に軽減される。な
お、マスク10の周縁がマスクホルダ30に真空吸着さ
れているため、マスク10のパターン面とマスクホルダ
30の接触部への気体の侵入は妨げられることとなる。
従って、マスク10の自重によるたわみも軽減される。
【0019】
【実施例3】次に、図4を参照しながら実施例3につい
て説明する。上述したように、マスクホルダはマスクと
同一の材料,例えば石英によって形成されている。従っ
て、その形状によってはレンズなどの光学素子として機
能させることができる。そこで、実施例3では、マスク
ホルダが照明光学系の一部を兼ねた構成となっている。
【0020】図4において、マスクホルダ40の下面4
0A側は前記実施例2と同様の構成となっており、ペリ
クル32が装着されたマスク10が吸着されている。こ
れに対し、マスクホルダ40の上面40B側は、マスク
ホルダ40がレンズを構成する曲面形状となっており、
このレンズは照明光学系42の一部を兼ねている。この
ような構成とすることで、照明光学系42の構成を簡略
化することができる。更には、実施例1,2では、マス
クホルダとして光学部材を1枚増やす必要があるが、実
施例3では、マスクホルダが照明光学系を兼ねることに
より、構成枚数を増やさずにマスクを保持することも可
能となる。
【0021】
【実施例4】次に、図5を参照しながら実施例4につい
て説明する。上述した実施例は、いずれもマスクのパタ
ーン面の全体がマスクホルダに接触する構成となってい
る。しかし、パターン面の一部がマスクホルダと接触だ
けでも、自重によるたわみを軽減することができる。
【0022】まず、図5(A)に示す実施例は、同図の
#5−#5線に沿って矢印方向に見た端面を同図(B)
に示すように、マスクホルダ50の中央部分が四角柱状
に貫通して貫通部50Aとなっている。真空吸着用の溝
50Bは貫通部50Aの周囲に形成されており、通気路
50Cを介してマスクホルダ側面に形成された吸引口5
0Dに接続している。なお、マスクホルダ50がマスク
10と同一の熱膨張率の材料によって形成されている点
は、上述した実施例と同様である。
【0023】この実施例では、マスク10は、そのパタ
ーン面の一部がマスクホルダ50の上面50Eと接触
し、前記実施例のようにパターン面全面が接触するわけ
ではない。従って、多少は自重によるたわみが生ずる
が、背景技術と比較すれば、その程度は大幅に軽減され
る。また、材料が同一の熱膨張率となっているので、マ
スク10の熱はマスクホルダ50側に伝達される。この
ため、前記実施例と同様に、熱的な変形に基づくディス
ト−ションや像面湾曲なども良好に軽減される。
【0024】図5(C)には、他の変形例が示されてい
る。この例では、マスクホルダ52の貫通部52Aが円
柱状となっている。また、貫通部52Aの周縁に形成さ
れている真空吸着用の溝52Bが、前記実施例と異なっ
て不連続となっている。なお、マスクホルダ52の内部
では各溝52Bは連通しており、いずれも吸引口52C
に接続している。同様に、マスクホルダ52はマスク1
0と同一の熱膨張率の材料によって形成されている。
【0025】
【他の実施例】この発明には数多くの実施の形態があ
り、以上の開示に基づいて多様に改変することが可能で
ある。例えば、次のようなものも含まれる。 (1)前記実施例では、マスクホルダの素材としてマス
クと同様の素材,例えば石英を使用したが、マスクと同
一の物性である必要はなく、近似した物性の素材を用い
るようにしてもよい。特に熱膨張率が近似した材料を用
いるとよい。
【0026】(2)前記実施例3では、図4に示したよ
うにマスクホルダが照明光学系の一部を兼用した構成と
したが、マスクホルダを上下逆の配置としてマスクホル
ダが投影光学系の一部を兼用する構成としてもよい。そ
の他、図5に示した実施例を上下逆とするなど、同様の
変形が可能である。 (3)形状,寸法も、何ら前記実施例に限定されるもの
ではない。例えば、前記実施例のマスクホルダは、いず
れも円柱状となっているが、四角柱状など他の形状とし
てよい。真空吸着用の溝の形状や配置も同様に適宜設定
してよい。
【0027】
【発明の効果】以上のように本発明によれば、次のよう
な効果がある。 (1)マスクホルダをマスクと近似した熱膨張率の材料
によって形成することとしたので、マスクの自重による
たわみによって生じるパタ−ンの横ずれや像面の湾曲を
軽減して、良好にマスクパターンの投影を行うことがで
きる。 (2)マスクの表裏いずれかの面の少なくとも一部の領
域に面接触するホルダ形状としたので、熱的なマスクの
変形によって生じるディスト−ションや像面湾曲などを
軽減して、マスクパターンの投影を良好に行うことがで
きる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施例1の投影露光装置を示す図であ
る。
【図2】実施例1のマスクホルダ部分を拡大して示す図
である。(A)は斜視図、(B)は(A)の#2−#2線
に沿って矢印方向に見た端面図である。
【図3】本発明の実施例2の投影露光装置を示す図であ
る。
【図4】本発明の実施例3の投影露光装置を示す図であ
る。
【図5】本発明の実施例4の投影露光装置を示す図であ
る。(A)は斜視図,(B)は(A)の#5−#5線に沿
って矢印方向に見た端面図,(C)は斜視図である。
【図6】背景技術を示す図である。(A)は自重による
マスクのたわみを示す図、(B)は熱膨張によるマスク
の歪みを示す図である。
【符号の説明】
10…マスク 12,30,40,50,52…マスクホルダ 12A,40B…上面 12B,30A,40A…下面 12C,50B,52B…溝 12D,,50C…通気路 12E,50D,52C…吸引口 14…吸引装置 16…パイプ 18…光源 20,42…照明光学系 22…投影光学系 24…ウエハ 32…ペクリル 50A,52A…貫通部

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 マスクがマスクホルダに保持されてお
    り、このマスクに形成されたパターンの像を露光対象に
    投影する投影露光装置において、 前記マスクホルダを、前記マスクと近似した熱膨張率の
    材料によって形成するとともに、前記マスクの表裏いず
    れかの面の少なくとも一部の領域に面接触する形状とし
    たことを特徴とする投影露光装置。
  2. 【請求項2】 前記マスクホルダは、前記マスクと面接
    触する部分で前記マスクを吸引して保持する吸引手段を
    備えたことを特徴とする請求項1記載の投影露光装置。
  3. 【請求項3】 前記マスクホルダが、前記マスクに照明
    光を照射するための照明光学系又は前記マスクのパター
    ン像を前記露光対象上に投影するための投影露光系の一
    部を兼用したことを特徴とする請求項1又は2記載の投
    影露光装置。
JP8303683A 1996-03-22 1996-10-29 投影露光装置 Pending JPH10135121A (ja)

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JP8303683A JPH10135121A (ja) 1996-10-29 1996-10-29 投影露光装置
US10/377,737 US20030179354A1 (en) 1996-03-22 2003-03-04 Mask-holding apparatus for a light exposure apparatus and related scanning-exposure method
US10/429,868 US6888621B2 (en) 1996-03-22 2003-05-06 Mask-holding apparatus for a light exposure apparatus and related scanning-exposure method

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