JPH10101373A - 自立したガラス構造物を製造する方法 - Google Patents
自立したガラス構造物を製造する方法Info
- Publication number
- JPH10101373A JPH10101373A JP9099173A JP9917397A JPH10101373A JP H10101373 A JPH10101373 A JP H10101373A JP 9099173 A JP9099173 A JP 9099173A JP 9917397 A JP9917397 A JP 9917397A JP H10101373 A JPH10101373 A JP H10101373A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- frit
- containing material
- glass
- substrate
- contacting
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J9/00—Apparatus or processes specially adapted for the manufacture, installation, removal, maintenance of electric discharge tubes, discharge lamps, or parts thereof; Recovery of material from discharge tubes or lamps
- H01J9/24—Manufacture or joining of vessels, leading-in conductors or bases
- H01J9/241—Manufacture or joining of vessels, leading-in conductors or bases the vessel being for a flat panel display
- H01J9/242—Spacers between faceplate and backplate
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B19/00—Other methods of shaping glass
- C03B19/09—Other methods of shaping glass by fusing powdered glass in a shaping mould
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B11/00—Pressing molten glass or performed glass reheated to equivalent low viscosity without blowing
- C03B11/06—Construction of plunger or mould
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/02—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with glass
- C03C17/04—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with glass by fritting glass powder
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J11/00—Gas-filled discharge tubes with alternating current induction of the discharge, e.g. alternating current plasma display panels [AC-PDP]; Gas-filled discharge tubes without any main electrode inside the vessel; Gas-filled discharge tubes with at least one main electrode outside the vessel
- H01J11/20—Constructional details
- H01J11/34—Vessels, containers or parts thereof, e.g. substrates
- H01J11/36—Spacers, barriers, ribs, partitions or the like
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P40/00—Technologies relating to the processing of minerals
- Y02P40/50—Glass production, e.g. reusing waste heat during processing or shaping
- Y02P40/57—Improving the yield, e-g- reduction of reject rates
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Glass Compositions (AREA)
- Electroluminescent Light Sources (AREA)
- Gas-Filled Discharge Tubes (AREA)
- Surface Treatment Of Glass (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 バリヤリブ構造物を形成できる方法におい
て、製造工程が少なくし、なおかつ、精密なバリヤリブ
構造物を得る。 【解決手段】 アプリケータロール14上に配された、成
形可能なガラス、セラミック、またはガラスセラミック
のフリット含有材料12を凹版ロール18上に形成された凹
部パターン16と接触させ、それによって、フリット含有
材料12を所望の自立した構造物の形状に形成する。この
フリット含有材料12は、有機キャリヤとして紫外線硬化
性高分子を含有している。次いで、紫外線源26から紫外
線を放射させて、この形状を維持するのに十分にフリッ
ト含有材料12を固化させる。
て、製造工程が少なくし、なおかつ、精密なバリヤリブ
構造物を得る。 【解決手段】 アプリケータロール14上に配された、成
形可能なガラス、セラミック、またはガラスセラミック
のフリット含有材料12を凹版ロール18上に形成された凹
部パターン16と接触させ、それによって、フリット含有
材料12を所望の自立した構造物の形状に形成する。この
フリット含有材料12は、有機キャリヤとして紫外線硬化
性高分子を含有している。次いで、紫外線源26から紫外
線を放射させて、この形状を維持するのに十分にフリッ
ト含有材料12を固化させる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、自立したガラス構
造物を製造する方法であって、特に、プラズマフラット
パネル表示装置用途に使用されるようなガラスリブバリ
ヤ層を形成する方法に関するものである。
造物を製造する方法であって、特に、プラズマフラット
パネル表示装置用途に使用されるようなガラスリブバリ
ヤ層を形成する方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】大型のフラットパネル表示装置用途のカ
ラープラズマ表示パネルが将来有望である。
ラープラズマ表示パネルが将来有望である。
【０００３】ＡＣプラズマ表示パネルは典型的に、それ
ぞれ、前面パネルおよび背面パネルと称される、２つの
平行なガラス基体を備えている。これらの基体はしばし
ば、互いに面する側が、誘電層により被覆されている。
この誘電層はそれ自体がＭｇＯ層により被覆されている
こともある。ネオンおよびキセノンまたはヘリウムを含
むネオンのような放電ガス混合物が、２つのパネルによ
り規定される空間内に密封されている。赤、緑および青
の蛍光体が、線またはドットのパターンで２つのパネル
のうち一方の内側に位置している。表示される絵は、誘
電層内に埋設されたアレイ内で選択される電極の間に適
切な電圧を加えることにより、ガス内に局部的に誘発さ
れるプラズマ放電により作成される。ガス放電により局
部的に放出される紫外線が、隣接した蛍光体の発光を誘
発する。
ぞれ、前面パネルおよび背面パネルと称される、２つの
平行なガラス基体を備えている。これらの基体はしばし
ば、互いに面する側が、誘電層により被覆されている。
この誘電層はそれ自体がＭｇＯ層により被覆されている
こともある。ネオンおよびキセノンまたはヘリウムを含
むネオンのような放電ガス混合物が、２つのパネルによ
り規定される空間内に密封されている。赤、緑および青
の蛍光体が、線またはドットのパターンで２つのパネル
のうち一方の内側に位置している。表示される絵は、誘
電層内に埋設されたアレイ内で選択される電極の間に適
切な電圧を加えることにより、ガス内に局部的に誘発さ
れるプラズマ放電により作成される。ガス放電により局
部的に放出される紫外線が、隣接した蛍光体の発光を誘
発する。
【０００４】そのような表示装置内の隣接するピクセル
間の光のクロストークを避けるために、バリヤリブが、
各々の放電セルを光学的に隔離するように基体の少なく
とも一方（典型的に背面パネル）に、典型的に垂直に配
置されているかまたは閉じたセルとして配置されてい
る。バリヤリブ構造は典型的に、パネルの解像度に依存
して、200 μｍから400 μｍまでのピッチで周期的であ
る。これらのリブは、幅が約30−80μｍであり、厚さが
約100 −120 μｍである。あるいは、各々の側に約200
−40μｍの正方形のセルを有する閉じたセルデザインが
用いられている。これら正方形のセルを形成する「リ
ブ」は、幅が約30−70μｍであり、高さが約30−200 μ
ｍである。
間の光のクロストークを避けるために、バリヤリブが、
各々の放電セルを光学的に隔離するように基体の少なく
とも一方（典型的に背面パネル）に、典型的に垂直に配
置されているかまたは閉じたセルとして配置されてい
る。バリヤリブ構造は典型的に、パネルの解像度に依存
して、200 μｍから400 μｍまでのピッチで周期的であ
る。これらのリブは、幅が約30−80μｍであり、厚さが
約100 −120 μｍである。あるいは、各々の側に約200
−40μｍの正方形のセルを有する閉じたセルデザインが
用いられている。これら正方形のセルを形成する「リ
ブ」は、幅が約30−70μｍであり、高さが約30−200 μ
ｍである。
【０００５】これらのリブは典型的に、ガラスフリット
をサンドブラストまたはスクリーン印刷することのいず
れかにより形成されている。このようなスクリーン印刷
方法にはいくつかの印刷工程および乾燥工程が含まれて
いる。ここで、所望の厚さのリブが形成されるまで、ガ
ラスフリットの薄層が互いに頂面に付着される。サンド
ブラストにはマスキング工程が必要であり、多量の粒状
ガラス材料が生成されてしまう。
をサンドブラストまたはスクリーン印刷することのいず
れかにより形成されている。このようなスクリーン印刷
方法にはいくつかの印刷工程および乾燥工程が含まれて
いる。ここで、所望の厚さのリブが形成されるまで、ガ
ラスフリットの薄層が互いに頂面に付着される。サンド
ブラストにはマスキング工程が必要であり、多量の粒状
ガラス材料が生成されてしまう。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】したがって、そのよう
なバリヤリブを形成する方法であって、製造工程が少な
く、複雑でなく、それでも精密なバリヤリブ構造物を形
成できる方法を開発することが望まれている。
なバリヤリブを形成する方法であって、製造工程が少な
く、複雑でなく、それでも精密なバリヤリブ構造物を形
成できる方法を開発することが望まれている。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明は、例えば、プラ
ズマ放射表示装置または電界放射表示装置のような、電
子情報表示パネルの用途に用いられるガラスバリヤリブ
のような自立したガラス構造物を形成する方法に関する
ものである。本発明のある形態において、所望の自立し
たガラス構造物（例えば、プラズマ放射表示装置のガラ
スバリヤリブパターン）に対応した凹版のような凹部パ
ターンを、成形用ガラスフリット含有材料と接触させ
て、適切な基体上に自立したガラス構造物を形成してい
る。これは、様々な方法により実施してもよい。例え
ば、ある形態において、凹版にガラスフリット含有材料
を充填して、このガラスフリット含有材料を基体に移
す。別の形態においては、ガラスフリット含有材料のコ
ーティングを最初に基体上に付着させ、その後に、凹版
によりエンボスする。凹版は、版が平らな版または円柱
状の版であっても差支えないことを意味する。
ズマ放射表示装置または電界放射表示装置のような、電
子情報表示パネルの用途に用いられるガラスバリヤリブ
のような自立したガラス構造物を形成する方法に関する
ものである。本発明のある形態において、所望の自立し
たガラス構造物（例えば、プラズマ放射表示装置のガラ
スバリヤリブパターン）に対応した凹版のような凹部パ
ターンを、成形用ガラスフリット含有材料と接触させ
て、適切な基体上に自立したガラス構造物を形成してい
る。これは、様々な方法により実施してもよい。例え
ば、ある形態において、凹版にガラスフリット含有材料
を充填して、このガラスフリット含有材料を基体に移
す。別の形態においては、ガラスフリット含有材料のコ
ーティングを最初に基体上に付着させ、その後に、凹版
によりエンボスする。凹版は、版が平らな版または円柱
状の版であっても差支えないことを意味する。
【０００８】ここで用いられているガラスフリット含有
材料は、例えば、１種類以上の粒状ガラスが分散されて
いる有機キャリヤ媒体のような、粒状形態にあるガラス
含有材料を意味する。典型的に、これらのガラスは、20
ミクロン未満、好ましくは、12ミクロン未満、最も好ま
しくは、約５ミクロンと約10ミクロンとの間の粒径で含
まれている。好ましいガラスフリット材料は、ケイ酸鉛
ガラスおよび亜鉛、鉛またリン酸塩ガラスのような融解
温度の低いガラスを含んでいる。これらのガラスは、加
熱されたときに、流動し、焼結するように選択される。
フリット含有材料の凝集性は、フリット含有材料が、一
度ガラス上に付着されたら、凹部パターンの形状を維持
するように十分でなくてはならない。その結果、ガラス
フリット含有材料は好ましくは、凹部パターン内に維持
されている間に凝固し、それゆえ、ガラスフリット含有
材料が凹部パターンの形状を維持する。好ましい形態に
おいて、ガラスフリット含有材料の少なくともある程度
の固化または凝固が、基体に移す間に行なわれる。
材料は、例えば、１種類以上の粒状ガラスが分散されて
いる有機キャリヤ媒体のような、粒状形態にあるガラス
含有材料を意味する。典型的に、これらのガラスは、20
ミクロン未満、好ましくは、12ミクロン未満、最も好ま
しくは、約５ミクロンと約10ミクロンとの間の粒径で含
まれている。好ましいガラスフリット材料は、ケイ酸鉛
ガラスおよび亜鉛、鉛またリン酸塩ガラスのような融解
温度の低いガラスを含んでいる。これらのガラスは、加
熱されたときに、流動し、焼結するように選択される。
フリット含有材料の凝集性は、フリット含有材料が、一
度ガラス上に付着されたら、凹部パターンの形状を維持
するように十分でなくてはならない。その結果、ガラス
フリット含有材料は好ましくは、凹部パターン内に維持
されている間に凝固し、それゆえ、ガラスフリット含有
材料が凹部パターンの形状を維持する。好ましい形態に
おいて、ガラスフリット含有材料の少なくともある程度
の固化または凝固が、基体に移す間に行なわれる。
【０００９】凹版から固化したフリット構造物を取り出
す最中、並びに続いて加熱して有機成分を熱分解する際
に、フリット構造物はその形状を維持しなければなら
ず、炭質残留物は好ましくは最小となり、フリットの固
結を妨害しないようにする。このことは、熱可塑性（ホ
ットメルト）材料を用いることにより達成でき、それに
よって、固化は冷却により行なわれる。好ましい熱可塑
性材料としては、脂肪アルコールワックスのようなワッ
クスをブレンドした可塑化された熱可塑性ポリブチルメ
タクリレート高分子が挙げられる。あるいは、結合剤
は、可塑化された熱可塑性高分子のメタクリレートまた
はアクレリートのモノマーとのブレンドであっても差支
えない。後者の場合には、単に十分なメタクリートまた
はアクレリートのモノマーを用いて、転写の際と、続い
ての焼成の際に形状を維持させる。メタクリレートモノ
マーは、結合剤を除去する際の炭質残留物を最小にする
のに好ましい。熱可塑性高分子は一般的にポリブチルメ
タクリレートであり、可塑剤は、ジアルキルフタレー
ト、アルキルアルコール等のような通常用いられている
可塑剤から選択しても差支えない。結合剤を除去する最
中に、可塑剤は、架橋したメタクリレート網状構造が熱
分解する前に揮発するように選択される。
す最中、並びに続いて加熱して有機成分を熱分解する際
に、フリット構造物はその形状を維持しなければなら
ず、炭質残留物は好ましくは最小となり、フリットの固
結を妨害しないようにする。このことは、熱可塑性（ホ
ットメルト）材料を用いることにより達成でき、それに
よって、固化は冷却により行なわれる。好ましい熱可塑
性材料としては、脂肪アルコールワックスのようなワッ
クスをブレンドした可塑化された熱可塑性ポリブチルメ
タクリレート高分子が挙げられる。あるいは、結合剤
は、可塑化された熱可塑性高分子のメタクリレートまた
はアクレリートのモノマーとのブレンドであっても差支
えない。後者の場合には、単に十分なメタクリートまた
はアクレリートのモノマーを用いて、転写の際と、続い
ての焼成の際に形状を維持させる。メタクリレートモノ
マーは、結合剤を除去する際の炭質残留物を最小にする
のに好ましい。熱可塑性高分子は一般的にポリブチルメ
タクリレートであり、可塑剤は、ジアルキルフタレー
ト、アルキルアルコール等のような通常用いられている
可塑剤から選択しても差支えない。結合剤を除去する最
中に、可塑剤は、架橋したメタクリレート網状構造が熱
分解する前に揮発するように選択される。
【００１０】ある形態において、ガラスフリット含有材
料のコーティングを最初に基体に付着させ、その後に、
この成形用フリット層を凹版プレートと接触させること
により、エンボスする。例えば、この形態に使用するの
に適したあるフリットは、熱可塑性有機材料により分散
したガラスフリットである。フリット含有材料に十分な
流動性を与えることが必要であるか望ましい場合には、
このフリット含有コーティングを加熱する。続いて、凹
部パターンと接触させることにより、熱可塑性材料を成
形する。
料のコーティングを最初に基体に付着させ、その後に、
この成形用フリット層を凹版プレートと接触させること
により、エンボスする。例えば、この形態に使用するの
に適したあるフリットは、熱可塑性有機材料により分散
したガラスフリットである。フリット含有材料に十分な
流動性を与えることが必要であるか望ましい場合には、
このフリット含有コーティングを加熱する。続いて、凹
部パターンと接触させることにより、熱可塑性材料を成
形する。
【００１１】別の形態において、有機キャリヤ材料内に
分散されているガラスフリットを凹部パターン内に付着
させる。次いで、キャリヤおよびフリット材料が凹部パ
ターン内に保持されている間に、乾燥、冷却、反応
（熱、光化学（放射線硬化）または他の架橋手段による
ような架橋）、または他の手段のような方法により、用
いられる有機キャリヤ材料に依存して、フリット含有材
料を固化させる。これらの材料を凹部パターン内に保持
している間に固化することにより、材料をできるだけ凹
部パターンの形状に維持することができる。
分散されているガラスフリットを凹部パターン内に付着
させる。次いで、キャリヤおよびフリット材料が凹部パ
ターン内に保持されている間に、乾燥、冷却、反応
（熱、光化学（放射線硬化）または他の架橋手段による
ような架橋）、または他の手段のような方法により、用
いられる有機キャリヤ材料に依存して、フリット含有材
料を固化させる。これらの材料を凹部パターン内に保持
している間に固化することにより、材料をできるだけ凹
部パターンの形状に維持することができる。
【００１２】ある形態において、フリット含有材料を、
凹版内に保持している間に最初に固化させ、次いで、基
体かまたはフリット含有材料のいずれかに塗布される接
着剤を用いて適切な基体に移すことができる。そのよう
な場合には、好ましくは、接着層を基体表面に塗布し、
次いで、固化されたフリット含有材料を接着剤と接触さ
せて、フリット含有材料をそこに移す。転写接着剤を施
すに際して、多くの方法を用いることができる。例え
ば、転写接着剤は、(1) 転写フイルムとして予め施され
ているか、または冷却、乾燥または反応により後に展開
される感圧性接着剤を含む液体として施される感圧性接
着剤；(2) 凹版と接触された際に冷却により凝固する溶
融液体層；または(3) 凹版と接触している間に反応（硬
化）する液体であって差支えない。後者の場合には、放
射線硬化が好ましい。転写接着剤による基体への凝集お
よび接着は、凹版へのフリット充填有機材料のものより
も大きいので、全ての場合において転写が行なわれる。
接着層の好ましい材料は、放射線硬化性エトキシル化ト
リメチルプロパントリアクリレートのような、放射線硬
化性アクリレートまたはメタクリレートモノマーを含有
する。好ましくは、接着層は、バリヤリブのパターンを
形成する硬化したフリット含有材料を受容している間に
硬化されるほど十分な放射線硬化性モノマーを含有す
る。必要に応じて、転写接着剤にフリットを充填して、
基体への最後のフリット接着を容易にしても差支えな
い。
凹版内に保持している間に最初に固化させ、次いで、基
体かまたはフリット含有材料のいずれかに塗布される接
着剤を用いて適切な基体に移すことができる。そのよう
な場合には、好ましくは、接着層を基体表面に塗布し、
次いで、固化されたフリット含有材料を接着剤と接触さ
せて、フリット含有材料をそこに移す。転写接着剤を施
すに際して、多くの方法を用いることができる。例え
ば、転写接着剤は、(1) 転写フイルムとして予め施され
ているか、または冷却、乾燥または反応により後に展開
される感圧性接着剤を含む液体として施される感圧性接
着剤；(2) 凹版と接触された際に冷却により凝固する溶
融液体層；または(3) 凹版と接触している間に反応（硬
化）する液体であって差支えない。後者の場合には、放
射線硬化が好ましい。転写接着剤による基体への凝集お
よび接着は、凹版へのフリット充填有機材料のものより
も大きいので、全ての場合において転写が行なわれる。
接着層の好ましい材料は、放射線硬化性エトキシル化ト
リメチルプロパントリアクリレートのような、放射線硬
化性アクリレートまたはメタクリレートモノマーを含有
する。好ましくは、接着層は、バリヤリブのパターンを
形成する硬化したフリット含有材料を受容している間に
硬化されるほど十分な放射線硬化性モノマーを含有す
る。必要に応じて、転写接着剤にフリットを充填して、
基体への最後のフリット接着を容易にしても差支えな
い。
【００１３】別の形態において、放射線硬化性材料また
は他の硬化性材料を用いて、ガラスフリット含有材料を
適切な基体に移すのと同時に硬化させてもよい。このこ
とは、例えば、キャリヤとして放射線硬化性材料を用い
て、キャリヤ材料が凹部パターン内に保持されている間
で、この材料を基体に付着させている最中に、ガラス基
体を通して材料に放射線を放射して材料を硬化すること
により実施することができる。好ましい放射線硬化性材
料は、紫外線硬化性アクリレートまたはメタクリレート
モノマーであり、メタクリレートが好ましい。焼成の際
の炭質残留物を最小にするために、多量の非反応性熱可
塑性アクリル樹脂、ワックス、可塑剤等を含み、架橋性
モノマーを転写と焼成の際に形状を維持するのにちょう
ど十分なレベルに維持することが望ましい。
は他の硬化性材料を用いて、ガラスフリット含有材料を
適切な基体に移すのと同時に硬化させてもよい。このこ
とは、例えば、キャリヤとして放射線硬化性材料を用い
て、キャリヤ材料が凹部パターン内に保持されている間
で、この材料を基体に付着させている最中に、ガラス基
体を通して材料に放射線を放射して材料を硬化すること
により実施することができる。好ましい放射線硬化性材
料は、紫外線硬化性アクリレートまたはメタクリレート
モノマーであり、メタクリレートが好ましい。焼成の際
の炭質残留物を最小にするために、多量の非反応性熱可
塑性アクリル樹脂、ワックス、可塑剤等を含み、架橋性
モノマーを転写と焼成の際に形状を維持するのにちょう
ど十分なレベルに維持することが望ましい。
【００１４】フリット含有材料を基体上にうまく付着さ
せた後に、生成した複合材料を、有機材料を揮発させる
かまたは焼き払い、ガラスフリット材料を焼結するのに
十分な温度まで加熱することにより、有機材料を好まし
くは焼き払う。リブ構造物の場合には、このような焼払
工程の後に、ガラスまたはセラミックリブ構造物がその
上に直立した平らな基体からなるモノリス構造物が得ら
れる。
せた後に、生成した複合材料を、有機材料を揮発させる
かまたは焼き払い、ガラスフリット材料を焼結するのに
十分な温度まで加熱することにより、有機材料を好まし
くは焼き払う。リブ構造物の場合には、このような焼払
工程の後に、ガラスまたはセラミックリブ構造物がその
上に直立した平らな基体からなるモノリス構造物が得ら
れる。
【００１５】本発明の方法を用いることにより、プラズ
マ表示装置の用途で背面プレートとして使用するのに適
したモノリスリブ構造物をうまく形成することができ
る。ガラスリブを形成する従来技術の方法と比較する
と、本発明は、より単純であり、精密な自立したガラス
リブ構造物を容易に形成すると考えられる。本発明によ
り、例えば、幅が数十ミクロンであり、高さが数百ミク
ロンである極めて精密な自立したガラス構造物を形成す
ることができ、それによって、１に対して５以上のアス
ペクト比を有する垂直構造物、並びに数ミリメートルの
高さの構造物を形成することができる。例えば、幅が40
ミクロンであり、高さが200 ミクロンであるリブ、並び
に幅が300 ミクロンであり、高さが１ｍｍであるリブを
形成することができ、さらに、高さが２，３ｍｍであ
り、幅が数百ミクロンであるリブも形成できると考えら
れる。
マ表示装置の用途で背面プレートとして使用するのに適
したモノリスリブ構造物をうまく形成することができ
る。ガラスリブを形成する従来技術の方法と比較する
と、本発明は、より単純であり、精密な自立したガラス
リブ構造物を容易に形成すると考えられる。本発明によ
り、例えば、幅が数十ミクロンであり、高さが数百ミク
ロンである極めて精密な自立したガラス構造物を形成す
ることができ、それによって、１に対して５以上のアス
ペクト比を有する垂直構造物、並びに数ミリメートルの
高さの構造物を形成することができる。例えば、幅が40
ミクロンであり、高さが200 ミクロンであるリブ、並び
に幅が300 ミクロンであり、高さが１ｍｍであるリブを
形成することができ、さらに、高さが２，３ｍｍであ
り、幅が数百ミクロンであるリブも形成できると考えら
れる。
【００１６】
【発明の実施の形態】以下、図面に示す実施の形態を参
照して、本発明を詳細に説明する。
照して、本発明を詳細に説明する。
【００１７】図１は、プラズマ表示パネルに使用するバ
リヤリブ層を付着させる様子を示すものである。図１に
おいて、フリット含有材料12がアプリケータロール14か
ら凹版ロール18の凹部表面16上に付着されている。ある
いは、フリット含有材料12を単に溝16中にナイフ塗布し
ても差支えない。凹部パターン16は、プラズマ表示パネ
ルのバリヤリブ構造物の所望のパターンに対応してい
る。凹部パターン16中に付着させた後に、過剰のガラス
フリット含有材料12が、ドクターブレード20により凹部
から除去される。
リヤリブ層を付着させる様子を示すものである。図１に
おいて、フリット含有材料12がアプリケータロール14か
ら凹版ロール18の凹部表面16上に付着されている。ある
いは、フリット含有材料12を単に溝16中にナイフ塗布し
ても差支えない。凹部パターン16は、プラズマ表示パネ
ルのバリヤリブ構造物の所望のパターンに対応してい
る。凹部パターン16中に付着させた後に、過剰のガラス
フリット含有材料12が、ドクターブレード20により凹部
から除去される。
【００１８】好ましいフリット含有材料は、ケイ酸鉛ガ
ラスおよび亜鉛、鉛、またはリン酸塩ガラスのような融
解温度の低いガラスを含有する。フリット含有材料はま
た、その中に多量の結晶性充填剤、例えば、鉱物、セラ
ミック、またはガラスセラミック材料からなる群より選
択される結晶性材料を含めてもよい。好ましくは、その
ような結晶性材料は、熱膨脹係数を有し、０℃から300
℃までの温度範囲に亘り、フリット含有材料の平均また
は生じた熱膨脹係数が、電界放射表示装置またはプラズ
マアドレス液晶表示装置の用途に関しては約32−50×10
-7／℃の間にあり、プラズマ表示装置の用途に関しては
約77−90×10-7／℃の間にあるような量で使用されるべ
きである。より好ましくは、フリット含有材料の熱膨脹
係数は、この温度範囲に亘り、電界放射表示装置または
プラズマアドレス液晶表示装置の用途に関しては約35−
45×10-7／℃の間にあり、プラズマ表示装置の用途に関
しては約80−85×10-7／℃の間にある。
ラスおよび亜鉛、鉛、またはリン酸塩ガラスのような融
解温度の低いガラスを含有する。フリット含有材料はま
た、その中に多量の結晶性充填剤、例えば、鉱物、セラ
ミック、またはガラスセラミック材料からなる群より選
択される結晶性材料を含めてもよい。好ましくは、その
ような結晶性材料は、熱膨脹係数を有し、０℃から300
℃までの温度範囲に亘り、フリット含有材料の平均また
は生じた熱膨脹係数が、電界放射表示装置またはプラズ
マアドレス液晶表示装置の用途に関しては約32−50×10
-7／℃の間にあり、プラズマ表示装置の用途に関しては
約77−90×10-7／℃の間にあるような量で使用されるべ
きである。より好ましくは、フリット含有材料の熱膨脹
係数は、この温度範囲に亘り、電界放射表示装置または
プラズマアドレス液晶表示装置の用途に関しては約35−
45×10-7／℃の間にあり、プラズマ表示装置の用途に関
しては約80−85×10-7／℃の間にある。
【００１９】本発明において、そのような結晶性材料ま
たはガラス無機材料は、以下に記載するように、好まし
くは少なくとも40重量パーセント、より好ましくは55重
量パーセントより大きく、最も好ましくは70重量パーセ
ントより大きいレベルでフリット含有混合物に用いら
れ、それ以外の量は有機キャリヤである。
たはガラス無機材料は、以下に記載するように、好まし
くは少なくとも40重量パーセント、より好ましくは55重
量パーセントより大きく、最も好ましくは70重量パーセ
ントより大きいレベルでフリット含有混合物に用いら
れ、それ以外の量は有機キャリヤである。
【００２０】図１に示した実施の形態においては、フリ
ット含有材料12が、好ましくはガラスシートである、適
切な基体22上に付着されている。フリット材料は好まし
くは、凹部パターン16内に保持されている間に十分な凝
集性を発達させて、凹部パターン16の形状を維持させる
べきである。好ましくは、この結果を促進させるため
に、ガラスフリット含有材料を、基体22に付着させる前
またはその最中に固化させる。例えば、最も好ましい実
施の形態において、ガラスフリット含有材料のキャリヤ
は紫外線により硬化可能であり、この材料12を、フリッ
ト含有材料を基体22に付着させるのと同時に紫外線24に
より硬化させる。基体22は、紫外線24により放射される
紫外線に透き通って見え、それによって、放射線が基体
22を透過して、ガラスフリット含有材料12の有機キャリ
ヤを硬化させる。もちろん、そのような放射線硬化は、
他の手段、例えば、ロール18と基体22との間のロール間
隙で適切な放射線源（図示せず）から放射線を放射する
ことにより実施しても差支えない。
ット含有材料12が、好ましくはガラスシートである、適
切な基体22上に付着されている。フリット材料は好まし
くは、凹部パターン16内に保持されている間に十分な凝
集性を発達させて、凹部パターン16の形状を維持させる
べきである。好ましくは、この結果を促進させるため
に、ガラスフリット含有材料を、基体22に付着させる前
またはその最中に固化させる。例えば、最も好ましい実
施の形態において、ガラスフリット含有材料のキャリヤ
は紫外線により硬化可能であり、この材料12を、フリッ
ト含有材料を基体22に付着させるのと同時に紫外線24に
より硬化させる。基体22は、紫外線24により放射される
紫外線に透き通って見え、それによって、放射線が基体
22を透過して、ガラスフリット含有材料12の有機キャリ
ヤを硬化させる。もちろん、そのような放射線硬化は、
他の手段、例えば、ロール18と基体22との間のロール間
隙で適切な放射線源（図示せず）から放射線を放射する
ことにより実施しても差支えない。
【００２１】あるいは、熱可塑性キャリヤを用いて、こ
のキャリヤを凹部パターン16内で硬化させることによ
り、ガラスフリット含有材料12の固化を行なっても差支
えない。その結果、ガラスフリット含有材料12の硬化ま
たは固化が完了したときに、ガラスフリット含有材料12
は、基体への転写の最中およびその後に凹部パターン16
の形状を維持する。
のキャリヤを凹部パターン16内で硬化させることによ
り、ガラスフリット含有材料12の固化を行なっても差支
えない。その結果、ガラスフリット含有材料12の硬化ま
たは固化が完了したときに、ガラスフリット含有材料12
は、基体への転写の最中およびその後に凹部パターン16
の形状を維持する。
【００２２】別の実施の形態において、ガラスフリット
含有材料12を、基体22に付着させる前に、例えば、紫外
線26により固化または硬化させる。このような場合、フ
リット含有材料12を基体22に転写する前に、基体かまた
はガラスフリット含有材料のいずれかに接着層を施すこ
とが望ましいこともある。接着剤は、圧力を加えた際に
基体に接着する粘着性のある感圧性接着剤であっても、
接触の際に硬化するように配合されていても差支えな
い。後者の場合には、放射線硬化性接着剤を使用するこ
とが好ましい。全ての場合において、接着層にもフリッ
トを含有させて、結合剤を除去した際に接着性を容易に
維持し、最後に構造物とガラス基体との間で容易に焼成
後接着を行なうことがしばしば望ましい。このフリット
がより低温で溶融するフリットであり、焼成後接着を向
上させることが望ましい場合もある。使用する接着剤の
例としては、ポリイミド、エポキシド、アクリル、ビニ
ルエステル、ポリウレタン、ポリエステル、アクリレー
トまたはメタクリレートアクリル、エステル、およびウ
レタン、並びにそれらの混合物からなる群より選択され
る材料が挙げられる。結合剤を除去する際の利点によ
り、可塑化されたポリアルキルメタクリレート高分子が
一般的に好ましい。反応性接着剤が望ましい場合には、
これらの高分子を一般的に多官能価メタクリレートモノ
マー、光重合開始剤（photoinitiator）等とブレンドす
る。
含有材料12を、基体22に付着させる前に、例えば、紫外
線26により固化または硬化させる。このような場合、フ
リット含有材料12を基体22に転写する前に、基体かまた
はガラスフリット含有材料のいずれかに接着層を施すこ
とが望ましいこともある。接着剤は、圧力を加えた際に
基体に接着する粘着性のある感圧性接着剤であっても、
接触の際に硬化するように配合されていても差支えな
い。後者の場合には、放射線硬化性接着剤を使用するこ
とが好ましい。全ての場合において、接着層にもフリッ
トを含有させて、結合剤を除去した際に接着性を容易に
維持し、最後に構造物とガラス基体との間で容易に焼成
後接着を行なうことがしばしば望ましい。このフリット
がより低温で溶融するフリットであり、焼成後接着を向
上させることが望ましい場合もある。使用する接着剤の
例としては、ポリイミド、エポキシド、アクリル、ビニ
ルエステル、ポリウレタン、ポリエステル、アクリレー
トまたはメタクリレートアクリル、エステル、およびウ
レタン、並びにそれらの混合物からなる群より選択され
る材料が挙げられる。結合剤を除去する際の利点によ
り、可塑化されたポリアルキルメタクリレート高分子が
一般的に好ましい。反応性接着剤が望ましい場合には、
これらの高分子を一般的に多官能価メタクリレートモノ
マー、光重合開始剤（photoinitiator）等とブレンドす
る。
【００２３】凹版印写表面は好ましくは、固化したガラ
スフリット含有材料12をガラス基体24上に転写するのに
使用される接着剤よりもより離型しやすいべきである。
凹版印写プレートおよび凸版印写プレート内に配置され
る材料は典型的に、負のメニスカスを有し、凹部パター
ン内の材料の表面が、印写プレート表面より下に湾曲す
る。その結果、接着層は、硬化または固化されたガラス
フリット含有材料12と接触して接着し、凹版印写パター
ンの凹部からこの材料を除去するほど十分に柔らかくて
粘着性がなければならない。
スフリット含有材料12をガラス基体24上に転写するのに
使用される接着剤よりもより離型しやすいべきである。
凹版印写プレートおよび凸版印写プレート内に配置され
る材料は典型的に、負のメニスカスを有し、凹部パター
ン内の材料の表面が、印写プレート表面より下に湾曲す
る。その結果、接着層は、硬化または固化されたガラス
フリット含有材料12と接触して接着し、凹版印写パター
ンの凹部からこの材料を除去するほど十分に柔らかくて
粘着性がなければならない。
【００２４】ガラスフリット含有材料が乾燥により固化
される場合のように、負のメニスカスが生じる場合に
は、接着剤を使用することのみが必要となる。このよう
な材料の収縮は、硬化されたかまたは冷却された材料の
収縮よりも通常大きい。しかしながら、凹版溝がナイフ
塗布以外の方法により充填され、かつこの材料が乾燥に
より凝固しない場合には、負のメニスカスを回避し、し
たがって、転写接着剤を必要とせずに転写を行なうこと
が可能である。例えば、活版印刷、スキージ、ロールコ
ーティングオリフィス押出し等によりインクを溝中に付
着させることができ、これによって、凹版溝内のメニス
カスが正となるか、あるいは、薄い連続したフイルム層
が凹部パターンプレートの表面を覆う。
される場合のように、負のメニスカスが生じる場合に
は、接着剤を使用することのみが必要となる。このよう
な材料の収縮は、硬化されたかまたは冷却された材料の
収縮よりも通常大きい。しかしながら、凹版溝がナイフ
塗布以外の方法により充填され、かつこの材料が乾燥に
より凝固しない場合には、負のメニスカスを回避し、し
たがって、転写接着剤を必要とせずに転写を行なうこと
が可能である。例えば、活版印刷、スキージ、ロールコ
ーティングオリフィス押出し等によりインクを溝中に付
着させることができ、これによって、凹版溝内のメニス
カスが正となるか、あるいは、薄い連続したフイルム層
が凹部パターンプレートの表面を覆う。
【００２５】ガラスフリット含有材料がガラス基体22に
転写された後、材料の構造的完全さを維持しながら、基
体およびフリット含有材料12を、存在する有機材料を焼
き払い、かつガラスフリット含有材料12を溶融焼結する
のに十分な温度で焼成する。ここに記載した方法を使用
することにより、電子表示装置のバリヤリブの用途のバ
リヤリブに使用するのに適した、高品質の密な完全に溶
融した均質な自立したガラス構造物を形成できる。
転写された後、材料の構造的完全さを維持しながら、基
体およびフリット含有材料12を、存在する有機材料を焼
き払い、かつガラスフリット含有材料12を溶融焼結する
のに十分な温度で焼成する。ここに記載した方法を使用
することにより、電子表示装置のバリヤリブの用途のバ
リヤリブに使用するのに適した、高品質の密な完全に溶
融した均質な自立したガラス構造物を形成できる。
【００２６】図２は、基体22上にガラスフリット含有材
料12を付着させることにより形成された構造物を示して
いる。図２に示したリブ構造物は、正方形の凹部28を形
成する十字交差したリブからなる。あるいは、図３に示
したように、十字交差した列の凹部ではなく、凹部パタ
ーン16に凹部の平行な列を用いることにより、長方形の
列のガラスバリヤリブを形成しても差支えない。このよ
うに、ここで用いているバリヤリブは、十字交差したリ
ブ、平行なリブ、または電子表示装置の業界に用いられ
るバリヤ構造物の他の種類または形状を意味する。
料12を付着させることにより形成された構造物を示して
いる。図２に示したリブ構造物は、正方形の凹部28を形
成する十字交差したリブからなる。あるいは、図３に示
したように、十字交差した列の凹部ではなく、凹部パタ
ーン16に凹部の平行な列を用いることにより、長方形の
列のガラスバリヤリブを形成しても差支えない。このよ
うに、ここで用いているバリヤリブは、十字交差したリ
ブ、平行なリブ、または電子表示装置の業界に用いられ
るバリヤ構造物の他の種類または形状を意味する。
【００２７】本発明による別の方法が図４に示されてい
る。この方法において、フリット含有材料12のコーティ
ングまたは層がアプリケータロール14から直接基体22上
に付着されている。図４に示した実施の形態において、
凹部パターン16は、プラズマまたは電界放射またはプラ
ズマアドレス液晶表示パネルのバリヤリブ構造物の所望
のパターンに対応する。凹版ロール18の凹部表面16がフ
リット含有材料12と接触し、エンボスして、凹部パター
ン16に対応する自立した構造物を形成する。必要である
かたまは所望である場合には、フリット含有材料12をロ
ール18と接触させる前に加熱して、フリット含有材料に
十分な流動性を与えてもよい。このことは、例えば、放
射加熱により、または凹部ロールと接触させる前に層に
吹きつけられる熱い空気により行なってもよい。
る。この方法において、フリット含有材料12のコーティ
ングまたは層がアプリケータロール14から直接基体22上
に付着されている。図４に示した実施の形態において、
凹部パターン16は、プラズマまたは電界放射またはプラ
ズマアドレス液晶表示パネルのバリヤリブ構造物の所望
のパターンに対応する。凹版ロール18の凹部表面16がフ
リット含有材料12と接触し、エンボスして、凹部パター
ン16に対応する自立した構造物を形成する。必要である
かたまは所望である場合には、フリット含有材料12をロ
ール18と接触させる前に加熱して、フリット含有材料に
十分な流動性を与えてもよい。このことは、例えば、放
射加熱により、または凹部ロールと接触させる前に層に
吹きつけられる熱い空気により行なってもよい。
【００２８】この方法は、熱可塑性フリット含有材料を
用いてバリヤリブのような自立した構造物を形成するの
に特に有用である。例えば、アプリケータロール14を用
いて、約60−120 ミクロン厚の熱可塑性キャリヤ材料内
に分散したガラスフリットを付着させても差支えない。
約200 ミクロンのピッチを有する180 ミクロンの高さの
リブを製造する好ましい実施の形態において、熱可塑性
有機キャリヤ内に分散したガラスフリットを、凹版プレ
ートに接触させる前に、約60ミクロンの深さで付着させ
る。次いで、このフリットを凹版ロール18と接触させる
前に加熱して、凹版ロール18に接触させた後に凹部パタ
ーン16の形状を維持するように、ガラスフリットに十分
な流動性を与える。
用いてバリヤリブのような自立した構造物を形成するの
に特に有用である。例えば、アプリケータロール14を用
いて、約60−120 ミクロン厚の熱可塑性キャリヤ材料内
に分散したガラスフリットを付着させても差支えない。
約200 ミクロンのピッチを有する180 ミクロンの高さの
リブを製造する好ましい実施の形態において、熱可塑性
有機キャリヤ内に分散したガラスフリットを、凹版プレ
ートに接触させる前に、約60ミクロンの深さで付着させ
る。次いで、このフリットを凹版ロール18と接触させる
前に加熱して、凹版ロール18に接触させた後に凹部パタ
ーン16の形状を維持するように、ガラスフリットに十分
な流動性を与える。
【００２９】フリット含有材料12の有機キャリヤは、例
えば、ワックス、溶剤中の結合剤、ワックス中の結合
剤、可塑剤中の結合剤からなっていてもよく、さらに、
放射線硬化性オリゴマーまたはモノマーを含有していて
もよい。一般的に、20ミクロンを越える厚い構造物が望
ましく、かつ有機結合剤を熱分解により除去すべき場合
には、溶剤、ワックスまたは可塑剤中の熱可塑性結合剤
が、過剰に炭素を形成せずにより容易に熱分解するの
で、好ましくは、それらの有機物を使用する。
えば、ワックス、溶剤中の結合剤、ワックス中の結合
剤、可塑剤中の結合剤からなっていてもよく、さらに、
放射線硬化性オリゴマーまたはモノマーを含有していて
もよい。一般的に、20ミクロンを越える厚い構造物が望
ましく、かつ有機結合剤を熱分解により除去すべき場合
には、溶剤、ワックスまたは可塑剤中の熱可塑性結合剤
が、過剰に炭素を形成せずにより容易に熱分解するの
で、好ましくは、それらの有機物を使用する。
【００３０】しかしながら、別の実施の形態において
は、放射線硬化性結合剤材料を用いる。これらの放射線
硬化性結合剤材料の最も好ましいものは、「ハイブリッ
ド」材料、すなわち、紫外線硬化性配合系と熱可塑性配
合系とのハイブリッドである。このハイブリッド結合剤
系には、標準的な可塑化された熱可塑性結合剤系に類似
した付着することのできる（例えば、パターンに印刷さ
れる）特性がある。ハイブリッド結合剤は、多量の紫外
線硬化性モノマーを含んでいるので、「制御されて迅速
に硬化する」特性を有している。この「迅速な硬化」
は、この材料を適切に選択された紫外線源に暴露するこ
とにより実施できる。紫外線に暴露するまでは、紫外線
硬化性モノマーは可塑剤として機能し、ある期間に亘り
流動学または他の特性が著しくは変化しない。
は、放射線硬化性結合剤材料を用いる。これらの放射線
硬化性結合剤材料の最も好ましいものは、「ハイブリッ
ド」材料、すなわち、紫外線硬化性配合系と熱可塑性配
合系とのハイブリッドである。このハイブリッド結合剤
系には、標準的な可塑化された熱可塑性結合剤系に類似
した付着することのできる（例えば、パターンに印刷さ
れる）特性がある。ハイブリッド結合剤は、多量の紫外
線硬化性モノマーを含んでいるので、「制御されて迅速
に硬化する」特性を有している。この「迅速な硬化」
は、この材料を適切に選択された紫外線源に暴露するこ
とにより実施できる。紫外線に暴露するまでは、紫外線
硬化性モノマーは可塑剤として機能し、ある期間に亘り
流動学または他の特性が著しくは変化しない。
【００３１】そのようなハイブリッド中の熱可塑性樹脂
および紫外線硬化性モノマーを適切に選択し、これらの
成分を適切な比率に配合して、小さい架橋密度から中く
らいの架橋密度を達成することにより、結合剤系は、熱
可塑性結合剤系と等しい「焼払い」特性を有することが
できる。これらのハイブリッド系を研究することによ
り、ポリ（ブチルメタクリレート）のようなアクリル樹
脂およびメタクリレート官能性である二官能性紫外線硬
化性モノマーを有する系を用いることにより、すぐれた
「焼払い」性能を達成することができる。しかしなが
ら、「焼払い」特性または他の特性に関して異なる必要
条件を伴う他の用途に関しては、多くの他の種類の熱可
塑性樹脂を用いても差支えない。これらの樹脂の例とし
ては、他のアクリル樹脂、ポリビニルブチラール、セル
ロース樹脂、ポリエチレングリコール、ポリプロピレン
グリコール、およびポリアルケンカーボネートが挙げら
れる。ある用途に関しては、アクリレート官能性および
／または単官能または多官能である紫外線硬化性モノマ
ーを用いることにより、適切な結合剤配合物を作成する
ことも考えられる。ある好ましい紫外線硬化性キャリヤ
材料は以下の組成（重量部）を有してる： 材料 機能 100 ポリブチルメタクリレート 高分子結合剤 60 トリエチレングリコールジ−２−エチルヘキソエート 可塑剤 60 テトラエチレングリコールジメタクリレート 放射線硬化性 モノマー 3 イルゴキュア３６９ 光重合開始剤 1 イソプロピルチオキサントン 増感剤 チバガイギー社により製造された製品である、イルゴキ
ュア(Irgocure)３６９は、２−ベンジル−２−ジメチル
アミノ−１−（−４−モルフォリノテニル）−ブタン−
１−オンである。
および紫外線硬化性モノマーを適切に選択し、これらの
成分を適切な比率に配合して、小さい架橋密度から中く
らいの架橋密度を達成することにより、結合剤系は、熱
可塑性結合剤系と等しい「焼払い」特性を有することが
できる。これらのハイブリッド系を研究することによ
り、ポリ（ブチルメタクリレート）のようなアクリル樹
脂およびメタクリレート官能性である二官能性紫外線硬
化性モノマーを有する系を用いることにより、すぐれた
「焼払い」性能を達成することができる。しかしなが
ら、「焼払い」特性または他の特性に関して異なる必要
条件を伴う他の用途に関しては、多くの他の種類の熱可
塑性樹脂を用いても差支えない。これらの樹脂の例とし
ては、他のアクリル樹脂、ポリビニルブチラール、セル
ロース樹脂、ポリエチレングリコール、ポリプロピレン
グリコール、およびポリアルケンカーボネートが挙げら
れる。ある用途に関しては、アクリレート官能性および
／または単官能または多官能である紫外線硬化性モノマ
ーを用いることにより、適切な結合剤配合物を作成する
ことも考えられる。ある好ましい紫外線硬化性キャリヤ
材料は以下の組成（重量部）を有してる： 材料 機能 100 ポリブチルメタクリレート 高分子結合剤 60 トリエチレングリコールジ−２−エチルヘキソエート 可塑剤 60 テトラエチレングリコールジメタクリレート 放射線硬化性 モノマー 3 イルゴキュア３６９ 光重合開始剤 1 イソプロピルチオキサントン 増感剤 チバガイギー社により製造された製品である、イルゴキ
ュア(Irgocure)３６９は、２−ベンジル−２−ジメチル
アミノ−１−（−４−モルフォリノテニル）−ブタン−
１−オンである。
【００３２】凹版像プレート18は、例えば、ハラー(Hal
ar) 、テドラー(Tedlar)、テフゼル(Tefzel)、ポリエチ
レン等のような中くらいの離型材料から形成してもよ
い。あるいは、このプレートは、シリコーンまたはフル
オロカーボンのような、高い離型性の多数の材料のうち
の１つからなっていてもよい。フリット含有材料とパタ
ーンが付けられたプレートとの間の接着力が、基体およ
び／または接着剤とフリット含有材料との間の接着力よ
りも弱いことが必要とされる。凹版像は、これらの材料
のうちの１つからプレートを製造するかまたはその上を
これらの材料で被覆するような、多くの技術を用いて形
成することができる。ある実施例は、高分子の流動点よ
りも高い温度まで上述した材料のうちの１つを加熱し
て、堅いマスター型パターンに対してこの材料に圧力を
加えることによりエンボスするものである。あるいは、
凹版表面はエッチングされた金属、離型コートが施され
たガラスシートまたはホイルであっても差支えない。エ
ンボスされた高分子層には好ましくは、弾性材料が裏打
ちされ、圧縮性が付与されている。
ar) 、テドラー(Tedlar)、テフゼル(Tefzel)、ポリエチ
レン等のような中くらいの離型材料から形成してもよ
い。あるいは、このプレートは、シリコーンまたはフル
オロカーボンのような、高い離型性の多数の材料のうち
の１つからなっていてもよい。フリット含有材料とパタ
ーンが付けられたプレートとの間の接着力が、基体およ
び／または接着剤とフリット含有材料との間の接着力よ
りも弱いことが必要とされる。凹版像は、これらの材料
のうちの１つからプレートを製造するかまたはその上を
これらの材料で被覆するような、多くの技術を用いて形
成することができる。ある実施例は、高分子の流動点よ
りも高い温度まで上述した材料のうちの１つを加熱し
て、堅いマスター型パターンに対してこの材料に圧力を
加えることによりエンボスするものである。あるいは、
凹版表面はエッチングされた金属、離型コートが施され
たガラスシートまたはホイルであっても差支えない。エ
ンボスされた高分子層には好ましくは、弾性材料が裏打
ちされ、圧縮性が付与されている。
【００３３】
【実施例】本発明を以下の実施例を参照して説明する
が、これらの実施例は説明を意図したものであって、制
限を意図したものではない。
が、これらの実施例は説明を意図したものであって、制
限を意図したものではない。
【００３４】以下の実施例の目的は、プラズマ表示装置
に使用するのに適した50ミクロン×200 ミクロンのガラ
スリブを得るためのものであった。型を作成するため
に、約200 ミクロンの距離だけ離れた、50ミクロン×20
0 ミクロン×5 ｃｍのリブをその上に有する平らな凹版
マスター型を作成した。ガラスからなるマスター型を機
械加工技術により作成した。次いで、ガラス製のマスタ
ー型上にシリコーン材料（ＲＴＶ141 ）を注ぎ、次いで
シリコーン材料を硬化させることにより、平らなシリコ
ーン型を作成した。これによって、50ミクロン×200 ミ
クロンの凹部を内部に有する柔軟なシリコーン型が得ら
れた。実施例に用いられる型をシリコーンから作成し
て、ガラスフリット含有材料をそこから除去するのを容
易にした。
に使用するのに適した50ミクロン×200 ミクロンのガラ
スリブを得るためのものであった。型を作成するため
に、約200 ミクロンの距離だけ離れた、50ミクロン×20
0 ミクロン×5 ｃｍのリブをその上に有する平らな凹版
マスター型を作成した。ガラスからなるマスター型を機
械加工技術により作成した。次いで、ガラス製のマスタ
ー型上にシリコーン材料（ＲＴＶ141 ）を注ぎ、次いで
シリコーン材料を硬化させることにより、平らなシリコ
ーン型を作成した。これによって、50ミクロン×200 ミ
クロンの凹部を内部に有する柔軟なシリコーン型が得ら
れた。実施例に用いられる型をシリコーンから作成し
て、ガラスフリット含有材料をそこから除去するのを容
易にした。
【００３５】実施例１ この実施例は、熱可塑性材料を用いてバリヤリブを形成
することを説明するものである。熱可塑性ガラスフリッ
ト含有材料として、デグッサエナメル(DegussaEnamel)
ＰＲ112/809863を使用した。このフリット含有材料は、
75パーセントのガラスフリット材料を含み、残りは、セ
ルデックフランス株式会社により製造されたセルデック
(Cerdec)ＭＸ4462である。
することを説明するものである。熱可塑性ガラスフリッ
ト含有材料として、デグッサエナメル(DegussaEnamel)
ＰＲ112/809863を使用した。このフリット含有材料は、
75パーセントのガラスフリット材料を含み、残りは、セ
ルデックフランス株式会社により製造されたセルデック
(Cerdec)ＭＸ4462である。
【００３６】熱可塑性エナメルをシリコーン型上にナイ
フ塗布して、次いで、ガラス基体上に移した。エナメル
をシリコーン型中に維持しながら、エナメルおよび型を
約70℃−約120 ℃の温度に最初に加熱することにより、
凹部パターン16からガラス基体にフリット含有材料をう
まく移した。次いで、基体を室温に保持しながら、加熱
した型を基体と接触させて、型を冷却した。このように
して、数秒以内でフリット含有材料をガラスに移して、
約250 のガラスフリット含有リブを形成した。各々のリ
ブは、幅が約50ミクロンであり、高さが約200 ミクロン
であり、長さが約５ｃｍであった。これらのリブは、約
250 ミクロンの距離だけ離れていた。
フ塗布して、次いで、ガラス基体上に移した。エナメル
をシリコーン型中に維持しながら、エナメルおよび型を
約70℃−約120 ℃の温度に最初に加熱することにより、
凹部パターン16からガラス基体にフリット含有材料をう
まく移した。次いで、基体を室温に保持しながら、加熱
した型を基体と接触させて、型を冷却した。このように
して、数秒以内でフリット含有材料をガラスに移して、
約250 のガラスフリット含有リブを形成した。各々のリ
ブは、幅が約50ミクロンであり、高さが約200 ミクロン
であり、長さが約５ｃｍであった。これらのリブは、約
250 ミクロンの距離だけ離れていた。
【００３７】次いで、この構造物を焼成して、有機成分
を焼払った。焼成の前に、アルミナ粉末の厚い層（0.5
μｍの粒径）を焼結前のリブの頂上と間に付着させて、
分離を補助して、焼成工程中にリブの寸法を維持した。
構造物は、以下の熱サイクルにしたがって焼成して、有
機成分を焼払った：２時間で20℃から430 ℃まで上昇さ
せ、２時間で430 ℃から620 ℃まで上昇させ、620 ℃に
30分間保持して、40分間で620 ℃から400 ℃まで下降さ
せ、室温までゆっくりと温度を低下させた 熱サイクル後、構造物を水中で洗浄することにより、ア
ルミナ粉末を除去した。得られたモノリシック無機構造
物は、50ミクロン×200 ミクロン×5 ｃｍの黒いガラス
リブがその上に形成された平らなガラスシートからなる
ものであった。これらのリブの寸法品質は、プラズマ表
示装置内の背面プレートとして使用するのに十分であっ
た。
を焼払った。焼成の前に、アルミナ粉末の厚い層（0.5
μｍの粒径）を焼結前のリブの頂上と間に付着させて、
分離を補助して、焼成工程中にリブの寸法を維持した。
構造物は、以下の熱サイクルにしたがって焼成して、有
機成分を焼払った：２時間で20℃から430 ℃まで上昇さ
せ、２時間で430 ℃から620 ℃まで上昇させ、620 ℃に
30分間保持して、40分間で620 ℃から400 ℃まで下降さ
せ、室温までゆっくりと温度を低下させた 熱サイクル後、構造物を水中で洗浄することにより、ア
ルミナ粉末を除去した。得られたモノリシック無機構造
物は、50ミクロン×200 ミクロン×5 ｃｍの黒いガラス
リブがその上に形成された平らなガラスシートからなる
ものであった。これらのリブの寸法品質は、プラズマ表
示装置内の背面プレートとして使用するのに十分であっ
た。
【００３８】例えば、脂肪アルコールのような揮発性ワ
ックスを高級溶融ワックス(highermelting wax)とブレ
ンドすることにより、または熱可逆性ゲルを形成する熱
可塑性高分子を用いることにより、再び流動する前の結
合剤除去工程中に十分な材料を揮発させられるような結
合剤を配合することにより、アルミナ粉末を使用する必
要がなくなる。もはや再び流動する前に少量の結合剤を
除去することのみが必要であるように、フリットの充填
量がＣＰＶＣ（臨界粉末容積濃度:Critical Powdered V
olume Concentration ）にできるだけ近いことも望まし
い。
ックスを高級溶融ワックス(highermelting wax)とブレ
ンドすることにより、または熱可逆性ゲルを形成する熱
可塑性高分子を用いることにより、再び流動する前の結
合剤除去工程中に十分な材料を揮発させられるような結
合剤を配合することにより、アルミナ粉末を使用する必
要がなくなる。もはや再び流動する前に少量の結合剤を
除去することのみが必要であるように、フリットの充填
量がＣＰＶＣ（臨界粉末容積濃度:Critical Powdered V
olume Concentration ）にできるだけ近いことも望まし
い。
【００３９】実施例２ 使用したエナメルがデグッサエナメルＭＸ4462/531063/
1 であったことを除いて、実施例１と同様の方法を行な
った。このフリット含有材料は、85パーセントの無機材
料を含んでいる。実施例１に概説した方法にしたがっ
て、得られたモノリシックガラス構造物は、50ミクロン
×200 ミクロン×5 ｃｍの透明なガラスリブがその上に
形成された平らなガラスシートからなるものであった。
これらのリブの寸法および光学品質は、従来のプラズマ
表示装置の背面プレートとして使用するのに十分であっ
た。
1 であったことを除いて、実施例１と同様の方法を行な
った。このフリット含有材料は、85パーセントの無機材
料を含んでいる。実施例１に概説した方法にしたがっ
て、得られたモノリシックガラス構造物は、50ミクロン
×200 ミクロン×5 ｃｍの透明なガラスリブがその上に
形成された平らなガラスシートからなるものであった。
これらのリブの寸法および光学品質は、従来のプラズマ
表示装置の背面プレートとして使用するのに十分であっ
た。
【００４０】実施例３ この実施例は、紫外線硬化性メタクリレート樹脂を使用
してバリヤリブを形成することを説明するものである。
架橋させるためにメタクリレート官能モノマーを有する
熱可塑性樹脂を用いた。この樹脂は、25℃で54,400ｍＰ
ａ・ｓの粘度を有し、フュージョンシステムスＤランプ
を使用して２Ｊ／ｃｍ2 に暴露することにより適切な硬
化を行なえる光重合開始剤を含有している。フリット含
有材料は、１重量部の樹脂に対して、２重量部のリン酸
塩ガラスフリットの混合物であった。
してバリヤリブを形成することを説明するものである。
架橋させるためにメタクリレート官能モノマーを有する
熱可塑性樹脂を用いた。この樹脂は、25℃で54,400ｍＰ
ａ・ｓの粘度を有し、フュージョンシステムスＤランプ
を使用して２Ｊ／ｃｍ2 に暴露することにより適切な硬
化を行なえる光重合開始剤を含有している。フリット含
有材料は、１重量部の樹脂に対して、２重量部のリン酸
塩ガラスフリットの混合物であった。
【００４１】フリットが充填された樹脂をシリコーン型
中にナイフ塗布して、次いで、ガラス基体上に移した。
暴露の間に90度ずつ回転させながら、フュージョンシス
テムスＨランプに４回連続して暴露（ガラスを通して）
することにより、ペーストを凹部パターン16からガラス
基体にうまく移した。次いで、型を剥がして、幅が50ミ
クロンであり、高さが200 ミクロンのリブ構造物を得
た。リブの間の距離は約250 ミクロンであった。
中にナイフ塗布して、次いで、ガラス基体上に移した。
暴露の間に90度ずつ回転させながら、フュージョンシス
テムスＨランプに４回連続して暴露（ガラスを通して）
することにより、ペーストを凹部パターン16からガラス
基体にうまく移した。次いで、型を剥がして、幅が50ミ
クロンであり、高さが200 ミクロンのリブ構造物を得
た。リブの間の距離は約250 ミクロンであった。
【００４２】次いで、以下の熱サイクルを用いて、この
構造物を焼成し、有機成分を焼払った：300 ℃／時間の
速度で20℃から500 ℃まで上昇させ、１時間に亘り500
℃に保持し、300 ℃／時間の速度で500 ℃から20℃まで
低下させた。
構造物を焼成し、有機成分を焼払った：300 ℃／時間の
速度で20℃から500 ℃まで上昇させ、１時間に亘り500
℃に保持し、300 ℃／時間の速度で500 ℃から20℃まで
低下させた。
【００４３】得られた構造物は、50ミクロン×200 ミク
ロンのリブをその上に有する平らなガラスシートであっ
た。これらのリブの寸法品質は、プラズマ表示装置のバ
リヤリブ背面プレート構造物として使用するのに十分で
あった。
ロンのリブをその上に有する平らなガラスシートであっ
た。これらのリブの寸法品質は、プラズマ表示装置のバ
リヤリブ背面プレート構造物として使用するのに十分で
あった。
【００４４】実施例４ この実施例は、図４に示した方法を用いることにより、
熱可塑性材料を用いてバリヤリブを形成することを説明
するものである。使用した熱可塑性ガラスフリット含有
材料は、セルデックフランス株式会社により製造された
セルデックＭＸ4462ワックスの混合物であった。セルデ
ックＭＸ4462ワックスは、約53℃で固体から液体へと比
較的急激に相転移するので望ましい。使用したガラスフ
リットは、セルデックフランス株式会社から入手でき
る、ＰｂＯおよびＳｉＯ2 が多く含まれるガラスフリッ
トである、セルデックＶＲ725 フリットであった。この
ガラスフリットは、主に約１−10ミクロンの間のフリッ
ト粒径を有し、平均粒径は直径で約５ミクロンである。
このガラスフリットの混合物（80重量パーセントがガラ
スフリット）をワックス中に分散させて、得られたガラ
スフリット含有材料を約70℃でガラス基体上に被覆して
（この材料を被覆する前に放射熱により加熱した）、ガ
ラス基体上に約120 ミクロン厚のコーティングを形成し
た。次いで、他の実施例において上述したようなシリコ
ーン型と類似のパターンが形成された凹版を有する円筒
ドラムにガラスフリット含有コーティングを接触させる
ことにより、このコーティングを所望のガラスリブ構造
物中に造型した。この凹版パターンは、図３に示したも
のに外観が類似した所望のガラスリブ構造物に対応して
いた。ドラムと接触させる直前に、熱い空気（約70−90
℃）を吹き付けることにより、フリット含有コーティン
グを加熱して、ガラスフリット含有材料を流動性コーテ
ィングに転移させた。次いで、ガラス基体をドラムと接
触させ、接触させながら、ドラムに関して約３−５メー
トル／分の速度で移動させた。その結果、約250 のガラ
スフリット含有リブを有する、図３に示したものに類似
したリブ構造物が得られた。各々のリブは、幅が約50ミ
クロンであり、高さが約200 ミクロンであり、長さが約
５ｃｍであった。これらのリブは、約220 ミクロンの距
離だけ離れていた。
熱可塑性材料を用いてバリヤリブを形成することを説明
するものである。使用した熱可塑性ガラスフリット含有
材料は、セルデックフランス株式会社により製造された
セルデックＭＸ4462ワックスの混合物であった。セルデ
ックＭＸ4462ワックスは、約53℃で固体から液体へと比
較的急激に相転移するので望ましい。使用したガラスフ
リットは、セルデックフランス株式会社から入手でき
る、ＰｂＯおよびＳｉＯ2 が多く含まれるガラスフリッ
トである、セルデックＶＲ725 フリットであった。この
ガラスフリットは、主に約１−10ミクロンの間のフリッ
ト粒径を有し、平均粒径は直径で約５ミクロンである。
このガラスフリットの混合物（80重量パーセントがガラ
スフリット）をワックス中に分散させて、得られたガラ
スフリット含有材料を約70℃でガラス基体上に被覆して
（この材料を被覆する前に放射熱により加熱した）、ガ
ラス基体上に約120 ミクロン厚のコーティングを形成し
た。次いで、他の実施例において上述したようなシリコ
ーン型と類似のパターンが形成された凹版を有する円筒
ドラムにガラスフリット含有コーティングを接触させる
ことにより、このコーティングを所望のガラスリブ構造
物中に造型した。この凹版パターンは、図３に示したも
のに外観が類似した所望のガラスリブ構造物に対応して
いた。ドラムと接触させる直前に、熱い空気（約70−90
℃）を吹き付けることにより、フリット含有コーティン
グを加熱して、ガラスフリット含有材料を流動性コーテ
ィングに転移させた。次いで、ガラス基体をドラムと接
触させ、接触させながら、ドラムに関して約３−５メー
トル／分の速度で移動させた。その結果、約250 のガラ
スフリット含有リブを有する、図３に示したものに類似
したリブ構造物が得られた。各々のリブは、幅が約50ミ
クロンであり、高さが約200 ミクロンであり、長さが約
５ｃｍであった。これらのリブは、約220 ミクロンの距
離だけ離れていた。
【００４５】ついで、このリブ構造物を焼成して、有機
成分を除去した。焼成の前に、オランダのハーキュレス
株式会社から得られるセルロース化合物である、ナトロ
ソル(Natrosol)250 ＨＨＢＲを含有する溶液をリブ構造
物に吹き付けた。この活性成分は、ヒドロキシエチルセ
ルロースである。この溶液は、水とエタノールの50：50
の溶液に0.5 重量パーセントのナトロソル250 ＨＨＢＲ
を加えた混合物であった。リブの間の空間を完全に満た
す深さまでこのセルロース溶液をリブに吹き付けて、室
温で乾燥させた。このようにリブを被覆することによ
り、焼成中にフリットが流動するのを防ぐことができ、
それによって、焼成中にリブの形状を実質的に維持する
ことができる。焼成処理中に、明らかにリブが均質なガ
ラスリブ構造物に完全に固結されるまでではないが、こ
の溶液は完全に揮発することが分かった。吹付けのエア
レーションを均一にして、被覆範囲を促進することが望
ましい場合には、界面活性剤を加えてもよい。
成分を除去した。焼成の前に、オランダのハーキュレス
株式会社から得られるセルロース化合物である、ナトロ
ソル(Natrosol)250 ＨＨＢＲを含有する溶液をリブ構造
物に吹き付けた。この活性成分は、ヒドロキシエチルセ
ルロースである。この溶液は、水とエタノールの50：50
の溶液に0.5 重量パーセントのナトロソル250 ＨＨＢＲ
を加えた混合物であった。リブの間の空間を完全に満た
す深さまでこのセルロース溶液をリブに吹き付けて、室
温で乾燥させた。このようにリブを被覆することによ
り、焼成中にフリットが流動するのを防ぐことができ、
それによって、焼成中にリブの形状を実質的に維持する
ことができる。焼成処理中に、明らかにリブが均質なガ
ラスリブ構造物に完全に固結されるまでではないが、こ
の溶液は完全に揮発することが分かった。吹付けのエア
レーションを均一にして、被覆範囲を促進することが望
ましい場合には、界面活性剤を加えてもよい。
【００４６】使用した焼成スケジュールは以下のとおり
である：約250 ℃に予熱されたオーブン中にリブを直接
配置した。
である：約250 ℃に予熱されたオーブン中にリブを直接
配置した。
【００４７】１時間で250 ℃から350 ℃まで上昇させ、
350 ℃に15分間保持し、１時間で350 ℃から550 ℃まで
上昇させ、550 ℃に10分間保持し、２時間で室温まで低
下させた。
350 ℃に15分間保持し、１時間で350 ℃から550 ℃まで
上昇させ、550 ℃に10分間保持し、２時間で室温まで低
下させた。
【００４８】リブ構造物は焼成前と実質的に同一の寸法
および形状を維持した。各々のリブは、幅が約50ミクロ
ンであり、高さが約170 ミクロンであり、長さが約５ｃ
ｍであった。これらのリブは、約220 ミクロンの距離だ
け離れていた。このように形成されたリブの収縮および
／またはスランピングの程度が非常に小さいことは、異
常なことではない。したがって、例えば、上述したリブ
は、高さがやや収縮しるかもしれず、底部が頂部よりも
広くなるかもしれない。しかしながら、そのような寸法
の変化は比較的大きくなく、上述したように形成された
リブは、電子表示装置の用途に使用するのに完全に適し
ている。さらに、このことは、焼成後に、所望の寸法に
収縮するように、最初にリブをやや大きめに形成するこ
とにより、改良できる。
および形状を維持した。各々のリブは、幅が約50ミクロ
ンであり、高さが約170 ミクロンであり、長さが約５ｃ
ｍであった。これらのリブは、約220 ミクロンの距離だ
け離れていた。このように形成されたリブの収縮および
／またはスランピングの程度が非常に小さいことは、異
常なことではない。したがって、例えば、上述したリブ
は、高さがやや収縮しるかもしれず、底部が頂部よりも
広くなるかもしれない。しかしながら、そのような寸法
の変化は比較的大きくなく、上述したように形成された
リブは、電子表示装置の用途に使用するのに完全に適し
ている。さらに、このことは、焼成後に、所望の寸法に
収縮するように、最初にリブをやや大きめに形成するこ
とにより、改良できる。
【００４９】説明を目的として本発明を詳細に記載して
きたが、そのような詳細は、その目的のためのみであ
り、請求の範囲に定義した本発明の範囲および精神から
逸脱せずに、当業者は変更を行なえる。例えば、図１は
印写ロールを示しているが、平らな印写プレートを用い
ても差支えない。
きたが、そのような詳細は、その目的のためのみであ
り、請求の範囲に定義した本発明の範囲および精神から
逸脱せずに、当業者は変更を行なえる。例えば、図１は
印写ロールを示しているが、平らな印写プレートを用い
ても差支えない。
【図１】ガラス基体上にバリヤリブ構造物を付着させる
装置の概略図
装置の概略図
【図２】図１に示した工程を用いて形成された閉じたセ
ルのバリヤ構造物の斜視図
ルのバリヤ構造物の斜視図
【図３】図１に示した工程を用いて形成した別のバリヤ
リブ構造物の斜視図
リブ構造物の斜視図
【図４】ガラス基体上にバリヤリブ構造物を付着させる
別の装置の概略図
別の装置の概略図
12 ガラスフリット含有材料 14 アプリケータロール 16 凹部パターン 18 凹版ロール 20 ブレード 22 ガラス基体 24、26 紫外線源
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 ベルナール エー フランス国 77130 ラグランジュ ラロ シュ ルート ド ラ バス ロシュ 53 ルプリウール (72)発明者 マーク ステファン フリスク アメリカ合衆国 ニューヨーク州 14821 キャンプベル カウンティー ルート 125 5252 (72)発明者 ロナルド エドガー ジョンソン アメリカ合衆国 ペンシルヴァニア州 16946 ティオガ ピーオー ボックス 436 (72)発明者 キャンデイス ジョー クイン アメリカ合衆国 ニューヨーク州 14830 コーニング ホーンビー ロード 419 (72)発明者 フランセス スミス アメリカ合衆国 ニューヨーク州 14901 エルミラ ウェスト フィフス ストリ ート 202 (72)発明者 ジャン−ピエール テモン フランス国 77690 モンテグニー シュ ール ロワ リュ デズゾー （番地な し)
Claims (26)
- 【請求項１】 自立したガラス構造物を製造する方法で
あって、 成形可能なガラス、セラミック、またはガラスセラミッ
クのフリット含有材料を凹部パターンと接触させ、それ
によって、該フリット含有材料を所望の自立した構造物
の形状に形成し、 該形状を維持するのに十分に該フリット含有材料を固化
させる各工程からなることを特徴とする方法。 - 【請求項２】 前記接触工程が、 前記凹版パターンに前記ガラス、セラミック、またはガ
ラスセラミックのフリット含有材料を充填し、 該フリット含有材料を基体に移し、該フリット含有材料
が、前記凹部パターンの形状を維持して、該基体上に自
立した構造物を形成する各工程からなることを特徴とす
る請求項１記載の方法。 - 【請求項３】 前記接触工程が、前記フリット含有材料
を前記凹部パターン内に維持している間に該フリット含
有材料の少なくとも一部を十分に固化して、該フリット
含有材料が該凹部パターンの形状を容易に維持させる工
程からなることを特徴とする請求項２記載の方法。 - 【請求項４】 前記接触工程の前に前記フリット含有材
料のコーティングを基体上に付着させ、該接触工程が、
該基体上の該コーティングを前記凹部パターンに接触さ
せる工程からなることを特徴とする請求項１記載の方
法。 - 【請求項５】 前記フリット含有材料が熱可塑性有機キ
ャリヤを含み、前記接触の前に、前記コーティングを加
熱して、該フリット含有材料を容易に成形することを特
徴とする請求項４記載の方法。 - 【請求項６】 フラットパネル表示装置に使用するリブ
構造物の製造方法であって、前記フリット含有材料が結
晶性充填剤を含み、該フリット含有材料の平均熱膨脹係
数が、０℃から300 ℃の温度範囲に亘り、約35−45×10
-7／℃であることを特徴とする請求項１記載の方法。 - 【請求項７】 プラズマ放射表示装置に使用するリブ構
造物の製造方法であって、前記フリット含有材料が結晶
性充填剤を含み、該フリット含有材料の平均熱膨脹係数
が、０℃から300 ℃の温度範囲に亘り、約80−85×10-7
／℃であることを特徴とする請求項１記載の方法。 - 【請求項８】 前記フリットが、約500 ℃未満の軟化点
を有するガラスフリットであることを特徴とする請求項
１記載の方法。 - 【請求項９】 前記フリットが、リン酸塩ガラス、鉛を
ベースとするガラスおよび亜鉛をベースとするガラスか
らなる群より選択されたガラスフリットからなることを
特徴とする請求項１記載の方法。 - 【請求項１０】 前記転写工程における前記フリット含
有材料が、有機キャリヤ材料内に分散された少なくとも
55パーセントのガラス、セラミック、ガラスセラミッ
ク、または他の無機材料からなることを特徴とする請求
項１記載の方法。 - 【請求項１１】 前記有機材料が、放射線硬化、乾燥、
または熱により、固化可能であることを特徴とする請求
項１０記載の方法。 - 【請求項１２】 前記有機材料が硬化性材料であり、前
記転写工程が該有機材料を硬化させる工程からなること
を特徴とする請求項１０記載の方法。 - 【請求項１３】 前記有機材料が放射線硬化性であり、
前記転写工程が、前記基体を通して放射線を放射して、
該転写工程と同時に前記フリット含有材料を硬化させる
工程からなることを特徴とする請求項１０記載の方法。 - 【請求項１４】 前記フリットを溶融するのに十分な温
度で前記形成されたガラス混合物および前記基体を焼成
する工程を含むことを特徴とする請求項１記載の方法。 - 【請求項１５】 前記焼成工程の前に、前記自立した構
造物の間にある材料を施して、該焼成工程中に該自立し
た構造物にその形状を容易に維持させる工程を含むこと
を特徴とする請求項１４記載の方法。 - 【請求項１６】 前記焼成工程が、約100 ℃と約600 ℃
の間の温度で前記フリット含有材料および前記基体を焼
成する工程からなることを特徴とする請求項１５記載の
方法。 - 【請求項１７】 前記自立した構造物を基体に移す工程
を含むことを特徴とする請求項１記載の方法。 - 【請求項１８】 前記ガラスフリット含有材料が前記凹
部パターン内に維持されている間に、この材料の固化が
行なわれることを特徴とする請求項１７記載の方法。 - 【請求項１９】 前記転写工程の前に、前記ガラス基体
かまたは前記ガラスフリット混合物のいずれかに接着層
を施す工程を含むことを特徴とする請求項１８記載の方
法。 - 【請求項２０】 フラットパネル表示装置のガラスバリ
ヤリブプレートを製造する方法であって、 成形用のガラス、セラミック、またはガラスセラミック
のフリット含有材料を凹部パターンに接触させて、それ
によって、該フリット含有材料を所望の自立した構造物
の形状に形成し、 該形状を維持するのに十分に該フリット含有材料を固化
させる各工程からなることを特徴とする方法。 - 【請求項２１】 前記凹部パターンに前記ガラス、セラ
ミック、またはガラスセラミックのフリット含有材料を
充填し、 該フリット含有材料を基体に移し、該フリット含有材料
が前記凹部パターンの形状を維持して、該基体上に自立
した構造物を形成する各工程からなることを特徴とする
請求項２０記載の方法。 - 【請求項２２】 前記接触工程が、前記フリット含有材
料を前記凹部パターン内に維持している間に前記フリッ
ト含有材料の少なくとも一部を十分に固化させて、該フ
リット含有材料に該凹部パターンの形状を容易に維持さ
せる工程からなることを特徴とする請求項２１記載の方
法。 - 【請求項２３】 前記接触工程の前に前記フリット含有
材料のコーティングを基体上に付着させ、該接触工程
が、該基体上のコーティングを前記凹部パターンに接触
させる工程からなることを特徴とする請求項２０記載の
方法。 - 【請求項２４】 前記フリット含有材料が熱可塑性有機
キャリヤからなり、前記接触工程の前に、該コーティン
グを加熱して、該フリット含有材料を容易に成形するこ
とを特徴とする請求項２３記載の方法。 - 【請求項２５】 前記接触工程における有機キャリヤ材
料が、放射線硬化性成分および熱可塑性成分の混合物か
らなることを特徴とする請求項１０記載の方法。 - 【請求項２６】 前記自立した構造物の間に施された材
料がセルロース材料からなることを特徴とする請求項１
５記載の方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US1551196P | 1996-04-16 | 1996-04-16 | |
| US015511 | 1996-04-16 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10101373A true JPH10101373A (ja) | 1998-04-21 |
Family
ID=21771829
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9099173A Withdrawn JPH10101373A (ja) | 1996-04-16 | 1997-04-16 | 自立したガラス構造物を製造する方法 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| EP (1) | EP0802170A3 (ja) |
| JP (1) | JPH10101373A (ja) |
| KR (1) | KR970069920A (ja) |
Cited By (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH10302618A (ja) * | 1997-04-30 | 1998-11-13 | Kyocera Corp | プラズマ表示装置用基板 |
| US6450850B1 (en) | 1999-01-22 | 2002-09-17 | Nec Corporation | Method of manufacturing display panel and display device |
| US7018771B2 (en) | 2004-07-29 | 2006-03-28 | Fujitsu Limited | Material transfer method and manufacturing method for substrate for plasma display |
| WO2006098075A1 (ja) * | 2005-03-16 | 2006-09-21 | Nitto Denko Corporation | 誘電体形成シート及び誘電体層形成基板の製造方法 |
| JP2009524204A (ja) * | 2006-01-23 | 2009-06-25 | ザ ボード オブ トラスティーズ オブ ザ ユニバーシティ オブ イリノイ | ポリマーマイクロキャビティおよびマイクロチャンネル装置および製造方法 |
| JP2009543702A (ja) * | 2006-07-17 | 2009-12-10 | サントル ナショナル ドゥ ラ ルシェルシュ シアンティフィク | 光補助および／または熱補助された印刷によるマイクロ流体ポリマーデバイスの製造 |
| JP2011183512A (ja) * | 2010-03-09 | 2011-09-22 | Jsr Corp | 微細構造体及び微細構造体の製造方法 |
| JP2011184241A (ja) * | 2010-03-09 | 2011-09-22 | Jsr Corp | 微細構造体及び微細構造体の製造方法 |
| WO2011132753A1 (ja) * | 2010-04-21 | 2011-10-27 | 旭硝子株式会社 | ガラス製部材の製造方法、ならびに、平面レンズおよびガラスペースト |
| WO2018003618A1 (ja) * | 2016-06-27 | 2018-01-04 | 株式会社シンク・ラボラトリー | グラビア印刷装置、グラビア印刷方法及び印刷物の製造方法 |
Families Citing this family (13)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5853446A (en) * | 1996-04-16 | 1998-12-29 | Corning Incorporated | Method for forming glass rib structures |
| TW353762B (en) * | 1996-10-21 | 1999-03-01 | Dainippon Printing Co Ltd | Transfer sheet, and pattern-forming method |
| DE19713311C2 (de) * | 1997-03-29 | 1999-03-11 | Schott Glas | Verfahren und Vorrichtung zur Erzeugung von großflächigen Präzisionsstrukturen auf Flachglas |
| DE19713312C2 (de) * | 1997-03-29 | 1999-01-14 | Schott Glas | Formgebungswerkzeug für Flachmaterial |
| US6149482A (en) * | 1997-04-30 | 2000-11-21 | Kyocera Corporatin | Method for manufacturing flat plate with precise bulkhead, flat plate with precise bulkhead, method for manufacturing plasma display unit substrate and plasma display unit substrate |
| US6247986B1 (en) | 1998-12-23 | 2001-06-19 | 3M Innovative Properties Company | Method for precise molding and alignment of structures on a substrate using a stretchable mold |
| US6352763B1 (en) | 1998-12-23 | 2002-03-05 | 3M Innovative Properties Company | Curable slurry for forming ceramic microstructures on a substrate using a mold |
| US6306948B1 (en) | 1999-10-26 | 2001-10-23 | 3M Innovative Properties Company | Molding composition containing a debinding catalyst for making ceramic microstructures |
| US6821178B2 (en) | 2000-06-08 | 2004-11-23 | 3M Innovative Properties Company | Method of producing barrier ribs for plasma display panel substrates |
| US7033534B2 (en) | 2001-10-09 | 2006-04-25 | 3M Innovative Properties Company | Method for forming microstructures on a substrate using a mold |
| US7176492B2 (en) | 2001-10-09 | 2007-02-13 | 3M Innovative Properties Company | Method for forming ceramic microstructures on a substrate using a mold and articles formed by the method |
| FR3118460A1 (fr) * | 2020-12-24 | 2022-07-01 | Saint-Gobain Glass France | Procede de fabrication d’un vitrage décoratif et un tel vitrage décoratif |
| FR3118459B1 (fr) * | 2020-12-24 | 2023-10-27 | Saint Gobain | Procede de fabrication d’un vitrage pour serre et un tel vitrage pour serre |
Family Cites Families (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5928479B2 (ja) * | 1979-12-03 | 1984-07-13 | 大日本スクリ−ン製造株式会社 | 凹版印刷版 |
| JPS59195554A (ja) * | 1983-04-16 | 1984-11-06 | Susumu Komatsu | ガラス製品の浮出表示物の成形方法 |
| DE3538167A1 (de) * | 1985-10-26 | 1987-04-30 | Standard Elektrik Lorenz Ag | Farbbildwiedergabevorrichtung |
| JP3239898B2 (ja) * | 1990-03-02 | 2001-12-17 | 大日本印刷株式会社 | 厚膜パターン形成方法 |
| JP3591910B2 (ja) * | 1995-03-30 | 2004-11-24 | 大日本印刷株式会社 | プラズマディスプレイパネルのセル障壁製造方法 |
| JP3589500B2 (ja) * | 1995-03-30 | 2004-11-17 | 大日本印刷株式会社 | プラズマディスプレイパネルパネルのセル障壁製造方法 |
| JP3591920B2 (ja) * | 1995-05-25 | 2004-11-24 | 大日本印刷株式会社 | プラズマディスプレイパネルのセル障壁製造方法 |
| JP3791022B2 (ja) * | 1995-06-26 | 2006-06-28 | 旭硝子株式会社 | 基板上への隔壁形成方法 |
| US6023130A (en) * | 1995-09-06 | 2000-02-08 | Kyocera Corporation | Plasma display substrate and a production method thereof |
-
1997
- 1997-04-09 EP EP97105867A patent/EP0802170A3/en not_active Withdrawn
- 1997-04-16 KR KR1019970014094A patent/KR970069920A/ko not_active Application Discontinuation
- 1997-04-16 JP JP9099173A patent/JPH10101373A/ja not_active Withdrawn
Cited By (14)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH10302618A (ja) * | 1997-04-30 | 1998-11-13 | Kyocera Corp | プラズマ表示装置用基板 |
| US6450850B1 (en) | 1999-01-22 | 2002-09-17 | Nec Corporation | Method of manufacturing display panel and display device |
| US7018771B2 (en) | 2004-07-29 | 2006-03-28 | Fujitsu Limited | Material transfer method and manufacturing method for substrate for plasma display |
| WO2006098075A1 (ja) * | 2005-03-16 | 2006-09-21 | Nitto Denko Corporation | 誘電体形成シート及び誘電体層形成基板の製造方法 |
| JP2006260902A (ja) * | 2005-03-16 | 2006-09-28 | Nitto Denko Corp | 誘電体形成シート及び誘電体層形成基板の製造方法 |
| US8497631B2 (en) | 2006-01-23 | 2013-07-30 | The Board Of Trustees Of The University Of Illinois | Polymer microcavity and microchannel devices and fabrication method |
| JP2009524204A (ja) * | 2006-01-23 | 2009-06-25 | ザ ボード オブ トラスティーズ オブ ザ ユニバーシティ オブ イリノイ | ポリマーマイクロキャビティおよびマイクロチャンネル装置および製造方法 |
| US8864542B2 (en) | 2006-01-23 | 2014-10-21 | The Board Of Trustees Of The University Of Illinois | Polymer microcavity and microchannel device and array fabrication method |
| JP2009543702A (ja) * | 2006-07-17 | 2009-12-10 | サントル ナショナル ドゥ ラ ルシェルシュ シアンティフィク | 光補助および／または熱補助された印刷によるマイクロ流体ポリマーデバイスの製造 |
| JP2011184241A (ja) * | 2010-03-09 | 2011-09-22 | Jsr Corp | 微細構造体及び微細構造体の製造方法 |
| JP2011183512A (ja) * | 2010-03-09 | 2011-09-22 | Jsr Corp | 微細構造体及び微細構造体の製造方法 |
| WO2011132753A1 (ja) * | 2010-04-21 | 2011-10-27 | 旭硝子株式会社 | ガラス製部材の製造方法、ならびに、平面レンズおよびガラスペースト |
| WO2018003618A1 (ja) * | 2016-06-27 | 2018-01-04 | 株式会社シンク・ラボラトリー | グラビア印刷装置、グラビア印刷方法及び印刷物の製造方法 |
| JPWO2018003618A1 (ja) * | 2016-06-27 | 2019-04-11 | 株式会社シンク・ラボラトリー | グラビア印刷装置、グラビア印刷方法及び印刷物の製造方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP0802170A3 (en) | 1997-11-05 |
| KR970069920A (ko) | 1997-11-07 |
| EP0802170A2 (en) | 1997-10-22 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US5853446A (en) | Method for forming glass rib structures | |
| JPH10101373A (ja) | 自立したガラス構造物を製造する方法 | |
| US5992320A (en) | Transfer sheet, and pattern-forming method | |
| US6207268B1 (en) | Transfer sheet, and pattern-forming method | |
| US5985460A (en) | Insulator composition, green tape, and method for forming plasma display apparatus barrier-rib | |
| CN88100545A (zh) | 自动贴合转印件 | |
| US6152033A (en) | Method of making an electronic printed structure | |
| JP3440352B2 (ja) | プラズマディスプレイパネル | |
| JP3690443B2 (ja) | プラズマディスプレイパネル | |
| KR100528422B1 (ko) | 전사시트및패턴형성방법 | |
| JPH11306993A (ja) | プラズマディスプレイパネル | |
| US6560997B2 (en) | Method of making glass structures for flat panel displays | |
| JPH10200239A (ja) | 転写シートおよびパターン形成方法 | |
| JPH10144206A (ja) | プラズマディスプレイパネルの形成方法 | |
| JP3734337B2 (ja) | 面放電交流型プラズマディスプレイパネル | |
| JP3664283B2 (ja) | パターン形成方法 | |
| KR19980032844A (ko) | 전사시트 및 패턴형성방법 | |
| JPH10149766A (ja) | プラズマディスプレイパネル作製用転写シート | |
| KR100383093B1 (ko) | 격벽제조용 플라스틱 필름 및 이를 이용한 플라즈마디스플레이 패널용 격벽 제조 방법 | |
| JPH10200237A (ja) | 厚膜パターン形成方法 | |
| JP4187294B2 (ja) | プラズマディスプレイパネルのバリアリブの形成方法 | |
| JP3681025B2 (ja) | 厚膜パターン形成方法及びプラズマディスプレイパネル | |
| JP3681024B2 (ja) | 厚膜パターン形成方法 | |
| JPH10177840A (ja) | 転写シート | |
| JPH10214561A (ja) | プラズマディスプレイパネル作製用転写シート |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Application deemed to be withdrawn because no request for examination was validly filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20040706 |