ITMI20130497A1 - Apparato per il trattamento elettrolitico superficiale in continuo di semilavorati metallici, in particolare semilavorati metallici piatti. - Google Patents

Description

APPARATO PER IL TRATTAMENTO ELETTROLITICO SUPERFICIALE IN CONTINUO DI SEMILAVORATI METALLICI, IN PARTICOLARE SEMILAVORATI METALLICI PIATTI.

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La presente invenzione si riferisce a un apparato per il trattamento elettrolitico superficiale in continuo di semilavorati metallici, in particolare semilavorati piatti.

Per trattamento elettrolitico superficiale si intende indicare un qualsiasi trattamento elettrolitico di pulitura, preparazione, finitura e rivestimento delle superfici di semilavorati metallici, quale, per esempio, il decapaggio, lo sgrassaggio, la passivazione, il rivestimento metallico, la galvanizzazione e altri ancora.

Per semilavorati metallici s’intendono, in particolare, semilavorati metallici piatti, cioà ̈ semilavorati “bidimensionali†in forma, per esempio, di fogli, nastri e lamiere presentanti una coppia di facce piane contrapposte e ottenuti, in particolare, per laminazione, a caldo o a freddo, di materiale metallico, in particolare acciaio. Per semilavorati metallici s’intendono altresì fili, tondini, vergelle e simili.

È noto, per esempio, sottoporre i nastri metallici, in particolare nastri d’acciaio, ottenuti per laminazione a freddo a trattamenti di sgrassaggio elettrolitico volti a eliminare da essi gli oli e i grassi di laminazione.

Generalmente, lo sgrassaggio elettrolitico può avvenire per immersione in una soluzione elettrolitica o per lavaggio a spruzzo con una soluzione elettrolitica o per lavaggio con l’impiego di spazzole e con acqua ad alta pressione.

Nel caso in cui lo sgrassaggio elettrolitico avvenga per immersione, il nastro metallico à ̈ immerso in una vasca contenente una soluzione elettrolitica e una coppia di elettrodi che à ̈ disposta in corrispondenza delle facce opposte del nastro, come per esempio descritto in JP8174042-A, in US6,216,304B1, in US4,035,256 o in US6,547,886B1.

Nel caso in cui lo sgrassaggio elettrolitico avvenga a spruzzo, la soluzione elettrolitica à ̈ spruzzata sulle facce opposte del nastro metallico attraverso ugelli disposti in corrispondenza delle facce opposte del nastro stesso e sui quali sono montanti gli elettrodi, come per esempio descritto in JP10237700 o in US6,547,996B1.

La presente invenzione si riferisce a un apparato per il trattamento superficiale elettrolitico in continuo “a immersione†di semilavorati metallici, in particolare semilavorati metallici piatti, in cui cioà ̈ i semilavorati vengono fatti avanzare in modo continuo attraverso una vasca di contenimento di una soluzione elettrolitica nella quale essi sono immersi e in cui almeno una coppia di elettrodi à ̈ immersa in tale stessa soluzione con gli elettrodi disposti tra loro affacciati e fra i quali viene fatto avanzare il semilavorato.

Uno dei problemi che si riscontra nella conduzione dei trattamenti superficiali elettrolitici “a immersione†à ̈ quello dell’allontanamento e della rimozione delle scorie, generalmente in forma di polverini metallici, scaglie o fanghi, dei prodotti di reazione, generalmente in forma di gas (tipicamente idrogeno o ossigeno), ed eventualmente del calore che sono prodotti e si generano durante tali trattamenti.

Le scorie, i residui e i prodotti di reazione anche gassosi, nonché il calore, infatti, tendono ad addensarsi sul semilavorato metallico e/o sugli elettrodi impedendo sia il contatto continuo e omogeneo fra il semilavorato metallico e la soluzione elettrolitica, sia il corretto passaggio di corrente fra gli elettrodi, la soluzione elettrolitica e il semilavorato metallico anche con rischi di scariche elettriche o di rottura degli elettrodi.

Tale problematica incide negativamente sui consumi energetici dei trattamenti superficiali elettrolitici e sulla loro resa ed efficienza.

WO2011/039596 descrive un apparato per il trattamento superficiale elettrolitico di nastri metallici che in parte risolve questo problema grazie a una particolare configurazione della vasca di contenimento della soluzione elettrolitica e delle coppie di elettrodi immerse in quest’ultima.

In corrispondenza di ciascuna coppia di elettrodi, infatti, la vasca presenta una conformazione a tramoggia dotata di mezzi di scarico dei materiali di scarto.

Gli elettrodi di ciascuna coppia di elettrodi, inoltre, hanno una struttura “discontinua†e sono costituiti da una pluralità di barre o lastre disposte tra loro parallele e distanziate in modo da definire dei varchi che consentono l’evacuazione degli scarti e dei prodotti di reazione che si generano durante il trattamento superficiale elettrolitico.

La soluzione elettrolitica à ̈ tenuta in agitazione attraverso un sistema d’immissione di nuova soluzione elettrolitica eventualmente costituita da soluzione rigenerata. Tale sistema comprende una pluralità di bocche d’immissione della soluzione elettrolitica che sono alimentate da una pompa e che sono disposte sulle pareti della vasca preferibilmente in corrispondenza di ciascuna coppia di elettrodi in modo da essere immerse nella soluzione elettrolitica a livello del nastro metallico o sotto di esso. La soluzione elettrolitica immessa nella vasca attraverso tali bocche d’immissione mantiene la soluzione elettrolitica agitata in particolare in corrispondenza del nastro metallico e delle coppie di elettrodi così da favorire la rimozione e l’allontanamento degli scarti e dei prodotti di reazione.

Scopo della presente invenzione à ̈ quello di proporre un apparato per il trattamento superficiale elettrolitico in continuo di semilavorati metallici, in particolare semilavorati metallici piatti, che permetta di ovviare agli inconvenienti della tecnica nota e in particolare che permetta di migliorare l’asportazione delle scorie, dei residui, dei prodotti di reazione e dell’eventuale calore che si generano durante tali trattamenti dalla zona di trattamento senza costi energetici aggiuntivi.

Un altro scopo ancora della presente invenzione à ̈ quello di proporre un apparato per il trattamento superficiale elettrolitico in continuo di semilavorati metallici, in particolare semilavorati metallici piatti, che consenta di migliorare l’omogeneizzazione e la circolazione della soluzione elettrolitica e, conseguentemente, di incrementare l’efficienza di trattamento, ovvero di ridurne i dispendi energetici.

Un ulteriore scopo della presente invenzione à ̈ quello di proporre un apparato per il trattamento superficiale elettrolitico in continuo di semilavorati metallici, in particolare semilavorati metallici piatti, particolarmente semplice e funzionale con costi contenuti.

Questi scopi secondo la presente invenzione sono raggiunti realizzando un apparato per il trattamento superficiale elettrolitico in continuo di semilavorati metallici, in particolare semilavorati metallici piatti, come esposto nella rivendicazione 1.

Ulteriori caratteristiche sono previste nelle rivendicazioni dipendenti.

Le caratteristiche e i vantaggi di un apparato per il trattamento superficiale elettrolitico in continuo di semilavorati metallici, in particolare semilavorati metallici piatti, secondo la presente invenzione risulteranno maggiormente evidenti dalla descrizione seguente, esemplificativa e non limitativa, riferita ai disegni schematici allegati in cui:

la figura 1 rappresenta in modo schematico una possibile forma di realizzazione dei mezzi di immissione e agitazione della soluzione elettrolitica di un apparato secondo la presente invenzione idoneo, in particolare, per linee ad alta velocità di avanzamento del semilavorato metallico (velocità > 1 m/s);

la figura 1A rappresenta su scala ingrandita un particolare di figura 1;

la figura 2 rappresenta in modo schematico un’altra possibile forma di realizzazione dei mezzi di immissione e agitazione della soluzione elettrolitica di un apparato secondo la presente invenzione idoneo, in particolare, per linee a bassa velocità di avanzamento del semilavorato metallico (velocità < 1 m/s);

la figura 2A rappresenta su scala ingrandita un particolare di figura 2;

la figura 3 rappresenta in sezione schematica longitudinale un apparato secondo la presente invenzione di tipo “orizzontale†;

la figura 4 à ̈ una sezione dell’apparato di figura 3 secondo il piano IV-IV;

le figure 5A e 5B mostrano su scala ingrandita rispettivamente i dettagli VA e VB di figura 3;

la figura 5C mostra su scala ingrandita un’alternativa forma di realizzazione del particolare di figura 5A o 5B;

la figura 6 rappresenta in sezione schematica longitudinale un apparato secondo la presente invenzione di tipo “verticale†;

la figura 7 mostra su scala ingrandita il dettaglio VII di figura 6.

Con riferimento alle allegate figure, viene illustrato un apparato per il trattamento elettrolitico superficiale in continuo di semilavorati metallici, in particolare semilavorati metallici piatti, complessivamente indicato con 10.

L’apparato 10 à ̈ applicabile per l’esecuzione di trattamenti elettrolitici superficiali in continuo e a cosiddetta “immersione†, in cui cioà ̈ il semilavorato metallico 11 avanza in modo continuo in una vasca 12 contenente una soluzione elettrolitica SE nella quale sono immersi sia il semilavorato 11 stesso, sia gli elettrodi disposti tra loro contrapposti e fra i quali viene fatto avanzare il semilavorato 11 e che, nel caso in cui il semilavorato 11 sia piatto, sono disposti in corrispondenza delle facce opposte di esso.

Per trattamento elettrolitico superficiale s’intende, per esempio, un trattamento di sgrassaggio, decapaggio, passivazione, rivestimento, galvanizzazione, deposizione o simili.

Per semilavorato metallico s’intende indicare in particolare un semilavorato metallico piatto, cioà ̈ un semilavorato “bidimensionale†continuo del tipo di una lastra, un nastro, una billetta o simili che presenta due facce piane opposte; sebbene non si escluda la possibilità di applicare l’apparato 10 secondo la presente invenzione anche per trattamenti di semilavorati metallici continui “mono-dimensionali†del tipo di fili, tondini o vergelle.

Nelle allegate figure il semilavorato metallico 11 à ̈ un semilavorato metallico piatto ed à ̈ costituito da un nastro continuo in metallo, tipicamente acciaio, che presenta due facce 11a,11b opposte e corrispondenti alle superfici maggiori del nastro stesso.

Con riferimento alle figure, l’apparato 10 comprende una vasca 12 di contenimento della soluzione elettrolitica SE e all’interno della quale viene fatto avanzare in modo continuo il semilavorato 11 lungo una direzione e nel verso di avanzamento indicati dalla freccia F.

L’apparato 10 comprende, inoltre, mezzi di immersione 13 del semilavorato 11 nella soluzione elettrolitica SE e almeno una coppia di elettrodi 14 tra loro contrapposti e fra i quali viene fatto avanzare in modo continuo il semilavorato 11.

Preferibilmente, à ̈ prevista una pluralità di coppie di elettrodi 14 che si susseguono lungo il percorso di avanzamento del semilavorato 11.

Ciascuna coppia di elettrodi 14 comprende almeno un primo elettrodo 15 affacciato a una delle due facce 11a,11b del semilavorato 11 e a una definita distanza da essa così da definire una prima intercapedine 16 e almeno un secondo elettrodo 17 affacciato all’altra delle due facce 11a,11b del semilavorato 11 e a una definita distanza da essa così da definire una seconda intercapedine 18. Nel caso in cui il semilavorato 11 sia del tipo di un filo, un tondino o una vergella, il primo elettrodo 15 e il secondo elettrodo 17 sono tra loro contrapposti e affacciati alle facce opposte del piano di avanzamento del semilavorato 11 a una predefinita distanza dal semilavorato 11. Per semplicità, nel seguito della descrizione si farà riferimento al caso in cui il semilavorato 11 à ̈ di tipo piatto e alle facce piane opposte 11a, 11b di esso.

Il primo elettrodo 15 e il secondo elettrodo 17 sono entrambi immersi nella soluzione elettrolitica SE e sono associabili a un gruppo di alimentazione elettrica non rappresentato, essendo di tipo noto.

Ciascuna coppia di elettrodi 14, inoltre, presenta, rispetto alla direzione e al verso di avanzamento F del semilavorato 11 un’estremità di ingresso schematicamente rappresentata dalla traccia 14a e un’estremità di uscita schematicamente indicata dalla traccia 14b.

L’apparato 10 comprende, poi, mezzi di immissione e di agitazione 19 della soluzione elettrolitica SE contenuta nella vasca 12.

Secondo una caratteristica peculiare della presente invenzione, i mezzi di immissione e agitazione 19 comprendono almeno un condotto 20 che à ̈ disposto in corrispondenza di almeno una delle coppie di elettrodi 14, preferibilmente in corrispondenza di ciascuna di esse, e che à ̈ associato a e in comunicazione fluida con almeno un ugello 21, preferibilmente con una pluralità di ugelli 21, di immissione della soluzione elettrolitica SE alimentata da mezzi di alimentazione 22.

Utilmente, per ciascuna coppia di elettrodi 14 à ̈ prevista una coppia di condotti 20 ciascuno dei quali à ̈ associato a rispettivi ugelli 21 e che sono simmetricamente disposti rispetto al piano di avanzamento del semilavorato 11, così da non alterare l’andamento di quest’ultimo.

In maggior dettaglio, ciascun condotto 20 presenta un’estremità di mandata 20a che à ̈ affacciata a una delle due facce 11a,11b in corrispondenza rispettivamente della prima intercapedine 16 o della seconda intercapedine 18 e un’estremità di aspirazione 20b che à ̈ opposta all’estremità di mandata 20a, aperta e immersa nella soluzione elettrolitica SE.

Vantaggiosamente, sia l’estremità di aspirazione 20b, sia l’estremità di mandata 20a si estendono per l’intera larghezza del semilavorato 11 e gli ugelli 21 sono disposti l’uno in successione all’altro per l’intera estensione dell’estremità di aspirazione 20b del rispettivo condotto 20.

Ciascun ugello 21 à ̈ disposto in modo tale che la sua bocca di uscita 21a sia disposta in corrispondenza di e in comunicazione fluida con l’estremità di aspirazione 20b del corrispondente condotto 20.

La bocca di uscita 21a degli ugelli 21 può essere disposta all’ingresso dell’estremità di aspirazione 20b del rispettivo condotto 20 o a valle di essa verso l’interno del rispettivo condotto 20.

L’estremità di aspirazione 20b di ciascun condotto 20 rimane aperta e in comunicazione fluida con l’ambiente interno alla vasca 12 e immersa nella soluzione elettrolitica SE senza essere occlusa dagli ugelli 21 disposti in corrispondenza di essa. In questo modo, il getto di soluzione elettrolitica che à ̈ emesso da ciascun ugello 21 richiama dall’ambiente interno alla vasca 12 una corrente di soluzione elettrolitica che entra nel rispettivo condotto 20 attraverso la sua estremità di aspirazione 20b. La corrente di soluzione elettrolitica così richiamata all’interno di ciascun condotto 20 si miscela con il getto di soluzione elettrolitica emesso da ciascun ugello 21 associato al condotto 20 stesso per uscire dall’estremità di mandata 20a di quest’ultimo in corrispondenza della prima intercapedine 16 o della seconda intercapedine 18, ove crea turbolenza e rimescolamento della soluzione elettrolitica SE favorendo la rimozione e l’allontanamento dei residui e delle scorie di trattamento in forma di scaglie, polverini o gas, nonché l’asportazione del calore che eventualmente si genera, sia dal semilavorato 11, sia dal primo elettrodo 15, sia dal secondo elettrodo 17.

Si ha così un effetto di “moltiplicazione della portata†rispetto a quella emessa dai singoli ugelli 21 senza il dispendio di ulteriore energia oltre a quella necessaria per il funzionamento dei mezzi di alimentazione 22.

In una preferita forma di realizzazione, ciascun condotto 20 comprende un tratto convergente 20’ verso l’estremità di mandata 20a e che ha origine a partire dall’estremità di aspirazione 20b.

Gli ugelli 21 associati a ciascun condotto 20 sono disposti in modo tale che la loro bocca di uscita 21a si trovi in corrispondenza di o a monte della sezione minore del tratto convergente 20’.

Vantaggiosamente, a valle, rispetto al verso della corrente della soluzione elettrolitica che fluisce attraverso il condotto 20, del tratto convergente 20’ à ̈ presente un tratto divergente 20’’ verso l’estremità di mandata 20a. Tale tratto divergente 20’’ à ̈ raccordato al tratto convergente 20’ e consente di incrementare la pressione della corrente derivante dalla miscelazione dei getti di soluzione elettrolitica emessi dagli ugelli 21 e della corrente di soluzione elettrolitica aspirata dall’ambiente interno alla vasca 12 attraverso l’estremità di aspirazione 20b del condotto 20.

Ciascun condotto 20, cioà ̈, ha, visto in sezione su un piano ortogonale al piano di avanzamento del semilavorato 11 e parallelo alla direzione di avanzamento F di esso, forma di un tubo di Venturi convergente - divergente.

In una possibile forma di realizzazione, inoltre, ciascun condotto 20 può comprendere un tratto deviatore 20’’’ che sbocca in corrispondenza della sua estremità di mandata 20a per deviare la corrente di soluzione elettrolitica che fluisce attraverso esso lungo una direzione con componente non nulla sul piano di avanzamento del semilavorato 11 e nello stesso verso di avanzamento di quest’ultimo. In pratica, la direzione lungo la quale viene deviata la corrente di soluzione elettrolitica in uscita da ciascun condotto 20 incide il piano di avanzamento del semilavorato 11 con un angolo di incidenza α non nullo (figure 5A-5C).

In alternativa o in aggiunta alla previsione del tratto deviatore 20’’’, ciascun condotto 20, considerato in sezione lungo un piano ortogonale al piano di avanzamento del semilavorato 11 e parallelo alla direzione di avanzamento F di quest’ultimo, presenta asse longitudinale o sviluppo assiale A incidente tale piano di avanzamento con un angolo di incidenza α < 90° in funzione della velocità di avanzamento del semilavorato 11 come verrà più avanti descritto. In funzione del tipo di trattamento superficiale da eseguire e, in particolare, della velocità di avanzamento del semilavorato 11, come verrà più avanti descritto, il condotto 20 associato a ciascuna coppia di elettrodi 14 può essere disposto a una delle due estremità opposte di quest’ultima, vantaggiosamente in corrispondenza dell’estremità di ingresso 14a di essa, o in una posizione a esse intermedia.

In una preferita e vantaggiosa forma di realizzazione, il primo elettrodo 15 e il secondo elettrodo 17 di ciascuna coppia di elettrodi 14 ha struttura “discontinua†e comprende una pluralità di barre o lastre 150,170 che si estendono per la larghezza del semilavorato 11 e che sono disposte tra loro parallele e spaziate a una definita distanza l’una dall’altra a formare varchi per l’allontanamento e la rimozione dei residui e delle scorie di trattamento. Le barre o lastre 150, 170 sono disposte tra loro parallele su piani ortogonali al piano di avanzamento del semilavorato 11 e incidenti la direzione di avanzamento F di quest’ultimo.

In tal caso, ciascun condotto 20 à ̈ vantaggiosamente delimitato da una coppia di tali barre o lastre 150, 170 tra loro adiacenti o, in particolare qualora definito a una delle estremità di ingresso o uscita 14a,14b di ciascuna coppia di elettrodi 14, da una di tali barre o lastre 150, 170 e da un’affacciata barra o lastra 23 in materiale elettricamente isolante.

È evidente che in tal caso le lastre 150,170 che delimitano il condotto 20 possono avere spessore maggiorato e sono disposte con la propria faccia di estensione maggiore parallela a un piano ortogonale al piano di avanzamento del semilavorato 11 e incidente la direzione di avanzamento F.

In tal caso, le facce delle due barre o lastre 150,170 adiacenti o di tale barra o lastra 150,170 e dell’affacciata barra o lastra 23 in materiale elettricamente isolante tra loro affrontate definiscono le pareti del condotto 20 e sono sagomate in modo tale da definire il tratto convergente 20’, il tratto divergente 20’’ e il tratto deviatore 20’’’ di esso, se presenti.

In alternativa, il primo elettrodo 15 e il secondo elettrodo 17 comprendono ciascuno una piastra 250, 270 che si estende parallelamente al piano di avanzamento del semilavorato 11 e che presenta almeno una feritoia 251,271 che si estende per la larghezza del semilavorato 11 e in corrispondenza della quale à ̈ definito o associato il rispettivo condotto 20 (figure 6 e 7).

Secondo un’ulteriore caratteristica peculiare della presente invenzione, in corrispondenza dell’estremità di ingresso 14a di ciascuna coppia di elettrodi 14 à ̈ presente imbocco 24 di guida del semilavorato 11 fra il primo elettrodo 15 e il secondo elettrodo 17.

L’imbocco 24 à ̈ immerso nella soluzione elettrolitica SE e, visto su un piano ortogonale al piano di avanzamento del semilavorato 11 e parallelo alla direzione di avanzamento F di quest’ultimo, presenta un primo tratto 24’ convergente nel verso di avanzamento del semilavorato 11.

A valle del primo tratto 24’ à ̈ previsto un secondo tratto 24’’ di raccordo con le superfici del primo elettrodo 15 e del secondo elettrodo 17 della rispettiva coppia di elettrodi 14 affacciata alla rispettiva faccia 11a,11b del semilavorato 11.

Il secondo tratto 24’’ può avere sezione costante o divergente.

L’imbocco 24 ha le estremità opposte, e di queste, in particolare, l’estremità di ingresso definita in corrispondenza della sezione maggiore del primo tratto 24’, aperte e immerse nella soluzione elettrolitica SE.

A seguito del moto di avanzamento del semilavorato 11 attraverso l’imbocco 24, una corrente di soluzione elettrolitica viene aspirata all’interno dell’imbocco 24 attraverso la sua estremità di ingresso. Tale corrente fluisce verso la prima intercapedine 16 e la seconda intercapedine 18 ove contribuisce a creare turbolenza per favorire la miscelazione della soluzione elettrolitica e allontanare i residui, le scorie e i gas che si sviluppano a seguito del trattamento dal semilavorato 11 e dagli elettrodi della coppia di elettrodi 14.

L’imbocco 24 à ̈ realizzato in materiale elettricamente isolante ed à ̈ costituito da un primo corpo 240 e un secondo corpo 241 che si estendono per la larghezza del semilavorato 11 e che sono conformati e disposti simmetricamente rispetto al piano di avanzamento del semilavorato 11 stesso.

I mezzi di alimentazione 22 della soluzione elettrolitica SE agli ugelli 21 comprendono mezzi a pompa 26 che pescano da un serbatoio 27 di soluzione elettrolitica fresca o rigenerata o da una linea di ricircolo della soluzione elettrolitica presente nella vasca 12 e non raffigurata.

In corrispondenza di ciascuna coppia di elettrodi 14, la vasca 12 presenta una tramoggia 28 provvista sul fondo di mezzi di scarico 29 di materiali di scarto prodotti durante il trattamento superficiale elettrolitico collegati a una linea di raccolta e allontanamento 30, come per esempio descritto in WO2011/039596 qui richiamato.

I mezzi di immersione 13 comprendono almeno un rullo deflettore 31 disposto in corrispondenza dell’estremità di ingresso della vasca 12, almeno un rullo deflettore 32 in corrispondenza dell’estremità di uscita della vasca 12 e almeno un rullo immersore 33 del semilavorato 11 nella soluzione elettrolitica e che à ̈ interposto fra il rullo deflettore 31 di ingresso e il rullo deflettore 32 di uscita.

A monte e a valle, rispetto al verso di avanzamento F del semilavorato 11, di ciascun rullo immersore 33 Ã ̈ presente una rispettiva coppia di elettrodi 14, come descritto in WO2011/039596 che qui si richiama.

Le allegate figure mostrano diverse forme di realizzazione di un apparato 10 secondo la presente invenzione che verranno ora descritte in maggior dettaglio.

Le figure 1 e 1A mostrano in modo schematico un apparato 10 di tipo “orizzontale†idoneo a trattamenti ad alta velocità di avanzamento del semilavorato 11 cioà ̈ a velocità maggiori di 1m/s. Tali figure mostrano, un’unica coppia di elettrodi 14 disposta a valle del rullo immersore 33 all’ingresso della vasca 12.

All’estremità di ingresso 14a della coppia di elettrodi 14 à ̈ presente l’imbocco 24; la coppia di elettrodi 14 e l’imbocco 24 sono immersi nella soluzione elettrolitica SE contenuta nella vasca 12.

Il primo elettrodo 15 e il secondo elettrodo 17 sono ciascuno costituito da una pluralità di lastre 150,170 che si estendono per la larghezza del semilavorato 11 e che sono disposte tra loro parallele su piani ortogonali al piano di avanzamento del semilavorato 11 e incidenti la direzione di avanzamento F del semilavorato 11 tra loro distanziate così da definire varchi per l’allontanamento degli scarti, dei residui e dei gas che originano dal trattamento superficiale.

Fra le prime due lastre 150,170 adiacenti di ciascuno del primo elettrodo 15 e del secondo elettrodo 17 à ̈ definito un rispettivo condotto 20 di tipo convergente-divergente (del tipo a “Venturi†) avente l’estremità di mandata 20a affacciata rispettivamente alla prima intercapedine 16 e alla seconda intercapedine 18 e l’estremità di aspirazione 20b aperta e immersa nella soluzione elettrolitica SE contenuta nella vasca 12.

I due condotti 20 sono configurati e disposti simmetricamente rispetto al piano di avanzamento del semilavorato 11.

Il tratto divergente dei due condotti 20 ha asse A incidente il piano di avanzamento del semilavorato 11 con un angolo di incidenza α < 90° nel verso di avanzamento F del semilavorato 11. L’angolo di incidenza α à ̈ vantaggiosamente compreso fra 20° e 90° e preferibilmente pari a 45°.

In corrispondenza dell’estremità di aspirazione 20b di ciascuno dei due condotti 20 à ̈ presente una pluralità di ugelli 21 disposti in successione lungo la larghezza del semilavorato 11 e alimentati dai mezzi di alimentazione 22 attraverso un collettore comune 34.

La soluzione schematizzata nelle figure 2 e 2A differisce da quella mostrata nelle figure 1 e 1A, per l’assenza dell’imbocco 24 e per la diversa disposizione e orientazione dei condotti 20.

I condotti 20, infatti, sono definiti in una zona intermedia della coppia di elettrodi 14 o meglio in una zona intermedia del primo elettrodo 15 e del secondo elettrodo 17.

Ciascun condotto 20, infatti, à ̈ delimitato da una coppia di lastre successive rispettivamente 150, 170 sostanzialmente disposte in posizione centrale del primo elettrodo 15 e del secondo elettrodo 17. Ciascuno condotto 20 ha asse longitudinale A ortogonale al piano di avanzamento del semilavorato 11 (angolo di incidenza α = 90°).

Una tale forma di realizzazione dell’apparato 10 à ̈ idonea a trattamenti a bassa velocità di avanzamento del semilavorato 11 (<1m/s).

Le figure da 3 a 5B mostrano un apparato 10 di tipo “orizzontale†che riproduce le caratteristiche della configurazione e della disposizione della vasca 12 come descritte in WO2011/039596.

La vasca 12, infatti, presenta una porzione principale di trattamento 120 delimitata alle estremità opposte da una porzione di ingresso 121 e da una porzione di uscita 122 che sono separate dall’ambiente interno alla porzione principale di trattamento 120 da corrispondenti pareti 123.

La soluzione elettrolitica SE Ã ̈ contenuta nella sola porzione principale di trattamento 120.

In corrispondenza della porzione di ingresso 121 Ã ̈ presente un rullo deflettore di ingresso 31 e in corrispondenza della porzione di uscita 122 Ã ̈ presente un rullo deflettore di uscita 32.

Fra il rullo deflettore di ingresso 31 e il rullo deflettore di uscita 32 Ã ̈ presente una coppia di rulli immersori 33 che spingono il semilavorato 11, che avanza lungo la direzione e nel verso F, verso il fondo della vasca 12 mantenendolo immerso nella soluzione elettrolitica SE.

A monte e a valle di ciascun rullo immersore 33 Ã ̈ presente una rispettiva coppia di elettrodi 14.

In corrispondenza di ciascuna coppia di elettrodi 14 la vasca 12, ovvero la porzione principale di trattamento 120 di essa, à ̈ conformata a tramoggia 28 la quale à ̈ provvista di mezzi di scarico 29 collegati a una linea di raccolta e allontanamento 30.

Come mostrato nelle figure 5A e 5B sia il primo elettrodo 15, sia il secondo elettrodo 17 di ciascuna coppia di elettrodi 14 à ̈ costituito da una pluralità di lastre, rispettivamente 150 e 170, che si estendono con la loro lunghezza in direzione della larghezza del semilavorato 11 e che sono disposte tra loro parallele su piani ortogonali al piano di avanzamento del semilavorato 11 e incidenti la direzione di avanzamento F e tra loro distanziate a definire dei varchi per facilitare il rimescolamento della soluzione elettrolitica e la rimozione di scarti, residui e gas sia dal semilavorato 11, sia dalle stesse lastre 150,170.

In corrispondenza dell’estremità di ingresso 14a di ciascuna coppia di elettrodi 14 à ̈ presente una coppia di condotti 20 configurati e disposti simmetricamente rispetto al piano di avanzamento del semilavorato 11.

Ciascuno dei due condotti 20 à ̈ delimitato da un lato dalla rispettiva lastra di testa 150’, 170’ rispettivamente del primo elettrodo 15 e del secondo elettrodo 17 e dall’altro lato da una lastra 23 in materiale elettricamente isolante.

Ciascuno dei due condotti 20 presenta un tratto convergente 20’ che ha origine in corrispondenza della rispettiva estremità di aspirazione 20b e che à ̈ raccordato a un tratto divergente o diffusore 20’’ il quale si estende in un tratto deviatore 20’’’ che sbocca in corrispondenza della rispettiva estremità di mandata 20a.

I due condotti 20 hanno l’estremità di mandata 20a disposta rispettivamente in corrispondenza della prima intercapedine 16 e della seconda intercapedine 18.

Il tratto deviatore 20’’’ à ̈ inclinato secondo una direzione incidente il piano di avanzamento del semilavorato 11 con un angolo di incidenza α <90° così da dirigere la corrente di soluzione elettrolitica in uscita dai condotti 20 nello stesso verso di avanzamento del semilavorato 11 (equicorrente).

Le lastre 150,170 sono supportate da armature 35 ancorate alla vasca 12.

In corrispondenza dell’estremità di aspirazione 20b di ciascuno dei due condotti 20 à ̈ disposta una pluralità di ugelli 21 disposti in successione l’uno dopo l’altro per l’intera larghezza del semilavorato 11.

Gli ugelli 21 derivano da un collettore comune 34 alimentato dai mezzi di alimentazione 22.

In una possibile alternativa forma di realizzazione rappresentata in figura 5C, i condotti 20 definiti in corrispondenza dell’estremità di ingresso 14a di ciascuna coppia di elettrodi 14 sono delimitati dalla lastra di testa 150’, 170’ del primo elettrodo 15 e del secondo elettrodo 17 e dalla lastra a essa immediatamente adiacente.

In questo caso, la lastra di testa 150’, 170’ à ̈ supportata da una protezione 36 in materiale elettricamente isolante.

L’apparato 10 di cui alle figure da 3 a 5C può essere vantaggiosamente applicato per l’esecuzione di trattamenti di sgrassaggio con soluzione elettrolitica SE alcalina mantenuta a temperature comprese fra 20°C e 90°C con le quattro coppie di elettrodi 14 con configurazione “grid-to-grid†alimentate in corrente continua (DC) con polarità alternata secondo la sequenza catodo-anodo-anodocatodo, così che il semilavorato 11, in particolare se in acciaio, esca con polarità anodica così da evitare che esso assorba idrogeno. Vantaggiosamente, nella configurazione dell’apparato 10 mostrata nelle figure da 3 a 5C, la distanza fra ciascuna coppia di elettrodi 14 e l’adiacente rullo immersore 33 e misurata fra l’estremità dell’anodo e fra la proiezione dell’asse del rullo immersore sul piano di avanzamento del semilavorato 11 à ̈ compresa fra 150 mm e 1500 mm, mentre la distanza fra due rulli immersori 33 à ̈ compresa fra 1500 mm e 3500 mm per trattamenti di sgrassaggio e fra 2000 mm e 7000 per trattamenti di decapaggio, passivazione o elettrodeposizione.

L’altezza della prima e della seconda intercapedine 16 e 18, cioà ̈ la distanza fra la superficie del primo e del secondo elettrodo 15 e 17 affacciata alla rispettiva faccia 11a, 11b del semilavorato 11 e tale stessa faccia 11a, 11b à ̈ compresa fra 25mm e 100mm, preferibilmente fra 50 mm e 80 mm, per trattamenti di sgrassaggio (eseguiti su laminati a freddo) e fra 80 mm e 300 mm per trattamenti di decapaggio (eseguiti su laminati a caldo o a freddo) a seconda della planarità del semilavorato 11 così da minimizzare la caduta di tensione in soluzione. Ciò permette di ridurre la tensione applicata agli elettrodi di ciascuna coppia di elettrodi 14 con conseguente diminuzione dei consumi energetici e, inoltre, di ridurre gli ingombri complessivi dell’apparato 10 a beneficio del layout dell’impianto in cui esso à ̈ inserito.

Una tale configurazione permette di applicare una densità di corrente compresa fra 40 A/dm<2>e 150 A/dm<2>con densità di carica sempre >1C/dm<2>, in caso<2>di trattamenti di sgrassaggio, e fra 8 A/dm e 50 A/dm<2>, in caso di trattamenti di decapaggio con tempi di esposizione compresi fra 1s e 15s, contro rispettivamente valori usualmente noti di 15-20 A/dm<2>e di 8-14 A/dm<2>. In caso di trattamenti di elettrodeposizione, invece, la densità di corrente à ̈ compresa fra 5 A/dm<2>e 100 A/dm<2>con tempi di esposizione variabili in funzione del numero di coppie di elettrodi presenti e dello spessore del rivestimento che si vuole ottenere.

Test di laboratorio hanno infatti dimostrato che grazie alla particolare struttura “discontinua†degli elettrodi e alla presenza di mezzi di immissione e agitazione 19 costituti in pratica da condotti 20 a “Venturi†associati a una rispettiva pluralità di ugelli 21 di immissione di soluzione elettrolitica, à ̈ possibile incrementare la densità di corrente fino a 4-5 volte le densità convenzionali mantenendo una buona evacuazione dei gas e degli scarti di trattamento e un buon grado di pulizia degli elettrodi stessi. L’efficienza di pulizia dei semilavorati 11 può così aumentare del 10-25% e anche fino al 50% rispetto ai trattamenti convenzionali e il consumo di energia elettrica può essere così ridotto del 20-30%.

Le figure 6 e 7 mostrano un apparato 10 di tipo “verticale†, in cui cioà ̈ il semilavorato 11 segue un percorso lungo piani verticali con un ramo discente e un ramo ascendete all’interno di ciascuna vasca 12.

In corrispondenza delle facce opposte 11a,11b del ramo discendente e del ramo ascendente del semilavorato 11 Ã ̈ presente una rispettiva coppia di elettrodi 14, i cui primo elettrodo 15 e secondo elettrodo 17 sono costituiti da lastre 250,270 piane e parallele alle facce 11a,11b.

In corrispondenza dell’estremità di ingresso 14a di ciascuna coppia di elettrodi 14 à ̈ presente una rispettiva coppia di condotti 20 configurati e disposti simmetricamente rispetto al piano di avanzamento del semilavorato 11.

Ciascun condotto 20 Ã ̈ ricavato in corrispondenza di una feritoia 251,271 praticata nella rispettiva lastra 250,270.

Vantaggiosamente, la distanza fra il rullo immersore 33 e i rulli deflettori di ingresso e uscita 31, 32 Ã ̈ compresa fra 1500 mm e 4000 mm.

Anche in tal caso la vasca 12 ha vantaggiosamente conformazione a tramoggia 28 collocata al di sotto delle coppie di elettrodi 14 e provvista di mezzi di scarico 29 associati a una linea di evacuazione e allontanamento 30.

Alla luce delle allegate figure e della precedente descrizione il tecnico del ramo non ha difficoltà alcuna nel comprendere il funzionamento dell’apparato 10 oggetto della presente invenzione.

Il semilavorato 11 viene fatto avanzare all’interno della vasca 12 a une definita velocità di avanzamento e viene mantenuto immerso all’interno della soluzione elettrolitica SE per il tramite dei rulli immersori 33.

Alle coppie di elettrodi 14 viene applicata corrente continua (DC), alternata (AC) o mista in funzione del tipo di trattamento da eseguire e della soluzione elettrolitica SE utilizzata per lo stesso.

Mentre il semilavorato 11 avanza fra il primo elettrodo 15 e il secondo elettrodo 17 di ciascuna coppia di elettrodi 14, i mezzi di immissione e agitazione 19 sono attivi in modo da mantenere la soluzione elettrolitica SE omogenea e agitata in particolare in corrispondenza della prima intercapedine 16 e della seconda intercapedine 18 così da favorire l’allontanamento da esse degli scarti e dei residui di trattamento e dei gas che si generano durante lo stesso.

In particolare, i getti di soluzione elettrolitica immessi da ciascun ugello 21 all’interno del rispettivo condotto 20, o meglio la depressione da essi creata, richiamano dall’ambiente interno alla vasca 12 ulteriore soluzione elettrolitica SE che viene aspirata all’interno del condotto 20 attraverso l’estremità di aspirazione 20b del condotto 20 stesso ove si miscela ai getti ivi immessi dagli ugelli 21.

La corrente di soluzione elettrolitica che esce dall’estremità di mandata 20a di ciascun condotto 20 ha quindi una portata amplificata rispetto a quella corrispondente alla somma dei getti immessi da ciascun ugello 21 senza che, per la creazione di essa, sia stata spesa ulteriore energia oltre a quella necessaria per il funzionamento dei mezzi a pompa 26 che alimentano gli ugelli 21 e già usualmente impiegati.

La corrente di soluzione elettrolitica immessa da ciascun condotto 20 in corrispondenza rispettivamente della prima intercapedine 16 e della seconda intercapedine 18 crea una turbolenza tale da favorire, unitamente alla conformazione “discontinua†o alla disposizione “verticale†del primo elettrodo 15 e del secondo elettrodo 17, l’allontanamento dei residui e degli scarti di trattamento, dei gas che si generano nel corso del trattamento stesso e l’asportazione del calore eventualmente prodotto.

Ciò permette da un lato di incrementare la densità di corrente anche fino a 5 volte le densità di correnti usuali, pur garantendo un’efficace pulizia degli elettrodi, e dall’altro lato di incrementare l’efficienza di trattamento anche fino al 50% rispetto ai trattamenti usuali con un consumo energetico ridotto anche del 30% rispetto ai trattamenti convenzionali.

Tali effetti sono poi amplificati nel caso in cui all’estremità di ingresso di ciascuna coppia di elettrodi 14 sia presente un imbocco di guida 24 anch’esso conformato a “Venturi†e che, a seguito del moto del semilavorato 11, richiama una corrente di soluzione elettrolitica che viene immessa nella prima intercapedine 16 e nella seconda intercapedine 18 creando ulteriore turbolenza.

La disposizione e la configurazione simmetrica dei condotti 20 contribuisce a mantenere in posizione e a stabilizzare il semilavorato 11 durante il suo moto di avanzamento.

L’apparato per il trattamento elettrolitico superficiale in continuo di semilavorati metallici, in particolare semilavorati metallici piatti, piatti così concepito à ̈ suscettibile di numerose modifiche e varianti, tutte rientranti nell’invenzione; inoltre tutti i dettagli sono sostituibili da elementi tecnicamente equivalenti. In pratica i materiali utilizzati, nonché le dimensioni, potranno essere qualsiasi a seconda delle esigenze tecniche.

Claims (18)

1. RIVENDICAZIONI 1) Apparato (10) per il trattamento elettrolitico superficiale in continuo di semilavorati metallici, in particolare semilavorati metallici piatti, comprendente: - una vasca (12) di contenimento di una soluzione elettrolitica (SE) e all’interno della quale viene fatto avanzare in modo continuo lungo un piano di avanzamento un semilavorato metallico (11), - mezzi di immersione (31, 32, 33) di detto semilavorato metallico (11) in detta soluzione elettrolitica, - almeno una coppia di elettrodi (14) tra loro contrapposti e fra i quali viene fatto avanzare in modo continuo detto semilavorato metallico (11), in cui detta coppia di elettrodi (14) comprende almeno un primo elettrodo (15) affacciato a una delle due facce piane opposte di detto piano di avanzamento e a una definita distanza da detto semilavorato metallico (11) così da definire con esso una prima intercapedine (16) e almeno un secondo elettrodo (17) affacciato all’altra di dette due facce piane opposte di detto piano di avanzamento e a una definita distanza da detto semilavorato metallico (11) così da definire con esso una seconda intercapedine (18) e in cui detta almeno una coppia di elettrodi (14) à ̈ immersa in detta soluzione elettrolitica ed à ̈ associabile a un gruppo di alimentazione elettrica, - mezzi di immissione e di agitazione (19) di detta soluzione elettrolitica in detta vasca (12), caratterizzato dal fatto che - detti mezzi di immissione e agitazione (19) comprendono almeno un condotto (20) disposto in corrispondenza di detta almeno una coppia di elettrodi (14) e provvisto di un’estremità di mandata (20a) affacciata a una di dette due facce piane opposte in corrispondenza rispettivamente di detta prima intercapedine (16) o di detta seconda intercapedine (18) e di un’estremità di aspirazione (20b) opposta a detta estremità di mandata (20a), aperta e immersa nella soluzione elettrolitica contenuta in detta vasca (12) e almeno un ugello (21) di immissione di detta soluzione elettrolitica che à ̈ associabile a mezzi di alimentazione (22) di detta soluzione elettrolitica e la cui bocca di uscita (21a) à ̈ disposta in corrispondenza di detta estremità di aspirazione (20b) di detto almeno un condotto (20), in cui il getto di soluzione elettrolitica emesso da detto almeno un ugello (21) richiama dall’ambiente interno a detta vasca (12) una corrente di soluzione elettrolitica che entra in detto almeno un condotto (20) attraverso detta estremità di aspirazione (20b), detto getto e detta corrente tra loro miscelati uscendo da detta estremità di mandata (20a) in corrispondenza di detta prima intercapedine (16) o di detta seconda intercapedine (18).
2. 2) Apparato (10) secondo la rivendicazione 1, caratterizzato dal fatto che detto almeno un condotto (20) comprende un tratto convergente (20’) verso detta estremità di mandata (20a).
3. 3) Apparato (10) secondo la rivendicazione 2, caratterizzato dal fatto che detto almeno un condotto (20) comprende un tratto divergente (20’’) verso detta estremità di mandata (20a) che à ̈ disposto a valle, rispetto al verso della corrente di soluzione elettrolitica che fluisce attraverso detto almeno un condotto, di detto tratto convergente (20’).
4. 4) Apparato (10) secondo una o più delle rivendicazioni precedenti, caratterizzato dal fatto che detto almeno un condotto (20) comprende un tratto deviatore (20’’’) che sbocca in corrispondenza di detta estremità di mandata (20a) per deviare la corrente di soluzione elettrolitica che fluisce attraverso detto almeno un condotto (20) lungo una direzione con componente non nulla sul piano di avanzamento di detto semilavorato metallico (11) e nello stesso verso di avanzamento di detto semilavorato metallico (11).
5. 5) Apparato (10) secondo una o più delle rivendicazioni precedenti, caratterizzato dal fatto che considerando detto almeno un condotto (20) in sezione lungo un piano ortogonale al piano di avanzamento di detto semilavorato metallico (11) e parallelo alla direzione di avanzamento (F) di detto semilavorato metallico, lo sviluppo assiale (A) di detto almeno un condotto à ̈ incidente detto piano di avanzamento con un angolo di incidenza (α) < 90°.
6. 6) Apparato (10) secondo la rivendicazione 5, caratterizzato dal fatto che detto angolo di incidenza (α) à ̈ compreso fra 20° e 90°.
7. 7) Apparato (10) secondo una o più delle rivendicazioni precedenti, caratterizzato dal fatto che detta estremità di mandata (20a) e detta estremità di aspirazione (20b) di detto almeno un condotto (20) si sviluppano per la larghezza di detto semilavorato metallico (11), in cui detti mezzi di immissione e agitazione (19) comprendono una pluralità di detti ugelli (21) disposti in successione lungo la larghezza di detto semilavorato metallico (11).
8. 8) Apparato (10) secondo una o più delle rivendicazioni precedenti, caratterizzato dal fatto che detta almeno una coppia di elettrodi (14) presenta rispetto al verso di avanzamento (F) di detto semilavorato metallico (11) un’estremità di ingresso (14a) e un’estremità di uscita (14b), in cui detto almeno un condotto (20) à ̈ definito in corrispondenza di detta estremità di ingresso (14a).
9. 9) Apparato (10) secondo una o più delle rivendicazioni precedenti, caratterizzato dal fatto che detta almeno una coppia di elettrodi (14) presenta rispetto al verso di avanzamento (F) di detto semilavorato metallico (11) un’estremità di ingresso (14a) e un’estremità di uscita (14b), in cui detto almeno un condotto (20) à ̈ definito in corrispondenza di una zona intermedia fra detta estremità di ingresso (14a) e detta estremità di uscita (14b).
10. 10) Apparato (10) secondo una o più delle rivendicazioni precedenti, caratterizzato dal fatto che ciascuno di detto primo elettrodo (15) e di detto secondo elettrodo (17) comprende una pluralità di barre o lastre (150, 170) che si estendono per la larghezza di detto semilavorato metallico (11) e che sono disposte tra loro parallele e spaziate a una definita distanza l’una dall’altra a formare varchi, in cui detto almeno un condotto (20) à ̈ delimitato da una coppia di dette barre o lastre (150, 170; 150’, 170’) tra loro adiacenti o da una di dette barre o lastre e da un’affacciata barra o lastra (23) in materiale elettricamente isolante, le facce di dette due barre o lastre adiacenti (150, 170; 150’, 170’) o di detta una barra o lastra (150, 170; 150’, 170’) e di detta affacciata barra o lastra (23) in materiale elettricamente isolante tra loro affrontate definendo le pareti di detto almeno un condotto (20).
11. 11) Apparato (10) secondo una o più delle rivendicazioni da 1 a 9, caratterizzato dal fatto che ciascuno di detto primo elettrodo (15) e di detto secondo elettrodo (17) comprende una piastra (250, 270) che si estende parallelamente a detto piano di avanzamento di detto semilavorato metallico (11) e che presenta almeno una feritoia (251, 271) che si estende per la larghezza di detto semilavorato metallico (11), in cui detto almeno un condotto (20) à ̈ definito in corrispondenza di detta feritoia.
12. 12) Apparato (10) secondo una o più delle rivendicazioni precedenti, caratterizzato dal fatto che detti mezzi di immissione e agitazione (19) comprendono almeno una coppia di detti condotti (20) disposti in modo simmetrico rispetto al piano di avanzamento di detto semilavorato metallico (11).
13. 13) Apparato (10) secondo una o più delle rivendicazioni precedenti, caratterizzato dal fatto che detta almeno una coppia di elettrodi (14) presenta rispetto al verso di avanzamento di detto semilavorato metallico (11) un’estremità di ingresso (14a) e un’estremità di uscita (14b) e dal fatto che in corrispondenza di detta estremità di ingresso (14a) à ̈ presente un imbocco (24) di guida di detto semilavorato metallico (11) fra detto primo elettrodo (15) e detto secondo elettrodo (17), in cui detto imbocco (24) di guida à ̈ immerso in detta soluzione elettrolitica (SE) e, visto su un piano ortogonale al piano di avanzamento di detto semilavorato metallico e parallelo alla direzione di avanzamento (F) di detto semilavorato metallico (11), presenta un primo tratto convergente (24’) nel verso di avanzamento (F) di detto semilavorato metallico (11) attraversato da detto semilavorato metallico.
14. 14) Apparato (10) secondo la rivendicazione 13, caratterizzato dal fatto che detto imbocco (24) di guida presenta a valle, rispetto al verso di avanzamento (F) di detto semilavorato metallico (11), di detto primo tratto convergente (24’) un secondo tratto (24’’) divergente o a sezione costante che si raccorda rispettivamente con la superficie di detto primo elettrodo (15) e di detto secondo elettrodo (17) affacciata alla rispettiva faccia piana di detto piano di avanzamento di semilavorato metallico.
15. 15) Apparato (10) secondo la rivendicazione 13 o 14, caratterizzato dal fatto che detto imbocco (24) di guida à ̈ realizzato in materiale elettricamente isolante.
16. 16) Apparato (10) secondo una o più delle rivendicazioni da 13 a 15, caratterizzato dal fatto che detto imbocco (24) di guida comprende un primo corpo e un secondo corpo (240) che si estendono per la larghezza di detto semilavorato metallico (11) e che sono conformati e disposti simmetricamente rispetto al piano di avanzamento di detto semilavorato metallico.
17. 17) Apparato (10) secondo una o più delle rivendicazioni precedenti, caratterizzato dal fatto che comprende una pluralità di dette coppie di elettrodi (14) disposte in successione e in corrispondenza di ciascuna delle quali detta vasca (12) presenta una tramoggia (28) provvista sul fondo di mezzi di scarico (29) di materiali di scarto prodotti durante detto trattamento superficiale elettrolitico.
18. 18) Apparato (10) secondo una o più delle rivendicazioni precedenti, caratterizzato dal fatto che detti mezzi di immersione comprendono almeno un rullo deflettore (31) in corrispondenza dell’estremità di ingresso di detta vasca, almeno un rullo deflettore (32) in corrispondenza dell’estremità di uscita di detta vasca e almeno un rullo immersore (33) di detto semilavorato metallico (11) in detta soluzione elettrolitica (SE) il quale à ̈ interposto fra detto rullo deflettore di ingresso (31) e detto rullo deflettore di uscita (32), in cui a monte e/o a valle, rispetto al verso di avanzamento (F) di detto semilavorato metallico (11), di detto almeno un rullo immersore (33) à ̈ presente una rispettiva detta coppia di elettrodi (14).