JPH10135120A - 投影露光装置 - Google Patents
投影露光装置Info
- Publication number
- JPH10135120A JPH10135120A JP8303682A JP30368296A JPH10135120A JP H10135120 A JPH10135120 A JP H10135120A JP 8303682 A JP8303682 A JP 8303682A JP 30368296 A JP30368296 A JP 30368296A JP H10135120 A JPH10135120 A JP H10135120A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- mask
- holder
- air
- exposure apparatus
- projection
- Prior art date
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- Pending
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/708—Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
- G03F7/70858—Environment aspects, e.g. pressure of beam-path gas, temperature
- G03F7/70866—Environment aspects, e.g. pressure of beam-path gas, temperature of mask or workpiece
- G03F7/70875—Temperature, e.g. temperature control of masks or workpieces via control of stage temperature
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- Health & Medical Sciences (AREA)
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- Engineering & Computer Science (AREA)
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- Epidemiology (AREA)
- Public Health (AREA)
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- General Physics & Mathematics (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 マスクホルダの熱変形に伴うマスクの歪みを
抑制して、パターンの投影を良好に行う。 【解決手段】 マスク１００は、マスクホルダ１０の保
持枠５０，５２の溝５３に収容される。一定温度，一定
流量の空気が、矢印Ｆで示すように空調装置１２から供
給されると、この空気は、パイプ１４，吸入口５８，通
気路５６をそれぞれ順に通って、吐出口５４からマスク
１００に向かって吐出される。これによって、マスク１
００の端部が三方向から押され、保持枠５０，５２に対
して非接触に保持されるようになる。このため、マスク
１００の熱は、マスクホルダ１０に伝達されないように
なる。吐出口５４から吐出された空気は、マスク１００
を冷却し、マスク１００の熱膨張による倍率変化も軽減
される。
抑制して、パターンの投影を良好に行う。 【解決手段】 マスク１００は、マスクホルダ１０の保
持枠５０，５２の溝５３に収容される。一定温度，一定
流量の空気が、矢印Ｆで示すように空調装置１２から供
給されると、この空気は、パイプ１４，吸入口５８，通
気路５６をそれぞれ順に通って、吐出口５４からマスク
１００に向かって吐出される。これによって、マスク１
００の端部が三方向から押され、保持枠５０，５２に対
して非接触に保持されるようになる。このため、マスク
１００の熱は、マスクホルダ１０に伝達されないように
なる。吐出口５４から吐出された空気は、マスク１００
を冷却し、マスク１００の熱膨張による倍率変化も軽減
される。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】この発明は、半導体集積回路
や液晶表示素子などの製造工程において使用される投影
露光装置にかかり、更に具体的には、そのマスク（もし
くはレチクル）の保持技術に関するものである。
や液晶表示素子などの製造工程において使用される投影
露光装置にかかり、更に具体的には、そのマスク（もし
くはレチクル）の保持技術に関するものである。
【０００２】
【背景技術と発明が解決しようとする課題】従来の投影
露光装置では、マスクを保持する台であるマスクホルダ
によってマスク周辺部が下から支持されている。図４
（A）にはその様子が示されており、マスク１００は、
周辺部がマスクホルダ１０２によって支持されている。
マスクホルダ１０２とマスク１００との接触面には、吸
引用の孔もしくは溝が設けられており、これを真空源に
よって吸引することで、マスク１００の位置ずれが抑制
される構成となっている。
露光装置では、マスクを保持する台であるマスクホルダ
によってマスク周辺部が下から支持されている。図４
（A）にはその様子が示されており、マスク１００は、
周辺部がマスクホルダ１０２によって支持されている。
マスクホルダ１０２とマスク１００との接触面には、吸
引用の孔もしくは溝が設けられており、これを真空源に
よって吸引することで、マスク１００の位置ずれが抑制
される構成となっている。
【０００３】ところで、露光時には露光光がマスク１０
０に照射されるが、このとき照射熱によってマスク１０
０の温度が上昇する。この熱は、接触部分を介してマス
ク１００からマスクホルダ１０２に伝達される。する
と、図４（B）に示すようにマスクホルダ１０２が熱的
に変形するようになる。なお、同図中点線１０２Ａは変
形前の状態を示す。
０に照射されるが、このとき照射熱によってマスク１０
０の温度が上昇する。この熱は、接触部分を介してマス
ク１００からマスクホルダ１０２に伝達される。する
と、図４（B）に示すようにマスクホルダ１０２が熱的
に変形するようになる。なお、同図中点線１０２Ａは変
形前の状態を示す。
【０００４】このようにしてマスクホルダ１０２が熱変
形すると、マスク１００に応力が加わって歪みが生ず
る。すると、マスク１００のパタ−ンが変形して投影パ
ターンのディスト−ションが変化したり、あるいはマス
ク１００の位置がずれて投影パターンにオフセットやロ
−テ−ションが生ずる可能性があるという不都合があ
る。
形すると、マスク１００に応力が加わって歪みが生ず
る。すると、マスク１００のパタ−ンが変形して投影パ
ターンのディスト−ションが変化したり、あるいはマス
ク１００の位置がずれて投影パターンにオフセットやロ
−テ−ションが生ずる可能性があるという不都合があ
る。
【０００５】この発明は、以上の点に着目したもので、
マスクホルダの熱変形に伴うマスクの歪みを抑制して、
パターンの投影を良好に行うことができる投影露光装置
を提供することを、その目的とするものである。
マスクホルダの熱変形に伴うマスクの歪みを抑制して、
パターンの投影を良好に行うことができる投影露光装置
を提供することを、その目的とするものである。
【０００６】
【課題を解決するための手段】前記目的を達成するた
め、この発明は、マスクに形成されたパターンを露光対
象に投影する投影露光装置において、前記マスクを、非
接触で一定の姿勢に保持する保持手段を備えたことを特
徴とする。主要な形態によれば、前記保持手段は、マス
クの端部を三方向から囲む形状であって、気体を吐出し
てマスクを押す複数の通気孔が形成されたホルダ：この
ホルダの前記通気孔に気体を供給する気体供給手段；を
含む。他の形態によれば、前記気体供給手段は、一定温
度，一定流量の空気を供給することを特徴とする。
め、この発明は、マスクに形成されたパターンを露光対
象に投影する投影露光装置において、前記マスクを、非
接触で一定の姿勢に保持する保持手段を備えたことを特
徴とする。主要な形態によれば、前記保持手段は、マス
クの端部を三方向から囲む形状であって、気体を吐出し
てマスクを押す複数の通気孔が形成されたホルダ：この
ホルダの前記通気孔に気体を供給する気体供給手段；を
含む。他の形態によれば、前記気体供給手段は、一定温
度，一定流量の空気を供給することを特徴とする。
【０００７】本発明によれば、マスクが非接触で保持さ
れるため、マスクからホルダへの熱の流れが絶たれ、ホ
ルダの熱変形が低減される。また、ホルダの熱変形に起
因するマスクの歪みも抑制される。
れるため、マスクからホルダへの熱の流れが絶たれ、ホ
ルダの熱変形が低減される。また、ホルダの熱変形に起
因するマスクの歪みも抑制される。
【０００８】この発明の前記及び他の目的，特徴，利点
は、以下の詳細な説明及び添付図面から明瞭になろう。
は、以下の詳細な説明及び添付図面から明瞭になろう。
【０００９】
【発明の実施の形態】以下、発明の実施の形態について
実施例を参照しながら詳細に説明する。図１には、本実
施例にかかる投影露光装置の主要部が示されている。同
図において、マスク１００は、本実施例にかかるマスク
ホルダ１０によって保持されている。このマスクホルダ
１０には、空調装置１２がパイプ１４によって接続され
ている。マスク１００の上方には露光用の光を出力する
光源１６が設けられており、この光源１６とマスク１０
０との間には、照明光学系１８が設けられている。マス
ク１００の露光光透過側には投影光学系２０を挟んで露
光対象であるウエハ２２が配置されている。
実施例を参照しながら詳細に説明する。図１には、本実
施例にかかる投影露光装置の主要部が示されている。同
図において、マスク１００は、本実施例にかかるマスク
ホルダ１０によって保持されている。このマスクホルダ
１０には、空調装置１２がパイプ１４によって接続され
ている。マスク１００の上方には露光用の光を出力する
光源１６が設けられており、この光源１６とマスク１０
０との間には、照明光学系１８が設けられている。マス
ク１００の露光光透過側には投影光学系２０を挟んで露
光対象であるウエハ２２が配置されている。
【００１０】本実施例における投影露光の動作は、一般
的な投影露光装置と同様である。すなわち、光源１６か
ら射出された露光光は、照明光学系１８を通じてマスク
１００に照射される。そして、マスク１００に描写され
たパタ−ンは、露光光により、投影光学系２０を通じて
ウエハ２２上に投影される。
的な投影露光装置と同様である。すなわち、光源１６か
ら射出された露光光は、照明光学系１８を通じてマスク
１００に照射される。そして、マスク１００に描写され
たパタ−ンは、露光光により、投影光学系２０を通じて
ウエハ２２上に投影される。
【００１１】次に、図２及び図３を参照しながら、本実
施例におけるマスク保持手段について詳細に説明する。
図２には、マスクホルダ１０の分解斜視図が示されてお
り、図３には図２の＃３−＃３線に沿って矢印方向に見
た断面が示されている。これらの図において、マスクホ
ルダ１０は、マスク１００の周辺をぐるりと囲むように
形成されており、保持枠５０，５２によって分割構成さ
れている。これら保持枠５０，５２には溝５３が形成さ
れており、その断面は、図３に示すように略コ字形状と
なっている。すなわち、これら保持枠５０，５２によっ
て、マスク１００の端部を上下及び端面の三方向から囲
むような形状となっている。
施例におけるマスク保持手段について詳細に説明する。
図２には、マスクホルダ１０の分解斜視図が示されてお
り、図３には図２の＃３−＃３線に沿って矢印方向に見
た断面が示されている。これらの図において、マスクホ
ルダ１０は、マスク１００の周辺をぐるりと囲むように
形成されており、保持枠５０，５２によって分割構成さ
れている。これら保持枠５０，５２には溝５３が形成さ
れており、その断面は、図３に示すように略コ字形状と
なっている。すなわち、これら保持枠５０，５２によっ
て、マスク１００の端部を上下及び端面の三方向から囲
むような形状となっている。
【００１２】更に、保持枠５０，５２には、空気を吐出
してマスク１００を押すための通気孔が形成されてい
る。詳述すると、保持枠５０，５２の溝５３の各面に
は、空気を供給吐出するための微細な吐出口５４が複数
対称に設けられている。これらの吐出口５４は、通気路
５６によって保持枠５２，５４の内部で全て通じてお
り、更に吸入口５８（図１には一方のみ図示）に連通し
ている。これら吐出口５４，通気路５６，吸入口５８に
よって通気孔が形成されている。
してマスク１００を押すための通気孔が形成されてい
る。詳述すると、保持枠５０，５２の溝５３の各面に
は、空気を供給吐出するための微細な吐出口５４が複数
対称に設けられている。これらの吐出口５４は、通気路
５６によって保持枠５２，５４の内部で全て通じてお
り、更に吸入口５８（図１には一方のみ図示）に連通し
ている。これら吐出口５４，通気路５６，吸入口５８に
よって通気孔が形成されている。
【００１３】前記吸入口５８には、パイプ１４によって
空調装置１２が接続されている。空調装置１２は、一定
温度，一定流量の空気を供給する機能を有しており、こ
の空気がパイプ１４を通じてマスクホルダ１０に供給さ
れるようになっている。
空調装置１２が接続されている。空調装置１２は、一定
温度，一定流量の空気を供給する機能を有しており、こ
の空気がパイプ１４を通じてマスクホルダ１０に供給さ
れるようになっている。
【００１４】次に、以上のように構成されたマスク保持
手段の作用を説明する。マスク１００は、マスクホルダ
１０の保持枠５０，５２の溝５３に収容される。このと
き、マスク１００の端部と溝５３との間に多少隙間が空
くような配置とする。この状態で、一定温度，一定流量
の空気が、図２に矢印Ｆで示すように空調装置１２から
供給される。すると、この空気は、パイプ１４，吸入口
５８，通気路５６をそれぞれ順に通じて、吐出口５４か
らマスク１００に向かって吐出される。吐出口５４は、
上述したように溝５３の各面に対称に設けられている。
このため、マスク１００の端部が三方向から対称に押圧
力を受けるようになり、マスク１００が溝５３の各面か
ら押されるようになる。このため、マスク１００は、保
持枠５０，５２に対して非接触に保持されるようにな
る。また、吐出口５４から吐出される空気は、空調装置
１２によって一定温度，一定流量となっているため、マ
スク１００は、一定の姿勢で保持されるようになる。
手段の作用を説明する。マスク１００は、マスクホルダ
１０の保持枠５０，５２の溝５３に収容される。このと
き、マスク１００の端部と溝５３との間に多少隙間が空
くような配置とする。この状態で、一定温度，一定流量
の空気が、図２に矢印Ｆで示すように空調装置１２から
供給される。すると、この空気は、パイプ１４，吸入口
５８，通気路５６をそれぞれ順に通じて、吐出口５４か
らマスク１００に向かって吐出される。吐出口５４は、
上述したように溝５３の各面に対称に設けられている。
このため、マスク１００の端部が三方向から対称に押圧
力を受けるようになり、マスク１００が溝５３の各面か
ら押されるようになる。このため、マスク１００は、保
持枠５０，５２に対して非接触に保持されるようにな
る。また、吐出口５４から吐出される空気は、空調装置
１２によって一定温度，一定流量となっているため、マ
スク１００は、一定の姿勢で保持されるようになる。
【００１５】このように、本実施例によれば、マスク１
００は非接触でマスクホルダ１０に保持される。このた
め、露光時にマスク１００が発熱しても、その熱がマス
クホルダ１０には伝達されない。従って、マスクホルダ
１０の熱変形によって生ずるマスク１００の歪に基づく
ディスト−ションの変化や、マスク１００の位置ずれに
よって生ずるオフセットやロ−テ−ションが、いずれも
良好に抑制され、マスクパタ−ンの正確で安定した投影
像を得ることができる。また、一定温度の空気によって
マスク１００が冷却され、マスク１００の熱膨張による
倍率変化が軽減されるという効果も期待できる。
００は非接触でマスクホルダ１０に保持される。このた
め、露光時にマスク１００が発熱しても、その熱がマス
クホルダ１０には伝達されない。従って、マスクホルダ
１０の熱変形によって生ずるマスク１００の歪に基づく
ディスト−ションの変化や、マスク１００の位置ずれに
よって生ずるオフセットやロ−テ−ションが、いずれも
良好に抑制され、マスクパタ−ンの正確で安定した投影
像を得ることができる。また、一定温度の空気によって
マスク１００が冷却され、マスク１００の熱膨張による
倍率変化が軽減されるという効果も期待できる。
【００１６】なお、この発明には数多くの実施の形態が
あり、以上の開示に基づいて多様に改変することが可能
である。例えば、次のようなものも含まれる。 （1）前記実施例は、本発明を集積回路製造用の露光装
置に適用したものであるが、他の露光装置，例えば液晶
表示素子用の露光装置，マスクをスキャン露光するタイ
プの露光装置にももちろん適用可能である。 （2）前記実施例では空気を利用したが、他の気体を用
いるようにしてもよい。また、磁気的にマスクを非接触
で保持するようにしてもよい。例えば、反発する極性の
磁石をマスク側とホルダ側にそれぞれ対向して設けるよ
うにすることで、マスクを非接触に保持することができ
る。その他、静電気力を利用して静電的に保持すること
も可能である。
あり、以上の開示に基づいて多様に改変することが可能
である。例えば、次のようなものも含まれる。 （1）前記実施例は、本発明を集積回路製造用の露光装
置に適用したものであるが、他の露光装置，例えば液晶
表示素子用の露光装置，マスクをスキャン露光するタイ
プの露光装置にももちろん適用可能である。 （2）前記実施例では空気を利用したが、他の気体を用
いるようにしてもよい。また、磁気的にマスクを非接触
で保持するようにしてもよい。例えば、反発する極性の
磁石をマスク側とホルダ側にそれぞれ対向して設けるよ
うにすることで、マスクを非接触に保持することができ
る。その他、静電気力を利用して静電的に保持すること
も可能である。
【００１７】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば次
のような効果がある。 （1）マスクが非接触で保持されるため、露光時におけ
るマスクの熱がホルダに伝達されず、ホルダの熱変形が
低減される。このため、ホルダの熱変形に伴うマスクの
歪みが抑制され、パターンの投影を良好に行うことがで
きる。 （2）気体を利用したときは、気体によってマスクが冷
却され、マスクの熱膨張による倍率変化が軽減される。
のような効果がある。 （1）マスクが非接触で保持されるため、露光時におけ
るマスクの熱がホルダに伝達されず、ホルダの熱変形が
低減される。このため、ホルダの熱変形に伴うマスクの
歪みが抑制され、パターンの投影を良好に行うことがで
きる。 （2）気体を利用したときは、気体によってマスクが冷
却され、マスクの熱膨張による倍率変化が軽減される。
【図１】本発明の実施例の投影露光装置の主要部を示す
図である。
図である。
【図２】マスクホルダを示す分解斜視図である。
【図３】図２の＃３−＃３線に沿って矢印方向に見た断
面図である。
面図である。
【図４】背景技術による熱変形の様子を示す断面図であ
る。
る。
１０…マスクホルダ １２…空調装置 １４…パイプ １６…光源 １８…照明光学系 ２０…投影光学系 ２２…ウエハ ５０，５２…保持枠 ５３…溝 ５４…吐出口 ５６…通気路 ５８…吸入口 １００…マスク
Claims (3)
- 【請求項１】 マスクに形成されたパターンを露光対象
に投影する投影露光装置において、 前記マスクを、非接触で一定の姿勢に保持する保持手段
を備えたことを特徴とする投影露光装置。 - 【請求項２】 前記保持手段は、 マスクの端部を三方向から囲む形状であって、気体を吐
出してマスクを押す複数の通気孔が形成されたホルダ：
このホルダの前記通気孔に気体を供給する気体供給手
段；を含むことを特徴とする請求項１記載の投影露光装
置。 - 【請求項３】 前記気体供給手段は、一定温度，一定流
量の空気を供給することを特徴とする請求項２記載の投
影露光装置。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8303682A JPH10135120A (ja) | 1996-10-29 | 1996-10-29 | 投影露光装置 |
| US10/377,737 US20030179354A1 (en) | 1996-03-22 | 2003-03-04 | Mask-holding apparatus for a light exposure apparatus and related scanning-exposure method |
| US10/429,868 US6888621B2 (en) | 1996-03-22 | 2003-05-06 | Mask-holding apparatus for a light exposure apparatus and related scanning-exposure method |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8303682A JPH10135120A (ja) | 1996-10-29 | 1996-10-29 | 投影露光装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10135120A true JPH10135120A (ja) | 1998-05-22 |
Family
ID=17923976
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8303682A Pending JPH10135120A (ja) | 1996-03-22 | 1996-10-29 | 投影露光装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH10135120A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100901510B1 (ko) * | 2007-11-07 | 2009-06-08 | 삼성전기주식회사 | 기판 제조 장치 및 그 방법 |
| JP2014036023A (ja) * | 2012-08-07 | 2014-02-24 | Nikon Corp | 露光方法、フラットパネルディスプレイの製造方法、及びデバイス製造方法 |
| JP2015522843A (ja) * | 2012-07-06 | 2015-08-06 | エーエスエムエル ネザーランズ ビー．ブイ． | リソグラフィ装置 |
| JP2016517526A (ja) * | 2013-03-15 | 2016-06-16 | ベックマン コールター， インコーポレイテッド | フローサイトメーター用の放射光フィルター処理 |
-
1996
- 1996-10-29 JP JP8303682A patent/JPH10135120A/ja active Pending
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100901510B1 (ko) * | 2007-11-07 | 2009-06-08 | 삼성전기주식회사 | 기판 제조 장치 및 그 방법 |
| JP2015522843A (ja) * | 2012-07-06 | 2015-08-06 | エーエスエムエル ネザーランズ ビー．ブイ． | リソグラフィ装置 |
| US9513568B2 (en) | 2012-07-06 | 2016-12-06 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus |
| US10788763B2 (en) | 2012-07-06 | 2020-09-29 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus |
| JP2014036023A (ja) * | 2012-08-07 | 2014-02-24 | Nikon Corp | 露光方法、フラットパネルディスプレイの製造方法、及びデバイス製造方法 |
| JP2016517526A (ja) * | 2013-03-15 | 2016-06-16 | ベックマン コールター， インコーポレイテッド | フローサイトメーター用の放射光フィルター処理 |
| US10132678B2 (en) | 2013-03-15 | 2018-11-20 | Beckman Coulter, Inc. | Radiated light filtering for a flow cytometer |
| US10473519B2 (en) | 2013-03-15 | 2019-11-12 | Beckman Coulter, Inc. | Radiated light filtering for a flow cytometer |
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