JPH09500572A - 官能基を含む活性炭 - Google Patents
官能基を含む活性炭Info
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Abstract
(57)【要約】
ハロゲン含有雰囲気下に180℃未満の温度で活性炭材料を処理し、得られた生成物を昇温下に求核剤で処理することを含む改質活性炭材料の製造法を提供する。ハロゲン化は、塩素化であるのが好ましく、好ましくは120℃以下、より好ましくは85℃以下、便宜的には30℃以下の温度で行う。求核剤は、液体若しくは気体であり、ハロゲン、例えば塩素を炭素表面から求核置換し得る基を有する任意の有機若しくは無機物質であってよい。ハロゲン化は、数時間、例えば24時間にわたり実施する。本発明は、吸着法において化学種特異性を達成し得るように表面が官能基と結合している活性炭の製造に関する。
Description
【発明の詳細な説明】
官能基を含む活性炭
本発明は、吸着方法の化学種特異性が達成され得るように官能基が表面に結合
した活性炭の生成に関する。好ましい官能基は有機化学部分上に担持される。
本発明者らは以前に、湿り空気にさらされたときに耐老化性を示す塩素化活性
炭の生成を記載しており、この物質は経時的に材料吸着特性を崩壊することが判
明している(Hall及びHolmes:Carbon(1992)第2巻,1
73−176ページ)。活性炭試料を塩素雰囲気下にて180℃で3時間処理し
、次いで水又はメタノールで洗浄すると、80%(w/w)の相対湿度にさらし
て予め平衡化した後でも少なくとも原活性炭としてモデル汚染物質のトリクロロ
ニトロメタンを吸着するのに効果的である材料を生成することができた。結果は
、この材料が高い吸着剤活性を有することを示唆していた。
上記研究のハロゲン化工程を上述の180℃より低い温度で実施するときに適
切な物質で処理すると、この物質に含まれる部分上に担持された活性官能基が炭
素表面と結合して、洗浄によっても減圧下乾燥によっても除去できないことが本
発明者らにより知見された。更には、この方法で
は、湿気雰囲気中で耐老化性を示し、使用中に官能基を含む蒸気を発生しない官
能基含有炭素が得られる。この方法では、単に通常の含浸手順を適用すれば喪失
する炭素上の揮発性物質を固定することができる。
このように比較的低温のハロゲン化で得られた結果は、180℃以上で塩素処
理した炭素で洗浄を実施して得られた結果とは対照的である。このように化学的
部分を炭素表面に適用することができれば、とりわけフィルター材料、ガスクロ
マトグラフィー吸着剤、触媒及び分離床成分のような用途で簡単かつ好都合に選
択的活性炭材料を生成できるという非常に望ましい結果が得られる。
従って、本発明は第1に、ハロゲンが取り込まれるが、求核剤による処理で置
換可能なままであるような条件下で炭素含有物質をハロゲン化し、ハロゲン化し
た炭素を官能基又はその化学的前駆体基を有する求核剤で処理してハロゲンを置
換し、減圧下で加熱及び/又は水性溶媒で洗浄した後に官能基が炭素と結合した
ままである材料を得ることからなる官能基含有炭素材料の生成方法を提供する。
特に好ましい材料は、120℃の温度に3mbarの圧力で加熱した後にも官能
基を保持する。
フッ素、塩素、臭素及びヨウ素は全て、これらが反応した炭素の表面から置換
させることができる。しかしながら、臭素化は比較的高温(約200℃)で実施
しなければならず、置換は困難であり、フッ素は表面と反応すると同時に炭素に
よって吸着される。吸着したフッ素がゆっくり遊離すると、炭素の表面安定性が
低くなり、吸湿度がしばしば望ましくないものになる。ヨウ素は取り扱いが困難
で、比較的非反応性である。これに対して、低温で塩素化を実施すれば、試料調
製や気体の取り扱い手順が簡単になり得る。塩素化温度によってかなりの量の置
換可能な塩素が得られ、塩素は液体又は蒸気形態の求核剤と接触させることによ
り比較的簡単に置換される。
塩素又は臭素によるハロゲン化が好ましく、塩素によるハロゲン化が最も好ま
しい。好ましくは120℃以下で、更に好ましくは85℃以下で、好都合には3
0℃以下で、好ましくは1時間から数時間(例えば24時間)塩素化する。
求核剤は、固体であっても、液体であっても、気体であってもよく、また炭素
表面からハロゲンを置換させ得る基を含むものであれば、有機物質であれ無機物
質であれどんな
ものでもよい。本明細書では求核剤という用語を使用するが、この物質と炭素と
の結合の正確な性質やハロゲンの置換はまだ解明されていないため、反応機構の
限定事項は本発明の方法によるものではないと理解されたい。
従って、求核剤の作用により炭素表面からハロゲンが置換されるとしても、ど
れかが求核剤との塩として保持されているのかそれともハロゲンが真空下で喪失
したのかは不明である。本発明の特徴は、求核剤、従って求核剤の官能基がこの
ようなハロゲン前処理後に減圧下及び昇温下で炭素上に保持されるが、ハロゲン
前処理しなければ保持されず、従ってやがて官能基含量が低下することである。
官能基含有部分と炭素との結合は置換工程中、温度と共に増し、液体求核剤の
還流温度又は約200℃が好ましい。
適切な求核剤の例は、式(I):
H−XRn (I)
(式中、Xは酸素、窒素又は硫黄であり、各Rは独立して、H及び任意に置換さ
れたアルキルもしくはアルケニル基の中から選択されるか、又は2個以上の基R
が1個以上の任意に置換されたシクロアルキル、シクロアルケニルもしくは複素
環式基を含んでいるか、又は一緒になってこれらを
形成し、nは(H−X結合に対して)原子Xの原子価−1に等しい)で表される
物質である。
炭素と結合すべき官能基又はこれらの官能基の化学的前駆体は、最終生成物の
改質炭素の望ましい特性に依存し、疎水性部分を含み得るが、最も一般的には、
アミノ、チオール、スルホン酸化物又は他の硫黄酸化物、ハロゲン、カルボキシ
、ケト、アルデヒド基、又は特に金属イオンもしくは金属原子を含み得る基であ
る。複素環の形態をとるような官能基が、例えばピリジン環及びピペリジン環の
ような置換基であってもよい。本明細書で使用する化学的前駆体という用語は、
一旦炭素表面に結合すると、化学的変換により、例えば酸化又は還元により所望
の基となり得る部分を包含するものとする。
低温で塩素により前処理した炭素に結合し、置換した炭素表面に減圧下及び昇
温下でのガス発生に対する耐性を付与して求核剤上の官能基を離脱させ得る物質
の特定例には、アルコール又はアミン(例えばメタノール、アンモニア、エタノ
ールアミン、エチルアミン、エチレンジアミン及びイソプロピルアミン)が含ま
れる。
炭素に所定の官能基を付与するために、所定の基又はそ
の前駆体を有する1つ以上の部分を含む求核剤、及び炭素との結合を達成するた
めに使用される求核基を使用することが望ましい。ピリジン、ピペラジン又はト
リエチルアミン部分中に含まれるような望ましい基を炭素に結合するために使用
される求核剤には、スペーサーによって求核基に結合する上記部分が含まれ得る
。この方法は、ピペラジン中の対向する窒素によって示されるような求核基で立
体的な問題が生じ得る場合に特に適用され得る。
例えば、ピリジン、ピペラジン及びトリエチルアミン部分は、式IIa−c:
(式中、Xはそれぞれの場合でOH、NH2又は−SHである)で表される化合
物をそれぞれ求核剤として用い、本発明の方法により炭素に結合することができ
る。
炭素上のヒドロキシ置換基の作用は大抵の用途では、例えば大半の有毒材料用
のフィルター物質として使用すると有害であるが、水を求核剤として使用しても
よい。
求核剤が気体の場合、ハロゲン化炭素を好ましくは昇温下にて純粋形態の気体
でフラッシュして処理することが好ましい。これは、ハロゲン化直後に実施して
もよいが、まずハロゲン材料をガス抜きすることが好ましい。本発明の好都合な
方法では、冷却したハロゲン化炭素を求核性気体でフラッシュし、次いで例えば
約5℃/分の速度で処理温度まで徐々に加熱し、処理温度で数時間、例えば3〜
5時間、1バールの圧力を用いて加熱する。
求核剤が液体の場合、これを沸点で炭素と共に、例えば空気を排除した装置内
で還流させることが好ましい。従って、求核剤がメタノール、エタノールアミン
、ピリジン、イソプロピルアミン、トリエチルアミン又はエチレンジアミンの場
合、この方法が好ましい。還流を数時間実施することが好都合である。求核剤が
固体の場合、求核剤をガス化させるか、又はこれを炭素表面に装入できるよう溶
媒に溶解する必要がある。
いずれの場合も、本発明の官能基含有炭素物質を酸及びアルカリで交互に洗浄
し、更に水で洗浄して、全ての試薬を除去することが好ましい。この手順を実施
して、生成物を真空下で数時間ガス抜きすると、求核剤に対応してかな
りの量の元素(例えばアミンを使用する場合は窒素)を含む無臭炭素が得られる
ことが知見された。
以下の非制限的な実施例を参照して、本発明の方法及び生成物の実施態様を例
示的に説明する。これらに鑑みて、当業者には本発明の範囲内に含まれる他の実
施態様は自明であろう。実施例1
Hall及びHolmes, Carbon, Vol.2, pp.171
−176, 1992の操作を用い、ただしハロゲン化温度及び洗浄用組成物は
ここに述べるように変更して炭素改質を行なった。老化試験のため、炭素を浅い
皿に入れて45℃で1年間80%の相対湿度に曝露した(Adams等, Ca rbon 26
, p.451, 1988の方法参照)。求核剤としてメタノ
ールを用いた。
活性炭試料(30g)を81ステンレス鋼容器内で180℃で3時間ガス抜き
し、必要であればハロゲン化温度に冷却し、その後>99%の塩素ガスを約1b
arの圧力で導入した。24時間後、得られた塩素化炭素をガス抜き(3mba
r; 180℃)して一定重量としてから、普
通7×100mlの(ガスの場合はフラッシュさせた)求核剤で洗浄物が強酸性
でなくなるまで洗浄し、その後還流下に更に100mlの求核剤で8時間高温処
理した。試料を120℃及び3mbarにおいて乾燥して一定重量とした。
生成物及び該生成物を得るのに用いた処理を下記表1にまとめる。表中、PS
%は分で測定されるトリクロロニトロメタン漏出時間を示す。水捕捉量とは相対
湿度80%への曝露後のもので、w/w %で表わす。SCII及びBPLはベ
ルギーのChemviron Ltd.から入手した活性炭である。
本発明の炭素が老化しないという事実は、酸素及び/または水蒸気の化学吸着
に利用可能な吸着点が存在しないことに起因すると仮定される。180℃以上の
温度でハロゲン化した炭素の求核的処理は多孔質構造から強度に吸着したハロゲ
ンを除去するだけであるが、本発明者等は、上記温度より低温で塩素化すると恐
らくはこのような条件下での塩素炭素結合が比較的弱い、即ち例えば共有単結合
ではなくオレフィン錯体結合が生じることに起因して塩素相互作用の性質が異な
り、置換を可能にすることを発見した。
元素研究から、求核剤としてメタノールを用いるとメチルエーテル基が形成され
、アミン求核剤を用いると炭素窒素結合が生じ、エタノールアミンを用いると場
合によっては炭素酸素結合が生じると考えられる。元素分析の炭素及び酸素数の
合計はほぼ同じに留まる一方、その組成はハロゲン化温度によって変化すること
に留意するべきである。
約180℃で塩素化し、その後水またはメタノールで抽
出した炭素が類似の吸着特性を有する一方、180℃より低温で塩素化した場合
の吸着特性は塩素化温度と、置換ステップで用いた求核剤との両方に大幅に依存
する。メタノールで処理した炭素は出発物質よりはるかに疎水性である。塩素化
炭素はいずれも空気中で老化せず、このことは、これまで180℃で塩素化した
炭素に帰せられていた特性が塩素化温度を低下させても維持されることを示して
いる。この耐久性は塩素化物質の処理に用いる薬剤からは独立である。実施例2
BPL及びSCII炭素を実施例1に述べたように前処理し、その後30℃で
塩素化してからエタノールアミンまたはエチレンジアミンに添加し、還流下に8
時間加熱した。デカンテーションによって炭素を得、これを次の1〜7に述べる
ように洗浄及びガス抜きした。
1.250mlアリコートの0.1M HClで10回酸洗浄。
2.250mlアリコートの0.1M NaOHで10回塩基洗浄。
3.250mlアリコートの水で10回水洗浄。
4.250mlのメタノールで5回抽出。
5.250mlアリコートの0.1M NaHCO3で5回塩基洗浄。
6.250mlアリコートの水で10回水洗浄。
7.一定重量となるまで120℃及び圧力3mbarでガス抜き。
抽出及びガス抜き後、炭素は全く無臭となったが、このことは除去するべきア
ミンが物理的に吸着したことを示している。
改質炭素の水吸着特性は、求核剤としてエチレンジアミン及びエタノールアミ
ンをそれぞれ用いた場合に第二級アミン及びヒドロキシルまたは第二級アミンの
付加的極性官能基が存在することに合致した。このような改質炭素は約60%未
満のRH値において対照より多くの水を吸着させ、また高RH値(約90〜95
%)における水吸着能は改質が孔容量の重大な損失を招かないことを示唆した。
吸着窒素数は、処理が総表面積を10%未満しか減少させないことを示した。生
成炭素が著しく高い化学吸着アミン含量を有することが、元素分析及びX線光電
子分光法によって確認された。表2を参照されたい。
X線光電子分光法: XPSは、X線ビームが到達可能である炭素表面上に大量
の化学吸着窒素が存在することを示した(表3参照)。対照と比較して、この技
術が約8倍高い窒素含量をもたらすことが知見され得る(SCII堅果殻炭素)
。石炭をベースとするBPL炭素では上記含量の上昇は約3倍であったが、未処
理のBPLは供給元から購入したままでより多くの窒素を含有することに留意す
るべきである。
塩素化/エチレンジアミン、塩素化/エタノールアミン改質炭素は第二級アミ
ンと特異的に反応することが知られている幾つかの軽質ガスを高湿空気から、対
照試料に比較してより効率的に吸着させた。エタノールアミンの場合、
表面塩素との反応はアミン基またはヒドロキシル基において生起し得ることも明
らかとなったが、なぜならエチレンジアミン改質炭素のガスに対する吸収性能の
方が常に大きいからで、この場合遊離の第二級アミン基が常に存在するはずであ
る。アミン(例えばジプロピルアミン)で改質した炭素も湿潤空気からヨウ化メ
チルを、非改質対照より効率的に吸収した。
実施例3(比較例)
ジメチルアミンを用いて実施例2と同様の実験を行ない、実質的に同じ結果を
得た。場合によっては炭素を600℃のガス状アミンで処理したが、その際予め
塩素化は行なわなかった。XPS及び元素分析は、ここでの処理が実施例
2で行なった塩素化ステップを含む処理に比較してはるかに僅かな窒素含量上昇
しかもたらさないことを示した(表2及び3参照)。炭素を、やはり塩素化ステ
ップ無しで約200℃のアミンに曝露したところ、窒素含量の上昇は観察されな
かった。このことは、塩素化ステップを用いなかった場合メタノールまたは水で
の処理が炭素表面での化学反応に影響しなかったことが知見される実施例1と良
く相関する。実施例4
表面に結合したエチレンジアミンまたはプロピレンジアミンを有するBPL炭
素を実施例2に述べた方法を用いて、ただしハロゲン化は25℃で行ない、重炭
酸塩洗浄の回数は1回に減らして製造した。
上記炭素のフッ素含有有機化合物に対する効力を相対湿度80%及び22℃に
おいて、前記条件下に16時間連続的に老化さた2cm試験炭素層を通過する流
量を1.2l分として測定した。BPL対照は30分間にわたって7300の相
対漏出を示し、一方エチレンジアミン及びプロピレンジアミン改質炭素は334
0及び1160の相対漏出をそれぞれ示した。このような結果は、本発明の方法
を
用いて処理した後の炭素の保護特性の変化を説明するものである。実施例5
表面に結合したエチレンジアミンまたは1,3−ジアミノプロパン(プロピレ
ンジアミン)を有するBPL炭素を実施例2に述べた方法を用いて、ただしハロ
ゲン化は23℃で行ない、重炭酸塩洗浄の回数は1回に減らして製造した。
各アミンの炭素との結合を、減圧(0.1mmHg)下に2時間、即ち一定重
量となるまで加熱し、その後元素分析を行なうことによって推定した。元素分析
の結果を次の表4に示す。
【手続補正書】特許法第184条の7第1項
【提出日】1994年11月25日
【補正内容】
請求の範囲
1.官能基を取り込んだ活性炭材料の製造法であって、ハロゲンを内部に取り込
むが、求核剤で処理することによりハロゲンが置換可能状態に保たれるような条
件下に活性炭をハロゲン化し、ハロゲン化活性炭を官能基又はその化学的前駆体
基を有する求核剤で処理して、ハロゲンを置換し、減圧下での加熱及び/又は水
性溶媒若しくはメタノールによる洗浄後にも該官能基又は前駆体基が活性炭との
結合状態に保たれるように該官能基又は前駆体基が結合している生成物を得るこ
とからなる方法。
2.官能基が、温度120℃、圧力3ミリバールでの加熱後にも活性炭との結合状
態に保たれる請求項1に記載の方法。
3.官能部分が、0.1モルのHCl、0.1モルのNaOH及び0.1モルのNaHC
O3から選択される水性溶媒による洗浄後にも活性炭との結合状態に保たれる請
求項1に記載の方法。
4.ハロゲン化を180℃未満の温度で塩素を用いて行う請求項1に記載の方法。
5.ハロゲン化を約200℃の温度で臭素を用いて行う請求
項1に記載の方法。
6.求核剤による処理を昇温下に行う請求項1から5のいずれか一項に記載の方
法。
7.求核剤による処理を20℃〜200℃の温度で行う請求項1から5のいずれか一
項に記載の方法。
8.ハロゲン化炭素を還流求核剤で処理する請求項1から7のいずれか一項に記
載の方法。
9.求核剤が、式(I)
H−XRn (I)
〔式中、Xは酸素、窒素又は硫黄であり、Rは、それぞれ独立にH及び任意に置
換されたアルキル若しくはアルケニル基から選択されるか、又は2個以上の基R
が1種以上の任意に置換されたシクロアルキル、シクロアルケニル若しくは複素
環式基を含むか、又は2個以上の基Rが一緒になって1種以上のシクロアルキル
、シクロアルケニル若しくは複素環式基を形成し、nは原子Xの原子価マイナス
1に等しい〕
を有する請求項1から8のいずれか一項に記載の方法。
10.求核剤がアミン及び/又はアルコールである請求項1から9のいずれか一
項に記載の方法。
11.求核剤が、炭素と結合すべき官能基若しくは前駆体基をさらに有する有機
アルコール及び/若しくは有機アミン及び/若しくは有機チオール又はアンモニ
アである請求項1から10のいずれか一項に記載の方法。
12.求核剤が、メタノール、エタノール、アンモニア、エタノールアミン、エ
チルアミン、エチレンジアミン、プロピルアミン、イソプロピルアミン、ピリジ
ン及びピペラジンからなる群から選択される請求項11に記載の方法。
13.求核剤が、ピリジン、ピペラジン又はトリエチルアミン基を含む請求項1
1に記載の方法。
14.求核剤が、式IIa、IIb又はIIc:
〔式中、XはOH、−NH2又は−SHである〕
の基から選択される請求項12に記載の方法。
15.表面に結合している官能基又はそのような基の化学的前駆体を有する活性
化炭素元素を含む活性炭材料であっ
て、前記官能基が、減圧下での加熱及び/又は水性溶媒若しくはメタノールによ
る洗浄によっても除去されない活性炭材料。
16.官能基が、温度120℃、圧力3ミリバールでの加熱後にも活性炭との結合
状態に保たれる請求項15に記載の活性炭材料。
17.官能基が、0.1モルのHCl、0.1モルのNaOH及び0.1モルのNaHC
O3から選択される水性溶媒による洗浄後にも活性炭との結合状態に保たれる請
求項15に記載の活性炭材料。
18.官能基が、アミノ、アミン、チオール、スルホキシド、ハロゲン、カルボ
キシ、スルホン、ケト、アルデヒド、ピペラジン又はピリジン部分である請求項
12から17のいずれか一項に記載の活性炭材料。
【手続補正書】特許法第184条の8
【提出日】1995年3月20日
【補正内容】
請求の範囲
1.官能基を含む活性炭材料の製造法であって、ハロゲンを内部に取り込むが、
求核剤で処理することによりハロゲンが置換可能状態に保たれるような条件下に
活性炭をハロゲン化し、ハロゲン化活性炭を官能基又はその化学的前駆体基を有
する求核剤で処理してハロゲンを置換し、減圧下での加熱及び/又は水性溶媒若
しくはメタノールによる洗浄後にも該官能基又は前駆体基が活性炭と結合したま
まであるように該官能基又は前駆体基が結合している生成物を得ることからなる
方法。
2.官能基が、温度120℃、圧力3ミリバールでの加熱後にも活性炭と結合した
ままである請求項1に記載の方法。
3.官能基が、0.1モルのHCl、0.1モルのNaOH及び0.1モルのNaHCO3
から選択される水性溶媒による洗浄後にも活性炭と結合したままである請求項1
に記載の方法。
4.ハロゲン化を180℃未満の温度で塩素を用いて行う請求項1に記載の方法。
5.ハロゲン化を約200℃の温度で臭素を用いて行う請求項1に記載の方法。
6.求核剤による処理を昇温下で行う請求項1から5のいずれか一項に記載の方
法。
7.求核剤による処理を20℃〜200℃の温度で行う請求項1から5のいずれか一
項に記載の方法。
8.ハロゲン化炭素を還流求核剤で処理する請求項1から7のいずれか一項に記
載の方法。
9.求核剤が、式(I):
H−XRn (I)
〔式中、Xは酸素、窒素又は硫黄であり、Rはそれぞれ独立に、H及び任意に置
換されたアルキル若しくはアルケニル基から選択されるか、又は2個以上の基R
が1種以上の任意に置換されたシクロアルキル、シクロアルケニル若しくは複素
環式基を含むか、又は2個以上の基Rが一緒になって1種以上のシクロアルキル
、シクロアルケニル若しくは複素環式基を形成し、nは原子Xの原子価マイナス
1に等しい〕
を有する請求項1から8のいずれか一項に記載の方法。
10.求核剤がアミン及び/又はアルコールである請求項1から9のいずれか一
項に記載の方法。
11.求核剤が、炭素と結合すべき官能基若しくは前駆体
基をさらに有する有機アルコール及び/若しくは有機アミン及び/若しくは有機
チオール又はアンモニアである請求項1から10のいずれか一項に記載の方法。
12.求核剤が、メタノール、エタノール、アンモニア、エタノールアミン、エ
チルアミン、エチレンジアミン、プロピルアミン、イソプロピルアミン、ピリジ
ン及びピペラジンからなる群から選択される請求項11に記載の方法。
13.求核剤が、ピリジン、ピペラジン又はトリエチルアミン基を含む請求項1
1に記載の方法。
14.求核剤が、式IIa、IIb又はIIc:
〔式中、XはOH、−NH2又は−SHである〕
の基から選択される請求項12に記載の万圧。
15.表面に結合した官能基又はその化学的前駆体を有する活性化炭素元素を含
む活性炭材料であって、前記官能基が、減圧下での加熱及び/又は水性溶媒若し
く
はメタノールによる洗浄によっても除去されず、それ自体ハロゲン原子ではなく
、且つシラノール基を介して炭素に結合していない活性炭材料。
16.官能基が、温度120℃、圧力3ミリバールでの加熱後にも炭素と結合した
ままである請求項15に記載の活性炭材料。
17.官能基が、0.1モルのHCl、0.1モルのNaOH及び0.1モルのNaHC
O3から選択される水性溶媒による洗浄後にも炭素と結合したままである請求項
15に記載の活性炭材料。
18.官能基が、アミノ、アミン、チオール、スルホキシド、ハロゲン、カルボ
キシ、スルホン、ケト、アルデヒド、ピペラジン又はピリジン部分である請求項
12から17のいずれか一項に記載の活性炭材料。
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フロントページの続き
(81)指定国 EP(AT,BE,CH,DE,
DK,ES,FR,GB,GR,IE,IT,LU,M
C,NL,PT,SE),OA(BF,BJ,CF,CG
,CI,CM,GA,GN,ML,MR,NE,SN,
TD,TG),AP(KE,MW,SD),AM,AT,
AU,BB,BG,BR,BY,CA,CH,CN,C
Z,DE,DK,ES,FI,GB,GE,HU,JP
,KE,KG,KP,KR,KZ,LK,LT,LU,
LV,MD,MG,MN,MW,NL,NO,NZ,P
L,PT,RO,RU,SD,SE,SI,SK,TJ
,TT,UA,US,UZ,VN
(72)発明者 ホール,クリストフアー・リチヤード
イギリス国、ウイルトシヤー・エス・ピ
ー・4・0・ジエイ・キユー、サリスバリ
ー、ポートン・ダウン、シー・ビー・デイ
ー・イー(番地なし)
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1.官能基を取り込んだ炭素材料の製造法であって、ハロゲンが内部に取り込ま れるが、求核剤で処理することにより置換可能状態に保たれるような条件下に炭 素含有材料をハロゲン化し、ハロゲン化炭素を官能基又はその化学的前駆体基を 有する求核剤で処理してハロゲンを置換し、減圧下での加熱及び/又は水性溶媒 若しくはメタノールによる洗浄後にも該官能基又は前駆体基が炭素との結合状態 に保たれるように該官能基又は前駆体基が結合している生成物を得ることからな る方法。 2.官能基が、温度120℃、圧力3ミリバールでの加熱後にも炭素と結合状態に 保たれる請求項1に記載の方法。 3.官能部分が、0.1モルのHCl、0.1モルのNaOH及び0.1モルのNaHC O3から選択される水性溶媒による洗浄後にも炭素との結合状態に保たれる請求 項1に記載の方法。 4.ハロゲン化を180℃未満の温度で塩素を用いて行う請求項1に記載の方法。 5.ハロゲン化を約200℃の温度で臭素を用いて行う請求 項1に記載の方法。 6.求核剤を用いる処理を昇温下で行う請求項1から5のいずれか一項に記載の 方法。 7.求核剤を用いる処理を20℃〜200℃の温度で行う請求項1から5のいずれか 一項に記載の方法。 8.ハロゲン化炭素を還流求核剤で処理する請求項1から7のいずれか一項に記 載の方法。 9.炭素が活性炭である請求項1から8のいずれか一項に記載の方法。 10.求核剤が、式(I): H−XRn (I) 〔式中、Xは酸素、窒素又は硫黄であり、Rは、それぞれ独立にH及び任意に置 換されたアルキル若しくはアルケニル基から選択されるか、又は2個以上の基R が1種以上の任意に置換されたシクロアルキル、シクロアルケニル若しくは複素 環式基を含むか、又は2個以上の基Rが一緒になって1種以上のシクロアルキル 、シクロアルケニル若しくは複素環式基を形成し、nは原子Xの原子価マイナス 1に等しい〕 を有する請求項1から9のいずれか一項に記載の方法。 11.求核剤がアミン及び/又はアルコールである請求項1から10のいずれか 一項に記載の方法。 12.求核剤が、炭素と結合すべき官能基若しくは前駆体基をさらに有する有機 アルコール及び/若しくは有機アミン及び/若しくは有機チオール又はアンモニ アである請求項1から11のいずれか一項に記載の方法。 13.求核剤が、メタノール、エタノール、アンモニア、エタノールアミン、エ チルアミン、エチレンジアミン、プロピルアミン、イソプロピルアミン、ピリジ ン及びピペラジンからなる群から選択される請求項12に記載の方法。 14.求核剤が、ピリジン、ピペラジン又はトリエチルアミン基を含む請求項1 2に記載の方法。 15.求核剤が、式IIa、IIb又はIIc: 〔式中、XはOH、−NH2又は−SHである〕 の基から選択される請求項12に記載の方法。 16.表面と結合している官能基又はそのような基の化学的前駆体を有する炭素 元素を含む炭素材料であって、前記官能基が、減圧下での加熱及び/又は水性溶 媒若しくはメタノールによる洗浄によっても除去されないことを特徴とする炭素 材料。 17.官能基が、温度120℃、圧力3ミリバールでの加熱後にも炭素との結合状 態に保たれる請求項16に記載の炭素材料。 18.官能基が、0.1モルのHCl、0.1モルのNaOH及び0.1モルのNaHC O3から選択される水性溶媒による洗浄後にも炭素との結合状態に保たれる請求 項1に記載の炭素材料。 19.活性炭からなることを特徴とする請求項13に記載の炭素材料。 20.官能基が、アミノ、アミン、チオール、スルホキシド、ハロゲン、カルボ キシ、スルホン、ケト、アルデヒド、ピペラジン又はピリジン部分である請求項 13から19のいずれか一項に記載の炭素材料。
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