JP2883939B2 - 光磁気記録方法 - Google Patents

光磁気記録方法

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Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明はオーバーライト可能な光磁気記録方法に関す
る。
〔従来の技術及び発明が解決しようとする課題〕
近年、書き換え可能な光記録媒体として、磁気光学効
果を利用した光磁気記録媒体が精力的に研究開発され、
一部では実用化されるに至っている。この光磁気記録媒
体は大容量高密度記録、非接触記録再生、アクセスの容
易さ等の利点に加え、オーバーライト(重ね書き)が可
能という点で文書情報ファイル、ビデオ・静止画ファイ
ル、コンピュータ用メモリ等への利用が期待されてい
る。光磁気記録媒体を磁気ディスクと同等もしくはそれ
以上の性能を持った記録媒体とするためには、いくつか
の技術的課題があり、その中の主要なものの1つに、オ
ーバーライト技術がある。現在提案されているオーバー
ライト技術は、記録の方法により磁界変調方式と光変調
方式(マルチビーム方式、2層膜方法等)に大別され
る。
磁界変調方式は記録情報に応じて印加磁界の極性を反
転させて記録を行う方式である。この方式では、磁界の
反転を高速で行わなくてはならないため、浮上タイプの
磁気ヘッドを用いる必要があり、媒体交換が困難であ
る。
一方、光変調方式は記録情報に応じて照射レーザビー
ムをオン・オフあるいは強度変調させて記録を行う方式
である。この方式のうちうマルチビーム方式は2〜3個
のレーザビームを用い、磁界の方向を1回転毎に反転さ
せてトラック毎に記録/消去を行う擬似オーバライト方
式であるが、装置構成が複雑化し、コストアップを招く
などの欠点を有している。また、2層膜方式は光磁気記
録媒体の記録層を2層膜とし、オーバーライトを達成し
ようとするもので、例えば特開昭62−175948号公報等に
開示されている。同公報に記載されている方式は、例え
ばTbFeからなるメモリ層とTbFeCoからなる補助層との2
層膜の記録層を備えた光磁気記録媒体を用い、初期化を
行った後、外部磁界の印加とパワーの異なるレーザビー
ムの照射によりオーバーライトを実現しようとするもの
である。すなわち、この方式では、記録に先立ち予め初
期化用磁界により補助層の磁化を一方向に揃え、高出力
レーザビームを照射して媒体温度TをT>Tc2(Tc2は補
助層のキュリー温度)なる温度迄昇温させ、記録用磁界
(初期化用磁界と反対方向)を印加して補助層の磁化を
反転させ、媒体が冷却される際にその磁化をメモリ層に
転写させることにより記録を行い、また、低出力レーザ
ビームを照射して媒体温度をTC1<T<Tc2(Tc1はメモ
リ層のキュリー温度)なる温度迄昇温させ、補助層の磁
化方向をメモリ層に転写させることにより消去を行う。
そのため、この方式では、記録用磁界と初期化用磁界の
2つの外部磁界が必要となるためドライブ装置の小型化
が困難であり、また用いている光磁気記録媒体の記録層
が2層膜であるため媒体設計が難しいなどの問題があっ
た。
本発明は以上のような従来技術の欠点を解消し、単層
膜の光磁気記録媒体を用いて、単一レーザビーム、単一
磁界によりオーバーライトを可能とする光磁気記録方法
を提供することを目的とする。
〔課題を解決するための手段〕
上記目的を達成するため、本発明によれば、補償温度
が室温以上にあり、外部磁界と保磁力とが等しくなる温
度が室温以上に3点ある磁気温度特性を示す磁性体を記
録層とする、磁性単層膜からなる光磁気記録媒体を用
い、記録時と消去時に同じ大きさで同一方向の外部磁界
を印加するとともにレーザービームを照射して光磁気記
録を行なう光磁気記録方法であって、外部磁界と記録層
の保磁力とが等しくなる温度を室温以上に3点あるもの
を用い、 かつ、外部磁界と記録層の保磁力とが等しくなる温度を
TB1、TB2、TB3(TB1<TB2<TB3)としたときに、 記録時には媒体温度TがT>TB3となるように高いパ
ワーのレーザビームを照射し、 消去時には媒体温度TがTB1<T<TB2となるように低
いパワーのレーザービームを照射することによりオーバ
ーライト可能な光磁気記録を行うことを特徴とする光磁
気記録方法が提供される。
以下本発明を図面に基づき詳述する。
本発明の方法に使用される光磁気記録媒体は記録層が
単層膜であり、該記録層は補償温度が室温以上にあるフ
ェリ磁性体からなる。第1図にこのような光磁気記録媒
体の一構成例を示す。この記録媒体は、ガラス、プラス
チック、セラミックスなどからなる透明支持体1上にSi
3N4、SiO、SiO2などからなる保護膜2(膜厚100Å〜500
0Å)を設け、その上にフェリ磁性体からなる磁性膜3
(膜厚100Å〜5000Å)を設け、さらにその上にSi3N4
SiO、SiO2などからなる保護膜4(膜厚100Å〜5000Å)
を設けて構成される。各膜はスパッタ法、蒸着法、イオ
ンプレーティング法等により形成することができる。磁
性膜3は例えばTb−Fe,Gd−Fe,Dy−Fe,Tb−Fe−Co,Gd−
Fe−Co,Dy−Fe−Co,Tb−Dy−Fe−Co,Gd−Tb−Fe−Coな
どの希土類−遷移金属系アモルファス膜あるいはCoスピ
ネルフェライトなどの多結晶膜により構成することがで
きるが、その保磁力Hcの温度特性は第2図に示す如き特
性となっている必要がある。すなわち、この磁性膜3は
その補償温度Tcompが室温Troom以上にあり、その保磁力
Hcと記録、消去時の印加する外部磁界Hexとが等しくな
る温度が室温Troom以上に3点(TB1、TB2、TB3;ただし
TB1<TB2<TB3)存在する。したがって、Troom、Tcom
p、Tc、TB1、TB2、TB3の関係はTroom<TB1<TB2<Tcomp
<TB3<Tcとなっている。一般にこのような傾向は、補
償温度Tcompが室温Troomに対してより高温側にある場合
にみられる。
なお、本発明で使用される光磁気記録媒体の層構成は
第1図に示すものに限定されるものでなく種々の変形、
変更が可能であり、例えば保護膜4の上に反射膜を設け
ても良いし、保護膜2,4を適当に除いても良い。
本発明では、第1図に示すように、上述した単層記録
膜の光磁気記録媒体を用い、記録時と消去時に同一方向
の外部磁界Hexを印加するとともに、単一レーザビーム
を照射することにより光磁気記録を行う。このとき、初
期化用磁界は用いず、また照射するレーザビームのパワ
ーを記録時と消去時で異ならせる。
先ず、記録時には、高いパワーのレーザビームを照射
して(第3図)媒体温度TをT>TB3にし、第1図に示
すように飽和磁化Msの方向と同方向(上向き)の外部磁
界Hexを印加する。室温Troomでは上向きであった磁化は
T>TB3では磁化は下向き(大きさ小)となるが、外部
磁界Hexにより反転されて上向きとなる。そしてこの部
分の磁化は冷却の際、補償温度Tcompを越えるときに反
対方向(下向き)の磁化に変化し、保持される。
消去時には、低レベルのレーザビームを照射して(第
3図)媒体温度TをTB1<T<TB2とし、記録時と同方向
に外部磁界Hexを印加する。この媒体温度Tでは外部磁
界Hexが保磁力Hcより大きくなるので、磁化が外部磁界H
exの方向に揃い、消去が行われる。
また、再生は、第3図に示すように消去時のレーザパ
ワーよりさらに低いレーザビームを照射して行う。
このように、本発明では第3図に示すように、低いレ
ーザパワーで再生を行い、消去するときにはレーザパワ
ーを少し上げて行い、記録するときにはレーザパワーを
さらに上げて行う。また記録時と消去時には同一方向の
外部磁界Hexを印加する。これにより、単一レーザビー
ムでかつ初期化用磁界を用いることなく単一磁界でオー
バーライトが可能となる。
〔実施例〕
次に本発明を実施例により更に詳細に説明するが、本
発明はここに例示の実施例に限定されるものではない。
グルーブ付きポリカーボネート基板(直径130mm)の
上にrf2元マグネトロンスパッタ法により下記の膜を真
空中で順次積層し、記録媒体を得た。
保護膜:Si3N4膜(1000Å) 磁性膜:b0・26(Fe0・85Co0・150.74膜(800Å) 保護膜:Si3N4膜(1000Å) 磁性層のキュリー温度Tc及び補償温度Tcompは次の通り
であった。
Tcomp=150℃ Tc=230℃ また、Hcが1kOe(外部磁界の大きさ)となる媒体温度
TB1、TB2、TB3はそれぞれ70℃、100℃と190℃であっ
た。
以上のようにして得た記録媒体を線速10m/秒で記録時
と消去時に同一方向に1kOeの外部磁界を印加するととも
に、記録時、消去時及び再生時に以下のように照射レー
ザパワーを変化させて1MHzの信号を記録再生し、記録/
再生特性の評価を行った。
記録時のレーザパワー:7.4mW 消去時のレーザパワー:5.5mW 再生時のレーザパワー:2mw その結果、C/N比は47dBであった。さらに、該記録媒
体上に同一条件で2MHzの記録周波数でオーバーライトを
実施したところ、C/N比46dBで良好な値を示した。な
お、記録時、消去時及び再生時のレーザビーム照射によ
る媒体の昇温度はそれぞれ220℃、90℃及び40℃であっ
た。
〔発明の効果〕
本発明によれば、前記構成としたことにより、単層膜
の記録媒体を用い、かつ単一レーザビーム、単一磁界で
オーバーライトが可能となる。したがって、ドライブ装
置の構造が簡素化されるとともに小型化が可能となり、
また媒体設計も容易となるためコスト低減が図れる等の
利点がある。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の方法の説明図、第2図は本発明で使用
される光磁気記録媒体の磁性膜の保磁力Hcの温度特性を
示す図、第3図は記録時、消去時及び再生時におけるレ
ーザパワーのレベルの一例を示す図である。 1……支持体 2,4……保護膜 3……磁性膜
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.6,DB名) G11B 11/10

Claims (1)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】補償温度が室温以上にあり、外部磁界と保
    磁力とが等しくなる温度が室温以上に3点ある磁気温度
    特性を示す磁性体を記録層とする、磁性単層膜からなる
    光磁気記録媒体を用い、記録時と消去時に同じ大きさで
    同一方向の外部磁界を印加するとともにレーザービーム
    を照射して光磁気記録を行なう光磁気記録方法であっ
    て、外部磁界と記録層の保磁力とが等しくなる温度を室
    温以上に3点あるものを用い、 かつ、外部磁界と記録層の保磁力とが等しくなる温度を
    TB1、TB2、TB3(TB1<TB2<TB3)としたときに、 記録時には媒体温度TがT>TB3となるように高いパワ
    ーのレーザビームを照射し、 消去時には媒体温度TがTB1<T<TB2となるように低い
    パワーのレーザービームを照射することによりオーバー
    ライト可能な光磁気記録を行うことを特徴とする光磁気
    記録方法
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