JPH10102287A - 竪型電解装置 - Google Patents
竪型電解装置Info
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- JPH10102287A JPH10102287A JP8280273A JP28027396A JPH10102287A JP H10102287 A JPH10102287 A JP H10102287A JP 8280273 A JP8280273 A JP 8280273A JP 28027396 A JP28027396 A JP 28027396A JP H10102287 A JPH10102287 A JP H10102287A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 メッキの高品質化及び高能率化を図り、さら
に、電力消費量を抑制して省エネルギー化も図ることが
できる竪型電解装置を提供する。 【解決手段】 電極部１７、１８と共に電解液が充満さ
れている下部タンク１１の上部に液絞り装置２６、２７
が配設され、液絞り装置２６、２７は、適宜間隔を置い
て対向して配設された２つのシールロール２４、２５か
ら形成され、シールロール２４、２５間を通してストリ
ップ２３が非接触状態に走行されるようにしている。
に、電力消費量を抑制して省エネルギー化も図ることが
できる竪型電解装置を提供する。 【解決手段】 電極部１７、１８と共に電解液が充満さ
れている下部タンク１１の上部に液絞り装置２６、２７
が配設され、液絞り装置２６、２７は、適宜間隔を置い
て対向して配設された２つのシールロール２４、２５か
ら形成され、シールロール２４、２５間を通してストリ
ップ２３が非接触状態に走行されるようにしている。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、主に、金属ストリ
ップ表面に錫、亜鉛、クロム等の金属の電解メッキを行
う竪型電解装置に関する。
ップ表面に錫、亜鉛、クロム等の金属の電解メッキを行
う竪型電解装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】例えば、特開平５−１７１４９５号公報
に提示されている竪型電解装置Ｂにおいては、図６に示
すように、ストリップ５０と電極５１、５２間に電解液
５３を供給し、ストリップ５０と電解液５３との間に攪
拌効果を与えている。また、竪型電解装置Ｂの最下部に
電解液５３の流出を防止する液シール装置５４、５４ａ
を設置し、電解液５３を保持し、高い電流密度を得るよ
うにしている。
に提示されている竪型電解装置Ｂにおいては、図６に示
すように、ストリップ５０と電極５１、５２間に電解液
５３を供給し、ストリップ５０と電解液５３との間に攪
拌効果を与えている。また、竪型電解装置Ｂの最下部に
電解液５３の流出を防止する液シール装置５４、５４ａ
を設置し、電解液５３を保持し、高い電流密度を得るよ
うにしている。
【０００３】また、特開昭６０−５６０９２号公報に提
示されている竪型電解装置Ｃにおいては、図７に示すよ
うに、電解液６０中に浸漬された電極６１、６２間に給
液ノズル６３、６４より電解液６０を供給し、ストリッ
プ６５と電解液６０との間に攪拌効果を与えるようにし
ている。
示されている竪型電解装置Ｃにおいては、図７に示すよ
うに、電解液６０中に浸漬された電極６１、６２間に給
液ノズル６３、６４より電解液６０を供給し、ストリッ
プ６５と電解液６０との間に攪拌効果を与えるようにし
ている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】ところで、上記した竪
型電解装置Ｂ、Ｃを含めて竪型電解装置において、高電
流密度で電解メッキを行うためには、メッキ界面に金属
イオンを効率よく供給し、かつ高電流密度電解によって
生じる大量のガスを迅速に電極間から除去する必要があ
る。しかし、この面で、上記した竪型電解装置Ｂ、Ｃ
は、未だ、以下の解決すべき課題を有していた。
型電解装置Ｂ、Ｃを含めて竪型電解装置において、高電
流密度で電解メッキを行うためには、メッキ界面に金属
イオンを効率よく供給し、かつ高電流密度電解によって
生じる大量のガスを迅速に電極間から除去する必要があ
る。しかし、この面で、上記した竪型電解装置Ｂ、Ｃ
は、未だ、以下の解決すべき課題を有していた。
【０００５】まず、特開平５−１７１４９５号公報に提
示されている竪型電解装置Ｂは、以下の問題を有してい
た。 高速通板時の液保持性の確保が困難である。即ち、電
極５１、５２で形成される電極部のみで電解液５３を保
持すると共に、電解液５３の流出防止は、竪型電解装置
Ｂの最下部において液シール装置５４、５４ａを構成す
る一対のシールロール５５、５５ａでストリップ５０を
挟持することによって行っている。従って、液シール装
置５４、５４ａにかかる負担が大きく、損傷の危険があ
る。
示されている竪型電解装置Ｂは、以下の問題を有してい
た。 高速通板時の液保持性の確保が困難である。即ち、電
極５１、５２で形成される電極部のみで電解液５３を保
持すると共に、電解液５３の流出防止は、竪型電解装置
Ｂの最下部において液シール装置５４、５４ａを構成す
る一対のシールロール５５、５５ａでストリップ５０を
挟持することによって行っている。従って、液シール装
置５４、５４ａにかかる負担が大きく、損傷の危険があ
る。
【０００６】竪型電解装置Ｂの最下部に設けた液シー
ル装置５４、５４ａでストリップ５０を挟持してシール
するため、特に、高速通板時にストリップ５０とシール
ロール５５、５５ａ間でスリップが生じ易く、メッキ面
に有害な疵が発生し、メッキ品質が低下する。また、ス
トリップ５０をシールロール５５、５５ａで挟持してい
るため、異物がストリップ５０とシールロール５５、５
５ａの間に噛み込まれた場合、ストリップ５０に押し傷
が発生しやすい。
ル装置５４、５４ａでストリップ５０を挟持してシール
するため、特に、高速通板時にストリップ５０とシール
ロール５５、５５ａ間でスリップが生じ易く、メッキ面
に有害な疵が発生し、メッキ品質が低下する。また、ス
トリップ５０をシールロール５５、５５ａで挟持してい
るため、異物がストリップ５０とシールロール５５、５
５ａの間に噛み込まれた場合、ストリップ５０に押し傷
が発生しやすい。
【０００７】また、上記したストリップ５０の表面へ
の疵や押し傷の発生と共に、液シール装置５４、５４ａ
を形成するシールロール５５、５５ａ自体の損傷も大き
くなる。従って、液シール装置５４、５４ａの液シール
性能の低下を来たし、電解液５３の液シール装置５４、
５４ａからの流出が増加し、電極５１間及び電極５２間
において、メッキを行うために必要な流速の保持ができ
なくなり、また、電解液５３の流れに不均一が生じ、メ
ッキ不良を生じる。
の疵や押し傷の発生と共に、液シール装置５４、５４ａ
を形成するシールロール５５、５５ａ自体の損傷も大き
くなる。従って、液シール装置５４、５４ａの液シール
性能の低下を来たし、電解液５３の液シール装置５４、
５４ａからの流出が増加し、電極５１間及び電極５２間
において、メッキを行うために必要な流速の保持ができ
なくなり、また、電解液５３の流れに不均一が生じ、メ
ッキ不良を生じる。
【０００８】一方、特開昭６０−５６０９２号公報に提
示されている竪型電解装置Ｃは、以下の問題を有してい
た。即ち、電極６１、６２を電解液６０の中に浸漬した
状態で、電極６１、６２に電解液６０を供給してメッキ
を行うため、電極６１間及び電極６２間に電解液を保持
するために液シール装置等を設けなくてよいが、ストリ
ップ６５の通板速度の高速化に伴い、ストリップ６５の
通板に伴い生じる随伴流による液の損失が増加し、スト
リップ６５と電極６１、６２間での流速確保が困難とな
り、メッキ焼け等のメッキ不良を生じる。また、随伴流
の増加に伴い、ストリップ６５の表裏面での液流れに差
が生じ易くなり、電極６１、６２とストリップ６５とが
接触する。
示されている竪型電解装置Ｃは、以下の問題を有してい
た。即ち、電極６１、６２を電解液６０の中に浸漬した
状態で、電極６１、６２に電解液６０を供給してメッキ
を行うため、電極６１間及び電極６２間に電解液を保持
するために液シール装置等を設けなくてよいが、ストリ
ップ６５の通板速度の高速化に伴い、ストリップ６５の
通板に伴い生じる随伴流による液の損失が増加し、スト
リップ６５と電極６１、６２間での流速確保が困難とな
り、メッキ焼け等のメッキ不良を生じる。また、随伴流
の増加に伴い、ストリップ６５の表裏面での液流れに差
が生じ易くなり、電極６１、６２とストリップ６５とが
接触する。
【０００９】本発明は、このような事情に鑑みてなされ
たもので、その主な目的は、高速通板時の電極間の液保
持を容易にすると共にストリップの電極への吸着現象を
可及的に阻止して、メッキの高品質化及びメッキ作業の
高能率化を図り、さらに、電力消費量を抑制して省エネ
ルギー化も図ることができる竪型電解装置を提供するこ
とを目的とする。
たもので、その主な目的は、高速通板時の電極間の液保
持を容易にすると共にストリップの電極への吸着現象を
可及的に阻止して、メッキの高品質化及びメッキ作業の
高能率化を図り、さらに、電力消費量を抑制して省エネ
ルギー化も図ることができる竪型電解装置を提供するこ
とを目的とする。
【００１０】
【課題を解決するための手段】前記目的に沿う請求項１
記載の竪型電解装置は、所定の間隔を置いて対向して配
設された電極間に形成された電極部にストリップを走行
させ、該電極部の上、下部のいずれかに配設された給液
装置より前記電極部に電解液を流して電解処理を行な
い、電解処理後の前記電解液を前記電極の上、下部のい
ずれかに配設された排液装置によって回収し、かつ、前
記電極部の下部に、前記給液装置又は前記排液装置を介
して、前記電極部と連通連結される下部タンクが配設さ
れている竪型電解装置において、前記電極部と共に前記
電解液が充満されている前記下部タンクの上部に液絞り
装置が配設され、該液絞り装置は、適宜間隔を置いて対
向して配設された２つのシールロールから形成され、該
シールロール間を通して前記ストリップが非接触状態に
走行されるようにしている。
記載の竪型電解装置は、所定の間隔を置いて対向して配
設された電極間に形成された電極部にストリップを走行
させ、該電極部の上、下部のいずれかに配設された給液
装置より前記電極部に電解液を流して電解処理を行な
い、電解処理後の前記電解液を前記電極の上、下部のい
ずれかに配設された排液装置によって回収し、かつ、前
記電極部の下部に、前記給液装置又は前記排液装置を介
して、前記電極部と連通連結される下部タンクが配設さ
れている竪型電解装置において、前記電極部と共に前記
電解液が充満されている前記下部タンクの上部に液絞り
装置が配設され、該液絞り装置は、適宜間隔を置いて対
向して配設された２つのシールロールから形成され、該
シールロール間を通して前記ストリップが非接触状態に
走行されるようにしている。
【００１１】請求項２記載の竪型電解装置は、請求項１
記載の竪型電解装置において、前記シールロールは駆動
モータによって回転駆動され、前記シールロールの周速
度は前記ストリップの走行速度と等しく設定され、前記
シールロールと前記ストリップと同期運転を可能として
いる。
記載の竪型電解装置において、前記シールロールは駆動
モータによって回転駆動され、前記シールロールの周速
度は前記ストリップの走行速度と等しく設定され、前記
シールロールと前記ストリップと同期運転を可能として
いる。
【００１２】請求項３記載の竪型電解装置は、所定の間
隔を置いて対向して配設された電極間に形成された電極
部にストリップを走行させ、該電極部の上、下部のいず
れかに配設された給液装置より前記電極部に電解液を流
して電解処理を行ない、電解処理後の前記電解液を前記
電極の上、下部のいずれかに配設された排液装置によっ
て回収し、かつ、前記電極部の下部に、前記給液装置又
は前記排液装置を介して、前記電極部と連通連結される
下部タンクが配設されている竪型電解装置において、前
記電極部と共に前記電解液が充満されている前記下部タ
ンクの上部に液絞り装置が配設され、該液絞り装置は、
所定の間隔を置いて対向して配設されると共に、前記間
隔が前記ストリップの進行方向に向けて漸次小さくなる
２つの左右対称のくさび状のシールブロックから形成さ
れ、前記シールブロック間を通して前記ストリップが非
接触状態に走行されるようにしている。
隔を置いて対向して配設された電極間に形成された電極
部にストリップを走行させ、該電極部の上、下部のいず
れかに配設された給液装置より前記電極部に電解液を流
して電解処理を行ない、電解処理後の前記電解液を前記
電極の上、下部のいずれかに配設された排液装置によっ
て回収し、かつ、前記電極部の下部に、前記給液装置又
は前記排液装置を介して、前記電極部と連通連結される
下部タンクが配設されている竪型電解装置において、前
記電極部と共に前記電解液が充満されている前記下部タ
ンクの上部に液絞り装置が配設され、該液絞り装置は、
所定の間隔を置いて対向して配設されると共に、前記間
隔が前記ストリップの進行方向に向けて漸次小さくなる
２つの左右対称のくさび状のシールブロックから形成さ
れ、前記シールブロック間を通して前記ストリップが非
接触状態に走行されるようにしている。
【００１３】請求項４記載の竪型電解装置は、請求項３
記載の竪型電解装置において、前記くさび状のシールブ
ロックは、前記電解液を、前記ストリップと対向する面
から該ストリップに向けて、該ストリップの全幅にわた
って供給する給液機構を具備する。
記載の竪型電解装置において、前記くさび状のシールブ
ロックは、前記電解液を、前記ストリップと対向する面
から該ストリップに向けて、該ストリップの全幅にわた
って供給する給液機構を具備する。
【００１４】
【発明の実施の形態】続いて、添付した図面を参照しつ
つ、本発明を具体化した実施の形態につき説明し、本発
明の理解に供する。 （第１の実施の形態）まず、図１及び図２を参照して、
本発明の第１の実施の形態に係る竪型電解装置Ａの構成
について説明する。
つ、本発明を具体化した実施の形態につき説明し、本発
明の理解に供する。 （第１の実施の形態）まず、図１及び図２を参照して、
本発明の第１の実施の形態に係る竪型電解装置Ａの構成
について説明する。
【００１５】図示するように、内部に反転ロール１０が
回転自在に配設されている下部タンク１１内には、電解
液１２が充填されている。下部タンク１１の上部には、
それぞれ給液装置１３と排液装置１４が連設されてお
り、一方、給液装置１３と排液装置１４の上部には、そ
れぞれ、電極部１７、１８が連設されている。ここで、
電極部１７、１８は、それぞれ、一対の電極１５、１６
間に形成されており、下部タンク１１と同様に電解液１
２が充填されている。また、電極１５、１６の上部に
は、それぞれ、前記した排液装置１４及び給液装置１３
と同様な構成を有する排液装置１９と給液装置２０とが
配設されており、下部タンク１１と同様に電解液１２が
充填されている。さらに、排液装置１９と給液装置２０
の上方には、それぞれコンダクターロール２１、２２が
配設されている。
回転自在に配設されている下部タンク１１内には、電解
液１２が充填されている。下部タンク１１の上部には、
それぞれ給液装置１３と排液装置１４が連設されてお
り、一方、給液装置１３と排液装置１４の上部には、そ
れぞれ、電極部１７、１８が連設されている。ここで、
電極部１７、１８は、それぞれ、一対の電極１５、１６
間に形成されており、下部タンク１１と同様に電解液１
２が充填されている。また、電極１５、１６の上部に
は、それぞれ、前記した排液装置１４及び給液装置１３
と同様な構成を有する排液装置１９と給液装置２０とが
配設されており、下部タンク１１と同様に電解液１２が
充填されている。さらに、排液装置１９と給液装置２０
の上方には、それぞれコンダクターロール２１、２２が
配設されている。
【００１６】上記した構成を有する竪型電解装置Ａに移
送されてきたストリップ２３は、まず、コンダクターロ
ール２１に巻回された後、電極部１７を通って下降し、
反転ロール１０で反転された後、電極部１８を通って上
昇し、コンダクターロール２２に巻回された後、次の工
程に移送されることになる。このストリップ２３の走行
と同時に、給液装置１３、２０から電極部１７、１８に
対して電解液１２が供給され、一定の流速が強制的に付
与されることによって、ストリップ２３に電解メッキが
施されることになる。また、電解メッキ後の電解液１２
は排液装置１９、１４によって回収されることになる。
送されてきたストリップ２３は、まず、コンダクターロ
ール２１に巻回された後、電極部１７を通って下降し、
反転ロール１０で反転された後、電極部１８を通って上
昇し、コンダクターロール２２に巻回された後、次の工
程に移送されることになる。このストリップ２３の走行
と同時に、給液装置１３、２０から電極部１７、１８に
対して電解液１２が供給され、一定の流速が強制的に付
与されることによって、ストリップ２３に電解メッキが
施されることになる。また、電解メッキ後の電解液１２
は排液装置１９、１４によって回収されることになる。
【００１７】ところで、上記した竪型電解装置Ａの構成
では、ストリップ２３の進行に伴い生じる随伴流によ
り、ストリップ進行方向へ電解液１２が引きずられるた
めに、電極１５間、又は電極１６間に供給された電解液
１２が、供給方向とは逆の方向に流れて電極部１７、１
８で十分な流速が確保できないことになる。
では、ストリップ２３の進行に伴い生じる随伴流によ
り、ストリップ進行方向へ電解液１２が引きずられるた
めに、電極１５間、又は電極１６間に供給された電解液
１２が、供給方向とは逆の方向に流れて電極部１７、１
８で十分な流速が確保できないことになる。
【００１８】本発明は、このような事情に鑑みなされた
もので、上記した竪型電解装置Ａにおいて、さらに、電
解液１２が充填されている下部タンク１１の上部に二つ
のシールロール２４、２５からなる液絞り装置２６、２
７を配設したことに特徴を有する。即ち、図１及び図２
に示すように、下部タンク１１の上部であって、給液装
置１３と排液装置１４の下方をなす箇所には、電解液１
２に浸漬された状態で、液絞り装置２６、２７が配設さ
れている。液絞り装置２６、２７は、同様な構成を有す
るので、以下、液絞り装置２６を参照して、その構成を
説明する。
もので、上記した竪型電解装置Ａにおいて、さらに、電
解液１２が充填されている下部タンク１１の上部に二つ
のシールロール２４、２５からなる液絞り装置２６、２
７を配設したことに特徴を有する。即ち、図１及び図２
に示すように、下部タンク１１の上部であって、給液装
置１３と排液装置１４の下方をなす箇所には、電解液１
２に浸漬された状態で、液絞り装置２６、２７が配設さ
れている。液絞り装置２６、２７は、同様な構成を有す
るので、以下、液絞り装置２６を参照して、その構成を
説明する。
【００１９】図２に示すように、液絞り装置２６は、ス
トリップ２３の厚さｔより０．３ｍｍ〜２．０ｍｍ大き
い間隔ｄを置いて対向して配設された２つのシールロー
ル２４から形成されており、シールロール２４間を通し
てストリップ２３が非接触状態に走行されるようにして
いる。
トリップ２３の厚さｔより０．３ｍｍ〜２．０ｍｍ大き
い間隔ｄを置いて対向して配設された２つのシールロー
ル２４から形成されており、シールロール２４間を通し
てストリップ２３が非接触状態に走行されるようにして
いる。
【００２０】かかる構成によって、ストリップ２３の通
板に伴い電解液１２は随伴流として流れようとするが、
電解液１２が電極部１７から下部タンク１１に流れる隙
間が液絞り装置２６によって小さく絞られているので、
流路損失が大きくなり、随伴流を抑制することができ
る。従って、電極部１７における電解液１２の流速を十
分に確保することができるので、均一な流れを保持で
き、良好な電解メッキを行うことができる。
板に伴い電解液１２は随伴流として流れようとするが、
電解液１２が電極部１７から下部タンク１１に流れる隙
間が液絞り装置２６によって小さく絞られているので、
流路損失が大きくなり、随伴流を抑制することができ
る。従って、電極部１７における電解液１２の流速を十
分に確保することができるので、均一な流れを保持で
き、良好な電解メッキを行うことができる。
【００２１】即ち、本実施の形態では、下部タンク１１
と給液装置１３との間に液絞り装置２６を介設すること
によって、低速から高速までの広い通板速度範囲で、電
極１５間の電解液１２の流速を常に安定して確保でき
る。従って、電流密度の向上が可能であり、高能率のメ
ッキ作業ができ、竪型電解装置Ａの設置数の低減が可能
である。特に、高速通板時に、通板に伴う随伴流による
電極１５間の電解液１２の流失抑制により、電極１５間
のストリップ２３の通板が安定する。このことによっ
て、電極間距離を短縮することが可能であり、電解時の
電解電圧の低減、ひいては、メッキ電力の削減が可能と
なる。
と給液装置１３との間に液絞り装置２６を介設すること
によって、低速から高速までの広い通板速度範囲で、電
極１５間の電解液１２の流速を常に安定して確保でき
る。従って、電流密度の向上が可能であり、高能率のメ
ッキ作業ができ、竪型電解装置Ａの設置数の低減が可能
である。特に、高速通板時に、通板に伴う随伴流による
電極１５間の電解液１２の流失抑制により、電極１５間
のストリップ２３の通板が安定する。このことによっ
て、電極間距離を短縮することが可能であり、電解時の
電解電圧の低減、ひいては、メッキ電力の削減が可能と
なる。
【００２２】また、本実施の形態では、シールロール２
４間の間隔ｄはストリップ２３の厚さより僅かに（０．
３ｍｍ〜２．０ｍｍ）大きくしているので、ストリップ
２３とシールロール２４との接触を防止することができ
る。即ち、ストリップ２３とシールロール２４との間に
異物が噛み込むのを可及的に防止することができ、異物
の噛み込みに起因する有害な疵の発生を可及的に無くす
ことができ、メッキ品質を向上することができると共
に、絞り効果も上げることができる。ここで、シールロ
ール２４間の間隔ｄをストリップ２３の厚さより０．３
ｍｍ〜２．０ｍｍ大きくしたのは、シールロール２４間
を通過する異物の最大寸法が０．３ｍｍ未満であり、一
方、ストリップ２３の表面に引きずられる液膜の最大厚
さは５ｍｍであるが、絞り効果を得るためには、液膜の
平均値である２．０ｍｍとする必要があることが、実験
的に判明したからである。
４間の間隔ｄはストリップ２３の厚さより僅かに（０．
３ｍｍ〜２．０ｍｍ）大きくしているので、ストリップ
２３とシールロール２４との接触を防止することができ
る。即ち、ストリップ２３とシールロール２４との間に
異物が噛み込むのを可及的に防止することができ、異物
の噛み込みに起因する有害な疵の発生を可及的に無くす
ことができ、メッキ品質を向上することができると共
に、絞り効果も上げることができる。ここで、シールロ
ール２４間の間隔ｄをストリップ２３の厚さより０．３
ｍｍ〜２．０ｍｍ大きくしたのは、シールロール２４間
を通過する異物の最大寸法が０．３ｍｍ未満であり、一
方、ストリップ２３の表面に引きずられる液膜の最大厚
さは５ｍｍであるが、絞り効果を得るためには、液膜の
平均値である２．０ｍｍとする必要があることが、実験
的に判明したからである。
【００２３】さらに、本実施の形態では、図２に示すよ
うに、シールロール２４は駆動モータ２８によって回転
駆動されるようにしている。具体的には、シールロール
２４の周速度はストリップ２３の走行速度と等しく設定
されており、シールロール２４とストリップ２３とを同
期運転することができる。従って、例え、ストリップ２
３が何らかの原因でシールロール２４に接触することが
あっても、ストリップ２３とシールロール２４は同一速
度で移動するので、実質的に、ストリップ２３はシール
ロール２４に接触していない状態と同じことになる。即
ち、ストリップ２３とシールロール２４との間に異物が
噛み込むのを可及的に防止することができ、異物の噛み
込みに起因する有害な疵の発生を可及的に無くすことが
でき、メッキ品質を向上することができる。なお、図２
に示すように、液絞り装置２６の上下隔壁２９、３０と
シールロール２４との間には、シール部材３１、３２が
介設されており、液絞り装置２６における電解液１２の
外部への漏出を確実に防止するようにしている。
うに、シールロール２４は駆動モータ２８によって回転
駆動されるようにしている。具体的には、シールロール
２４の周速度はストリップ２３の走行速度と等しく設定
されており、シールロール２４とストリップ２３とを同
期運転することができる。従って、例え、ストリップ２
３が何らかの原因でシールロール２４に接触することが
あっても、ストリップ２３とシールロール２４は同一速
度で移動するので、実質的に、ストリップ２３はシール
ロール２４に接触していない状態と同じことになる。即
ち、ストリップ２３とシールロール２４との間に異物が
噛み込むのを可及的に防止することができ、異物の噛み
込みに起因する有害な疵の発生を可及的に無くすことが
でき、メッキ品質を向上することができる。なお、図２
に示すように、液絞り装置２６の上下隔壁２９、３０と
シールロール２４との間には、シール部材３１、３２が
介設されており、液絞り装置２６における電解液１２の
外部への漏出を確実に防止するようにしている。
【００２４】以上、液絞り装置２６について、その構成
と効果を説明してきたが、下部タンク１１と排液装置１
４との間に設けた液絞り装置２７によっても、同様な効
果を奏することができる。即ち、低速から高速までの広
い通板速度範囲で、電極１６間の電解液１２の流速を常
に安定して確保できる。従って、電流密度の向上が可能
であり、高能率のメッキ作業ができ、竪型電解装置Ａの
設置数の低減が可能である。特に、高速通板時に、通板
に伴う随伴流による電極１６間の電解液１２の流失抑制
により、電極１６間のストリップ２３の通板が安定す
る。このことによって、電極間距離を短縮することが可
能であり、電解時の電解電圧の低減、ひいては、メッキ
電力の削減が可能である。
と効果を説明してきたが、下部タンク１１と排液装置１
４との間に設けた液絞り装置２７によっても、同様な効
果を奏することができる。即ち、低速から高速までの広
い通板速度範囲で、電極１６間の電解液１２の流速を常
に安定して確保できる。従って、電流密度の向上が可能
であり、高能率のメッキ作業ができ、竪型電解装置Ａの
設置数の低減が可能である。特に、高速通板時に、通板
に伴う随伴流による電極１６間の電解液１２の流失抑制
により、電極１６間のストリップ２３の通板が安定す
る。このことによって、電極間距離を短縮することが可
能であり、電解時の電解電圧の低減、ひいては、メッキ
電力の削減が可能である。
【００２５】（第２の実施の形態）次に、図３を参照し
て、本発明の第２の実施の形態に係る竪型電解装置Ａ１
の構成について説明する。図示するように、本実施の形
態は、第１の実施の形態における下部タンク１１に代え
て大型かつ長尺筒状の下部タンク３３を用い、この下部
タンク３３内に充填した電解液１２中に、排液装置１９
を除いて、第１の実施の形態における他の構成要素、即
ち、給液装置１３、排液装置１４、電極１５、電極１
６、給液装置２０、液絞り装置２６、２７を、同一のレ
イアウトで、浸漬したことを特徴とする。なお、これら
の構成要素については、第１の実施の形態における竪型
電解装置Ａと同一の構成を有するので、同一の符号で示
す。
て、本発明の第２の実施の形態に係る竪型電解装置Ａ１
の構成について説明する。図示するように、本実施の形
態は、第１の実施の形態における下部タンク１１に代え
て大型かつ長尺筒状の下部タンク３３を用い、この下部
タンク３３内に充填した電解液１２中に、排液装置１９
を除いて、第１の実施の形態における他の構成要素、即
ち、給液装置１３、排液装置１４、電極１５、電極１
６、給液装置２０、液絞り装置２６、２７を、同一のレ
イアウトで、浸漬したことを特徴とする。なお、これら
の構成要素については、第１の実施の形態における竪型
電解装置Ａと同一の構成を有するので、同一の符号で示
す。
【００２６】本実施の形態においても、第１の実施の形
態と同様に、下部タンク３３の上部に液絞り装置２６、
２７を配設することによって、低速から高速までの広い
通板速度範囲で、電極１５、１６間の電解液１２の流速
を常に安定して確保できることにより、電流密度の向上
が可能であり、高能率のメッキ作業ができ、竪型電解装
置Ａ１の設置数の低減が可能である。特に、高速通板時
に、通板に伴う随伴流による電極１５、１６間の電解液
１２の流失抑制により、電極１５、１６間のストリップ
２３の通板が安定する。このことによって、電極間距離
を短縮することが可能であり、電解時の電解電圧の低
減、ひいては、メッキ電力の削減が可能となる。
態と同様に、下部タンク３３の上部に液絞り装置２６、
２７を配設することによって、低速から高速までの広い
通板速度範囲で、電極１５、１６間の電解液１２の流速
を常に安定して確保できることにより、電流密度の向上
が可能であり、高能率のメッキ作業ができ、竪型電解装
置Ａ１の設置数の低減が可能である。特に、高速通板時
に、通板に伴う随伴流による電極１５、１６間の電解液
１２の流失抑制により、電極１５、１６間のストリップ
２３の通板が安定する。このことによって、電極間距離
を短縮することが可能であり、電解時の電解電圧の低
減、ひいては、メッキ電力の削減が可能となる。
【００２７】（第３の実施の形態）本実施の形態に係る
竪型電解装置Ａ２は、第１及び第２の実施の形態に係る
竪型電解装置Ａ、Ａ１の変容例に係る竪型電解装置に係
るものであり、液絞り装置２６に代えて、２つのくさび
状のシールブロック３５から形成した液絞り装置３４を
具備することを特徴とする。即ち、図４に示すように、
液絞り装置３４は、所定の間隔を置いて対向して配設さ
れると共に、間隔がストリップ２３の進行方向に向けて
漸次小さくなる２つの左右対称のくさび状のシールブロ
ック３５から形成されている。そして、最狭部の間隔は
ストリップ２３の厚さより０．３ｍｍ〜２．０ｍｍ大き
く設定されており、シールブロック３５間を通してスト
リップ２３が非接触状態に走行されるようにしている。
竪型電解装置Ａ２は、第１及び第２の実施の形態に係る
竪型電解装置Ａ、Ａ１の変容例に係る竪型電解装置に係
るものであり、液絞り装置２６に代えて、２つのくさび
状のシールブロック３５から形成した液絞り装置３４を
具備することを特徴とする。即ち、図４に示すように、
液絞り装置３４は、所定の間隔を置いて対向して配設さ
れると共に、間隔がストリップ２３の進行方向に向けて
漸次小さくなる２つの左右対称のくさび状のシールブロ
ック３５から形成されている。そして、最狭部の間隔は
ストリップ２３の厚さより０．３ｍｍ〜２．０ｍｍ大き
く設定されており、シールブロック３５間を通してスト
リップ２３が非接触状態に走行されるようにしている。
【００２８】かかる構成によって、ストリップ２３の通
板に伴い電解液１２は随伴流として流れようとするが、
電解液１２が電極部１７から下部タンク１１（又は３
３）に流れる隙間が液絞り装置３４によって小さく絞ら
れているので、流路損失が大きくなり、随伴流を抑制す
ることができる。従って、電極部１７における電解液１
２の流速を十分に確保することができるので、均一な流
れを保持でき、良好な電解メッキ作業を行うことができ
る。即ち、本実施の形態においても、第１の実施の形態
と同様に、下部タンク１１の上部に液絞り装置３４を配
設することによって、低速から高速までの広い通板速度
範囲で、電極１５間の電解液１２の流速を常に安定して
確保できることにより、電流密度の向上が可能であり、
高能率のメッキ作業ができ、竪型電解装置Ａ２の設置数
の低減が可能である。特に、高速通板時に、通板に伴う
随伴流による電極１５間の電解液１２の流失抑制によ
り、電極１５間のストリップ２３の通板が安定する。こ
のことによって、電極間距離を短縮することが可能であ
り、電解時の電解電圧の低減、ひいては、メッキ電力の
削減が可能となる。
板に伴い電解液１２は随伴流として流れようとするが、
電解液１２が電極部１７から下部タンク１１（又は３
３）に流れる隙間が液絞り装置３４によって小さく絞ら
れているので、流路損失が大きくなり、随伴流を抑制す
ることができる。従って、電極部１７における電解液１
２の流速を十分に確保することができるので、均一な流
れを保持でき、良好な電解メッキ作業を行うことができ
る。即ち、本実施の形態においても、第１の実施の形態
と同様に、下部タンク１１の上部に液絞り装置３４を配
設することによって、低速から高速までの広い通板速度
範囲で、電極１５間の電解液１２の流速を常に安定して
確保できることにより、電流密度の向上が可能であり、
高能率のメッキ作業ができ、竪型電解装置Ａ２の設置数
の低減が可能である。特に、高速通板時に、通板に伴う
随伴流による電極１５間の電解液１２の流失抑制によ
り、電極１５間のストリップ２３の通板が安定する。こ
のことによって、電極間距離を短縮することが可能であ
り、電解時の電解電圧の低減、ひいては、メッキ電力の
削減が可能となる。
【００２９】また、シールブロック３５間の間隔はスト
リップ２３の厚さより僅かに（０．３ｍｍ〜２．０ｍ
ｍ）大きくしているので、ストリップ２３とシールブロ
ック３５との接触を防止することができる。従って、ス
トリップ２３とシールブロック３５との間に異物が噛み
込むのを可及的に防止することができ、異物の噛み込み
に起因する有害な疵の発生を可及的に無くすことがで
き、メッキ品質を向上することができる。ここで、シー
ルブロック３５間の間隔をストリップ２３の厚さより
０．３ｍｍ〜２．０ｍｍ大きくしたのは、シールブロッ
ク３５間を通過する異物の最大寸法が０．３ｍｍ未満で
あり、一方、ストリップ２３の表面に引きずられる液膜
の最大厚さは５ｍｍであるが、絞り効果を得るために
は、液膜の平均値である２．０ｍｍとする必要があるこ
とが、実験的に判明したからである。なお、図４に示す
ように、シールブロック３５間の間隔は進退機構３６を
駆動することによって微調整することができる。また、
液絞り装置３４の上、下隔壁３７、３８とシールブロッ
ク３５との間には、シール部材３９、４０が介設されて
おり、液絞り装置３４における電解液１２の外部への漏
出を確実に防止するようにしている。
リップ２３の厚さより僅かに（０．３ｍｍ〜２．０ｍ
ｍ）大きくしているので、ストリップ２３とシールブロ
ック３５との接触を防止することができる。従って、ス
トリップ２３とシールブロック３５との間に異物が噛み
込むのを可及的に防止することができ、異物の噛み込み
に起因する有害な疵の発生を可及的に無くすことがで
き、メッキ品質を向上することができる。ここで、シー
ルブロック３５間の間隔をストリップ２３の厚さより
０．３ｍｍ〜２．０ｍｍ大きくしたのは、シールブロッ
ク３５間を通過する異物の最大寸法が０．３ｍｍ未満で
あり、一方、ストリップ２３の表面に引きずられる液膜
の最大厚さは５ｍｍであるが、絞り効果を得るために
は、液膜の平均値である２．０ｍｍとする必要があるこ
とが、実験的に判明したからである。なお、図４に示す
ように、シールブロック３５間の間隔は進退機構３６を
駆動することによって微調整することができる。また、
液絞り装置３４の上、下隔壁３７、３８とシールブロッ
ク３５との間には、シール部材３９、４０が介設されて
おり、液絞り装置３４における電解液１２の外部への漏
出を確実に防止するようにしている。
【００３０】さらに、図５に図４に示す液絞り装置３４
の変容例に係る液絞り装置４１を具備する竪型電解装置
Ａ３を示す。図示するように、シールブロック３５ａ
は、図４に示すシールブロック３５と略同一の構成を有
するが、さらに、電解液１２を、ストリップ２３と対向
する面からストリップ２３に向けて、しかも、ストリッ
プ２３の全幅にわたって供給する給液機構として給液管
４２を具備することを特徴とする。この給液管４２によ
って、シールブロック３５ａとストリップ２３との間に
動圧を発生して液膜を形成し、より確実に、ストリップ
２３とシールブロック３５ａとの接触を防止することが
できる。従って、メッキ品質をさらに向上することがで
きる。
の変容例に係る液絞り装置４１を具備する竪型電解装置
Ａ３を示す。図示するように、シールブロック３５ａ
は、図４に示すシールブロック３５と略同一の構成を有
するが、さらに、電解液１２を、ストリップ２３と対向
する面からストリップ２３に向けて、しかも、ストリッ
プ２３の全幅にわたって供給する給液機構として給液管
４２を具備することを特徴とする。この給液管４２によ
って、シールブロック３５ａとストリップ２３との間に
動圧を発生して液膜を形成し、より確実に、ストリップ
２３とシールブロック３５ａとの接触を防止することが
できる。従って、メッキ品質をさらに向上することがで
きる。
【００３１】以上、本発明を、実施の形態を参照して説
明してきたが、本発明は何ら上記した実施の形態に記載
の構成に限定されるものではなく、特許請求の範囲に記
載されている事項の範囲内で考えられるその他の実施の
形態や変容例も含むものである。
明してきたが、本発明は何ら上記した実施の形態に記載
の構成に限定されるものではなく、特許請求の範囲に記
載されている事項の範囲内で考えられるその他の実施の
形態や変容例も含むものである。
【００３２】
【発明の効果】請求項１及び２記載の竪型電解装置にお
いては、電極部と共に電解液が充満されている下部タン
クの上部に液絞り装置が配設され、液絞り装置は、適宜
間隔を置いて対向して配設された２つのシールロールか
ら形成され、シールロール間を通してストリップが非接
触状態に走行されるようにしている。
いては、電極部と共に電解液が充満されている下部タン
クの上部に液絞り装置が配設され、液絞り装置は、適宜
間隔を置いて対向して配設された２つのシールロールか
ら形成され、シールロール間を通してストリップが非接
触状態に走行されるようにしている。
【００３３】かかる構成によって、ストリップの通板に
伴い電解液は随伴流として流れようとするが、電解液が
電極部から下部タンクに流れる隙間が液絞り装置によっ
て小さく絞られているので、流路損失が大きくなり、随
伴流を抑制することができる。従って、電極部における
電解液の流速を十分に確保することができるので、均一
な流れを保持でき、良好な電解メッキ作業を行うことが
できる。即ち、低速から高速までの広い通板速度範囲
で、電極間の電解液の流速を常に安定して確保できるこ
とにより、電流密度の向上が可能であり、高能率のメッ
キができ、竪型電解装置の設置数の低減が可能である。
特に、高速通板時に、通板に伴う随伴流による電極間の
電解液の流失抑制により、電極間のストリップの通板が
安定する。このことによって、電極間距離を短縮するこ
とが可能であり、電解時の電解電圧の低減、ひいては、
メッキ電力の削減が可能である。また、シールロール間
の間隔はストリップの厚さより僅かに大きくしているの
で、ストリップとシールロールとの接触を防止すること
ができる。従って、ストリップとシールロールとの間に
異物が噛み込むのを可及的に防止することができ、異物
の噛み込みに起因する有害な疵の発生を可及的に無くす
ことができ、メッキ品質を向上することができる。
伴い電解液は随伴流として流れようとするが、電解液が
電極部から下部タンクに流れる隙間が液絞り装置によっ
て小さく絞られているので、流路損失が大きくなり、随
伴流を抑制することができる。従って、電極部における
電解液の流速を十分に確保することができるので、均一
な流れを保持でき、良好な電解メッキ作業を行うことが
できる。即ち、低速から高速までの広い通板速度範囲
で、電極間の電解液の流速を常に安定して確保できるこ
とにより、電流密度の向上が可能であり、高能率のメッ
キができ、竪型電解装置の設置数の低減が可能である。
特に、高速通板時に、通板に伴う随伴流による電極間の
電解液の流失抑制により、電極間のストリップの通板が
安定する。このことによって、電極間距離を短縮するこ
とが可能であり、電解時の電解電圧の低減、ひいては、
メッキ電力の削減が可能である。また、シールロール間
の間隔はストリップの厚さより僅かに大きくしているの
で、ストリップとシールロールとの接触を防止すること
ができる。従って、ストリップとシールロールとの間に
異物が噛み込むのを可及的に防止することができ、異物
の噛み込みに起因する有害な疵の発生を可及的に無くす
ことができ、メッキ品質を向上することができる。
【００３４】特に、請求項２記載の竪型電解装置におい
ては、シールロールは駆動モータによって回転駆動さ
れ、シールロールの周速度はストリップの走行速度と等
しく設定され、シールロールとストリップとの同期運転
を可能としている。従って、ストリップが何らかの原因
でシールロールに接触することがあっても、ストリップ
とシールロールは同一速度で移動するので、実質的に、
ストリップはシールロールに接触していない状態と同じ
ことになる。即ち、ストリップとシールロールとの間に
異物が噛み込むのを可及的に防止することができ、異物
の噛み込みに起因する有害な疵の発生を可及的に無くす
ことができ、メッキ品質を向上することができる。
ては、シールロールは駆動モータによって回転駆動さ
れ、シールロールの周速度はストリップの走行速度と等
しく設定され、シールロールとストリップとの同期運転
を可能としている。従って、ストリップが何らかの原因
でシールロールに接触することがあっても、ストリップ
とシールロールは同一速度で移動するので、実質的に、
ストリップはシールロールに接触していない状態と同じ
ことになる。即ち、ストリップとシールロールとの間に
異物が噛み込むのを可及的に防止することができ、異物
の噛み込みに起因する有害な疵の発生を可及的に無くす
ことができ、メッキ品質を向上することができる。
【００３５】請求項３及び４記載の竪型電解装置におい
ては、電極部と共に電解液が充満されている下部タンク
の上部に液絞り装置が配設され、液絞り装置は、所定の
間隔を置いて対向して配設されると共に、間隔がストリ
ップの進行方向に向けて漸次小さくなる２つの左右対称
のくさび状のシールブロックから形成され、シールブロ
ック間を通してストリップが非接触状態に走行されるよ
うにしている。
ては、電極部と共に電解液が充満されている下部タンク
の上部に液絞り装置が配設され、液絞り装置は、所定の
間隔を置いて対向して配設されると共に、間隔がストリ
ップの進行方向に向けて漸次小さくなる２つの左右対称
のくさび状のシールブロックから形成され、シールブロ
ック間を通してストリップが非接触状態に走行されるよ
うにしている。
【００３６】かかる構成によって、ストリップの通板に
伴い電解液は随伴流として流れようとするが、電解液が
電極部から下部タンクに流れる隙間が液絞り装置によっ
て小さく絞られているので、流路損失が大きくなり、随
伴流を抑制することができる。従って、電極部における
電解液の流速を十分に確保することができるので、均一
な流れを保持でき、良好な電解メッキ作業を行うことが
できる。即ち、低速から高速までの広い通板速度範囲
で、電極間の電解液の流速を常に安定して確保できるこ
とにより、電流密度の向上が可能であり、高能率のメッ
キ作業ができ、竪型電解装置の設置数の低減が可能であ
る。特に、高速通板時に、通板に伴う随伴流による電極
間の電解液の流失抑制により、電極間のストリップの通
板が安定する。このことによって、電極間距離を短縮す
ることが可能であり、電解時の電解電圧の低減、ひいて
は、メッキ電力の削減が可能である。また、シールブロ
ック間の最狭部の間隔はストリップの厚さより僅かに大
きくしているので、ストリップとシールロールとの接触
を防止することができる。従って、ストリップとシール
ロールとの間に異物が噛み込むのを可及的に防止するこ
とができ、異物の噛み込みに起因する有害な疵の発生を
可及的に無くすことができ、メッキ品質を向上すること
ができる。
伴い電解液は随伴流として流れようとするが、電解液が
電極部から下部タンクに流れる隙間が液絞り装置によっ
て小さく絞られているので、流路損失が大きくなり、随
伴流を抑制することができる。従って、電極部における
電解液の流速を十分に確保することができるので、均一
な流れを保持でき、良好な電解メッキ作業を行うことが
できる。即ち、低速から高速までの広い通板速度範囲
で、電極間の電解液の流速を常に安定して確保できるこ
とにより、電流密度の向上が可能であり、高能率のメッ
キ作業ができ、竪型電解装置の設置数の低減が可能であ
る。特に、高速通板時に、通板に伴う随伴流による電極
間の電解液の流失抑制により、電極間のストリップの通
板が安定する。このことによって、電極間距離を短縮す
ることが可能であり、電解時の電解電圧の低減、ひいて
は、メッキ電力の削減が可能である。また、シールブロ
ック間の最狭部の間隔はストリップの厚さより僅かに大
きくしているので、ストリップとシールロールとの接触
を防止することができる。従って、ストリップとシール
ロールとの間に異物が噛み込むのを可及的に防止するこ
とができ、異物の噛み込みに起因する有害な疵の発生を
可及的に無くすことができ、メッキ品質を向上すること
ができる。
【００３７】請求項４記載の竪型電解装置においては、
くさび状のシールブロックは、電解液を、ストリップと
対向する面からストリップに向けて、ストリップの全幅
にわたって供給する給液機構を具備する。この給液機構
によって、シールブロックとストリップとの間に動圧を
発生して液膜を形成し、より確実に、ストリップとシー
ルブロックとの接触を防止することができる。従って、
メッキ品質をさらに向上することができる。
くさび状のシールブロックは、電解液を、ストリップと
対向する面からストリップに向けて、ストリップの全幅
にわたって供給する給液機構を具備する。この給液機構
によって、シールブロックとストリップとの間に動圧を
発生して液膜を形成し、より確実に、ストリップとシー
ルブロックとの接触を防止することができる。従って、
メッキ品質をさらに向上することができる。
【図１】本発明の第１の実施の形態に係る竪型電解装置
の概念的構成説明図である。
の概念的構成説明図である。
【図２】同要部拡大説明図である。
【図３】本発明の第２の実施の形態に係る竪型電解装置
の概念的構成説明図である。
の概念的構成説明図である。
【図４】本発明の第３の実施の形態に係る竪型電解装置
の要部の説明図である。
の要部の説明図である。
【図５】同変容例の説明図である。
【図６】従来の竪型電解装置の概念的構成説明図であ
る。
る。
【図７】従来の竪型電解装置の概念的構成説明図であ
る。
る。
Ａ 竪型電解装置 Ａ１ 竪型電解
装置 Ａ２ 竪型電解装置 Ａ３ 竪型電解
装置 ｄ シールロール間の間隔 ｔ ストリップ
の厚さ １０ 反転ロール １１ 下部タン
ク １２ 電解液 １３ 給液装置 １４ 排液装置 １５ 電極 １６ 電極 １７ 電極部 １８ 電極部 １９ 排液装置 ２０ 給液装置 ２１ コンダク
ターロール ２２ コンダクターロール ２３ ストリッ
プ ２４ シールロール ２５ シールロ
ール ２６ 液絞り装置 ２７ 液絞り装
置 ２８ 駆動モータ ２９ 上隔壁 ３０ 下隔壁 ３１ シール部
材 ３２ シール部材 ３３ 下部タン
ク ３４ 液絞り装置 ３５ シールブ
ロック ３５ａ シールブロック ３６ 進退機構 ３７ 上隔壁 ３８ 下隔壁 ３９ シール部材 ４０ シール部
材 ４１ 液絞り装置 ４２ 給液管
装置 Ａ２ 竪型電解装置 Ａ３ 竪型電解
装置 ｄ シールロール間の間隔 ｔ ストリップ
の厚さ １０ 反転ロール １１ 下部タン
ク １２ 電解液 １３ 給液装置 １４ 排液装置 １５ 電極 １６ 電極 １７ 電極部 １８ 電極部 １９ 排液装置 ２０ 給液装置 ２１ コンダク
ターロール ２２ コンダクターロール ２３ ストリッ
プ ２４ シールロール ２５ シールロ
ール ２６ 液絞り装置 ２７ 液絞り装
置 ２８ 駆動モータ ２９ 上隔壁 ３０ 下隔壁 ３１ シール部
材 ３２ シール部材 ３３ 下部タン
ク ３４ 液絞り装置 ３５ シールブ
ロック ３５ａ シールブロック ３６ 進退機構 ３７ 上隔壁 ３８ 下隔壁 ３９ シール部材 ４０ シール部
材 ４１ 液絞り装置 ４２ 給液管
Claims (4)
- 【請求項１】 所定の間隔を置いて対向して配設された
電極間に形成された電極部にストリップを走行させ、該
電極部の上、下部のいずれかに配設された給液装置より
前記電極部に電解液を流して電解処理を行ない、電解処
理後の前記電解液を前記電極の上、下部のいずれかに配
設された排液装置によって回収し、かつ、前記電極部の
下部に、前記給液装置又は前記排液装置を介して、前記
電極部と連通連結される下部タンクが配設されている竪
型電解装置において、 前記電極部と共に前記電解液が充満されている前記下部
タンクの上部に液絞り装置が配設され、該液絞り装置
は、適宜間隔を置いて対向して配設された２つのシール
ロールから形成され、該シールロール間を通して前記ス
トリップが非接触状態に走行されるようにしたことを特
徴とする竪型電解装置。 - 【請求項２】 前記シールロールは駆動モータによって
回転駆動され、前記シールロールの周速度は前記ストリ
ップの走行速度と等しく設定され、前記シールロールと
前記ストリップとの同期運転を可能としたことを特徴と
する請求項１記載の竪型電解装置。 - 【請求項３】 所定の間隔を置いて対向して配設された
電極間に形成された電極部にストリップを走行させ、該
電極部の上、下部のいずれかに配設された給液装置より
前記電極部に電解液を流して電解処理を行ない、電解処
理後の前記電解液を前記電極の上、下部のいずれかに配
設された排液装置によって回収し、かつ、前記電極部の
下部に、前記給液装置又は前記排液装置を介して、前記
電極部と連通連結される下部タンクが配設されている竪
型電解装置において、 前記電極部と共に前記電解液が充満されている前記下部
タンクの上部に液絞り装置が配設され、該液絞り装置
は、所定の間隔を置いて対向して配設されると共に、前
記間隔が前記ストリップの進行方向に向けて漸次小さく
なる２つの左右対称のくさび状のシールブロックから形
成され、前記シールブロック間を通して前記ストリップ
が非接触状態に走行されるようにしたことを特徴とする
竪型電解装置。 - 【請求項４】 前記くさび状のシールブロックは、前記
電解液を、前記ストリップと対向する面から該ストリッ
プに向けて、該ストリップの全幅にわたって供給する給
液機構を具備することを特徴とする請求項３記載の竪型
電解装置。
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