JPS5928479B2 - 凹版印刷版 - Google Patents
凹版印刷版Info
- Publication number
- JPS5928479B2 JPS5928479B2 JP15731579A JP15731579A JPS5928479B2 JP S5928479 B2 JPS5928479 B2 JP S5928479B2 JP 15731579 A JP15731579 A JP 15731579A JP 15731579 A JP15731579 A JP 15731579A JP S5928479 B2 JPS5928479 B2 JP S5928479B2
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- Japan
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- printing
- ink
- layer
- plate
- oil
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
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Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41N—PRINTING PLATES OR FOILS; MATERIALS FOR SURFACES USED IN PRINTING MACHINES FOR PRINTING, INKING, DAMPING, OR THE LIKE; PREPARING SUCH SURFACES FOR USE AND CONSERVING THEM
- B41N1/00—Printing plates or foils; Materials therefor
- B41N1/12—Printing plates or foils; Materials therefor non-metallic other than stone, e.g. printing plates or foils comprising inorganic materials in an organic matrix
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41M—PRINTING, DUPLICATING, MARKING, OR COPYING PROCESSES; COLOUR PRINTING
- B41M1/00—Inking and printing with a printer's forme
- B41M1/10—Intaglio printing ; Gravure printing
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/075—Silicon-containing compounds
- G03F7/0752—Silicon-containing compounds in non photosensitive layers or as additives, e.g. for dry lithography
Description
【発明の詳細な説明】
この発明は凹版の印刷版に関するものである。
エッチインタレジストの印刷や、導電パターンの印刷な
どでは、画線部が十分な膜厚をもち、ピンホールがなく
、かつ画線精度も、寸法精度も、正確な仕上りが要求さ
れる。現在この種の目的の印刷方法としては、スクリー
ン印刷や、タコ印刷と呼ばれる方法があるが、上記各性
能において、すべて十分な水準に達しているとはいえな
い。たとえばスクリーン印刷においては、メッシュを通
して、インキの転写が行われるため画線部の細線原稿が
破線になつたり、エッジが乱れたりする。また、スキー
ジなどの強圧によつて、寸法精度が安定しないという問
題がある。−刃タコ印刷ではオフセットブランケットに
相当するタコを強圧して転写を行うため、どうしても像
が歪み、広い面積の印刷では寸法精度が悪い等の問題か
ある。一方、オフセット印刷方法については、製版方法
の簡便な平版材が使えることから、オフセット印刷と平
版印刷とは同義語的に使われ、非常に生産性の良い方法
であり、一般の紙器印刷や薄膜印刷に使用されているが
、厚膜印刷にはほとんど使用されていない。その理由は
十分な膜厚をもち、ピンホールのないしかも、いわゆる
「太り」の少ない印刷ができないためである。以下その
理由にっいて説明する。第１図は、オフセット印刷のイ
ンキ転写原理を説明するものである。
どでは、画線部が十分な膜厚をもち、ピンホールがなく
、かつ画線精度も、寸法精度も、正確な仕上りが要求さ
れる。現在この種の目的の印刷方法としては、スクリー
ン印刷や、タコ印刷と呼ばれる方法があるが、上記各性
能において、すべて十分な水準に達しているとはいえな
い。たとえばスクリーン印刷においては、メッシュを通
して、インキの転写が行われるため画線部の細線原稿が
破線になつたり、エッジが乱れたりする。また、スキー
ジなどの強圧によつて、寸法精度が安定しないという問
題がある。−刃タコ印刷ではオフセットブランケットに
相当するタコを強圧して転写を行うため、どうしても像
が歪み、広い面積の印刷では寸法精度が悪い等の問題か
ある。一方、オフセット印刷方法については、製版方法
の簡便な平版材が使えることから、オフセット印刷と平
版印刷とは同義語的に使われ、非常に生産性の良い方法
であり、一般の紙器印刷や薄膜印刷に使用されているが
、厚膜印刷にはほとんど使用されていない。その理由は
十分な膜厚をもち、ピンホールのないしかも、いわゆる
「太り」の少ない印刷ができないためである。以下その
理由にっいて説明する。第１図は、オフセット印刷のイ
ンキ転写原理を説明するものである。
このうち１は圧胴、２は被印刷物、３はブランケット胴
、４は原版から転写されたむき出しのインキを示す。５
はブランケットから被印刷物へ転写される際のインキの
動きを静止的に描写したものである。
、４は原版から転写されたむき出しのインキを示す。５
はブランケットから被印刷物へ転写される際のインキの
動きを静止的に描写したものである。
さて、オフセット印刷では、原版から転写されたインキ
は、むき出しのままブランケットに転写されており、こ
の状態は、凸版からであれ、平版からであれ、又凹版か
らであつても同じであるが、こうしたインキは流体であ
るから転写時の印圧Ｐａ、を受けることで、容易に流れ
出す。
は、むき出しのままブランケットに転写されており、こ
の状態は、凸版からであれ、平版からであれ、又凹版か
らであつても同じであるが、こうしたインキは流体であ
るから転写時の印圧Ｐａ、を受けることで、容易に流れ
出す。
そして第１図に示すごとく、流れて移動するインキは次
の三部分に分裂する。すなわち第一の部分５−ａは弾性
体であるブランケットに一時的に包容・吸収され正しい
転写画像となり、その５−ａの一部はブランケットに残
留するインキで第二の部分５−ｂはブランケットと被印
刷物の境界面を伝つて、画像位置からはみ出す。いわゆ
る［太り」となるインキで、さらに第三の部分５−ｃは
被印刷物中に吸収定着されるインキである。このように
オフセット印刷はインキがむき出しのまま印圧Ｐａ，を
受けるのが「太り」の生じやすい転写構造をもつもので
あるが、印梢泪的か、厚膜性を要求するものであればあ
るほど第１図４に示すインキの高さ■ｄｌは高くなり、
５−ｂ部のインキは多くなり、印刷品質は低下する。又
、被印刷物が金属やガラスなどのように、インキを吸収
しないものであれば、イゾキ５−ｃ部分はないので、イ
ンキ５−ｂ部が相対的に多くなりインキの「太り」量が
多くなつてしまう。そこでこうした「太り」を少くする
諸々の工夫例が行なわれている。例えば、インキを硬く
したり、印刷スピードを加減して、総合的な印圧を少く
して「太り」を防ぐ方法等である。しかしながら、こう
した工夫はインキの圧縮をなるべく少くする工夫である
から、いわゆるつぶれの悪いピンホールの多い印刷結果
になる。このように、印刷物の品質評価のうち原版に対
する忠実度、「太り」と、画線部の濃度、「ツブレ」が
二律背反的に同時に生ずる印刷効果であるから、インキ
がむき出しのままの転写構造をもつオフセット印刷では
、厚膜印刷にはもともと無理なのである。さて、印刷物
の印刷目的によつて任意にインキの量が変えられること
は非常に便利であり、このことは現在行われている印刷
のほとんどが薄膜印刷を目的としていることに対して、
厚膜印刷を可能ならしめる第一歩とも言える。
の三部分に分裂する。すなわち第一の部分５−ａは弾性
体であるブランケットに一時的に包容・吸収され正しい
転写画像となり、その５−ａの一部はブランケットに残
留するインキで第二の部分５−ｂはブランケットと被印
刷物の境界面を伝つて、画像位置からはみ出す。いわゆ
る［太り」となるインキで、さらに第三の部分５−ｃは
被印刷物中に吸収定着されるインキである。このように
オフセット印刷はインキがむき出しのまま印圧Ｐａ，を
受けるのが「太り」の生じやすい転写構造をもつもので
あるが、印梢泪的か、厚膜性を要求するものであればあ
るほど第１図４に示すインキの高さ■ｄｌは高くなり、
５−ｂ部のインキは多くなり、印刷品質は低下する。又
、被印刷物が金属やガラスなどのように、インキを吸収
しないものであれば、イゾキ５−ｃ部分はないので、イ
ンキ５−ｂ部が相対的に多くなりインキの「太り」量が
多くなつてしまう。そこでこうした「太り」を少くする
諸々の工夫例が行なわれている。例えば、インキを硬く
したり、印刷スピードを加減して、総合的な印圧を少く
して「太り」を防ぐ方法等である。しかしながら、こう
した工夫はインキの圧縮をなるべく少くする工夫である
から、いわゆるつぶれの悪いピンホールの多い印刷結果
になる。このように、印刷物の品質評価のうち原版に対
する忠実度、「太り」と、画線部の濃度、「ツブレ」が
二律背反的に同時に生ずる印刷効果であるから、インキ
がむき出しのままの転写構造をもつオフセット印刷では
、厚膜印刷にはもともと無理なのである。さて、印刷物
の印刷目的によつて任意にインキの量が変えられること
は非常に便利であり、このことは現在行われている印刷
のほとんどが薄膜印刷を目的としていることに対して、
厚膜印刷を可能ならしめる第一歩とも言える。
しかるに、その方法といえば、スクリーン印刷方法や凹
版印刷方法があるが、スクリーン印刷方法の欠点は前記
指摘した通りである。又、現在実用されている凹版印刷
方法は、その原版を金属質の硬質素材を原料としている
関係上、金属やガラス等の硬質な被印刷物には直接印刷
できない問題がある。したがつて、このための印刷は、
金属質の凹版原板から、一旦ゴムブランケットにインキ
を転写して、被印刷物に転写を行うという間接的な方法
を採用せざるを得ないのであるが、このことは結局オフ
セット印刷方法であり、前記した「太り」と「つぶれ」
の二律背反をもたらす結果となる。この発明は、支持体
上に、又は支持体なしに弾性体層と、この弾性体層上に
感光性の撥油性層又は感光層さらにその感光層上に撥油
性層とを設け、前記層のうち少なくとも撥油性層を選択
的に除去し、インキ溜り部を形成させることによりイン
キはみ出しを防止しつつ、金属やガラス等硬質面へ効果
的に厚膜印刷できる凹版印刷版を提供するものである。
版印刷方法があるが、スクリーン印刷方法の欠点は前記
指摘した通りである。又、現在実用されている凹版印刷
方法は、その原版を金属質の硬質素材を原料としている
関係上、金属やガラス等の硬質な被印刷物には直接印刷
できない問題がある。したがつて、このための印刷は、
金属質の凹版原板から、一旦ゴムブランケットにインキ
を転写して、被印刷物に転写を行うという間接的な方法
を採用せざるを得ないのであるが、このことは結局オフ
セット印刷方法であり、前記した「太り」と「つぶれ」
の二律背反をもたらす結果となる。この発明は、支持体
上に、又は支持体なしに弾性体層と、この弾性体層上に
感光性の撥油性層又は感光層さらにその感光層上に撥油
性層とを設け、前記層のうち少なくとも撥油性層を選択
的に除去し、インキ溜り部を形成させることによりイン
キはみ出しを防止しつつ、金属やガラス等硬質面へ効果
的に厚膜印刷できる凹版印刷版を提供するものである。
第２図は、この発明の実施例を説明するもので、実施例
装置の模式断面図である。
装置の模式断面図である。
この図において、Ａａはインキ供給ローラ、Ａｂはイン
キ着けローラ、Ｂは版胴を示す。
キ着けローラ、Ｂは版胴を示す。
Ｃはこの発明による凹版印刷版を示し、Ｃａは弾力性の
ある撥油性層で例えば、３〜２０μ好ましくは５〜１０
μの厚みであり、Ｃｂは弾力性のある感光層、Ｃｃは、
弾性体層で例えば１００μ〜４００μ好ましくは２００
μの厚みであり、Ｃｄは支持体である。このような構造
をした凹版印刷版Ｃが、版胴Ｂに固定された状態を第２
図は示しているが、支持体層Ｃｄをアルミ板等のわん曲
可能なもので作つてあるので、一般の平版印刷と同じ要
領で版胴Ｂに固定したり、取りはずしたりすることがで
きるものであるから、従来困難とされていた凹版のＰＳ
板化を可能にするものである。また、版胴Ｂに直接印刷
版の諸要素を形成させ得ることもできることはいうまで
もない。このうち、Ｃａ，は、感光層Ｃｂを露光して画
線部とし、現像することによつて撥油性層Ｃａを選択的
に除去して、インキ溜り部としたものであるが、感光層
Ｃｂをも除去して弾性体層Ｃｃを露出せしめてもよいし
、或いはこの弾性体層Ｃｃの一部分を腐蝕除去せしめ、
インキ溜り部となすようにしても、弾性体層Ｃｃが、イ
ンキ受容性のものであれば良い。
ある撥油性層で例えば、３〜２０μ好ましくは５〜１０
μの厚みであり、Ｃｂは弾力性のある感光層、Ｃｃは、
弾性体層で例えば１００μ〜４００μ好ましくは２００
μの厚みであり、Ｃｄは支持体である。このような構造
をした凹版印刷版Ｃが、版胴Ｂに固定された状態を第２
図は示しているが、支持体層Ｃｄをアルミ板等のわん曲
可能なもので作つてあるので、一般の平版印刷と同じ要
領で版胴Ｂに固定したり、取りはずしたりすることがで
きるものであるから、従来困難とされていた凹版のＰＳ
板化を可能にするものである。また、版胴Ｂに直接印刷
版の諸要素を形成させ得ることもできることはいうまで
もない。このうち、Ｃａ，は、感光層Ｃｂを露光して画
線部とし、現像することによつて撥油性層Ｃａを選択的
に除去して、インキ溜り部としたものであるが、感光層
Ｃｂをも除去して弾性体層Ｃｃを露出せしめてもよいし
、或いはこの弾性体層Ｃｃの一部分を腐蝕除去せしめ、
インキ溜り部となすようにしても、弾性体層Ｃｃが、イ
ンキ受容性のものであれば良い。
また、撥油性層Ｃａの画線部を選択的に除去する方法は
、従来の技術で公知となつているが、たとえば例として
、１撥油性層Ｃａにはシリコーンゴムを使い、このシリ
コーンゴム自体に光感応基を導入したものに光照射する
ことで、画線部のシリコーンゴムを選択的にはく離除去
する方法や、２感光層Ｃｂには、光接着性感光層を使用
して光照射によつてシリコーンゴムと感光層Ｃｂを接着
せしめ、画線部である末露光部のシリコーンゴムを膨潤
溶出して除去したり、或いは露出した感光層Ｃｂを溶出
除去する方法や、又３感光層Ｃｂには、ジアゾ感光層を
使用して光照射によつてジアゾニウム塩の光分解を誘発
せしめ、溶剤可溶化することで、シリコーン層（撥油性
層Ｃａ）及び感光層Ｃｂを除去する方法などがある。Ｃ
ｃは、前記感光層Ｃｄの裏面に裏打ちされている弾性体
層であるが、この弾性体層Ｃｃの硬さは一般的にシヨア
Ａスケール硬度で３０〜８０度程の非常に広い範囲で使
用することができる。すなわち、印刷時の印圧によつて
弾性体層Ｃｃが容易に圧縮される程度の硬さをもち、ゴ
ム弾性として復元するものであれば良い。なお撥油性層
Ｃａも弾性体層Ｃｃの一部分として考えても良い。Ｃｄ
は、アルミニウム板やプラスチックフィルム等を原相と
する支持体で、印刷版全体の強度を保証し、かつ可撓性
をもたすことで、前記したように版胴Ｂから独立させて
ＰＳ板化を容易ならしめている。ここでＤは被印刷物で
、金属質のものとして説明する。
、従来の技術で公知となつているが、たとえば例として
、１撥油性層Ｃａにはシリコーンゴムを使い、このシリ
コーンゴム自体に光感応基を導入したものに光照射する
ことで、画線部のシリコーンゴムを選択的にはく離除去
する方法や、２感光層Ｃｂには、光接着性感光層を使用
して光照射によつてシリコーンゴムと感光層Ｃｂを接着
せしめ、画線部である末露光部のシリコーンゴムを膨潤
溶出して除去したり、或いは露出した感光層Ｃｂを溶出
除去する方法や、又３感光層Ｃｂには、ジアゾ感光層を
使用して光照射によつてジアゾニウム塩の光分解を誘発
せしめ、溶剤可溶化することで、シリコーン層（撥油性
層Ｃａ）及び感光層Ｃｂを除去する方法などがある。Ｃ
ｃは、前記感光層Ｃｄの裏面に裏打ちされている弾性体
層であるが、この弾性体層Ｃｃの硬さは一般的にシヨア
Ａスケール硬度で３０〜８０度程の非常に広い範囲で使
用することができる。すなわち、印刷時の印圧によつて
弾性体層Ｃｃが容易に圧縮される程度の硬さをもち、ゴ
ム弾性として復元するものであれば良い。なお撥油性層
Ｃａも弾性体層Ｃｃの一部分として考えても良い。Ｃｄ
は、アルミニウム板やプラスチックフィルム等を原相と
する支持体で、印刷版全体の強度を保証し、かつ可撓性
をもたすことで、前記したように版胴Ｂから独立させて
ＰＳ板化を容易ならしめている。ここでＤは被印刷物で
、金属質のものとして説明する。
次にＥは版深部を示し、いわゆるインキ溜り部であるが
Ｅａはインキ充てん前、Ｅｄはインキ充てん中、Ｅｃは
インキ充てん後で印刷前、Ｅｄは印刷中、Ｅｅは印刷後
の各版深部を示すものである。
Ｅａはインキ充てん前、Ｅｄはインキ充てん中、Ｅｃは
インキ充てん後で印刷前、Ｅｄは印刷中、Ｅｅは印刷後
の各版深部を示すものである。
またＩはインキを示し、１ａは練られている状態のイン
キ、Ｉｂは版深部充てん中、１ｃは充てん後で印刷前、
Ｉｄは印刷中のインキである。
キ、Ｉｂは版深部充てん中、１ｃは充てん後で印刷前、
Ｉｄは印刷中のインキである。
またＩｄ，は印圧Ｐａｌを与えることによつて実質的に
インキに与えられる印圧をインキ断面量で示したもので
ある。Ｉｅは被印刷物Ｄに転写されたインキ、Ｉｅｌは
版深部に残留して、次回のインキ供給を容易にするもの
である。次に、この実施例装置の動作について説明する
。
インキに与えられる印圧をインキ断面量で示したもので
ある。Ｉｅは被印刷物Ｄに転写されたインキ、Ｉｅｌは
版深部に残留して、次回のインキ供給を容易にするもの
である。次に、この実施例装置の動作について説明する
。
転写インキ１ａは、インキ供給ローラＡａおよびインキ
付けローラＡｂを経て印刷版Ｃに接触する。印刷版Ｃの
表面は撥油性の撥油性層Ｃａ製の山部と、インキ受容層
Ｃｂ製の谷部で構成されているから版深部のみにインキ
が充てんされ、凹板を構成する。この方法によると、普
通の平版（または平凹板）のインキ供給に必要な湿し水
も、また、従来のグラビア版のインキ供給に必要なドク
タリノングも必要としないので、いわゆるセル（インキ
小室）のない連続画像の印刷をも可能にする。
付けローラＡｂを経て印刷版Ｃに接触する。印刷版Ｃの
表面は撥油性の撥油性層Ｃａ製の山部と、インキ受容層
Ｃｂ製の谷部で構成されているから版深部のみにインキ
が充てんされ、凹板を構成する。この方法によると、普
通の平版（または平凹板）のインキ供給に必要な湿し水
も、また、従来のグラビア版のインキ供給に必要なドク
タリノングも必要としないので、いわゆるセル（インキ
小室）のない連続画像の印刷をも可能にする。
しかも凹版であるから版深部の深さによつて容易にイン
キ量をかえられ、被印刷物へのインキの厚みを変えられ
ることはいうまでもない。さて、金属等への厚膜印刷に
おいて版胴Ｂや、被印刷物Ｄは剛体であり、これに比べ
ると撥油性層Ｃａや感光層Ｃｂならびに弾性体層Ｃｃは
、軟らかいゴム状の弾性体であることが条件である。
キ量をかえられ、被印刷物へのインキの厚みを変えられ
ることはいうまでもない。さて、金属等への厚膜印刷に
おいて版胴Ｂや、被印刷物Ｄは剛体であり、これに比べ
ると撥油性層Ｃａや感光層Ｃｂならびに弾性体層Ｃｃは
、軟らかいゴム状の弾性体であることが条件である。
またインキは流動性をもち、所定の粘度を有するが非圧
縮性であることはいうまでもない。さて、これらの印刷
条件下において、第２図における版胴Ｂに印圧Ｐａｌが
与えられたとしよう。
縮性であることはいうまでもない。さて、これらの印刷
条件下において、第２図における版胴Ｂに印圧Ｐａｌが
与えられたとしよう。
版胴Ｂや支持体Ｃｄは、非圧縮性のものであるから非画
線部においては、印圧ＰＣｌは、撥油性層Ｃａや感光層
Ｃｂおよび弾性体層Ｃｃで構成されるゴム状の圧縮量Ｐ
ａｌに等しく、この状態は印刷初期から終了点迄一定の
状態で持続される。一方、画線部においては、版深部に
充てんされたインキと撥油性層Ｃａと感光層Ｃｂおよび
弾性体層Ｃｃで構成されるゴム状層（Ｃａ，Ｃｂ，Ｃｃ
）が印圧Ｐａｌを受けるが、インキは非圧縮性であるか
ら、圧縮を受けたインキを通じてゴム状層を圧縮する。
そして一時期を経て圧縮されたゴム状層Ｃａ，Ｃｂ，Ｃ
ｃはゴム反撥性を回復してこの反撥性によつてインキを
排出・転写する。このような印圧構造は、前記するヤフ
セツト印刷方法と同じく、ゴム状層Ｃａ，Ｃｂ，Ｃｃの
反撥性を応用したものであるが、本発明は、前記オフセ
ット印刷方法に比べて、画線部からインキが側方へはみ
出すのを予防する新規な特徴を有する。
線部においては、印圧ＰＣｌは、撥油性層Ｃａや感光層
Ｃｂおよび弾性体層Ｃｃで構成されるゴム状の圧縮量Ｐ
ａｌに等しく、この状態は印刷初期から終了点迄一定の
状態で持続される。一方、画線部においては、版深部に
充てんされたインキと撥油性層Ｃａと感光層Ｃｂおよび
弾性体層Ｃｃで構成されるゴム状層（Ｃａ，Ｃｂ，Ｃｃ
）が印圧Ｐａｌを受けるが、インキは非圧縮性であるか
ら、圧縮を受けたインキを通じてゴム状層を圧縮する。
そして一時期を経て圧縮されたゴム状層Ｃａ，Ｃｂ，Ｃ
ｃはゴム反撥性を回復してこの反撥性によつてインキを
排出・転写する。このような印圧構造は、前記するヤフ
セツト印刷方法と同じく、ゴム状層Ｃａ，Ｃｂ，Ｃｃの
反撥性を応用したものであるが、本発明は、前記オフセ
ット印刷方法に比べて、画線部からインキが側方へはみ
出すのを予防する新規な特徴を有する。
すなわち、本発明においてはインキが一定区画容積内に
とじ込められた状態で圧縮されるので、むき出しのまま
圧縮されるオフセット印刷方法に比べて、インキが画像
位置から容易にはみ出さないという印刷初期の余剰イン
キはみ出し防止効果を有する。さらに感光層Ｃｂないし
は弾性体層Ｃｃに包容吸収されるインキは感光層Ｃｂな
いしは弾性体層Ｃｃの包容吸収が限界に達すことで、以
後ゴム状層Ｃａ，Ｃｂ，Ｃｃの反撥性回復にともなつて
ゴム状層Ｃａ，Ｃｂ，Ｃｃから排出される。一方、今、
印圧をＰａ（Ｍｍ）とし、感光層Ｃｂ上のインキ膜厚を
■ｄ（Ｍｍ）とした場合印刷機や被印刷物の精度を考慮
するとＰａ（Ｍｍ）〉■ｄ（Ｍｍ）が良い。さて、かか
る関係において、前記したオフセット印刷構造の第１図
において印圧Ｐａｌが与えられた場合ゴム状層Ｃａ，Ｃ
ｂ，Ｃｃおよびインキには、インキの膜厚１ｄ１を越え
た値の印圧Ｐａｌが加えられる。その結果ゴム状層Ｃａ
，Ｃｂ，Ｃｃの反撥回復性は、インキの膜厚１ｄ，より
大きい圧縮力をインキに与えることになる。一力、本発
明における印刷方法で印圧Ｐａ２を与えた場合、第３図
に示すごとく、画線部Ｅと非画線部の境界位置ｇから遠
ざかる部分の画線部ｆにおいては、前記オフセット印刷
方法と同じく感光層Ｃｂおよび弾性体層Ｃｃの反撥回復
性は、インキ膜厚■Ｄ２より大きいので、この部分ｆの
インキは、圧縮力を受ける。
とじ込められた状態で圧縮されるので、むき出しのまま
圧縮されるオフセット印刷方法に比べて、インキが画像
位置から容易にはみ出さないという印刷初期の余剰イン
キはみ出し防止効果を有する。さらに感光層Ｃｂないし
は弾性体層Ｃｃに包容吸収されるインキは感光層Ｃｂな
いしは弾性体層Ｃｃの包容吸収が限界に達すことで、以
後ゴム状層Ｃａ，Ｃｂ，Ｃｃの反撥性回復にともなつて
ゴム状層Ｃａ，Ｃｂ，Ｃｃから排出される。一方、今、
印圧をＰａ（Ｍｍ）とし、感光層Ｃｂ上のインキ膜厚を
■ｄ（Ｍｍ）とした場合印刷機や被印刷物の精度を考慮
するとＰａ（Ｍｍ）〉■ｄ（Ｍｍ）が良い。さて、かか
る関係において、前記したオフセット印刷構造の第１図
において印圧Ｐａｌが与えられた場合ゴム状層Ｃａ，Ｃ
ｂ，Ｃｃおよびインキには、インキの膜厚１ｄ１を越え
た値の印圧Ｐａｌが加えられる。その結果ゴム状層Ｃａ
，Ｃｂ，Ｃｃの反撥回復性は、インキの膜厚１ｄ，より
大きい圧縮力をインキに与えることになる。一力、本発
明における印刷方法で印圧Ｐａ２を与えた場合、第３図
に示すごとく、画線部Ｅと非画線部の境界位置ｇから遠
ざかる部分の画線部ｆにおいては、前記オフセット印刷
方法と同じく感光層Ｃｂおよび弾性体層Ｃｃの反撥回復
性は、インキ膜厚■Ｄ２より大きいので、この部分ｆの
インキは、圧縮力を受ける。
この現象は凸版印刷等において非画線部をなす凹部にイ
ンキが着いて汚れることと同じであり、この場合いわゆ
る「ケツとり」という作業を行いその凹部をより深く補
刻することが行われている。しかるに画線部と非画線部
の境界位置ｇの近い部分の画線部においては、非画線部
のゴム状層Ｃａ，Ｃｂ，Ｃｃと同じ働きをする。すなわ
ち、非画線部のゴム状層Ｃａ，Ｃｂ，Ｃｃは印圧Ｐａ２
を与えられることによつて、Ｐａ２の圧縮を受け、ゴム
状層Ｃａ，Ｃｂ，Ｃｃは上方に移動する。この状態は印
刷状態が解放される迄持続されるが、非画線部に隣接す
る画線部の感光層Ｃｂおよび弾性体層Ｃｃは、非画線部
に位置する感光層Ｃｂや弾性体層Ｃｃと、元来、同材質
の弾性体であるから、非画線部に位置するゴム状層Ｃａ
，Ｃｂ，Ｃｃの圧縮幾動に拘束された動きをする。しか
もゴム状層Ｃａ，Ｃｂ，Ｃｃは弾性体であるから、非画
線部の境界位置ｇから遠ざかる。すなわちｆ方向につれ
その拘束力は漸減し、印圧はＰａ３になり前記オフセッ
ト印刷方法と同じ印刷構造になる。したがつて、非画線
部の拘束力によつて画線部５のエッジ部付近のインキＩ
は印加力が弱くなり、いわゆるインキポケットＴを形成
し、余剰インキのはみ出しを防止する。
ンキが着いて汚れることと同じであり、この場合いわゆ
る「ケツとり」という作業を行いその凹部をより深く補
刻することが行われている。しかるに画線部と非画線部
の境界位置ｇの近い部分の画線部においては、非画線部
のゴム状層Ｃａ，Ｃｂ，Ｃｃと同じ働きをする。すなわ
ち、非画線部のゴム状層Ｃａ，Ｃｂ，Ｃｃは印圧Ｐａ２
を与えられることによつて、Ｐａ２の圧縮を受け、ゴム
状層Ｃａ，Ｃｂ，Ｃｃは上方に移動する。この状態は印
刷状態が解放される迄持続されるが、非画線部に隣接す
る画線部の感光層Ｃｂおよび弾性体層Ｃｃは、非画線部
に位置する感光層Ｃｂや弾性体層Ｃｃと、元来、同材質
の弾性体であるから、非画線部に位置するゴム状層Ｃａ
，Ｃｂ，Ｃｃの圧縮幾動に拘束された動きをする。しか
もゴム状層Ｃａ，Ｃｂ，Ｃｃは弾性体であるから、非画
線部の境界位置ｇから遠ざかる。すなわちｆ方向につれ
その拘束力は漸減し、印圧はＰａ３になり前記オフセッ
ト印刷方法と同じ印刷構造になる。したがつて、非画線
部の拘束力によつて画線部５のエッジ部付近のインキＩ
は印加力が弱くなり、いわゆるインキポケットＴを形成
し、余剰インキのはみ出しを防止する。
次に、このようにして印加されたインキＩは、印刷され
たインキＩｅと版深部Ｅｅに残留する。
たインキＩｅと版深部Ｅｅに残留する。
インキＩｅ，に分裂され、印刷目的を果して、次回の印
刷が繰り返されるのである。以下に、本発明の具体的実
施例を３例記載する。
刷が繰り返されるのである。以下に、本発明の具体的実
施例を３例記載する。
実施例１０．３ｍｕのアルミ板上に厚さ０．１ｍｍのク
ロロプレンゴムシート（ゴム硬度６０）を貼り合わせた
弾性体層を有する基板をつくり、この上に特開昭４８−
９４５０４号公報の実施例１の記載に準じて感光層およ
びインキ反撥性シリコーンゴム層をこの順に塗設した。
ロロプレンゴムシート（ゴム硬度６０）を貼り合わせた
弾性体層を有する基板をつくり、この上に特開昭４８−
９４５０４号公報の実施例１の記載に準じて感光層およ
びインキ反撥性シリコーンゴム層をこの順に塗設した。
感光層の組成はグリシジルメタクリレートにキシレンジ
アミンを４：１で付加させた反応物９５重量％とベンゾ
インメチルエーテル５重量％の混合物で、厚さは２μで
ある。またインキ反撥層は一液性常温加硫型シリコーン
ゴム（東レシリコーンＳＨ７８ｌ）をｎ−ヘプタンで２
０％溶液として感光層上に塗布し、乾燥後５μの層を形
成させたものである。この版にポジフィルムを通して画
像露光し、ｎ−ヘプタンで湿らせたブラシで敏面を軽く
こすり、未露光部シリコーンゴム層を膨潤させて除去し
た。感光層表面が露出し、インキ受容表面になり、イン
キ溜り部はシリコーンゴム層で形成され、深さ約５μで
あつた。この印刷版を平台式凸版印刷機にとりつけ、水
なし平版用インキ東華色素アルポＧ（スミ）を用いて、
紙に直接インキを転写した。適正な印圧を選ぶことによ
り、被印刷紙上にインキ膜厚２．５〜３μをもつた印刷
物がえられた。画線の太りは、わずかであつた。実施例
２ 実施例１と同じ弾性体層を有する基板に、特公昭４６−
１６０４４号公報の実施例に準拠してインキ反撥性層を
最上層に有する版材を形成した。
アミンを４：１で付加させた反応物９５重量％とベンゾ
インメチルエーテル５重量％の混合物で、厚さは２μで
ある。またインキ反撥層は一液性常温加硫型シリコーン
ゴム（東レシリコーンＳＨ７８ｌ）をｎ−ヘプタンで２
０％溶液として感光層上に塗布し、乾燥後５μの層を形
成させたものである。この版にポジフィルムを通して画
像露光し、ｎ−ヘプタンで湿らせたブラシで敏面を軽く
こすり、未露光部シリコーンゴム層を膨潤させて除去し
た。感光層表面が露出し、インキ受容表面になり、イン
キ溜り部はシリコーンゴム層で形成され、深さ約５μで
あつた。この印刷版を平台式凸版印刷機にとりつけ、水
なし平版用インキ東華色素アルポＧ（スミ）を用いて、
紙に直接インキを転写した。適正な印圧を選ぶことによ
り、被印刷紙上にインキ膜厚２．５〜３μをもつた印刷
物がえられた。画線の太りは、わずかであつた。実施例
２ 実施例１と同じ弾性体層を有する基板に、特公昭４６−
１６０４４号公報の実施例に準拠してインキ反撥性層を
最上層に有する版材を形成した。
感光層の物質はつぎの組成である。燐タングステン酸と
Ｐ−ジアゾジフェニルアミンの感光性ジアゾニウム塩
・・・・・・４重量部塩化ビニリデン−アクリロニト
リルの樹脂共重合体 ・・・・・・ｌ重
量部塩 酸 ・・・・・・０．３重
量部エチレングリコールのモノメチルエーテル
・・・・・・１４６．５重量部この溶液を塗設・
乾燥したのち、メタノール２０部、水７６部と水溶性の
感光性ジアゾ樹脂（Ｐ−ジアゾジフエニルアミンーホル
ムアルデヒド樹脂）４部からなる溶液をスクイーズ・ロ
ールにより１〜／Ｆｔ２の乾燥重量になるように塗布す
る。
Ｐ−ジアゾジフェニルアミンの感光性ジアゾニウム塩
・・・・・・４重量部塩化ビニリデン−アクリロニト
リルの樹脂共重合体 ・・・・・・ｌ重
量部塩 酸 ・・・・・・０．３重
量部エチレングリコールのモノメチルエーテル
・・・・・・１４６．５重量部この溶液を塗設・
乾燥したのち、メタノール２０部、水７６部と水溶性の
感光性ジアゾ樹脂（Ｐ−ジアゾジフエニルアミンーホル
ムアルデヒド樹脂）４部からなる溶液をスクイーズ・ロ
ールにより１〜／Ｆｔ２の乾燥重量になるように塗布す
る。
この上にシリコーンゴム（ＧＥ社ＲＴ■１０８）２０重
量部とヘプタン８０部からなる溶液を塗る。乾燥後の厚
みは、感光層が２．５μ、シリコーンゴム層が３μであ
つた。この版は、ネガフィルムを通して露光し、現像液
（ｎ−ブチルアセテート２／ｎ−プロピルアルコール５
／水１から成る）をしみ込ませた現像バッドでこすり、
現像すると、露光された部分の感光層とその上にあるシ
リコーンゴム層が除去され、感光層とシリコーンゴム層
の厚みをプラスした深さの凹部からなるインキ溜り部を
もつ凹版がえられた。
量部とヘプタン８０部からなる溶液を塗る。乾燥後の厚
みは、感光層が２．５μ、シリコーンゴム層が３μであ
つた。この版は、ネガフィルムを通して露光し、現像液
（ｎ−ブチルアセテート２／ｎ−プロピルアルコール５
／水１から成る）をしみ込ませた現像バッドでこすり、
現像すると、露光された部分の感光層とその上にあるシ
リコーンゴム層が除去され、感光層とシリコーンゴム層
の厚みをプラスした深さの凹部からなるインキ溜り部を
もつ凹版がえられた。
この版を凸版輪転印刷機の版胴にとりつけ、Ｕ■キユア
インキを用いてフィルムを被印刷物として直刷り印刷を
行つた。
インキを用いてフィルムを被印刷物として直刷り印刷を
行つた。
画線がシャープで、インキ盛りの十分な印刷物がえられ
た。実施例３ ポリエステルフィルム東レ、ゞ゛ルミラー２゛２５０μ
上にポリウレタンゴムシート０．２ｍｍのものを貼りつ
け、弾性体層をもつ支持体を作つた（ポリウレタンゴム
の硬度は８０）。
た。実施例３ ポリエステルフィルム東レ、ゞ゛ルミラー２゛２５０μ
上にポリウレタンゴムシート０．２ｍｍのものを貼りつ
け、弾性体層をもつ支持体を作つた（ポリウレタンゴム
の硬度は８０）。
特開昭５１一１２７８０１号公報の実施例１に開示され
ている方法により、全有機基に対するビニル基の割合が
０．１％のポリジメチルシロキサン２０ｇに４，４′−
ジアジドビフェニル１９をトルエン５８０９に溶解させ
た溶液を回転塗布機を用いて何回も塗布を重ねて４μの
厚みの感光性シリコーンゴム層を形成した。
ている方法により、全有機基に対するビニル基の割合が
０．１％のポリジメチルシロキサン２０ｇに４，４′−
ジアジドビフェニル１９をトルエン５８０９に溶解させ
た溶液を回転塗布機を用いて何回も塗布を重ねて４μの
厚みの感光性シリコーンゴム層を形成した。
画像担持フィルムを通してＵ■光を照射し、ベンゼンで
現像した。未露光部のシリコーンゴム層が完全に除去さ
れ、ポリウレタンゴムの表面が露出された。実施例１お
よび２の印刷法に適用し、インキ盛りのよい厚肉印刷物
を得ることができた。
現像した。未露光部のシリコーンゴム層が完全に除去さ
れ、ポリウレタンゴムの表面が露出された。実施例１お
よび２の印刷法に適用し、インキ盛りのよい厚肉印刷物
を得ることができた。
この発明による凹版印刷板は、弾性体層を中間床材とし
ているので、印刷物が比較的和面なものであつても、そ
れに対応し、画質を失うことなく、印刷を可能にするも
のであり、又、弾性体層を中間床材とすることで、オフ
セット印刷と同じく、印加初期におけるインキ包容吸収
機構をもたせ、インキポケットが存在するということは
、印刷版の製造工程では撥油性層Ｃａの厚みを一定にす
るだけでよく、印刷の諸条件の影響を直接受けないので
、従来のオフセット印刷では不可能とされていたような
、多量のインキを強い圧力で転写しても画線となるイン
キが容易にはみ出さない、すなわち太らないという厚膜
印刷を可能にするのである。
ているので、印刷物が比較的和面なものであつても、そ
れに対応し、画質を失うことなく、印刷を可能にするも
のであり、又、弾性体層を中間床材とすることで、オフ
セット印刷と同じく、印加初期におけるインキ包容吸収
機構をもたせ、インキポケットが存在するということは
、印刷版の製造工程では撥油性層Ｃａの厚みを一定にす
るだけでよく、印刷の諸条件の影響を直接受けないので
、従来のオフセット印刷では不可能とされていたような
、多量のインキを強い圧力で転写しても画線となるイン
キが容易にはみ出さない、すなわち太らないという厚膜
印刷を可能にするのである。
第１図は、従来のオフセット印刷において、むき出しの
まま、原版から、ゴムブランケットに転写されたインキ
が分裂をする状態を示す説明図、第２図は、本発明の凹
版印刷版を使用した印刷装置の模式断面図、第３図は、
本発明における印刷版の印圧構造において、弾性体層が
ゴム反撥性を回復し、転写を可能にする状態を示す弾性
体層の断面図である。 １：圧胴、２：被印刷物、３：ブランケツト胴、４：原
版から転写されたむき出しのインキ、５：転写分裂イン
キ、５−ａ・・・・・・ブランケットに一時的に包容吸
収されるインキ、５−ｂ・・・・・・画線からはみ出す
インキ、５−ｃ・・・・・・被印刷物に吸収定着される
インキ、Ｐａｌ，ｐａ２，ｐａ３・・・・・・印圧、Ａ
ａ：インキ供給ローラー、Ａｂ：インキ着けローラー、
Ｉ：インキ、Ｂ：版胴、Ｃ：印刷版、Ｃａ：撥油性層、
Ｃｂ：感光層、Ｃｃ：弾性体層、Ｃｄ：支持体層、Ｄ：
被印刷物、Ｅ：版深部、■Ｄｌ，■Ｄ２・・・・・・イ
ンキ膜厚、ゴム状層・・・・・・Ｃａ，Ｃｂ，ＣＣｌｌ
：インキポケツト部。
まま、原版から、ゴムブランケットに転写されたインキ
が分裂をする状態を示す説明図、第２図は、本発明の凹
版印刷版を使用した印刷装置の模式断面図、第３図は、
本発明における印刷版の印圧構造において、弾性体層が
ゴム反撥性を回復し、転写を可能にする状態を示す弾性
体層の断面図である。 １：圧胴、２：被印刷物、３：ブランケツト胴、４：原
版から転写されたむき出しのインキ、５：転写分裂イン
キ、５−ａ・・・・・・ブランケットに一時的に包容吸
収されるインキ、５−ｂ・・・・・・画線からはみ出す
インキ、５−ｃ・・・・・・被印刷物に吸収定着される
インキ、Ｐａｌ，ｐａ２，ｐａ３・・・・・・印圧、Ａ
ａ：インキ供給ローラー、Ａｂ：インキ着けローラー、
Ｉ：インキ、Ｂ：版胴、Ｃ：印刷版、Ｃａ：撥油性層、
Ｃｂ：感光層、Ｃｃ：弾性体層、Ｃｄ：支持体層、Ｄ：
被印刷物、Ｅ：版深部、■Ｄｌ，■Ｄ２・・・・・・イ
ンキ膜厚、ゴム状層・・・・・・Ｃａ，Ｃｂ，ＣＣｌｌ
：インキポケツト部。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 支持体上に、又は支持体なしに弾性体層と、この弾
性体層上に感光性の撥油性層又は感光層さらにその感光
層上に撥油性層とを設け、前記層のうち少くとも撥油性
層を選択的に除去しインキ溜り部を形成せしめてなるこ
とを特徴とする凹版印刷版。 ２ 撥油性層と感光層を選択的に除去してインキ溜り部
を形成せしめてなる特許請求の範囲第１項記載の凹版印
刷版。 ３ 撥油性層と感光性層と弾性体層の一部とを選択的に
除去してインキ溜り部を形成せしめてなる特許請求の範
囲第１項記載の凹版印刷版。 ４ 撥油性層を弾性体とした特許請求の範囲第１項から
第４項のうちいずれか一つの項に記載の凹版印刷版。 ５ 感光層を弾性体とした特許請求の範囲第１項から第
４項のうちいずれか一つの項に記載の凹版印刷版。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15731579A JPS5928479B2 (ja) | 1979-12-03 | 1979-12-03 | 凹版印刷版 |
| FR8025480A FR2471283A1 (fr) | 1979-12-03 | 1980-12-01 | Plaque d'impression a gravure et procede d'impression a l'aide d'une telle plaque |
| GB8038608A GB2066159B (en) | 1979-12-03 | 1980-12-02 | Intaglio printing plate and a printing method |
| DE19803045322 DE3045322C2 (de) | 1979-12-03 | 1980-12-02 | Verfahren zum Herstellen einer Tiefdruckform |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15731579A JPS5928479B2 (ja) | 1979-12-03 | 1979-12-03 | 凹版印刷版 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5678991A JPS5678991A (en) | 1981-06-29 |
| JPS5928479B2 true JPS5928479B2 (ja) | 1984-07-13 |
Family
ID=15646993
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15731579A Expired JPS5928479B2 (ja) | 1979-12-03 | 1979-12-03 | 凹版印刷版 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5928479B2 (ja) |
| DE (1) | DE3045322C2 (ja) |
| FR (1) | FR2471283A1 (ja) |
| GB (1) | GB2066159B (ja) |
Families Citing this family (18)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS56137989A (en) * | 1980-03-29 | 1981-10-28 | Toppan Printing Co Ltd | Printing plate and printing method by use thereof |
| JPS5946090A (ja) * | 1982-09-09 | 1984-03-15 | 東洋紙業株式会社 | プリント配線基板の製造方法 |
| JPS5946091A (ja) * | 1982-09-09 | 1984-03-15 | 東洋紙業株式会社 | プリント配線基板の製造方法 |
| JPS5946089A (ja) * | 1982-09-09 | 1984-03-15 | 東洋紙業株式会社 | プリント配線基板の製造方法 |
| JPS59188990A (ja) * | 1983-04-11 | 1984-10-26 | 松下電器産業株式会社 | プリント配線基板の製造法 |
| JPS59231887A (ja) * | 1983-06-13 | 1984-12-26 | 日本文化精工株式会社 | Ｕｖインキを用いプリント基板等の凹凸面若しくは平面に画線をエツチングする方法 |
| JPS6039889A (ja) * | 1983-08-12 | 1985-03-01 | 大日本インキ化学工業株式会社 | レジストパタ−ンの形成方法 |
| JPS6039888A (ja) * | 1983-08-12 | 1985-03-01 | 大日本インキ化学工業株式会社 | レジストパタ−ンの形成方法 |
| JPS61163343A (ja) * | 1985-01-16 | 1986-07-24 | Toray Ind Inc | 水なし平版印刷版 |
| DE3730193A1 (de) * | 1987-09-09 | 1989-03-23 | Bonner Zeitungsdruckerei | Druckform, insbesondere druckplatte und hochdruckverfahren |
| JPH02117193A (ja) * | 1988-09-30 | 1990-05-01 | Molex Inc | パッド印刷されたリモートコントローラ |
| JPH039358A (ja) * | 1989-06-06 | 1991-01-17 | Murakami Screen Kk | グラビア印刷用版およびその製造法 |
| US5996488A (en) * | 1994-11-25 | 1999-12-07 | Canon Kabushiki Kaisha | Preparation of an electron source by offset printing electrodes having thickness less than 200 nm |
| EP0802170A3 (en) * | 1996-04-16 | 1997-11-05 | Corning Incorporated | Method and apparatus for forming glass rib structures |
| DE19713311C2 (de) * | 1997-03-29 | 1999-03-11 | Schott Glas | Verfahren und Vorrichtung zur Erzeugung von großflächigen Präzisionsstrukturen auf Flachglas |
| EP0875915B1 (en) * | 1997-04-30 | 2004-09-22 | Kyocera Corporation | Method for manufacturing plasma display unit substrate |
| WO2002087893A1 (en) * | 2001-04-26 | 2002-11-07 | Arktype S.R.L. | A support for the decorative printing of surfaces, particularly of ceramic materials and the like |
| ATE324268T1 (de) * | 2001-04-26 | 2006-05-15 | Sacmi | Eine unterlage für dekoratives bedrucken von oberflächen, besonders aus keramik und ähnlichen materialien |
Family Cites Families (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE426939C (de) * | 1924-11-29 | 1926-03-23 | Seiden Textil Akt Ges | Druckform in Form von Walzen oder Platten mit Hartgummidruckflaeche |
| US3241486A (en) * | 1961-09-28 | 1966-03-22 | Interchem Corp | New planographic printing plate and method for producing same |
| US3511178A (en) * | 1967-01-06 | 1970-05-12 | Minnesota Mining & Mfg | Printing plate and method |
| BE754692A (fr) * | 1969-08-12 | 1971-02-11 | Scott Paper Co | Plaque d'impression planographique a sec et sa methode de preparation |
| DE2061287C3 (de) * | 1970-12-12 | 1981-07-23 | Basf Ag, 6700 Ludwigshafen | Verfahren zur Herstellung von tiefenvariablen Tiefdruckformen |
| US3949142A (en) * | 1971-05-20 | 1976-04-06 | Scott Paper Company | Dry planographic plate |
| JPS5426923B2 (ja) * | 1972-03-21 | 1979-09-06 | ||
| US3859090A (en) * | 1973-05-17 | 1975-01-07 | Eastman Kodak Co | Repellent compositions and elements containing the same |
| US4086093A (en) * | 1974-10-11 | 1978-04-25 | Toray Industries, Inc. | Dry planographic printing plate |
-
1979
- 1979-12-03 JP JP15731579A patent/JPS5928479B2/ja not_active Expired
-
1980
- 1980-12-01 FR FR8025480A patent/FR2471283A1/fr active Granted
- 1980-12-02 DE DE19803045322 patent/DE3045322C2/de not_active Expired
- 1980-12-02 GB GB8038608A patent/GB2066159B/en not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| FR2471283A1 (fr) | 1981-06-19 |
| FR2471283B1 (ja) | 1984-06-22 |
| GB2066159A (en) | 1981-07-08 |
| DE3045322C2 (de) | 1984-11-15 |
| JPS5678991A (en) | 1981-06-29 |
| GB2066159B (en) | 1983-11-23 |
| DE3045322A1 (de) | 1981-09-03 |
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