JP3414414B2 - 光磁気記録媒体及びその記録再生方法 - Google Patents

光磁気記録媒体及びその記録再生方法

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Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は書き換えが可能な光磁気
記録媒体のなかで、再生層の磁化状態を変化させながら
記録信号を読み取る光磁気記録媒体に関し、光変調オ−
バ−ライトを可能とするものである。
【0002】
【従来の技術】光磁気記録媒体は書き換え可能な光記録
媒体であり、相変化型光記録媒体などと比較して繰り返
し消去/書き込み耐久性や消去比率に優れ、可搬型大容
量の記録媒体として注目されている。
【0003】光磁気記録媒体は、レ−ザ−光照射による
局所加熱によって記録ビットを形成し、これをカ−効果
により読み出す記録再生方法が取られる。記録ビットの
間隔はレ−ザ−光照射パワ−、記録磁界の強度などの調
整でレ−ザ−スポット径よりもかなり小さくすることが
可能であるが、読みだしは再生時のレ−ザ波長、レンズ
の開口率などによって制約を受ける。
【0004】このような再生時の制約から決まる記録密
度を越えて、読み出すための改善の試みが、例えば、特
開平1−143041号公報や特開平1−143042
号公報に開示され、記録ビットを再生時に拡大、縮小さ
せながら再生することにより再生分解能を向上する技術
が記述されている。
【0005】この方式は、再生光照射による温度上昇を
利用し、再生時に記録磁区を拡大あるいは縮小、消滅さ
せ、ビ−ムスポット内を部分的にいわばマスクするもの
で、再生時の符号間干渉を減少させ、光の回折限界以下
の周期の信号を再生可能とするものである。
【0006】一方、近年書き込み時にさらに高速アクセ
スをするためにオ−バ−ライト技術が注目されている
が、この方式として、書き込みの磁界を変調する方式の
磁界変調オ−バ−ライト方式と、レ−ザ−パワ−を変調
する方式の光変調オ−バ−ライト方式の2方式が提案さ
れている。1枚あたりの記録容量を大きくするために2
枚のディスクを張り合わせた両面タイプの光磁気ディス
クでは、磁気ヘッドと記録層との距離をディスクの厚み
以下にすることができないので、磁界変調方式では記録
時に十分な磁界を記録層に与えることが難しく、光変調
オ−バ−ライト方式が有効である。
【0007】ところで、特開平1−143041号公報
や特開平1−143042号公報に開示された光磁気媒
体に光変調でオ−バ−ライトしようとすると、再生レ−
ザ−パワ−と消去のレ−ザ−パワ−がほとんど近くなる
ので、そのままの構造では、オ−バ−ライトマ−ジンが
非常に小さいか、あるいは不可能である。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】本発明は光磁気記録媒
体の記録密度の向上をはかりながら、十分なマ−ジンで
光変調オ−バ−ライトを可能とすることを目的とする。
【0009】
【課題を解決するための手段】すなわち、本発明は、透
明基板上に誘電体層を介して互いに磁気的に結合した第
1磁性膜、第2磁性膜、第3磁性膜及び第4磁性膜をこ
の順に積層し、第1磁性膜、第2磁性膜、第3磁性膜及
び第4磁性膜のキュリ−温度をそれぞれTc1、Tc
2、Tc3及びTc4とするとき、室温<Tc2<Tc
1、室温<Tc2<Tc3、Tc3<Tc4であり、第
1磁性膜の保磁力Hc1は、Tc2近傍で十分小さく、
第3磁性膜の保磁力Hc3は、室温〜Trm(但し、T
c2<Trm<Tc3)の温度範囲で所要の磁場Hrよ
りも十分大きく、第4磁性膜の保磁力Hc4は、室温〜
Tem(但し、Tc3<Tem<Tc4)の温度範囲で
所要の磁場Hwよりも十分大きく、室温下、Hc4<H
c3で適当な外部磁場Hiniのもとで、第3磁性膜は
記録状態を保ちつつ、第4磁性膜の磁化が一定の方向へ
そろい、又、外部磁場Hiniが除去された後も、室温
では同じ状態が保たれるように第4磁性膜に対する第3
磁性膜との交換結合による有効磁界が制御されており、
室温下、Hc1<Hc3で適当な外部磁場Hiniのも
とで、第3磁性膜の記録状態によらず第1磁性膜の磁化
が一定の方向へそろい、又、外部磁場Hiniが除去さ
れた後に室温で第3磁性膜の記録状態が、第1磁性膜に
転写されるように第1磁性膜に対する第2磁性膜を介し
ての第3磁性膜との交換結合による有効磁界が十分強い
ことを特徴とする光磁気記録媒体に関する。
【0010】本発明の光磁気記録媒体の記録方法を図2
を用いて説明する。まず第一に、媒体を回転させながら
記録するヘッドから離れた位置であらかじめ適当な外部
磁場Hiniをかけて第4磁性膜の磁化を一定の方向へ
そろえる。その後、外部磁場HwをHiniと反対の方
向にかけながら、磁性膜の温度がTc3〜Tem(但
し、Tem<Tc4)の温度範囲になるようなパワー
(P)と、磁性膜の温度がTc4以上の温度Twにな
るようなパワー(P)でレーザービームを変調しなが
ら照射することにより、重ね書きをすることを特徴とす
る。
【0011】書き込みの時、Pのパワ−が照射された
領域では冷却過程で第4磁性膜からの交換結合力によ
り、第4磁性膜から第3磁性膜へ消去状態が転写される
ので、記録層である第3磁性膜の磁化は消去方向へ向
く。Pのパワ−が照射された領域では冷却過程で第4
磁性膜が書き込み方向へ向き、さらに冷却しながら第4
の磁性膜からの交換結合による有効磁界により、第4磁
性膜から第3磁性膜へ書き込み状態が転写されるので、
記録層である第3の磁性膜の磁化は書き込み方向へ向
く。PとPでレ−ザ−ビ−ムを変調しながら照射す
ることにより、重ね書きが可能となる。
【0012】本発明の光磁気記録媒体の再生方法を図3
を用いて説明する。まず最初に、媒体を回転させながら
記録するヘッドから離れた位置であらかじめ請求項1の
適当な外部磁場Hiniで第1磁性膜の磁化を一定の方
向へそろえ、その後外部磁場が十分小さくなるような領
域を通過することにより、第3磁性膜の記録状態が第1
磁性膜に転写される。次に外部磁場Hrを印加しなが
ら、Tc2〜Trm(但し、Tc2<Trm<Tc3)
で磁性層が最大温度となるようなパワ−(Pr)でレ−
ザ−ビ−ムを照射しながら再生することを特徴とする。
【0013】これにより、第1磁性層のTc2以上の温
度領域(マスク領域)の磁化の向きをHrの方向へそろ
える。ここで、ビームスポット内にあり、マスク領域の
隣に存在する記録磁区とHrの方向が一致していれば磁
区は拡大し、反対であれば縮小するがマスク領域は、時
間的に変動しないパタ−ンなので、再生信号において直
流成分となり、直流成分をカットした信号成分はマスク
領域を除去した信号となる。
【0014】再生前に媒体に外部磁場Hiniをかける
必然性はないが、書き込みの後必ず、Hiniがかかる
ので、Hiniで第1磁性膜の磁化が一定の方向へそっ
た後外部磁場が十分小さくなるような領域を通過するこ
とにより、第3磁性膜の記録状態が第1磁性膜に転写さ
れる必要がある。
【0015】本発明の光磁気記録媒体では、上記第1磁
性膜、第2磁性膜、第3磁性膜及び第4磁性膜のキュリ
−温度、保磁力などを独立に制御できるので、読みだし
パワ−とオ−バ−ライトのパワ−のマ−ジンを十分にと
ることができる。
【0016】本発明の光磁気記録媒体の構造は、上述の
透明基板上に誘電体層を介して互いに磁気的に結合した
第1磁性膜、第2磁性膜、第3磁性膜及び第4磁性膜で
構成されれば特に限定されず、さらにその上に保護膜や
反射膜を積層していても良い。透明基板は、使用するレ
−ザ−の波長領域において十分透明であり、機械特性な
どの媒体基板としての特性が満たされれば、ガラス、ポ
リカ−ボネ−ト、アモルファスポリオレフィンなど特に
限定されない。
【0017】本発明の光磁気記録媒体において、第3磁
性膜と第4磁性膜との間に、中間層として、ごく薄い
(10〜200オングストローム)非磁性層や面内磁化
膜、軟磁性垂直磁化膜などを挿入することにより、第4
磁性膜に対する第3磁性膜との交換結合による有効磁界
を制御することが容易になり、外部磁場Hiniが大き
すぎない適当な値となり、外部磁場Hiniが除去され
た後も室温では第4磁性膜の磁化がHiniの方向へ保
つことが容易になる。
【0018】本発明の光磁気記録媒体の磁性膜の膜厚
は、第1磁性膜としてはレ−ザ−光の大部分が第1磁性
膜で吸収される膜厚で、250オングストローム以上5
00オングストローム以下が好ましい。第2磁性膜とし
ては、Tc2以上で第1磁性膜と第3磁性膜との交換結
合力を断ち切れる膜厚で、50オングストローム以上2
00オングストローム以下が好ましい。第3磁性膜とし
ては、記録が保持されるのに十分な膜厚で、200オン
グストローム以上800オングストローム以下が好まし
い。第4磁性膜としては、200オングストローム以上
1000オングストローム以下が好ましい。
【0019】
【実施例】図1に本発明に用いられる光磁気媒体の一例
を示す。ポリカ−ボネ−ト基板1上に、SiNからな
る誘電体層2(膜厚:800オングストローム)、Gd
FeCoからなる第1磁性膜3(膜厚:300オングス
トローム、Hc1:〜0.1kOe、Tc1:〜300
℃)、DyFeCoからなる第2磁性膜4(膜厚:10
0オングストローム、Hc2:〜4kOe、Tc2:〜
90℃)、TbFeCoからなる第3磁性膜5(膜厚:
600オングストローム、Hc3:〜15kOe、Tc
3:〜190℃)、GdTbFeCoからなる第4磁性
膜6(膜厚:700オングストローム、Hc4:〜1.
5kOe、補償温度:〜220℃、Tc4:〜270
℃)、さらに保護層としてSiN層7(膜厚:800
オングストローム)を形成した。
【0020】次に、この光磁気媒体を記録再生装置にセ
ットして、5kOeの初期化磁界発生部を、線速度5.
5m/secで通過させながら780nmの波長のレ−
ザ−ビ−ムを33%のデュ−ティ−で3.7MHzで変
調させながら5mWと9mWの2値のレ−ザ−パワ−で
記録を行なった。記録時のバイアス磁界は150 Oe
で初期化磁界(Hini)と反対方向にかけた。その
後、1mwのレ−ザ−ビ−ムを照射して再生を行なった
ところ、2値の信号の再生ができ、そのときのC/Nの
値は49dBであった。再生時にはバイアス磁界はかけ
なかった。
【0021】この3.7MHzの信号が記録されたトラ
ック上に、同じ線速度でレ−ザ−ビ−ムを33%のデュ
−ティ−で2MHzで変調させながら5mWと9mWの
2値のレ−ザ−パワ−で記録を行なった。その後、1m
wのレ−ザ−ビ−ムを照射して再生を行なったところ、
3.7MHzの信号のC/Nは5dB以下となり、2M
Hzの信号で50dB以上のC/Nが得られ、良好な重
ね書きが行なわれた。
【0022】さらに、同じトラック上に同じ線速度でレ
−ザ−ビ−ムを33%のデュ−ティ−で5.5MHzで
変調させながら5mWと9mWの2値のレ−ザ−パワ−
で記録を行なった。1mwのレ−ザ−ビ−ムを照射して
再生を行なったところ35dBのC/Nしか得られなか
った。つぎに初期化磁界(Hini)と同じ方向に30
0 Oeのバイアス磁界をかけながら、2.0mwまで
レ−ザ−パワ−を上昇させたところC/Nとしては45
dBがえられた。2MHzの信号はいずれの再生方法で
もC/Nは5dB以下で良好な重ね書きが行なわれた。
【0023】以上で本発明の光磁気媒体で従来再生が不
可能だった高記録密度領域での再生と光変調オ−バ−ラ
イトが同時に可能となることが確認された。
【0024】上記実施例の光磁気記録媒体において、第
3磁性膜と第4磁性膜との間に、中間層としてGdFe
Co層を100オングストローム挿入したところ、初期
化磁界(Hini)の値は2kOeまで減少し、光変調
オ−バ−ライト特性と記録保持の安定性がいずれも改善
された。
【0025】
【発明の効果】本発明の光磁気記録媒体では、記録密度
の向上をはかりながら、光変調オ−バ−ライトを可能と
することができる。また、上記第1磁性膜、第2磁性
膜、第3磁性膜及び第4磁性膜のキュリ−温度、保磁力
などを独立に制御できるので、再生時のレ−ザ−パワ−
とバイアス磁界、オ−バ−ライトのレ−ザ−パワ−、バ
イアス磁界のマ−ジンを十分にとることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明の光磁気記録媒体の構造の一例を示す
断面図である。
【図2】 本発明の光磁気記録媒体の記録方法を示す図
である。
【図3】 本発明の光磁気記録媒体の再生方法を示す図
である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI G11B 11/105 553 G11B 11/105 553H (56)参考文献 特開 平3−93056(JP,A) 特開 平5−73976(JP,A) 特開 平4−313833(JP,A) 特開 平3−97140(JP,A)

Claims (2)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】透明基板上に誘電体層を介して互いに磁気
    的に結合した第1磁性膜、第2磁性膜、第3磁性膜及び
    第4磁性膜をこの順に積層し、 第1磁性膜、第2磁性膜、第3磁性膜及び第4磁性膜の
    キュリ−温度をそれぞれTc1、Tc2、Tc3及びT
    c4とするとき、室温<Tc2<Tc1、室温<Tc2
    <Tc3、Tc3<Tc4であり、 第1磁性膜の保磁力Hc1は、Tc2近傍で再生磁場H
    rを印加したとき、第1磁性膜の磁化の向きがHrと同
    じ向きとなるよう、Hrより小さく、 第3磁性膜の保磁力Hc3は、室温〜Trm(但し、T
    c2<Trm<Tc3)の温度範囲で再生磁場Hrを
    したとき、第3磁性膜の磁化の向きが変化しないよ
    う、Hrよりも大きく、 第4磁性膜の保磁力Hc4は、室温〜Tem(但し、T
    c3<Tem<Tc4)の温度範囲で記録磁場Hwを
    したとき、第4磁性膜の磁化の向きが変化しないよ
    う、Hwよりも大きく、 室温下では、Hc4<Hc3であり、初期化磁場Hin
    iのもとで、第3磁性膜は記録状態を保ちつつ、第4磁
    性膜の磁化が一定の方向へそろい、又、初期化磁場Hi
    niが除去された後も、室温では同じ状態が保たれるよ
    うに第4磁性膜に対する第3磁性膜との交換結合によ
    る有効磁界が設定されており、 室温下では、Hc1<Hc3であり、初期化磁場Hin
    iのもとで、第3磁性膜の記録状態によらず第1磁性膜
    の磁化が一定の方向へそろい、又、初期化磁場Hini
    が除去された後に室温で第3磁性膜の記録状態が、第1
    磁性膜に転写されるように第1磁性膜に対する第2磁性
    膜を介しての第3磁性膜との交換結合による有効磁界が
    十分強い光磁気記録媒体を用い、 媒体を回転させながら、初期化磁場Hiniで第4磁性
    膜の磁化を一定の方向へそろえた後、記録磁場HwをH
    iniと反対の方向にかけながら、磁性膜の温度がTc
    3〜Tem(但し、Tc3<Tem<Tc4)の温度範
    囲になるようなパワ−(PL)と、磁性膜の温度がTc
    4以上の温度Twになるようなパワ−(PH)でレ−ザ
    −ビ−ムを変調しながら照射することにより重ね書きを
    行い、 媒体を回転させながら、初期化磁場Hiniで第1磁性
    膜の磁化を一定の方向へそろえた後、外部磁場を十分小
    さくすることにより、第3磁性膜の記録状態を第1磁性
    膜に転写させ、その後、再生磁場Hrを印加しながら、
    Tc2〜Trm(但し、Tc2<Trm<Tc3)まで
    の温度範囲に磁性膜の最大温度がなるようなパワ−(P
    r)でレ−ザ−ビ−ムを照射することにより再生を行う
    ことを特徴とする光磁気記録媒体の記録再生方法
  2. 【請求項2】第3磁性膜と第4磁性膜との間に、中間層
    として、厚さが10〜200オングストロームの非磁性
    膜、面内磁化膜又は軟磁性垂直磁化膜のいずれかが挿入
    された光磁気記録媒体を用いることを特徴とする請求項
    1記載の光磁気記録媒体の記録再生方法。
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