JPH10134429A - 光磁気記録媒体及びその再生方法 - Google Patents

光磁気記録媒体及びその再生方法

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JPH10134429A
JPH10134429A JP8284108A JP28410896A JPH10134429A JP H10134429 A JPH10134429 A JP H10134429A JP 8284108 A JP8284108 A JP 8284108A JP 28410896 A JP28410896 A JP 28410896A JP H10134429 A JPH10134429 A JP H10134429A
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magneto
recording
reproducing
layer
magnetic field
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Tsutomu Tanaka
努 田中
Takeshi Tamanoi
健 玉野井
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Fujitsu Ltd
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Fujitsu Ltd
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    • G11B11/10593Details for improving read-out properties, e.g. polarisation of light

Abstract

(57)【要約】 【課題】 高密度記録を実現し、クロストークを低減で
きる光磁気記録媒体及びその再生方法。 【解決手段】 光磁気ディスク10は、基板11上に希
土類−遷移金属合金からなる再生層13,中間層14及
び記録層15をこの順に積層し、中間層14の組成Gd
x (Fe100-y Coy 100-x は、26≦x≦38,0
≦y≦17を満たしている。光磁気ディスク10の再生
時には、レーザスポットS近傍に記録方向即ち上向きの
再生磁界を印加する。レーザスポットSの低温領域及び
高温領域では記録層15の磁化方向が再生層13により
マスクされ、中間温度領域では記録層15の磁化方向が
再生層13に転写されて開口部を形成する。記録方向の
再生磁界を印加することにより、消去方向の印加よりも
開口部の寸法を小さくすることができる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、光磁気ディスク,
光磁気テープ,光磁気カード等の光磁気記録媒体及びそ
の再生方法に関し、特に磁気超解像(Magnetically Ind
uced Super Resolution )再生が可能な光磁気記録媒体
に関する。
【0002】
【従来の技術】近年コンピュータの外部記録装置とし
て、光磁気ディスクが脚光を浴びている。光磁気ディス
クは、外部磁界の印加とレーザ光の照射とを用いて媒体
上にサブミクロン単位の記録マークを形成することによ
り、フレキシブルディスク,ハードディスクのような外
部記録媒体と比較して記録容量を大幅に増大させること
が可能である。
【0003】しかしながら、これからのマルチメディア
時代に備えて膨大なデータ,動画の記録を可能にするた
めに、光磁気ディスクの記録容量のさらなる増大化が要
望されている。記録密度を増大させるためには、媒体上
にさらに多くの記録マークを形成すること、即ち記録マ
ーク長をレーザ光のスポット径よりも短くすると共に記
録マーク間隔を詰める必要がある。このような微細な記
録マークを形成するのは比較的簡単であるが、微細な記
録マークを再生する際には照射するレーザ光の波長λと
対物レンズの開口数NAとの制約により、再生可能な記
録マークの長さに限界があった。
【0004】そこで、レーザ光径よりも小さい記録マー
クを再生できる磁気超解像(MSR)再生方法が、種々
提案されている(特開平1−143041号公報,特開平3−
93056 号公報,特開平3−93058 号公報,特開平4−27
1039号公報,特開平5−12731 号公報)。これらの従来
法は何れも、記録層と再生層とを含む複数の磁性層を積
層した光磁気ディスクを回転せしめ、再生レーザ光を照
射することにより光磁気ディスクの周方向に温度分布を
生ぜしめ、この温度分布を利用してスポット径よりも小
さな記録マークを読出すようにしている。即ち、再生レ
ーザ光のスポット内の或る温度領域では再生層が記録マ
ークをマスクするような磁化方向を有し、他の領域では
記録層の磁化方向が再生層に転写されて読出される。
【0005】これらの従来法により、再生レーザ光のス
ポット径よりも小さな領域から記録マークを読出すこと
ができ、実質的に再生レーザ光のスポット径よりも小さ
な光スポットにて再生した場合と同等の分解能が得られ
る。しかしながら、これらの従来法では以下に示すいく
つかの問題点があった。まず、スポット内の低温領域か
ら記録マークを読出す方式では周方向の分解能には優れ
ているが、近接トラックが影響するクロストークが大き
いこと、また、スポット内の高温領域から記録マークを
読出す方式ではクロストークは低減されるが、再生層を
初期化するために大型の初期化磁石を用いる必要があ
り、装置が小型化されないこと、さらに、再生層の磁化
方向が温度分布により面内方向から垂直方向に変化した
領域から記録マークを読出す方式では、大型の初期化磁
石を用いずに再生できるが、スポット内の転写される領
域が広く、高い再生出力が得られないこと、などが挙げ
られる。
【0006】そこで本願出願人は、これらの問題点を解
決できるMSR再生方法を提案している(特開平7−24
4877号公報)。図11は、本願出願人が提案した従来の
MSR再生可能な光磁気ディスクの膜構成及び再生時の
磁化方向を示す図である。また、図12はこの光磁気デ
ィスクの消去時の磁化状態を示す図であり、図13は記
録時の磁化状態を示す図である。
【0007】図11に示すように、光磁気ディスク20
はポリカーボネート樹脂製の基板(図示せず)上にSi
Nからなる下地層(図示せず)と、希土類−遷移金属非
晶質合金からなる再生層21,中間層22,及び記録層
23と、SiNからなる保護層(図示せず)とをこの順
に積層して構成されている。再生層21は遷移金属磁化
優勢であり、垂直方向即ち積層方向に磁化容易軸を有し
ている。中間層22は希土類磁化優勢であり、室温(1
0℃〜35℃)では面内方向に磁化容易軸を有してお
り、室温より高い所定温度以上になると磁化容易軸が面
内方向から垂直方向に変化する。記録層23は遷移金属
磁化優勢であり、垂直方向に磁化容易軸を有している。
また、再生層21,中間層22及び記録層23のキュリ
ー温度を夫々Tc1,Tc2及びTc3とした場合に、
Tc2<Tc1,Tc2<Tc3の関係を満たしてい
る。また、再生層21及び記録層23の室温における保
磁力を夫々Hc1及びHc3とした場合に、Hc3>H
c1の関係を満たしている。
【0008】光磁気ディスク20の記録マークを消去す
る際には、図12に示すように、下向きの消去用磁界を
印加しつつ、消去用レーザ光を照射する。このときレー
ザ光が照射された領域はキュリー温度Tc3以上に昇温
され、記録層23の磁化方向が消去磁界と同じ下向きに
揃う。消去用レーザ光から遠ざかった領域では室温まで
降温される。室温では中間層22は上述したように面内
磁化膜となり、再生層21と中間層22とは磁気的に結
合しない状態になる。従って、再生層21の磁化方向は
消去用磁界と同じ下方向に揃う。なお、この光磁気ディ
スク20において消去方向は下向きであり、記録方向は
逆方向の上向きである。
【0009】次に、光磁気ディスク20に情報を記録す
る際には、図13に示すように、上向きの記録用磁界を
印加しつつ、記録用レーザ光を照射する。この記録方法
には光変調記録と磁界変調記録との2通りが用いられ
る。光変調記録とは、上向きの記録用磁界を常時印加し
つつレーザ光の強度を情報に対応すべく変調させて照射
する方法であり、高強度のレーザ光が照射された領域の
みが磁化方向を記録用磁界と同じ上向きにし、記録マー
クが形成される。一方、磁界変調記録とは、記録用レー
ザ光を常時照射しつつ磁界の方向を情報に対応すべく上
下に変調させて印加する方法であり、レーザ光が照射さ
れた領域の磁化方向が印加された磁界の向きになる。磁
界変調記録において、消去状態から情報を記録する場合
には、消去磁界と逆向きの磁界が印加された領域で磁化
方向が上向きに反転し、記録マークが形成される。
【0010】記録用レーザ光から遠ざかった領域では室
温まで降温される。室温では中間層22は上述したよう
に面内磁化膜となり、再生層21と記録層23とは磁気
的に結合しない状態になる。従って、再生層21の磁化
方向は、小さな磁界を印加することによりその磁化方向
に揃えられ、大型の初期化磁石を用いる必要はない。
【0011】このように記録された光磁気ディスク20
の再生時の磁化状態を、図11に基づいて説明する。光
磁気ディスク20に再生用レーザ光が照射され、照射領
域に下向きの再生磁界が印加される。レーザ光に対して
前方側となる低温領域(略100 ℃よりも低い領域)では
中間層22と記録層23との交換結合力は弱く、中間層
22の磁化が再生磁界の方向即ち下方向に揃う。そし
て、中間層22と再生層21との交換結合力により再生
層21の磁化方向は上向きに揃って記録層23の磁化方
向をマスクするはたらきをする(フロントマスク)。ま
た、高温領域(略180 ℃より高い領域)は中間層22の
キュリー温度を越えた領域であり、中間層22と再生層
21との交換結合力が切れている。これにより、再生層
21の磁化方向は再生磁界の方向に揃い、記録層23の
磁化方向をマスクするはたらきをする(リアマスク)。
低温領域と高温領域との間の中間温度領域(略100 ℃〜
略180 ℃の領域)では、中間層22を介して記録層23
と再生層21との交換結合力により、記録層23の磁化
方向が再生層21に転写される。
【0012】従って、磁気光学的出力を検出した場合
に、レーザスポットS内において温度が低い領域と高い
領域とではマスクが形成されているので光磁気信号を読
出すことはなく、中間の温度領域だけの光磁気信号を読
出すことができる。
【0013】
【発明が解決しようとする課題】以上の如く本願出願人
により提案した光磁気ディスクでは、大型の初期化磁石
を設けることなくMSR再生が可能であり、高温領域の
一部領域(中間温度領域)を開口部とするので高い再生
出力が得られ、さらに近隣トラックは中間温度領域より
も低い温度領域となるので近隣トラックからは信号が読
み出されず、クロストークが低い。
【0014】しかしながら、このような構成の光磁気デ
ィスク20の再生時に印加する磁界の方向を異ならせた
場合は、即ち上述する光磁気ディスク20に記録方向と
同じ上向きの再生磁界を印加した場合は、フロントマス
クの形成が困難に成りがちである。これは、従来の中間
層22及び記録層23では、これらの間の交換結合力が
低温で制御され難いことが原因である。記録方向の再生
磁界を印加した場合に、低温領域で中間層22の磁化方
向が再生磁界と同じ向きに揃わないことによりフロント
マスクの形成が不完全となり、再生特性が劣化するとい
う問題があった。
【0015】本発明は、かかる事情に鑑みてなされたも
のであり、第2磁性層の組成を限定することにより、消
去方向又はこれと逆方向である記録方向の何れの方向の
再生磁界を印加してもMSR再生を可能とし、記録方向
の再生磁界を印加した場合にはさらに分解能を高め、且
つクロストークを低減できる光磁気記録媒体とその再生
方法を提供することを目的とする。
【0016】
【課題を解決するための手段】第1発明に係る光磁気記
録媒体は、基板上に少なくとも、GdFeCoからなる
第1磁性層、GdFeCoからなる希土類磁化優勢の第
2磁性層、TbFeCoからなる第3磁性層をこの順に
積層しており、前記第1磁性層及び第3磁性層は積層方
向の磁化容易特性を有し、前記第2磁性層は室温で面内
方向の磁化容易特性を有し、第1磁性層、第2磁性層及
び第3磁性層のキュリー温度を夫々Tc1,Tc2及び
Tc3としたときに、Tc2<Tc1且つTc2<Tc
3の関係を満たす光磁気記録媒体において、前記第2磁
性層の組成は、Gdx (Fe100- y Coy 100-x のx
及びyが、夫々、26≦x≦38,0≦y≦17,を満
たすことを特徴とする。
【0017】再生時に、光磁気記録媒体に相対移動を伴
ったビーム光の照射を行うことによりビームスポット内
に温度分布が形成される。この温度分布の低温領域及び
高温領域では第1磁性層の磁化方向が第3磁性層の磁化
方向をマスクする。これらの領域の間の中間温度領域で
は第3磁性層の磁化方向が第1磁性層に転写されて開口
部を形成し、これによりスポット径よりも小径の記録マ
ークを読出すことが可能となる。このような低温領域及
び高温領域での第1磁性層のマスクを形成するために、
ビーム光照射領域に再生磁界を印加する。
【0018】第1発明にあっては、第2磁性層が、Gd
x (Fe100-y Coy 100-x の26≦x≦38,0≦
y≦17を満たす組成を有することにより、記録マーク
を全面消去するための消去方向、又は該消去方向の逆方
向である記録方向の何れの方向の再生磁界を印加しても
MSR再生が可能である。26≦x≦38,0≦y≦1
7は、後述する図6〜図9に示すように、再生時のCN
R及びクロストークのような再生特性が良好となる第2
磁性層の組成範囲から決定している。開口部の寸法は、
記録方向の再生磁界を印加したときの方が消去方向に印
加したときよりも記録トラックの幅方向に小さい。この
ために記録方向の再生磁界を印加した場合は、さらに高
分解能が得られ、クロストークが低減される。
【0019】第2発明に係る光磁気記録媒体は、第1発
明にあっては、前記第2磁性層は15nm以上の膜厚を
有することを特徴とする。
【0020】第2発明にあっては、第2磁性層の膜厚が
15nm以上である。第2磁性層の膜厚は第2磁性層と
第3磁性層との間の交換結合力の強弱に影響を及ぼし、
薄すぎると交換結合力が強くなって、低温領域にて第2
磁性層の磁化方向が再生磁界の方向に向かなくなり、マ
スクの形成が不完全となる。再生磁界の実用化レベルが
500Oe以下であり、このレベルでマスクが完全に形
成されるためには第2磁性層は15nm以上の膜厚を有
することが好ましい。また、光磁気記録媒体の実用的厚
みレベルの観点から、第2磁性層の最大膜厚は略60n
mである。
【0021】第3発明に係る光磁気記録媒体の再生方法
は、基板上に少なくとも第1磁性層、第2磁性層及び第
3磁性層が積層されており、予め前記第3磁性層の磁化
方向を第1方向に揃え、ビーム光の強度を変調させて照
射することにより磁化方向が第1方向から第2方向に反
転した領域と前記第1方向を維持した領域とを前記第3
磁性層に形成することにより情報を記録した第1又は第
2発明の光磁気記録媒体に、該光磁気記録媒体との相対
移動を伴ってビーム光を照射し、該ビーム光の照射領域
に磁界を印加して前記情報を読出す再生方法において、
前記情報を読出す際に、前記光磁気記録媒体にビーム光
を照射し、該ビーム光の照射領域に前記第2方向の磁界
を印加することを特徴とする。
【0022】第3発明にあっては、光磁気記録媒体は光
変調記録方式、即ち記録用ビーム光の照射で第3磁性層
のキュリー温度以上に昇温された領域の磁化方向が前記
第2方向である記録方向に揃えられることにより記録さ
れている。この光磁気記録媒体の情報再生時に、記録方
向の再生磁界を印加することにより狭い開口部から情報
を再生できるので高分解能が得られ、クロストークが低
減される。
【0023】第4発明に係る光磁気記録媒体の再生方法
は、基板上に少なくとも第1磁性層、第2磁性層及び第
3磁性層が積層されており、予め前記第3磁性層の磁化
方向を第1方向に揃え、磁界の方向を変調させて印加す
ることにより磁化方向が第1方向から第2方向に反転し
た領域と前記第1方向を維持した領域とを前記第3磁性
層に形成することにより情報を記録した第1又は第2発
明の光磁気記録媒体に、該光磁気記録媒体との相対移動
を伴ってビーム光を照射し、該ビーム光の照射領域に磁
界を印加して前記情報を読出す再生方法において、前記
情報を読出す際に、前記光磁気記録媒体にビーム光を照
射し、該ビーム光の照射領域に前記第2方向の磁界を印
加することを特徴とする。
【0024】第4発明にあっては、光磁気記録媒体は予
め第1方向である消去方向の磁界が印加されて第3磁性
層の磁化方向が消去方向に揃えられており、磁界変調記
録方式、即ち記録用磁界を方向を変調させて印加し、第
3磁性層の磁化方向が反転する記録用磁界の方向に揃え
られることにより情報が記録されている。この光磁気記
録媒体の情報再生時に、消去方向と逆方向である第2方
向の再生磁化を印加することにより、狭い開口部から情
報を再生できるので高分解能が得られ、クロストークが
低減される。
【0025】
【発明の実施の形態】以下、本発明をその実施の形態を
示す図面に基づき具体的に説明する。 実施の形態1.図1は本発明の光磁気ディスクの再生時
の磁化状態を示す図であり、図2はその光磁気ディスク
の膜構成図である。図2に示すように、光磁気ディスク
10は、ポリカーボネート樹脂製の基板11上に、Si
Nからなる下地層11、GdFeCoからなる再生層1
3(第1磁性層)、GdFeCoからなる中間層14
(第2磁性層)、TbFeCoからなる記録層15(第
3磁性層)及びSiNからなる保護層16をこの順に積
層して構成されている。基板11は1.2 mmの厚みを有
し、ランド幅及びグルーブ幅が夫々0.7 μmピッチで形
成されて、ランド/グルーブ記録可能である。なお、本
実施の形態の光磁気ディスク10を構成する再生層1
3、中間層14及び記録層15の具体的な組成及び磁気
特性を表1に示す。
【0026】
【表1】
【0027】このような構成の光磁気ディスク10は、
以下の手順にて製造される。まず、スパッタ装置内のチ
ャンバ内にSiN,GdFeCo及びTbFeCoのタ
ーゲットをセットする。基板11をチャンバ内に搬入し
てチャンバ内圧力を1×10-5Paとする。次に、チャン
バ内にアルゴンガス及び窒素を導入し、各分圧比が3:
2(Ar:N2 )でガス圧0.4 Paとなるように調整す
る。この条件でDCスパッタ法にて基板11上に下地層
12を膜厚70nmに形成する。
【0028】次に再度チャンバ内を1×10-5Paとした
後、チャンバ内にアルゴンガスを0.8 Paとなるよう導
入し、DCスパッタ法により、下地層12上に再生層1
3を膜厚40nmに形成し、順次中間層14を膜厚40
nmに、記録層15を膜厚40nmに形成する。その
後、再度チャンバ内を1×10-5Paとした後、チャンバ
内にアルゴンガス及び窒素を導入し、各分圧比が3:2
(Ar:N2 )でガス圧0.4 Paとなるように調整した
後、DCスパッタ法にて保護層16を膜厚70nmに形
成する。
【0029】以上の如く製造される光磁気ディスク10
の記録層15に情報を光磁気記録し、これを再生したと
きの磁化状態について以下に説明する。光磁気ディク1
0への記録原理は図13に示したものと同様であり、こ
こで説明は省略する。なお、本実施の形態では記録方向
を上向き、消去方向を下向きとする。
【0030】光磁気ディスク10に再生用レーザ光が照
射され、照射領域に記録方向即ち上向きの再生磁界が印
加される。レーザ光に対して前方側となる低温領域(略
100℃よりも低い領域)では中間層14と記録層15と
の交換結合力が弱く、中間層14の磁化が再生磁界の方
向即ち上方向に揃う。そして、中間層14と再生層13
との交換結合力により再生層13の磁化方向は下向きに
揃って記録層15の磁化方向をマスクするはたらきをす
る(フロントマスク)。また、高温領域(略180 ℃より
高い領域)は中間層14のキュリー温度を越えた領域で
あり、中間層14と再生層13との交換結合力が切れて
いる。これにより、再生層13の磁化方向は再生磁界の
磁化方向の上向きに揃い、記録層14の磁化方向をマス
クするはたらきをする(リアマスク)。低温領域と高温
領域との間の中間温度領域(略100 ℃〜略180 ℃の領
域)では、中間層14を介して記録層15と再生層13
との交換結合力により、記録層15の磁化方向が再生層
13に転写されており、開口部を形成している。
【0031】このようにフロントマスク及びリアマスク
のダブルマスクが形成されるので、磁気光学的出力を検
出した場合に、レーザスポットS内において温度が低い
領域と高い領域とがマスクとしてはたらき、これらの領
域では光磁気信号を読出すことはなく、中間の温度領域
だけで光磁気信号を読出すことができる。
【0032】以上の如きMSR再生される光磁気ディス
ク10の記録再生特性を調べた結果を以下に示す。な
お、再生に用いた測定器の半導体レーザ光の波長λは6
85nmであり、対物レンズの開口数NAは0.55であ
る。また光磁気ディスク10の周速は5m/sである。
【0033】まず、消去用のレーザ光のパワーを8mW
とし、下向きで300Oeの消去磁界を光磁気ディスク
10に印加して全面を消去した。記録用レーザ光のパワ
ーを8.4 mW、記録周波数を7.51MHzとし、上向きで
300Oeの記録磁界を印加しつつ、duty50%で
光変調記録を行なった。この結果0.333 μmの記録マー
クをランドに形成した。次に、再生用レーザ光をパワー
を異ならせて光磁気ディスク10に照射し、各CNRを
測定してダブルマスク再生可能な再生パワーを求めた。
図3はこの結果を示すグラフであり、縦軸はCNRを示
し、横軸は再生パワーを示している。図3から、再生パ
ワー2.4mW以上のレーザ光の照射でダブルマスク方
式のMSR再生が可能であることが判った。
【0034】同様に、記録用レーザ光をパワーを異なら
せて光磁気ディスク10に照射して情報を記録し、3m
Wの再生用レーザ光を照射して各記録パワーの光磁気デ
ィスク10のCNRを測定し、最大再生信号品質の記録
パワー依存性を調べた。図4はこの結果を示すグラフで
あり、縦軸はCNRを示し、横軸は記録パワーを示して
いる。図4から、記録パワー6.5mWのレーザ光の照
射で最大CNR47.4dBが得られた。
【0035】次に、光磁気ディスク10の再生磁界依存
性及びクロストークについて調べた。上向き(記録方
向)の再生磁界及び下向きの再生磁界を異なる大きさで
印加した場合と再生磁界を印加しない場合とでCNR及
びクロストークを測定した。クロストークの測定方法
は、隣接する5トラックの記録マークを予め消去してお
き、中央のランドに記録マークを形成してそのキャリア
レベルを測定する。そして記録したランドの両サイドの
グルーブで同様にキャリアレベルを測定し、これらの平
均を求める。ランドのキャリアレベルとグルーブの平均
キャリアレベルとの差分がクロストークである。
【0036】図5はこの結果を示すグラフであり、縦軸
はCNR及びクロストークを示し、横軸は再生磁界を示
し、正方向が記録方向を負方向が消去方向を示してい
る。図5から明らかなように、再生磁界が上向きの場合
は従来の下向きの場合と同程度のCNRが得られてお
り、クロストークについては再生磁界が上向きの本実施
の形態の方が従来よりも略20dBほど低い値が得られ
ている。これは、開口部の形状が印加される再生磁界の
方向によって異なるためであり、記録方向の再生磁界を
印加する方が、逆方向よりもトラック幅方向に狭い形状
であるために低いクロストークが得られたと考えられ
る。
【0037】実施の形態2.実施の形態2として、中間
層14に用いる磁性層の組成を異ならせた光磁気ディス
ク10を作成した。これらの光磁気ディスク10に記録
周波数が7.51MHz、duty50%で光変調記録を行
い、これの再生時のCNRとクロストークについて調べ
た。光磁気ディスク10は、中間層14の組成をGdx
(Fe100-yCoy 100-x とした場合に、y=6の条
件でxを夫々異ならせた組成のものと、x=31の条件
でyを夫々異ならせた組成のものとを作成した。なお、
再生層13及び記録層15の組成、製造手順等、中間層
14の組成の他は上述した実施の形態1と同様であり、
その説明を省略する。
【0038】まず、中間層14のGdx (Fe100-y
y 100-x がy=6の条件でxを異ならせた組成であ
る光磁気ディスク10について、400Oeの再生磁界
を上向き(記録方向)及び下向き(従来)に夫々印加し
た。図6はこのときの最大CNRとクロストークの測定
結果を示すグラフであり、縦軸はCNR及びクロストー
クを示し、横軸はx%を示している。図6から判るよう
に、再生磁界が上向きの場合の方が下向きよりもCNR
が若干高い。またクロストークも上向きの方が低い値が
測定されている。光磁気ディスクを実用化するために
は、CNRは46dB以上、クロストークは−23dB
以下が必要である。このことから、xが26%〜36%
の範囲内であれば、再生磁界が上向き,下向き何れの場
合も十分な実用化レベルに達していることが判る。
【0039】同様に、中間層14のGdx (Fe100-y
Coy 100-x がx=31の条件でyを異ならせた組成
である光磁気ディスク10について、400Oeの再生
磁界を上向き(記録方向)及び下向き(従来)に夫々印
加した。図7はこのときの最大CNRとクロストークの
測定結果を示すグラフであり、縦軸はCNR及びクロス
トークを示し、横軸はx%を示している。図7から判る
ように、再生磁界が上向きの場合の方が下向きよりもC
NRが若干高い。またクロストークも上向きの方が低い
値が測定されている。光磁気ディスクを実用化するため
には、yが0〜16%の範囲内であれば、再生磁界が上
向き,下向き何れの場合も十分な実用化レベルに達して
いることが判る。
【0040】これらの結果から、光変調記録により記録
された情報を再生する際には、中間層14の組成Gdx
(Fe100-y Coy 100-x が、26≦x≦36,0≦
y≦16を満たす場合に、記録方向又は消去方向の何れ
の方向の再生磁界を印加してもダブルマスク方式のMS
R再生が可能であり、記録方向の再生磁界を印加した場
合には、CNR及びクロストークに優れた再生特性を得
ることができる。なお、y=0の場合は、中間層の組成
はGdx Fe100-x である。
【0041】実施の形態3.上述した実施の形態2では
光変調記録を行なった光磁気ディスク10に対して再生
特性を調べたが、実施の形態3では光磁気ディスク10
に磁界変調記録を行い、同様にCNR及びクロストーク
を測定した。光磁気ディスク10に11.0mWの記録レー
ザ光を照射し、300 Oeの記録磁界を印加してレーザパ
ルス磁界変調記録を行なった。記録に際して、磁界は浮
上ヘッドにより与え、記録周波数は3.75MHzとした。
レーザ光照射はパルス幅40nsのレーザパルス(周波
数7.51MHz)により行い、光変調記録の場合と同様に
0.333 μmの記録マークを形成した。なお、記録に先立
ち、磁界の方向を定義するために8mWの消去用レーザ
光を照射して下向きの消去磁界を300 Oeで印加し、デ
ィスク全域を消去した。
【0042】中間層14のGdx (Fe100-y Coy
100-x がy=6の条件でxを異ならせた組成である光磁
気ディスク10について、また、x=31の条件でyを
異ならせた組成である光磁気ディスク10夫々につい
て、下向き(消去方向)及び上向き(消去方向の逆方
向)夫々の再生磁界を浮上ヘッドにより450Oeで印
加した。図8及び図9は夫々の場合のCNR及びクロス
トークの結果を示すグラフであり、縦軸はCNR及びク
ロストークを示し、横軸はx%を示している。図8及び
図9から明らかなように、光変調記録(実施の形態2参
照)と比較してCNRが高く、クロストークも高い値が
得られている。これは、磁界変調記録では、光変調記録
よりもトラック幅方向に大きい記録マークが形成される
ためと考えられる。
【0043】また図8から、xが26%〜38%の範囲
内であれば、再生磁界が上向き,下向き何れの場合も実
用化レベルの再生特性が得られ、図9から、yが0〜1
7%の範囲内であれば、再生磁界が上向き,下向き何れ
の場合も実用化レベルの再生特性が得られることが判
る。これにより、磁界変調記録により記録された情報を
再生する際には、中間層14の組成Gdx (Fe100-y
Coy 100-x が、26≦x≦38,0≦y≦17を満
たす場合に、消去方向又はその逆方向の何れの方向の再
生磁界を印加してもダブルマスク方式のMSR再生が可
能であり、消去方向の逆方向の再生磁界を印加した場合
には、CNR及びクロストークに優れた再生特性を得る
ことができる。
【0044】実施の形態4.中間層14の組成がGd
31.0(Fe94.0 Co6.0 69.0である、実施の形態1
と同様の光磁気ディスク10を中間層14の膜厚を異な
らせて作成し、大きさが異なる上向き(記録方向)の再
生磁界を印加して、夫々の光磁気ディスク10の再生時
のクロストークが−40dBとなるときの再生磁界を求
めた。図10から、再生磁界は膜厚が厚くなるに従っ
て、より小さな再生磁界で−40dBのクロストークが
得られ、膜厚が略50nm以上になると再生磁界はこれ
以上低減しないことが言える。中間層14の膜厚が薄く
なると大きな再生磁界が必要になるのは、中間層14の
膜厚が薄くなることにより記録層15との交換結合力が
高くなり、再生時に低温領域において中間層14の磁化
が再生磁界に揃い難くなるためである。
【0045】再生磁界の実用化レベルは500Oe以下
である。これにより、中間層14の膜厚は15nm以上
を有することが好ましいと言える。また、光磁気ディス
クとしての厚みの実用的限界から、中間層14の最大膜
厚は略60nmである。
【0046】
【発明の効果】以上のように本発明においては、第2磁
性層の組成を特定することにより、消去方向又はその逆
方向である記録方向の何れの方向の再生磁界を印加して
もダブルマスク方式のMSR再生が可能であり、記録方
向の再生磁界を印加してMSR再生した場合にはさらに
高い分解能が得られ、クロストークが低減でき、その結
果、狭トラック化が可能である等、本発明は優れた効果
を奏する。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の光磁気ディスクの再生時の磁化状態を
示す図である。
【図2】本発明の光磁気ディスクの膜構成図である。
【図3】本発明の光磁気ディスクの再生特性と再生用レ
ーザ光のパワーとの関係を示すグラフである。
【図4】本発明の光磁気ディスクの再生特性と記録用レ
ーザ光のパワーとの関係を示すグラフである。
【図5】本発明の光磁気ディスクの再生特性と再生磁界
との関係を示すグラフである。
【図6】本発明の光磁気ディスク(光変調記録)の中間
層のxに対する再生特性と再生磁界の方向との関係を示
すグラフである。
【図7】本発明の光磁気ディスク(光変調記録)の中間
層のyに対する再生特性と再生磁界の方向との関係を示
すグラフである。
【図8】本発明の光磁気ディスク(磁界変調記録)の中
間層のxに対する再生特性と再生磁界の方向との関係を
示すグラフである。
【図9】本発明の光磁気ディスク(磁界変調記録)の中
間層のyに対する再生特性と再生磁界の方向との関係を
示すグラフである。
【図10】本発明の光磁気ディスクの中間層の膜厚に対
する再生磁界依存性を示すグラフである。
【図11】従来の光磁気ディスクの膜構成と再生時の磁
化状態とを示す図である。
【図12】従来の光磁気ディスクの消去時の磁化状態を
示す図である。
【図13】従来の光磁気ディスクの記録時の磁化状態を
示す図である。
【符号の説明】
10 光磁気ディスク 11 基板 12 下地層 13 再生層 14 中間層 15 記録層 16 保護層

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 基板上に少なくとも、GdFeCoから
    なる第1磁性層、GdFeCoからなる希土類磁化優勢
    の第2磁性層、TbFeCoからなる第3磁性層をこの
    順に積層しており、前記第1磁性層及び第3磁性層は積
    層方向の磁化容易特性を有し、前記第2磁性層は室温で
    面内方向の磁化容易特性を有する光磁気記録媒体におい
    て、 前記第2磁性層の組成は、Gdx (Fe100-y Coy
    100-x のx及びyが、夫々、 26≦x≦38,0≦y≦17, を満たすことを特徴とする光磁気記録媒体。
  2. 【請求項2】 前記第2磁性層は、15nm以上の膜厚
    を有する請求項1記載の光磁気記録媒体。
  3. 【請求項3】 基板上に少なくとも第1磁性層、第2磁
    性層及び第3磁性層が積層されており、予め前記第3磁
    性層の磁化方向を第1方向に揃え、ビーム光の強度を変
    調させて照射することにより磁化方向が第1方向から第
    2方向に反転した領域と前記第1方向を維持した領域と
    を前記第3磁性層に形成することにより情報を記録した
    請求項1又は2に記載の光磁気記録媒体に、該光磁気記
    録媒体との相対移動を伴ってビーム光を照射し、少なく
    とも該ビーム光の照射領域に磁界を印加して前記情報を
    読出す再生方法において、 前記情報を読出す際に、前記光磁気記録媒体にビーム光
    を照射し、少なくとも該ビーム光の照射領域に前記第2
    方向の磁界を印加することを特徴とする光磁気記録媒体
    の再生方法。
  4. 【請求項4】 基板上に少なくとも第1磁性層、第2磁
    性層及び第3磁性層が積層されており、予め前記第3磁
    性層の磁化方向を第1方向に揃え、磁界の方向を変調さ
    せて印加することにより磁化方向が第1方向から第2方
    向に反転した領域と前記第1方向を維持した領域とを前
    記第3磁性層に形成することにより情報を記録した請求
    項1又は2に記載の光磁気記録媒体に、該光磁気記録媒
    体との相対移動を伴ってビーム光を照射し、少なくとも
    該ビーム光の照射領域に磁界を印加して前記情報を読出
    す再生方法において、 前記情報を読出す際に、前記光磁気記録媒体にビーム光
    を照射し、少なくとも該ビーム光の照射領域に前記第2
    方向の磁界を印加することを特徴とする光磁気記録媒体
    の再生方法。
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