JPH0941252A - ポリプロピレン製不織布 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 紡糸成形時の安定性に優れたポリプロピレン
から形成され、表面ベタツキ感がなく、かつヒートシー
ル性にも優れたポリプロピレン製不織布を提供する。 【解決手段】 ポリプロピレン製不織布は、メタロセン
化合物を含む触媒を用いて製造されたポリプロピレンを
含んで形成される。このポリプロピレンは、エチレン単
位を０〜１０モル％の量で含有し、ＭＦＲが１５〜１０
０ｇ／10分であり、分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）が１.３
〜２.５であることが好ましい。ポリプロピレン製不織
布は、ＭＩＵ（表面摩擦抵抗値）が０.３を超えること
なしに、ヒートシール強度が０.５kg／５cm以上である
ことが好ましい。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の技術分野】本発明は、ポリプロピレン製不織布
に関し、さらに詳しくは従来のポリプロピレン製不織布
に比べて表面ベタツキ感がなく、ヒートシール性にも優
れたポリプロピレン製不織布に関する。

【０００２】

【発明の技術的背景】従来よりポリプロピレン製不織布
は、手術着、紙おむつ、生理用品などの医療・衛生材、
包装材などの産業資材、油吸着材などの工業資材、ごみ
袋の日用雑貨などの種々の用途に広範に利用されてい
る。

【０００３】このようなポリプロピレン製不織布は、種
々の紡糸法により得られた繊維を、次いでこの繊維をシ
ート状に融着あるいは接着することにより製造される
が、一般的には溶融紡糸法により、ポリプロピレンを溶
融混練して紡糸口金から押出すことにより得られたフィ
ラメント（繊維）を得て、次いでこれをシート状に形成
することにより製造されている。

【０００４】ところでこのようなポリプロピレン製不織
布を形成するポリプロピレンは、従来一般的に固体状チ
タン系触媒を用いて製造されているが、このようなポリ
プロピレンの分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）は通常２.６以
上であって、分子量分布が広い。このため従来公知のポ
リプロピレンは、上記のように紡糸口金からフィラメン
トとして溶融押出する際に、紡糸設定温度では流れ（溶
融樹脂）量が多すぎたり、少なすぎたりして紡糸安定性
に劣り、また紡糸可能な樹脂温度も狭い範囲に限られて
いた。また得られる不織布のヒートシール性も不十分で
あった。

【０００５】このポリプロピレン製不織布のヒートシー
ル性を向上させるためには、ポリプロピレンとしてエチ
レン共重合成分を含むポリプロピレンを用い、このエチ
レン成分含有量を増加させればよいことが知られている
が、これによって不織布表面がベタつくという新たな問
題点を生じている。

【０００６】

【発明の目的】本発明は、上記のような従来技術に鑑み
てなされたものであって、紡糸成形時の安定性に優れた
ポリプロピレンから形成され、表面ベタツキ感がなく、
かつヒートシール性にも優れたポリプロピレン製不織布
を提供することを目的としている。

【０００７】

【発明の概要】本発明に係るポリプロピレン製不織布
は、メタロセン系触媒を用いて製造されたポリプロピレ
ンからなることを特徴としている。

【０００８】このポリプロピレンは、エチレンから導か
れる単位を０〜１０モル％の量で含有し、メルトフロー
レート（ＭＦＲ：ＡＳＴＭ Ｄ１２３８、２３０℃、
２.１６kg荷重下）が１５〜１００ｇ／10分であり、分
子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）が１.３〜２.５であることが好
ましい。

【０００９】このポリプロピレンは、紡糸成形時の安定
性に優れている。本発明に係るポリプロピレン製不織布
は、表面ベタツキ感がなく、かつヒートシール性にも優
れているが、ＭＩＵ（表面摩擦抵抗値）が０.３を超え
ることなしにヒートシール強度は０.５kg／５cm以上で
あることが好ましい。

【００１０】

【発明の具体的説明】以下本発明に係るポリプロピレン
製不織布について具体的に説明する。本発明に係るポリ
プロピレン製不織布は、後述するようなメタロセン系触
媒を用いて製造されたポリプロピレンを少なくとも含ん
でいる。

【００１１】まずこのポリプロピレンについて説明す
る。本発明で用いられるポリプロピレンは、プロピレン
から導かれる単位（以下プロピレン成分）を９０モル％
以上含むものであって、たとえばプロピレンホモポリマ
ー、プロピレンと他のオレフィンとのランダム共重合
体、ブロック共重合体などである。

【００１２】プロピレンと共重合されていてもよい他の
オレフィンとしては、炭素数２〜２０のプロピレン以外
のα-オレフィン、たとえばエチレン、1-ブテン、1-ペ
ンテン、1-ヘキセン、4-メチル-1-ペンテン、1-オクテ
ン、1-デセン、1-ドデセン、1-テトラデセン、1-ヘキサ
デセン、1-オクタデセン、1-エイコセン、炭素数５〜２
０の環状オレフィン、たとえばシクロペンテン、シクロ
ヘプテン、ノルボルネン、5-メチル-2-ノルボルネン、
テトラシクロドデセン、2-メチル1,4,5,8-ジメタノ-1,
2,3,4,4a,5,8,8a-オクタヒドロナフタレン、さらにスチ
レン、ビニルシクロヘキサン、ジエンなどが挙げられ
る。

【００１３】本発明で用いられるポリプロピレンは、こ
のような他のオレフィンから導かれる単位を、０〜１０
モル％の量で含有していてもよい。このような他のオレ
フィンのうちではエチレンが好ましく、本発明で用いら
れるポリプロピレンは、エチレンから導かれる単位（以
下エチレン成分）を０〜１０モル％の量で含有していて
もよい。

【００１４】本発明で用いられるポリプロピレンのメル
トフローレート（ＭＦＲ：ＡＳＴＭＤ１２３８、２３０
℃、２.１６kg荷重下）は１５〜１００ｇ／10分、好ま
しくは１５〜８０ｇ／10分であることが望ましい。

【００１５】またこのポリプロピレンの分子量分布（Ｍ
ｗ／Ｍｎ）は１.３〜２.５であることが望ましい。この
分子量分布は、ゲルパーミエイションクロマトグラフィ
ーＧＰＣにより求めることができる。

【００１６】上記のような本発明で用いられるポリプロ
ピレンは、紡糸成形時の安定性に優れている。このポリ
プロピレンは、メタロセン系触媒を用いて製造される
が、本発明では、 ［Ａ］周期律表第IV〜VIＢ族遷移金属化合物と、 ［Ｂ］この遷移金属化合物［Ａ］を活性化させうる化合
物であって、かつ（B-1）有機アルミニウム化合物、（B
-2）有機アルミニウムオキシ化合物、および（B-3）遷
移金属化合物［Ａ］と反応してイオン対を形成する化合
物、から選ばれる少なくとも１種の化合物とから形成さ
れるメタロセン系触媒が用いられる。

【００１７】本発明で用いられる遷移金属化合物（メタ
ロセン化合物）［Ａ］は、下記式で示される。

【００１８】

【化１】

【００１９】式中、Ｍ¹ は、周期律表第IV〜VIＢ族の遷
移金属原子を示し、具体的には、ジルコニウム、チタニ
ウム、ハフニウム、バナジウム、ニオブ、タンタル、ク
ロム、モリブデンまたはタングステンであり、好ましく
はジルコニウム、チタニウムまたはハフニウムである。

【００２０】Ｒ¹ 、Ｒ² 、Ｒ³ およびＲ⁴ は、互いに同
一でも異なっていてもよく、炭素数１〜２０の炭化水素
基、炭素数１〜２０のハロゲン化炭化水素基、ケイ素含
有基、酸素含有基、イオウ含有基、窒素含有基、リン含
有基、水素原子またはハロゲン原子を示す。Ｒ¹ 、
Ｒ² 、Ｒ³ およびＲ⁴ で示される基のうち、互いに隣接
する基の一部が結合してそれらの基が結合する炭素原子
とともに環を形成していてもよい。なお、Ｒ¹ 、Ｒ² 、
Ｒ³ およびＲ⁴ が各々２ヶ所に表示されているが、それ
ぞれ例えばＲ¹ とＲ¹ などは、同一の基でもよくまた相
異なる基でもよい。Ｒで示される基のうち同一のサフィ
ックスのものは、それらを継いで、環を形成する場合の
好ましい組み合せを示している。

【００２１】炭素原子数１〜２０の炭化水素基としては
メチル、エチル、プロピル、ブチル、ヘキシル、オクチ
ル、ノニル、ドデシル、アイコシルなどのアルキル基；
シクロペンチル、シクロヘキシル、ノルボルニル、アダ
マンチルなどのシクロアルキル基；ビニル、プロペニ
ル、シクロヘキセニルなどのアルケニル基；ベンジル、
フェニルエチル、フェニルプロピルなどのアリールアル
キル基；フェニル、トリル、ジメチルフェニル、トリメ
チルフェニル、エチルフェニル、プロピルフェニル、ビ
フェニル、ナフチル、メチルナフチル、アントラセニ
ル、フェナントリルなどのアリール基などが挙げられ
る。

【００２２】これらの炭化水素基が結合して形成する環
としてはベンゼン環、ナフタレン環、アセナフテン環、
インデン環などの縮環基、ベンゼン環、ナフタレン環、
アセナフテン環、インデン環などの縮環基上の水素原子
がメチル、エチル、プロピル、ブチルなどのアルキル基
で置換された基が挙げられる。

【００２３】ハロゲン化炭化水素基としては、前記炭化
水素基にハロゲンが置換したハロゲン化炭化水素基が挙
げられる。ケイ素含有基としてはメチルシリル、フェニ
ルシリルなどのモノ炭化水素置換シリル；ジメチルシリ
ル、ジフェニルシリルなどのジ炭化水素置換シリル；ト
リメチルシリル、トリエチルシリル、トリプロピルシリ
ル、トリシクロヘキシルシリル、トリフェニルシリル、
ジメチルフェニルシリル、メチルジフェニルシリル、ト
リトリルシリル、トリナフチルシリルなどのトリ炭化水
素置換シリル；トリメチルシリルエーテルなどの炭化水
素置換シリルのシリルエーテル；トリメチルシリルメチ
ルなどのケイ素置換アルキル基；トリメチルフェニルな
どのケイ素置換アリール基などが挙げられる。

【００２４】さらにケイ素含有基としては前記以外の−
ＳｉＲ₃〔ただし、Ｒは、ハロゲン原子、炭素数１〜１
０のアルキル基、または炭素数６〜１０のアリール基〕
で表される基が挙げられる。

【００２５】酸素含有基としてはヒドロキシ基；メトキ
シ、エトキシ、プロポキシ、ブトキシなどのアルコキシ
基；フェノキシ、メチルフェノキシ、ジメチルフェノキ
シ、ナフトキシなどのアリーロキシ基；フェニルメトキ
シ、フェニルエトキシなどのアリールアルコキシ基など
が挙げられる。

【００２６】さらに酸素含有基としては−ＯＳｉＲ
₃〔ただし、Ｒは、ハロゲン原子、炭素数１〜１０のア
ルキル基、または炭素数６〜１０のアリール基〕で表さ
れる基が挙げられる。

【００２７】イオウ含有基としては前記含酸素化合物の
酸素がイオウに置換した置換基などが挙げられる。さら
にイオウ含有基としては前記以外の−ＳＲ〔ただし、Ｒ
は、ハロゲン原子、炭素数１〜１０のアルキル基、また
は炭素数６〜１０のアリール基〕で表される基が挙げら
れる。

【００２８】窒素含有基としてはアミノ基；メチルアミ
ノ、ジメチルアミノ、ジエチルアミノ、ジプロピルアミ
ノ、ジブチルアミノ、ジシクロヘキシルアミノなどのア
ルキルアミノ基；フェニルアミノ、ジフェニルアミノ、
ジトリルアミノ、ジナフチルアミノ、メチルフェニルア
ミノなどのアリールアミノ基またはアルキルアリールア
ミノ基などが挙げられる。

【００２９】さらに窒素含有基としては前記以外の−Ｎ
Ｒ₂〔ただし、Ｒは、ハロゲン原子、炭素数１〜１０の
アルキル基、または炭素数６〜１０のアリール基〕で表
される基が挙げられる。

【００３０】リン含有基としてはジメチルフォスフィ
ノ、ジフェニルフォスフィノなどのフォスフィノ基など
が挙げられる。さらにリン含有基としては前記以外の−
ＰＲ₂〔ただし、Ｒは、ハロゲン原子、炭素数１〜１０
のアルキル基、または炭素数６〜１０のアリール基〕で
表される基が挙げられる。

【００３１】ハロゲンとしてはフッ素、塩素、臭素、ヨ
ウ素などが挙げられる。これらのうち炭化水素基である
ことが好ましく、特にメチル、エチル、プロピル、ブチ
ルの炭素数１〜４の炭化水素基、炭化水素基が結合して
形成されたベンゼン環、炭化水素基が結合して形成され
たベンゼン環上の水素原子がメチル、エチル、n-プロピ
ル、iso-プロピル、n-ブチル、iso-ブチル、tert-ブチ
ルなどのアルキル基で置換された基であることが好まし
い。

【００３２】Ｘ¹ およびＸ² は、互いに同一でも異なっ
ていてもよく、炭化水素基、ハロゲン化炭化水素基、酸
素含有基、イオウ含有基、ケイ素含有基、水素原子また
はハロゲン原子を示す。

【００３３】炭化水素基としては、炭素原子数１〜２０
の炭化水素基が好ましく、具体的には、Ｒ¹ 、Ｒ² 、Ｒ
³ およびＲ⁴ と同様の基を挙げることができる。ハロゲ
ン化炭化水素基としては、炭素原子数１〜２０のハロゲ
ン化炭化水素基が好ましく、具体的には、Ｒ¹ 、Ｒ² 、
Ｒ³ およびＲ⁴ と同様の基を挙げることができる。

【００３４】酸素含有基およびハロゲン原子としては、
Ｒ¹ 、Ｒ² 、Ｒ³ およびＲ⁴ と同様の基または原子が例
示できる。イオウ含有基としては、Ｒ¹ 、Ｒ² 、Ｒ³ お
よびＲ⁴ と同様の基、ならびにメチルスルフォネート、
トリフルオロメタンスルフォネート、フェニルスルフォ
ネート、ベンジルスルフォネート、p-トルエンスルフォ
ネート、トリメチルベンゼンスルフォネート、トリイソ
ブチルベンゼンスルフォネート、p-クロルベンゼンスル
フォネート、ペンタフルオロベンゼンスルフォネートな
どのスルフォネート基；メチルスルフィネート、フェニ
ルスルフィネート、ベンゼンスルフィネート、p-トルエ
ンスルフィネート、トリメチルベンゼンスルフィネー
ト、ペンタフルオロベンゼンスルフィネートなどのスル
フィネート基が例示できる。

【００３５】ケイ素含有基としては、前記と同様のケイ
素置換アルキル基、ケイ素置換アリール基が挙げられ
る。これらのうち、ハロゲン原子、炭素原子数１〜２０
の炭化水素基またはスルフォネート基であることが好ま
しい。

【００３６】Ｙ¹ は、炭化水素基、２価のハロゲン化炭
化水素基、２価のケイ素含有基、２価のゲルマニウム含
有基、２価のスズ含有基、−Ｏ−、−ＣＯ−、−Ｓ−、
−ＳＯ−、−ＳＯ₂−、−Ｇｅ−、−Ｓｎ−、−ＮＲ⁵
−、−Ｐ（Ｒ⁵ ）−、−Ｐ（Ｏ）（Ｒ⁵ ）−、−ＢＲ⁵
−または−ＡｌＲ⁵ −〔ただし、Ｒ⁵ は、互いに同一で
も異なっていてもよく、水素原子、ハロゲン原子、炭化
水素基、ハロゲン化炭化水素基、アルコキシ基である〕
を示す。

【００３７】炭化水素基としては、炭素数１〜２０の２
価の炭化水素基が好ましく、具体的には、メチレン、ジ
メチルメチレン、1,2-エチレン、ジメチル-1,2- エチレ
ン、1,3-トリメチレン、1,4-テトラメチレン、1,2-シク
ロヘキシレン、1,4-シクロヘキシレンなどのアルキレン
基、ジフェニルメチレン、ジフェニル-1,2- エチレンな
どのアリールアルキレン基などが挙げられる。

【００３８】ハロゲン化炭化水素基としては、炭素数１
〜２０の２価のハロゲン化炭化水素基が好ましく、具体
的には、クロロメチレンなどの上記炭素数１〜２０の２
価の炭化水素基をハロゲン化した基などが挙げられる。

【００３９】２価のケイ素含有基としては、シリレン、
メチルシリレン、ジメチルシリレン、ジエチルシリレ
ン、ジ（n-プロピル）シリレン、ジ（i-プロピル）シリ
レン、ジ（シクロヘキシル）シリレン、メチルフェニル
シリレン、ジフェニルシリレン、ジ（p-トリル）シリレ
ン、ジ（p-クロロフェニル）シリレンなどのアルキルシ
リレン基；アルキルアリールシリレン基；アリールシリ
レン基；テトラメチル-1,2-ジシリル、テトラフェニル-
1,2- ジシリルなどのアルキルジシリル、アルキルアリ
ールジシリル基；アリールジシリル基などが挙げられ
る。

【００４０】２価のゲルマニウム含有基としては、上記
２価のケイ素含有基のケイ素をゲルマニウムに置換した
基などが挙げられる。さらに２価のケイ素含有基、２価
のゲルマニウム含有基、２価のスズ含有基としては、下
記［化１６］で表される基のうち、ケイ素、ゲルマニウ
ム、スズのうちいずれか１つを含む基が挙げられる。

【００４１】これらの中では、ジメチルシリレン基、ジ
フェニルシリレン基、メチルフェニルシリレン基などの
置換シリレン基が特に好ましい。以下に、前記式（Ｉ）
で表される遷移金属化合物について具体的な化合物を例
示する。

【００４２】rac-ジメチルシリレン-ビス（2,3,5-トリ
メチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロリ
ド、rac-ジメチルシリレン-ビス（2,4-トリメチルシク
ロペンタジエニル）ジルコニウムジクロリド、rac-ジメ
チルシリレン-ビス（2-メチル-4-tert-ブチルシクロペ
ンタジエニル）ジルコニウムジクロリド、イソプロピリ
デン-（4-メチルシクロペンタジエニル）（3-メチルイ
ンデニル）ジルコニウムジクロリド、イソプロピリデン
-（4-tert-ブチルシクロペンタジエニル）（3-メチルイ
ンデニル）ジルコニウムジクロリド、イソプロピリデン
-（4-tert-ブチルシクロペンタジエニル）（3-tert-ブ
チルインデニル）ジルコニウムジクロリド、ジメチルシ
リレン-（4-メチルシクロペンタジエニル）（3-メチル
インデニル）ジルコニウムジクロリド、ジメチルシリレ
ン-（4-tert-ブチルシクロペンタジエニル）（3-メチル
インデニル）ジルコニウムジクロリド、ジメチルシリレ
ン-（4-tert-ブチルシクロペンタジエニル）（3-tert-
ブチルインデニル）ジルコニウムジクロリド、ジメチル
シリレン-（3-tert-ブチルシクロペンタジエニル）（フ
ルオレニル）ジルコニウムジクロリド、イソプロピリデ
ン-（3-tert-ブチルシクロペンタジエニル）（フルオレ
ニル）ジルコニウムジクロリドなど。

【００４３】また上記のような化合物中のジルコニウム
を、チタニウム、ハフニウム、バナジウム、ニオブ、タ
ンタル、クロム、モリブデンまたはタングステンに代え
た化合物を挙げることもできる。

【００４４】本発明では、前記式（Ｉ）で表される第IV
Ｂ族遷移金属化合物のうち、下記一般式（II）、（II
I）または（IV）で表される第IVＢ族遷移金属化合物か
ら選ばれる少なくとも１種の第IVＢ族遷移金属化合物を
用いることが望ましい。

【００４５】

【化２】

【００４６】式中、Ｍ² は周期律表第IVＢ族の遷移金属
原子を示し、具体的には、チタニウム、ジルコニウムま
たはハフニウムであり、好ましくはジルコニウムであ
る。Ｒ¹¹は、互いに同一でも異なっていてもよく、炭素
数１〜６の炭化水素基を示し、具体的には、メチル、エ
チル、n-プロピル、イソプロピル、n-ブチル、イソブチ
ル、sec-ブチル、tert-ブチル、n-ペンチル、ネオペン
チル、n-ヘキシル、シクロヘキシルなどのアルキル基、
ビニル、プロペニルなどのアルケニル基などが挙げられ
る。

【００４７】これらのうちインデニル基に結合した炭素
が１級のアルキル基が好ましく、さらに炭素数１〜４の
アルキル基が好ましく、特にメチル基およびエチル基が
好ましい。

【００４８】Ｒ¹²、Ｒ¹⁴、Ｒ¹⁵およびＲ¹⁶は、互いに同
一でも異なっていてもよく、水素原子、ハロゲン原子ま
たはＲ¹¹と同様の炭素数１〜６の炭化水素基を示す。Ｒ
¹³は、互いに同一でも異なっていてもよく、水素原子ま
たは炭素数６〜１６のアリール基を示し、具体的には、
フェニル、α-ナフチル、β-ナフチル、アントラセニ
ル、フェナントリル、ピレニル、アセナフチル、フェナ
レニル、アセアントリレニル、テトラヒドロナフチル、
インダニル、ビフェニリルなどである。これらのうちフ
ェニル、ナフチル、アントラセニル、フェナントリルで
あることが好ましい。

【００４９】これらのアリール基は、フッ素、塩素、臭
素、ヨウ素などのハロゲン原子；メチル、エチル、プロ
ピル、ブチル、ヘキシル、シクロヘキシル、オクチル、
ノニル、ドデシル、アイコシル、ノルボルニル、アダマ
ンチルなどのアルキル基；ビニル、プロペニル、シクロ
ヘキセニルなどのアルケニル基；ベンジル、フェニルエ
チル、フェニルプロピルなどのアリールアルキル基；フ
ェニル、トリル、ジメチルフェニル、トリメチルフェニ
ル、エチルフェニル、プロピルフェニル、ビフェニル、
α−またはβ−ナフチル、メチルナフチル、アントラセ
ニル、フェナントリル、ベンジルフェニル、ピレニル、
アセナフチル、フェナレニル、アセアントリレニル、テ
トラヒドロナフチル、インダニル、ビフェニリルなどの
アリール基などの炭素数１〜２０の炭化水素基；トリメ
チルシリル、トリエチルシリル、トリフェニルシリルな
どの有機シリル基で置換されていてもよい。

【００５０】Ｘ³ およびＸ⁴ は、互いに同一でも異なっ
ていてもよく、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜２
０の炭化水素基、炭素数１〜２０のハロゲン化炭化水素
基、酸素含有基またはイオウ含有基を示し、具体的に
は、ハロゲン原子、炭素数１〜２０の炭化水素基として
は前記と同様の原子および基を例示することができる。
また、炭素数１〜２０のハロゲン化炭化水素基として
は、前記炭素数１〜２０の炭化水素基にハロゲン原子が
置換した基を例示することができる。

【００５１】酸素含有基としては、ヒドロオキシ基、メ
トキシ、エトキシ、プロポキシ、ブトキシなどのアルコ
キシ基、フェノキシ、メチルフェノキシ、ジメチルフェ
ノキシ、ナフトキシなどのアリロキシ基、フェニルメト
キシ、フェニルエトキシなどのアリールアルコキシ基な
どが挙げられる。

【００５２】イオウ含有基としては、前記含酸素化合物
の酸素がイオウに置換した置換基、およびメチルスルホ
ネート、トリフルオロメタンスルフォネート、フェニル
スルフォネート、ベンジルスルフォネート、p-トルエン
スルフォネート、トリメチルベンゼンスルフォネート、
トリイソブチルベンゼンスルフォネート、p-クロルベン
ゼンスルフォネート、ペンタフルオロベンゼンスルフォ
ネートなどのスルフォネート基、メチルスルフィネー
ト、フェニルスルフィネート、ベンゼンスルフィネー
ト、p-トルエンスルフィネート、トリメチルベンゼンス
ルフィネート、ペンタフルオロベンゼンスルフィネート
などのスルフィネート基が挙げられる。

【００５３】これらのうち、ハロゲン原子、炭素数１〜
２０の炭化水素基であることが好ましい。Ｙ² は、炭素
数１〜２０の２価の炭化水素基、炭素数１〜２０の２価
のハロゲン化炭化水素基、２価のケイ素含有基、２価の
ゲルマニウム含有基、−Ｏ−、−ＣＯ−、−Ｓ−、−Ｓ
Ｏ−、−ＳＯ₂ −、−ＮＲ¹⁷−、−Ｐ（Ｒ¹⁷）−、−Ｐ
（Ｏ）（Ｒ¹⁷）−、−ＢＲ¹⁷−または−ＡｌＲ¹⁷−〔た
だし、Ｒ¹⁷は水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜２０
の炭化水素基、炭素数１〜２０のハロゲン化炭化水素
基〕を示し、具体的には、メチレン、ジメチルメチレ
ン、1,2-エチレン、ジメチル-1,2- エチレン、1,3-トリ
メチレン、1,4-テトラメチレン、1,2-シクロヘキシレ
ン、1,4-シクロヘキシレンなどのアルキレン基、ジフェ
ニルメチレン、ジフェニル-1,2- エチレンなどのアリー
ルアルキレン基などの炭素数１〜２０の２価の炭化水素
基；クロロメチレンなどの上記炭素数１〜２０の２価の
炭化水素基をハロゲン化したハロゲン化炭化水素基；メ
チルシリレン、ジメチルシリレン、ジエチルシリレン、
ジ（n-プロピル）シリレン、ジ（i-プロピル）シリレ
ン、ジ（シクロヘキシル）シリレン、メチルフェニルシ
リレン、ジフェニルシリレン、ジ（p-トリル）シリレ
ン、ジ（p-クロロフェニル）シリレンなどのアルキルシ
リレン、アルキルアリールシリレン、アリールシリレン
基、テトラメチル-1,2-ジシリル、テトラフェニル-1,2-
ジシリルなどのアルキルジシリル、アルキルアリール
ジシリル、アリールジシリル基などの２価のケイ素含有
基；上記２価のケイ素含有基のケイ素をゲルマニウムに
置換した２価のゲルマニウム含有基などである。

【００５４】また、Ｒ¹⁷は、前記と同様のハロゲン原
子、炭素数１〜２０の炭化水素基、炭素数１〜２０のハ
ロゲン化炭化水素基を示す。これらのうちＹ² は、２価
のケイ素含有基、２価のゲルマニウム含有基であること
が好ましく、２価のケイ素含有基であることがより好ま
しく、アルキルシリレン、アルキルアリールシリレンま
たはアリールシリレンであることがより好ましい。

【００５５】以下に上記一般式（II）で表される遷移金
属化合物の具体的な例を示す。rac-ジメチルシリレン-
ビス｛1-（2-メチルインデニル）｝ジルコニウムジクロ
リド、rac-ジメチルシリレン-ビス｛1-（2-メチル-4-フ
ェニルインデニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジ
メチルシリレン-ビス｛1-（2-メチル-4-（α-ナフチ
ル）インデニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジメ
チルシリレン-ビス｛1-（2-メチル-4-(1-アントラセニ
ル）インデニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジメ
チルシリレン-ビス｛1-（2-メチル-4-(9-フェナントリ
ル）インデニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジメ
チルシリレン-ビス｛1-（2-メチル-4-(p-フルオロフェ
ニル）インデニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジ
メチルシリレン-ビス｛1-（2-メチル-4-(ペンタフルオ
ロフェニル）インデニル）｝ジルコニウムジクロリド、
rac-ジメチルシリレン-ビス｛1-（2-メチル-4-(p-クロ
ロフェニル）インデニル）｝ジルコニウムジクロリド、
rac-ジメチルシリレン-ビス｛1-（2-メチル-4-(o,p-ジ
クロロフェニル) フェニル-1- インデニル)ジルコニウ
ムジクロリド、rac-ジメチルシリレン-ビス｛1-（2-メ
チル-4-(p-ブロモフェニル）インデニル）｝ジルコニウ
ムジクロリド、rac-ジメチルシリレン-ビス｛1-（2-メ
チル-4-(p-トリル）インデニル）｝ジルコニウムジクロ
リド、rac-ジメチルシリレン-ビス｛1-（2-メチル-4-
(o,o'-ジメチルフェニル)-1-インデニル) ジルコニウム
ジクロリド、rac-ジメチルシリレン-ビス｛1-（2-メチ
ル-4-(p-エチルフェニル）インデニル）｝ジルコニウム
ジクロリド、rac-ジメチルシリレン-ビス｛1-（2-メチ
ル-4-(p-ベンジルフェニル）インデニル）｝ジルコニウ
ムジクロリド、rac-ジメチルシリレン-ビス｛1-（2-メ
チル-4-(p-ビフェニル）インデニル）｝ジルコニウムジ
クロリド、rac-ジメチルシリレン-ビス｛1-（2-メチル-
4-(p-トリメチルシリレンフェニル）インデニル）｝ジ
ルコニウムジクロリド、rac-ジメチルシリレン-ビス｛1
-（2-フェニル-4-フェニルインデニル）｝ジルコニウム
ジクロリド、rac-ジエチルシリレン-ビス｛1-（2-メチ
ル-4- フェニルインデニル）｝ジルコニウムジクロリ
ド、rac-ジシクロヘキシルシリレン-ビス｛1-（2-メチ
ル-4- フェニルインデニル）｝ジルコニウムジクロリ
ド、rac-メチルフェニルシリレン-ビス｛1-（2-メチル-
4- フェニルインデニル）｝ジルコニウムジクロリド、r
ac-ジフェニルシリレン-ビス｛1-（2-メチル-4- フェニ
ルインデニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジ（p-
トリル）シリレン-ビス｛1-（2-メチル-4- フェニルイ
ンデニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジ（p-クロ
ロフェニル）シリレン-ビス｛1-（2-メチル-4- フェニ
ルインデニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-メチレ
ン-ビス｛1-（2-メチル-4- フェニルインデニル）｝ジ
ルコニウムジクロリド、rac-エチレン-ビス｛1-（2-メ
チル-4- フェニルインデニル）｝ジルコニウムジクロリ
ド、rac-ジメチルゲルミレン-ビス｛1-（2-メチル-4-
フェニルインデニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-
ジメチルスタニレン-ビス｛1-（2-メチル-4- フェニル
インデニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジメチル
シリレン-ビス｛1-（2-メチル-4- フェニルインデニ
ル）｝ジルコニウムジメチル、rac-ジメチルシリレン-
ビス｛1-（2-メチル-4- フェニルインデニル）｝ジルコ
ニウムメチルクロリド、rac-ジメチルシリレン-ビス｛1
-（2-メチル-4- フェニルインデニル）｝ジルコニウム
クロリドＳＯ₂Ｍｅ、rac-ジメチルシリレン-ビス｛1-
（2-エチル-4-フェニルインデニル）｝ジルコニウムジ
クロリド、rac-ジメチルシリレン-ビス｛1-（2-エチル-
4-（2-メチル-1-ナフチル）インデニル）｝ジルコニウ
ムジクロリド、rac-ジメチルシリレン-ビス｛1-（2-エ
チル-4-（o-メチルフェニル）インデニル）｝ジルコニ
ウムジクロリド、rac-ジメチルシリレン-ビス｛1-（2-
エチル-4-（2,3-ジメチルフェニル）インデニル）｝ジ
ルコニウムジクロリド、rac-ジメチルシリレン-ビス｛1
-(2-エチル-4-（o-クロロフェニル）インデニル）｝ジ
ルコニウムジクロリド、rac-ジメチルシリレン-ビス｛1
-(2-エチル-4-（2,3-ジクロロフェニル）インデニ
ル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジメチルシリレン
-ビス｛1-(2-エチル-4-（4-ビフェニリル）インデニ
ル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジメチルシリレン
-ビス｛1-(2-エチル-4-（4-トリメチルシリルフェニ
ル）インデニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジメ
チルシリレン-ビス｛1-(2-n-プロピル-4-フェニルイン
デニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジメチルシリ
レン-ビス｛1-(2-n-プロピル-4-（2-メチル-1-ナフチ
ル）インデニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジメ
チルシリレン-ビス｛1-(2-n-プロピル-4-（5-アセナフ
チル）インデニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジ
メチルシリレン-ビス｛1-(2-i-プロピル-4-フェニルイ
ンデニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジメチルシ
リレン-ビス｛1-(2-i-プロピル-4-（α-ナフチル）イン
デニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジメチルシリ
レン-ビス｛1-(2-i-プロピル-4-（8-メチル-9-ナフチ
ル）インデニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジメ
チルシリレン-ビス｛1-(2-s-ブチル-4-フェニルインデ
ニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジメチルシリレ
ン-ビス｛1-(2-s-ブチル-4-（α-ナフチル）インデニ
ル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジメチルシリレン
-ビス｛1-(2-s-ブチル-4-（2-メチル-1-ナフチル）イン
デニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジメチルシリ
レン-ビス｛1-(2-n-ペンチル-4-フェニルインデニ
ル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジメチルシリレン
-ビス｛1-(2-n-ペンチル-4-（α-ナフチル）インデニ
ル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジメチルシリレン
-ビス｛1-(2-n-ブチル-4-フェニルインデニル）｝ジル
コニウムジクロリド、rac-ジメチルシリレン-ビス｛1-
(2-n-ブチル-4-（α-ナフチル）インデニル）｝ジルコ
ニウムジクロリド、rac-ジメチルシリレン-ビス｛1-(2-
n-ブチル-4-（2-メチル-1-ナフチル）インデニル）｝ジ
ルコニウムジクロリド、rac-ジメチルシリレン-ビス｛1
-(2-i-ブチル-4-フェニルインデニル）｝ジルコニウム
ジクロリド、rac-ジメチルシリレン-ビス｛1-(2-i-ブチ
ル-4-（α-ナフチル）インデニル）｝ジルコニウムジク
ロリド、rac-ジメチルシリレン-ビス｛1-(2-i-ブチル-4
-（2-メチル-1-ナフチル）インデニル）｝ジルコニウム
ジクロリド、rac-ジメチルシリレン-ビス｛1-(2-ネオペ
ンチル-4-フェニルインデニル）｝ジルコニウムジクロ
リド、rac-ジメチルシリレン-ビス｛1-(2-ネオペンチル
-4-（α-ナフチル）インデニル）｝ジルコニウムジクロ
リド、rac-ジメチルシリレン-ビス｛1-(2-n-ヘキシル-4
-フェニルインデニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac
-ジメチルシリレン-ビス｛1-(2-n-ヘキシル-4-（α-ナ
フチル）インデニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-
メチルフェニルシリレン-ビス｛1-(2-エチル-4-フェニ
ルインデニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-メチル
フェニルシリレン-ビス｛1-(2-エチル-4-（α-ナフチ
ル）インデニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジフ
ェニルシリレン-ビス｛1-(2-エチル-4-フェニルインデ
ニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジフェニルシリ
レン-ビス｛1-(2-エチル-4-（α-ナフチル）インデニ
ル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジフェニルシリレ
ン-ビス｛1-(2-エチル-4-（4-ビフェリニル）インデニ
ル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-メチレン-ビス｛1
-(2-エチル-4-フェニルインデニル）｝ジルコニウムジ
クロリド、rac-メチレン-ビス｛1-(2-エチル-4-（α-ナ
フチル）インデニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-
エチレン-ビス｛1-(2-エチル-4-フェニルインデニ
ル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-エチレン-ビス｛1
-(2-エチル-4-（α-ナフチル）インデニル）｝ジルコニ
ウムジクロリド、rac-エチレン-ビス｛1-(2-n-プロピル
-4-（α-ナフチル）インデニル）｝ジルコニウムジクロ
リド、rac-ジメチルゲルミル-ビス｛1-(2-エチル-4-フ
ェニルインデニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジ
メチルゲルミル-ビス｛1-(2-エチル-4-（α-ナフチル）
インデニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジメチル
ゲルミル-ビス｛1-(2-n-プロピル-4-フェニルインデニ
ル）｝ジルコニウムジクロリドなど。

【００５６】また上記のような化合物中のジルコニウム
をチタニウムまたはハフニウムに代えた化合物を挙げる
こともできる。本発明では、通常前記一般式（II）で表
される第IVＢ族遷移金属化合物のラセミ体が触媒成分と
して用いられるが、Ｒ型またはＳ型を用いることもでき
る。

【００５７】このような第IVＢ族遷移金属化合物は、Jo
urnal of Organometallic Chem.288(1985)、第63〜67
頁、ヨーロッパ特許出願公開第0,320,762 号明細書およ
び実施例に準じて製造することができる。

【００５８】次に、一般式（III）で表される第IVＢ族
遷移金属化合物について説明する。

【００５９】

【化３】

【００６０】式中、Ｍ² は周期律表第IVＢ族の遷移金属
原子を示し、具体的には、チタニウム、ジルコニウムま
たはハフニウムであり、好ましくはジルコニウムであ
る。Ｒ²¹およびＲ²²は、互いに同一でも異なっていても
よく、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜２０の炭化
水素基、炭素数１〜２０のハロゲン化炭化水素基、ケイ
素含有基、酸素含有基、イオウ含有基、窒素含有基また
はリン含有基を示し、具体的には、ハロゲン原子、炭素
数１〜２０の炭化水素基、ハロゲン化炭化水素基、ケイ
素含有基、酸素含有基、イオウ含有基としては、前記一
般式（II）に例示したものと同様である。

【００６１】窒素含有基としては、アミノ基、メチルア
ミノ、ジメチルアミノ、ジエチルアミノ、ジプロピルア
ミノ、ジブチルアミノ、ジシクロヘキシルアミノなどの
アルキルアミノ基、フェニルアミノ、ジフェニルアミ
ノ、ジトリルアミノ、ジナフチルアミノ、メチルフェニ
ルアミノなどのアリールアミノ基またはアルキルアリー
ルアミノ基などが挙げられ、リン含有基としては、ジメ
チルフォスフィノ、ジフェニルフォスフィノなどが挙げ
られる。

【００６２】これらのうちＲ²¹は、炭化水素基であるこ
とが好ましく、特にメチル、エチル、プロピルの炭素数
１〜３の炭化水素基であることが好ましい。Ｒ²²は、水
素原子、炭化水素基であることが好ましく、特に水素原
子あるいは、メチル、エチル、プロピルの炭素数１〜３
の炭化水素基であることが好ましい。

【００６３】Ｒ²³およびＲ²⁴は、互いに同一でも異なっ
ていてもよく、炭素数１〜２０のアルキル基を示し、具
体的には前記一般式（II）に例示したものと同様であ
る。これらのうちＲ²³は、２級または３級アルキル基で
あることが好ましい。

【００６４】Ｒ²⁴は、２重結合、３重結合を含んでいて
もよい。Ｘ³ およびＸ⁴ は、互いに同一でも異なってい
てもよく、前記一般式（II）の定義と同様である。

【００６５】Ｙ² は、前記一般式（II）の定義と同様で
ある。以下に上記一般式（III）で表される第IVＢ族遷
移金属化合物の具体的な例を示す。

【００６６】rac-ジメチルシリレン-ビス｛1-（2,7-ジ
メチル-4-エチルインデニル）｝ジルコニウムジクロリ
ド、rac-ジメチルシリレン-ビス｛1-（2,7-ジメチル-4-
n-プロピルインデニル）｝ジルコニウムジクロリド、ra
c-ジメチルシリレン-ビス｛1-（2,7-ジメチル-4-i-プロ
ピルインデニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジメ
チルシリレン-ビス｛1-（2,7-ジメチル-4-t-ブチルイン
デニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジメチルシリ
レン-ビス｛1-（2,7-ジメチル-4-シクロヘキシルインデ
ニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジメチルシリレ
ン-ビス｛1-（2,7-ジメチル-4-メチルシクロヘキシルイ
ンデニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジメチルシ
リレン-ビス｛1-（2,7-ジメチル-4-フェニルエチルイン
デニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジメチルシリ
レン-ビス｛1-（2,7-ジメチル-4-フェニルジクロルメチ
ルインデニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジメチ
ルシリレン-ビス｛1-（2,7-ジメチル-4-クロロメチルイ
ンデニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジメチルシ
リレン-ビス｛1-（2,7-ジメチル-4-トリメチルシリルメ
チルインデニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジエ
チルシリレン-ビス｛1-（2,7-ジメチル-4-i-プロピルイ
ンデニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジ（i-プロ
ピル）シリレン-ビス｛1-（2,7-ジメチル-4-i-プロピル
インデニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-メチルフ
ェニルシリレン-ビス｛1-（2,7-ジメチル-4-i-プロピル
インデニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-メチルフ
ェニルシリレン-ビス｛1-（2,7-ジメチル-4-t-ブチルイ
ンデニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジフェニル
シリレン-ビス｛1-（2,7-ジメチル-4-t-ブチルインデニ
ル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジフェニルシリレ
ン-ビス｛1-（2,7-ジメチル-4-エチルインデニル）｝ジ
ルコニウムジクロリド、rac-ジ（p-トリル）シリレン-
ビス｛1-（2,7-ジメチル-4-i-プロピルインデニル）｝
ジルコニウムジクロリド、rac-ジ（p-クロロフェニル）
シリレン-ビス｛1-（2,7-ジメチル-4-i-プロピルインデ
ニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジメチルシリレ
ン-ビス｛1-（2,3,7-トリメチル-4-エチルインデニ
ル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジメチルシリレン
-ビス｛1-（2,3,7-トリメチル-4-i-プロピルインデニ
ル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジメチルシリレン
-ビス｛1-（2,3,7-トリメチル-4-t-ブチルインデニ
ル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジメチルシリレン
-ビス｛1-（2,3,7-トリメチル-4-シクロヘキシルインデ
ニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジメチルシリレ
ン-ビス｛1-（2,3,7-トリメチル-4-トリメチルシリルメ
チルインデニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジメ
チルシリレン-ビス｛1-（2,3,7-トリメチル-4-トリメチ
ルシロキシメチルインデニル）｝ジルコニウムジクロリ
ド、rac-ジメチルシリレン-ビス｛1-（2,3,7-トリメチ
ル-4-フェニルエチルインデニル）｝ジルコニウムジク
ロリド、rac-ジメチルシリレン-ビス｛1-（2,3,7-トリ
メチル-4-フェニルジクロルメチルインデニル）｝ジル
コニウムジクロリド、rac-ジメチルシリレン-ビス｛1-
（2,3,7-トリメチル-4-クロルメチルインデニル）｝ジ
ルコニウムジクロリド、rac-ジエチルシリレン-ビス｛1
-（2,3,7-トリメチル-4-i-プロピルインデニル）｝ジル
コニウムジクロリド、rac-ジ（シクロヘキシル）シリレ
ン-ビス｛1-（2,3,7-トリメチル-4-i-プロピルインデニ
ル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-メチルフェニルシ
リレン-ビス｛1-（2,3,7-トリメチル-4-i-プロピルイン
デニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジフェニルシ
リレン-ビス｛1-（2,3,7-トリメチル-4-エチルインデニ
ル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジ（p-トリル）シ
リレン-ビス｛1-（2,3,7-トリメチル-4-i-プロピルイン
デニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジメチルシリ
レン-ビス｛1-（2-メチル-4-i- プロピル-7- メチルイ
ンデニル）｝ジルコニウムメチルクロリド、rac-ジメチ
ルシリレン-ビス｛1-（2-メチル-4-i- プロピル-7- メ
チルインデニル）｝ジルコニウム-ビス（メタンスルホ
ナト）、rac-ジメチルシリレン-ビス｛1-（2-メチル-4-
i- プロピル-7- メチルインデニル）｝ジルコニウム-ビ
ス（p-フェニルスルフィナト）、rac-ジメチルシリレン
-ビス｛1-（2-メチル-3- メチル-4-i- プロピル-7-メチ
ルインデニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジメチ
ルシリレン-ビス｛1-（2-メチル-4,6-ジ-i-プロピルイ
ンデニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジメチルシ
リレン-ビス｛1-（2-メチルインデニル）｝ジルコニウ
ムジクロリド、rac-ジメチルシリレン-ビス｛1-（2-メ
チル-4-i- プロピル-7- メチルインデニル）｝チタニウ
ムジクロリド、rac-ジメチルシリレン-ビス｛1-（2-メ
チル-4-i- プロピル-7- メチルインデニル）｝ハフニウ
ムジクロリドなど。

【００６７】これらの中で、４位にi-プロピル，sec-ブ
チル，tert-ブチル基などの分岐アルキル基を有するも
のが、特に好ましい。

【００６８】本発明では、通常前記一般式（III）で表
される第IVＢ族遷移金属化合物のラセミ体がオレフィン
重合用触媒成分として用いられるが、Ｒ型またはＳ型を
用いることもできる。

【００６９】上記のような一般式（III）で表される第I
VＢ族遷移金属化合物は、インデン誘導体から既知の方
法たとえば特開平４−２６８３０７号公報に記載されて
いる方法により合成することができる。

【００７０】次に、一般式（IV）で表される第IVＢ族遷
移金属化合物について説明する。一般式（IV）で表され
る第IVＢ族遷移金属化合物は、ＥＰ−５４９９００号お
よびカナダ−２０８４０１７号に記載された化合物であ
る。

【００７１】

【化４】

【００７２】式中、Ｍ² は周期律表第IVＢ族の遷移金属
原子を示し、具体的には、チタニウム、ジルコニウムま
たはハフニウムであり、好ましくはジルコニウムであ
る。Ｒ³¹は、互いに同一でも異なっていてもよく、水素
原子、ハロゲン原子、好ましくは、塩素原子または臭素
原子、炭素数１〜１０、好ましくは１〜４のアルキル
基、炭素数１〜１０のハロゲン化アルキル基、炭素数６
〜１０、好ましくは６〜８のアリール基、−ＮＲ₂、−
ＳＲ、−ＯＳｉＲ₃、−ＳｉＲ₃または−ＰＲ₂基〔ただ
し、Ｒは、ハロゲン原子、好ましくは塩素原子、炭素数
１〜１０、好ましくは１〜３のアルキル基、または炭素
数６〜１０、好ましくは６〜８のアリール基〕を示す。

【００７３】Ｒ³²〜Ｒ³⁸は、互いに同一でも異なってい
てもよく、前記Ｒ²¹と同様の原子または基を示し、これ
らのＲ³²〜Ｒ³⁸で示される基のうち隣接する少なくとも
２個の基は、それらの結合する原子とともに、芳香族環
または脂肪族環を形成していてもよい。

【００７４】Ｘ⁵ およびＸ⁶ は、互いに同一でも異なっ
ていてもよく、水素原子、炭素数１〜１０、好ましくは
１〜３のアルキル基、炭素数１〜１０、好ましくは１〜
３のアルコキシ基、炭素数６〜１０、好ましくは６〜８
のアリール基、炭素数６〜１０、好ましくは６〜８のア
リールオキシ基、炭素数２〜１０、好ましくは２〜４の
アルケニル基、炭素数７〜４０、好ましくは７〜１０の
アリールアルキル基、炭素数７〜４０、好ましくは７〜
１２のアルキルアリール基、炭素数８〜４０、好ましく
は８〜１２のアリールアルケニル基、ＯＨ基またはハロ
ゲン原子を示す。Ｚは、

【００７５】

【化５】

【００７６】−Ｏ−、−ＣＯ−、−Ｓ−、−ＳＯ−、−
ＳＯ₂−、−Ｇｅ−、−Ｓｎ−、−ＮＲ³⁹−、−Ｐ（Ｒ
³⁹）−、−Ｐ（Ｏ）（Ｒ³⁹）−、−ＢＲ³⁹−または−Ａ
ｌＲ ³⁹−である。

【００７７】ただし、Ｒ³⁹およびＲ⁴⁰は、互いに同一で
も異なっていてもよく、水素原子、ハロゲン原子、炭素
数１〜１０、好ましくは１〜４のアルキル基、特にメチ
ル基、炭素数１〜１０のフルオロアルキル基、好ましく
はＣＦ₃基、炭素数６〜１０、好ましくは６〜８のアリ
ール基、炭素数６〜１０のフルオロアリール基、好まし
くはペンタフルオロフェニル基、炭素数１〜１０、好ま
しくは１〜４のアルコキシ基、特にメトキシ基、 炭素
数２〜１０、好ましくは２〜４のアルケニル基、炭素数
７〜４０、好ましくは７〜１０のアリールアルキル基、
炭素数８〜４０、好ましくは８〜１２のアリールアルケ
ニル基、炭素数７〜４０、７〜１２のアルキルアリール
基である。

【００７８】またＲ³⁹とＲ⁴⁰とは、それぞれそれらの結
合する原子とともに環を形成してもよい。Ｍ³ は、ケイ
素、ゲルマニウムまたはスズを示し、好ましくはケイ素
またはゲルマニウムである。

【００７９】ここで、上述のアルキル基は直鎖状のまた
は枝分かれしたアルキル基であり、そしてハロゲン（ハ
ロゲン化）はフッ素原子、塩素原子、臭素原子またはヨ
ウ素原子であり、特にフッ素原子または塩素原子であ
る。

【００８０】前記一般式（IV）で表される化合物のなか
では、Ｍ² は、ジルコニウムまたはハフニウムであり、
Ｒ³¹は、互いに同じであり、炭素数１〜４のアルキル基
であり、Ｒ³²〜Ｒ³⁸は、互いに同一でも異なっていても
よく、水素原子または炭素数１〜４のアルキル基であ
り、Ｘ⁵ およびＸ⁶ は、互いに同一でも異なっていても
よく、炭素数１〜３のアルキル基またはハロゲン原子で
あり、Ｚは、

【００８１】

【化６】

【００８２】（式中、Ｍ³ はケイ素であり、Ｒ³⁹および
Ｒ⁴⁰は、互いに同一でも異なっていてもよく、炭素数１
〜４のアルキル基または炭素数６〜１０のアリール基で
ある）である化合物が好ましく、置換基Ｒ³²およびＲ³⁸
は、水素原子であり、Ｒ³³〜Ｒ ³⁷は、炭素数１〜４のア
ルキル基または水素原子である化合物がより好ましい。

【００８３】さらに、前記一般式（IV）で表される化合
物のなかでは、Ｍ² は、ジルコニウムであり、Ｒ³¹は、
互いに同一で炭素数１〜４のアルキル基であり、Ｒ³²お
よびＲ³⁸は、水素原子であり、Ｒ³³〜Ｒ³⁷は、同一でも
異なっていてもよく、炭素数１〜４のアルキル基または
水素原子であり、Ｘ⁵ およびＸ⁶ は、いずれも塩素原子
であり、Ｚは、

【００８４】

【化７】

【００８５】（式中、Ｍ³ は、ケイ素であり、Ｒ³⁹およ
びＲ⁴⁰は、互いに同一でも異なっていてもよく、炭素数
１〜４のアルキル基または炭素数６〜１０のアリール基
である）である化合物が好ましい。

【００８６】特に、前記一般式（IV）で表される化合物
のなかでは、Ｍ² は、ジルコニウムであり、Ｒ³¹は、メ
チル基であり、Ｒ³²〜Ｒ³⁸は、水素原子であり、Ｘ⁵ お
よびＸ⁶ は、塩素原子であり、Ｚは、

【００８７】

【化８】

【００８８】（式中、Ｍ³ は、ケイ素であり、Ｒ³⁹およ
びＲ⁴⁰は、互いに同一でも異なっていてもよく、メチル
基またはフェニル基ある）である化合物が好ましい。

【００８９】以下に上記一般式（IV）で表される遷移金
属化合物の具体的な例を示す。rac-ジメチルシリレン-
ビス｛1-（2-メチル-4,5-ベンゾインデニル）｝ジルコ
ニウムジクロリド、rac-メチルフェニルシリレン-ビス
｛1-（2-メチル-4,5-ベンゾインデニル）｝ジルコニウ
ムジクロリド、rac-ジフェニルシリレン-ビス｛1-（2-
メチル-4,5-ベンゾインデニル）｝ジルコニウムジクロ
リド、rac-ジフェニルシリレン-ビス｛1-（2-メチル-α
-アセナフトインデニル）｝ジルコニウムジクロリド、r
ac-メチルフェニルシリレン-ビス｛1-（2-メチル-α-ア
セナフトインデニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-
1,2-エタンジイル-ビス｛1-（2-メチル-4,5-ベンゾイン
デニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジメチルシリ
レン-ビス｛1-（4,5-ベンゾインデニル）｝ジルコニウ
ムジクロリドなど。

【００９０】また上記のような化合物中のジルコニウム
をチタニウムまたはハフニウムに代えた化合物を挙げる
こともできる。本発明では、上記したような第IVＢ族遷
移金属化合物は、２種以上組み合わせて用いることもで
きる。

【００９１】本発明では、上記のような遷移金属化合物
［Ａ］を活性化させうる化合物［Ｂ］（以下成分［Ｂ］
ともいう）として、(B-1) 有機アルミニウム化合物、(B
-2) 有機アルミニウムオキシ化合物、および(B-3) 前記
遷移金属化合物［Ａ］と反応してイオン対を形成する化
合物から選ばれる少なくとも１種の化合物が用いられ
る。

【００９２】本発明で用いられる有機アルミニウム化合
物(B-1) は、たとえば下記一般式［IV］で示される。 Ｒ¹ _nＡｌＸ_3-n … ［IV］ （式［IV］中、Ｒ¹ は炭素数１〜１２の炭化水素基であ
り、Ｘはハロゲン原子または水素原子であり、ｎは１〜
３である。） 上記一般式［IV］において、Ｒ¹ は炭素数１〜１２の炭
化水素基例えばアルキル基、シクロアルキル基またはア
リ−ル基であるが、具体的には、メチル基、エチル基、
n-プロピル基、イソプロピル基、イソブチル基、ペンチ
ル基、ヘキシル基、オクチル基、シクロペンチル基、シ
クロヘキシル基、フェニル基、トリル基などである。

【００９３】このような有機アルミニウム化合物(B-1)
としては、具体的には、トリメチルアルミニウム、トリ
エチルアルミニウム、トリイソプロピルアルミニウム、
トリイソブチルアルミニウム、トリオクチルアルミニウ
ム、トリ2-エチルヘキシルアルミニウムなどのトリアル
キルアルミニウム、イソプレニルアルミニウムなどのア
ルケニルアルミニウム、ジメチルアルミニウムクロリ
ド、ジエチルアルミニウムクロリド、ジイソプロピルア
ルミニウムクロリド、ジイソブチルアルミニウムクロリ
ド、ジメチルアルミニウムブロミドなどのジアルキルア
ルミニウムハライド、メチルアルミニウムセスキクロリ
ド、エチルアルミニウムセスキクロリド、イソプロピル
アルミニウムセスキクロリド、ブチルアルミニウムセス
キクロリド、エチルアルミニウムセスキブロミドなどの
アルキルアルミニウムセスキハライド、メチルアルミニ
ウムジクロリド、エチルアルミニウムジクロリド、イソ
プロピルアルミニウムジクロリド、エチルアルミニウム
ジブロミドなどのアルキルアルミニウムジハライド、ジ
エチルアルミニウムハイドライド、ジイソブチルアルミ
ニウムハイドライドなどのアルキルアルミニウムハイド
ライドなどを挙げることができる。

【００９４】また有機アルミニウム化合物(B-1) とし
て、下記一般式［Ｖ］で表される化合物を用いることも
できる。 Ｒ¹ _nＡlＹ_3-n … ［Ｖ］ （式［Ｖ］中、Ｒ¹ は上記と同様であり、Ｙは−ＯＲ²
基、−ＯＳiＲ³ ₃基、−ＯＡｌＲ⁴ ₂基、−ＮＲ⁵ ₂基、−
ＳiＲ⁶ ₃基または−Ｎ(Ｒ⁷)ＡlＲ⁸ ₂基であり、ｎは１〜
２であり、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴およびＲ⁸はメチル基、エチル
基、イソプロピル基、イソブチル基、シクロヘキシル
基、フェニル基などであり、Ｒ⁵は水素原子、メチル
基、エチル基、イソプロピル基、フェニル基、トリメチ
ルシリル基などであり、Ｒ⁶ およびＲ⁷ はメチル基、エ
チル基などである。） 具体的には、下記のような化合物が挙げられる。（１）
Ｒ¹ _nＡｌ(ＯＲ²)_3-n で表される化合物、たとえばジメ
チルアルミニウムメトキシド、ジエチルアルミニウムエ
トキシド、ジイソブチルアルミニウムメトキシドなど、
（２）Ｒ¹ _nＡl(ＯＳiＲ³ ₃)_3-n で表される化合物、たと
えばＥt₂Ａl(ＯＳi Ｍe₃）、（iso-Ｂu)₂Ａl(ＯＳiＭ
e₃）、（iso-Ｂu)₂ Ａl(ＯＳiＥt₃）など、（３）Ｒ¹ _n
Ａl(ＯＡｌＲ⁴ ₂)_3-n で表される化合物、たとえば、Ｅt
₂ＡlＯＡlＥt₂ 、（iso-Ｂu)₂ＡlＯＡl(iso-Ｂu)₂ な
ど、（４) Ｒ¹ _nＡl(ＮＲ⁵ ₂)_3-n で表される化合物、た
とえば、Ｍe₂ＡlＮＥt₂ 、Ｅt₂ＡlＮＨＭe 、Ｍe₂ＡlＮ
ＨＥt 、Ｅt₂ＡlＮ(ＳiＭe₃)₂、（iso-Ｂu)₂ＡlＮ(Ｓi
Ｍe₃)₂ など、（５）Ｒ¹ _nＡl(ＳiＲ⁶ ₃)_3-n で表される
化合物、たとえば、（iso-Ｂu)₂ＡlＳi Ｍe₃ など、
（６）Ｒ¹ _nＡl(Ｎ(Ｒ⁷)ＡlＲ⁸ ₂)_3-n で表される化合
物、たとえば、Ｅt₂ＡlＮ(Ｍe)ＡlＥt₂ 、（iso-Ｂu)₂
ＡlＮ(Ｅt)Ａl(iso-Ｂu)₂ など。

【００９５】これらのうちでは、一般式Ｒ¹ ₃Ａl、Ｒ¹ _n
Ａl(ＯＲ²)_3-n 、Ｒ¹ _nＡl(ＯＡlＲ⁴ ₂)_3-n で表わされる
化合物が好ましく、特にＲがイソアルキル基であり、ｎ
＝２である化合物が好ましい。

【００９６】これらを組合わせて用いることもできる。
本発明で用いられる(B-2) 有機アルミニウムオキシ化合
物は、従来公知のベンゼン可溶性のアルミノキサンであ
ってもよく、また特開平２−２７６８０７号公報で開示
されているようなベンゼン不溶性の有機アルミニウムオ
キシ化合物であってもよい。

【００９７】上記のようなアルミノキサンは、例えば下
記のような方法によって製造することができる。 （１）吸着水を含有する化合物あるいは結晶水を含有す
る塩類、例えば塩化マグネシウム水和物、硫酸銅水和
物、硫酸アルミニウム水和物、硫酸ニッケル水和物、塩
化第１セリウム水和物などの炭化水素媒体懸濁液に、ト
リアルキルアルミニウムなどの有機アルミニウム化合物
を添加して反応させる方法。 （２）ベンゼン、トルエン、エチルエーテル、テトラヒ
ドロフランなどの媒体中で、トリアルキルアルミニウム
などの有機アルミニウム化合物に直接水、氷または水蒸
気を作用させる方法。 （３）デカン、ベンゼン、トルエン等の媒体中でトリア
ルキルアルミニウム等の有機アルミニウム化合物に、ジ
メチルスズオキシド、ジブチルスズオキシド等の有機ス
ズ酸化物を反応させる方法。

【００９８】なおこのアルミノキサンは、少量の有機金
属成分を含有してもよい。また回収された上記のアルミ
ノキサンの溶液から溶媒あるいは未反応有機アルミニウ
ム化合物を蒸留して除去した後、溶媒に再溶解してもよ
い。

【００９９】アルミノキサンを製造する際に用いられる
有機アルミニウム化合物としては、具体的には、上記に
有機アルミニウム化合物(B-1) として示したものと同様
のものが挙げられる。

【０１００】これらのうち、トリアルキルアルミニウム
およびトリシクロアルキルアルミニウムが特に好まし
い。有機アルミニウム化合物(B-2) は、組合せて用いる
こともできる。

【０１０１】アルミノキサンの製造の際に用いられる溶
媒としては、ベンゼン、トルエン、キシレン、クメン、
シメンなどの芳香族炭化水素、ペンタン、ヘキサン、ヘ
プタン、オクタン、デカン、ドデカン、ヘキサデカン、
オクタデカンなどの脂肪族炭化水素、シクロペンタン、
シクロヘキサン、シクロオクタン、メチルシクロペンタ
ンなどの脂環族炭化水素、ガソリン、灯油、軽油などの
石油留分あるいは上記芳香族炭化水素、脂肪族炭化水
素、脂環族炭化水素のハロゲン化物とりわけ、塩素化
物、臭素化物などの炭化水素溶媒が挙げられる。その
他、エチルエーテル、テトラヒドロフランなどのエーテ
ル類を用いることもできる。これらの溶媒のうち特に芳
香族炭化水素が好ましい。

【０１０２】また本発明で用いられるベンゼン不溶性の
有機アルミニウムオキシ化合物は、６０℃のベンゼンに
溶解するＡｌ成分がＡｌ原子換算で１０％以下、好まし
くは５％以下、特に好ましくは２％以下であり、ベンゼ
ンに対して不溶性あるいは難溶性である。

【０１０３】このような有機アルミニウムオキシ化合物
のベンゼンに対する溶解性は、１００ミリグラム原子の
Ａｌに相当する該有機アルミニウムオキシ化合物を１０
０ｍｌのベンゼンに懸濁した後、攪拌下６０℃で６時間
混合した後、ジャケット付Ｇ−５ガラス製フィルターを
用い、６０℃で熱時濾過を行ない、フィルター上に分離
された固体部を６０℃のベンゼン５０ｍｌを用いて４回
洗浄した後の全濾液中に存在するＡｌ原子の存在量（ｘ
ミリモル）を測定することにより求められる（ｘ％）。

【０１０４】本発明で用いられる前記遷移金属化合物
［Ａ］と反応してイオン対を形成する化合物(B-3) （以
下成分(B-3) ともいう）としては、特開平１−５０１９
５０号公報、特開平１−５０２０３６号公報、特開平３
−１７９００５号公報、特開平３−１７９００６号公
報、特開平３−２０７７０３号公報、特開平３−２０７
７０４号公報、ＵＳ−５４７７１８号公報などに記載さ
れたルイス酸、イオン性化合物およびカルボラン化合物
を挙げることができる。

【０１０５】ルイス酸としては、トリフェニルボロン、
トリス（4-フルオロフェニル）ボロン、トリス（p-トリ
ル）ボロン、トリス（o-トリル）ボロン、トリス（3,5-
ジメチルフェニル）ボロン、トリス（ペンタフルオロフ
ェニル）ボロン、ＭｇＣｌ₂、Ａｌ₂Ｏ₃、ＳｉＯ₂-Ａｌ₂
Ｏ₃ などを挙げることができる。

【０１０６】イオン性化合物としては、トリフェニルカ
ルベニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレ
ート、トリn-ブチルアンモニウムテトラキス（ペンタフ
ルオロフェニル）ボレート、N,N-ジメチルアニリニウム
テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、フェ
ロセニウムテトラ（ペンタフルオロフェニル）ボレート
などを挙げることができる。

【０１０７】カルボラン化合物としては、ドデカボラ
ン、1-カルバウンデカボラン、ビスn-ブチルアンモニウ
ム（1-カルベドデカ）ボレート、トリn-ブチルアンモニ
ウム（7,8-ジカルバウンデカ）ボレート、トリn-ブチル
アンモニウム（トリデカハイドライド-7-カルバウンデ
カ）ボレートなどを挙げることができる。

【０１０８】これらは、２種以上組合わせて用いること
もできる。本発明では、遷移金属化合物［Ａ］を活性化
させうる化合物［Ｂ］として、上記のような成分(B-1)
、(B-2) または(B-3) を組合わせて用いることもでき
る。

【０１０９】本発明で用いられるメタロセン系触媒は、
上記のような遷移金属化合物［Ａ］および成分［Ｂ］を
不活性炭化水素溶媒中またはオレフィン溶媒中で混合す
ることにより調製することができる。

【０１１０】メタロセン系触媒の調製に用いられる不活
性炭化水素溶媒としては、たとえばプロパン、ブタン、
ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、デカン、ド
デカン、ヘキサデカンなどの脂肪族炭化水素、シクロペ
ンタン、シクロヘキサン、メチルシクロペンタン、シク
ロオクタンなどの脂環族炭化水素、ベンゼン、トルエ
ン、キシレンなどの芳香族炭化水素、エチレンクロリ
ド、クロルベンゼン、ジクロロメタンなどのハロゲン化
炭化水素、ガソリン、灯油、軽油などの石油留分あるい
はこれらの混合物などを用いることができる。

【０１１１】これら各成分から触媒を調製するに際し
て、遷移金属化合物［Ａ］は、約１０ ^-8〜１０^-1モル／
リットル（重合容積）好ましくは１０^-7〜５×１０^-2モ
ル／リットルの濃度で用いることが望ましい。

【０１１２】成分［Ｂ］として(B-1) および／または(B
-2) が用いられる場合には、遷移金属化合物［Ａ］の遷
移金属に対する成分［Ｂ］中のアルミニウムの原子比
（Ａｌ／遷移金属）で、通常１０〜１００００好ましく
は２０〜５０００の量で用いられる。この有機アルミニ
ウム化合物(B-1) と有機アルミニウムオキシ化合物(B-
2) とが併用されるときには、(B-1) 中のアルミニウム
原子（Ａl-1）と(B-2) 中のアルミニウム原子（Ａl-2）
の原子比（Ａl-1／Ａl-2）が０.０２〜３さらには０.０
５〜１.５となる量で用いられることが望ましい。

【０１１３】また成分［Ｂ］として(B-3) が用いられる
場合には、遷移金属化合物［Ａ］と成分(B-3) とのモル
比（［Ａ］／(B-3) ）は、通常０.０１〜１０好ましく
は０.１〜５の量で用いられる。

【０１１４】上記各触媒成分は、重合器中で混合しても
よいし、予め混合したものを重合器に添加してもよい。
予めこれら成分を混合する際には、通常−５０〜１５０
℃好ましくは−２０〜１２０℃の温度で、１分〜５０時
間好ましくは５分〜２５時間接触させることができる。
また、混合接触時には混合温度を変化させてもよい。

【０１１５】本発明で用いられるメタロセン系触媒は、
上記成分［Ａ］および［Ｂ］の少なくともいずれかが顆
粒状ないしは微粒子状固体（担体）に担持された固体状
触媒であってもよい。

【０１１６】この担体は、無機担体であっても有機担体
であってもよい。無機担体としては、たとえばＳｉ
Ｏ₂、Ａｌ₂Ｏ₃ などの多孔質酸化物が好ましく用いられ
る。また有機担体としては、たとえばエチレン、プロピ
レン、1-ブテン、4-メチル-1-ペンテンなどの炭素数２
〜１４のα-オレフィンを主成分として生成される
（共）重合体あるいはビニルシクロヘキサン、スチレン
を主成分として生成される重合体あるいは共重合体など
を用いることができる。

【０１１７】また本発明で用いられるメタロセン系触媒
は、上記の各触媒成分にオレフィンを予備重合させて予
備重合触媒を形成してから用いることもできる。予備重
合に用いられるオレフィンとしては、プロピレン、エチ
レン、1-ブテンなどのオレフィンが用いられるが、これ
らと他のオレフィンとを組合わせて用いることもでき
る。

【０１１８】なお本発明では、メタロセン系触媒を形成
するに際して、上記のような各成分以外にもプロピレン
重合に有用な他の成分、たとえば触媒成分としての水な
どを用いることができる。

【０１１９】本発明で用いられるポリプロピレンは、上
記のようなメタロセン系触媒の存在下にプロピレンおよ
び必要に応じて前述したような他のオレフィンを、最終
的に前記の組成比になるように（共）重合させることに
よって得られる。

【０１２０】重合は懸濁重合、溶液重合などの液相重合
法あるいは気相重合法いずれにおいても実施できる。液
相重合法では上述した触媒調製の際に用いた不活性炭化
水素溶媒と同じものを用いることができ、プロピレンな
どの重合モノマー自身を溶媒として用いることもでき
る。

【０１２１】重合を懸濁重合法により実施する際には、
−５０〜１００℃好ましくは０〜９０℃の温度で、また
溶液重合法により実施する際には、０〜２５０℃好まし
くは２０〜２００℃の温度で行なうことが望ましい。重
合を気相重合法により実施する際には、０〜１２０℃好
ましくは２０〜１００℃の温度で、常圧〜１００kg／cm
² 好ましくは常圧〜５０kg／cm² の圧力下で行なうこと
が望ましい。

【０１２２】重合は、回分式、半連続式、連続式のいず
れの方法においても行うことができる。さらに重合を反
応条件の異なる２段以上に分けて行うことも可能であ
る。得られるポリプロピレンの分子量は、重合系に水素
を存在させるか、あるいは重合温度、重合圧力を変化さ
せることによって調節することができる。

【０１２３】ポリプロピレン不織布 本発明に係るポリプロピレン製不織布は、上記のような
ポリプロピレンを紡糸し、シート状に成形することによ
り形成されるが、この不織布は、ポリプロピレンととも
に発明の目的を損なわない範囲で必要に応じて他の成分
を含有していてもよい。

【０１２４】このような他の成分としては、たとえば従
来公知の耐熱安定剤、耐候安定剤、各種安定剤、帯電防
止剤、スリップ剤、アンチブロッキング剤、防曇剤、滑
剤、染料、顔料、天然油、合成油、ワックスなどが挙げ
られる。

【０１２５】たとえば、任意成分として配合される安定
剤としては、2,6-ジ-t-ブチル-4-メチル-フェノール
（ＢＨＴ）などの老化防止剤、テトラキス［メチレン-3
-(3,5-ジ-t-ブチル-4- ヒドロキシフェニル）プロピオ
ネート］メタン、β-（3,5-ジ-t-ブチル-4-ヒドロキシ
フェニル）プロピオン酸アルキルエステル、2,2'-オキ
ザミドビス［エチル-3-(3,5-ジ-t-ブチル-4-ヒドロキシ
フェニル) プロピオネート、Irganox 1010（ヒンダード
フェノール系酸化防止剤：商品名）などのフェノール系
酸化防止剤、ステアリン酸亜鉛、ステアリン酸カルシウ
ム、1,2-ヒドロキシステアリン酸カルシウムなどの脂肪
酸金属塩、グリセリンモノステアレート、グリセリンジ
ステアレート、ペンタエリスリトールモノステアレー
ト、ペンタエリスリトールジステアレート、ペンタエリ
スリトールトリステアレートなどの多価アルコール脂肪
酸エステルなどを挙げることができる。これらを組み合
わせて用いることもできる。

【０１２６】またシリカ、ケイ藻土、アルミナ、酸化チ
タン、酸化マグネシウム、軽石粉、軽石バルーン、水酸
化アルミニウム、水酸化マグネシウム、塩基性炭酸マグ
ネシウム、ドワマイト、硫酸カルシウム、チタン酸カリ
ウム、硫酸バリウム、亜硫酸カルシウム、タルク、クレ
ー、マイカ、アスベスト、ケイ酸カルシウム、モンモリ
ロナイト、ペントナイト、グラファイト、アルミニウム
粉、硫化モリブデンなどの充填剤を含有していてもよ
い。

【０１２７】ポリプロピレンと他の任意成分とは、公知
の方法を利用して混合することができる。たとえば前述
のようにポリプロピレン変性時に混練することができ
る。また本発明で用いられるポリプロピレンは、有機過
酸化物の存在下に混練して、ポリプロピレンのＭＦＲを
所望の値にすることもできる。ポリプロピレンと有機過
酸化物との混練は、上記のような任意成分の共存下に混
練を行なてもよく、ポリプロピレンを有機過酸化物と混
練した後、任意成分と混合してもよい。

【０１２８】このような有機過酸化物としては、たとえ
ばメチルエチルケトンパーオキシド、シクロヘキサノン
パーオキシドなどのケトンパーオキシド類、1,1-ビス
（t-ブチルパーオキシ）シクロヘキサン2,2-ビス（t-ブ
チルパーオキシ）オクタンなどのパーオキシケタール
類、t-ブチルヒドロパーオキシド、クメンヒドロパーオ
キシド、2,5-ジメチルヘキサン-2,5-ジヒドロキシパー
オキシド、1,1,3,3-テトラメチルブチルヒドロパーオキ
シドなどのヒドロパーオキシド類、ジ-t-ブチルパーオ
キシド、2,5-ジメチル-2,5-ジ（t-ブチルパーオキシ）
ヘキサン（商品名：パーヘキシン２５Ｂ）、2,5-ジメチ
ル-2,5-ジ（t-ブチルパーオキシ）ヘキシン-3などのジ
アルキルパーオキシド、ラウロイルパーオキシド、ベン
ゾイルパーオキシドなどのジアシルパーオキシド類、t-
ブチルパーオキシアセテート、t-ブチルパーオキシベン
ゾエート、2,5-ジメチル-2,5- ジ（ベンゾイルパーオキ
シ）ヘキサンなどのパーオキシエステル類などを挙げる
ことができる。

【０１２９】このような有機過酸化物は、ポリプロピレ
ン１００重量部に対して、通常０.０１〜１重量部、好
ましくは０.０５〜０．５重量部の量で用いることがで
きる。

【０１３０】本発明に係るポリプロピレン製不織布は、
上記のようなポリプロピレンあるいは必要により任意成
分を加えたポリプロピレン組成物を、従来公知の紡糸方
法により繊維化し、シート状に形成することにより形成
される。

【０１３１】紡糸方法としては、乾式紡糸法、湿式紡糸
法、溶融紡糸法、エマルジョン紡糸法などを挙げること
ができる。これらのうちでも特に溶融紡糸法が好まし
い。この溶融紡糸法では、ポリプロピレン（または組成
物）を融点（または軟化点）以上分解温度未満の温度、
好ましくは１８０〜２６０℃の温度に加熱して溶融状態
にした後、ノズルから押出し、押出された樹脂を冷却し
ながら巻き取りポリプロピレンのフィラメント（繊維原
糸）を得ることができる。この際には、種々の形態のノ
ズルが使用できるが、Ｌ／Ｄの値が１０／０.５〜６０
／３mm程度のノズルが好ましい。またノズルからの樹脂
の押し出し速度は、通常は０.０１〜１００m/min、好ま
しくは０.０５〜１０m/min程度である。上記のような速
度で押し出されたモノフィラメントの巻き取り速度は、
通常は１０〜１００００ｍ／min 、好ましくは１００〜
５０００ｍ／minである。従ってノズルから押し出され
たモノフィラメントは通常は巻き取りの際に延伸され、
この際の延伸倍率は通常は１０〜１００００、好ましく
は１００〜５０００である。

【０１３２】このように紡糸することにより得られた原
糸には、不純物の除去、緊張延伸、熱処理、精錬、染色
などを目的とする後処理工程における処理を施すことが
できる。

【０１３３】上記のように得られたフィラメントは、従
来より公知の方法たとえばスパンボンド法、メルトブロ
ーン法、カード機法などによりシート状に形成され、不
織布が形成される。

【０１３４】たとえば短繊維状のポリプロピレンを紡績
用カード機でシート状に形成することにより吸油布（オ
イルマット）用不織布を形成することができる。この際
には、短繊維状のポリプロピレンを空気流で飛散させ降
下させてなるランダムウェブを上記のように接合しても
よく（乾式法）、また短繊維状のポリプロピレンを水あ
るいは接着剤に分散させて抄紙機で漉いてもよい（湿式
法）。

【０１３５】また本発明では、ポリプロピレンを溶融紡
糸すると同時にウェブを作り、融着させてもよい。本発
明に係るポリプロピレン製不織布は、特に限定されない
が目付量が１０〜１００ｇ／ｍ² 程度好ましくは１５〜
５０ｇ／ｍ² であることが望ましい。

【０１３６】

【発明の効果】本発明に係るポリプロピレン製不織布
は、特定のポリプロピレンから形成されており、従来公
知のポリプロピレン製不織布に比べて表面ベタツキ感が
なく、またヒートシール性に優れている。

【０１３７】このような本発明に係るポリプロピレン製
不織布は、手術着、紙おむつ、生理用品などの医療・衛
生材、包装材などの産業資材、油吸着材などの工業資
材、ゴミ袋などの日用雑貨用途に好適に利用することが
できる。

【０１３８】

【実施例】次に本発明を実施例により具体的に説明する
が、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。

【０１３９】なお本明細書において、ポリプロピレンの
分子量分布および不織布のヒートシール性、表面ベタツ
キ感は下記のように測定または評価した。

【０１４０】［分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）］分子量分布
（Ｍｗ／Ｍｎ）は、ミリポア社製ＧＰＣ−１５０Ｃを用
い、以下のようにして測定した。

【０１４１】分離カラムは、ＴＳＫ ＧＮＨ ＨＴであ
り、カラムサイズは直径７２ｍｍ、長さ６００ｍｍであ
り、カラム温度は１４０℃とし、移動相にはo-ジクロロ
ベンゼン（和光純薬工業）および酸化防止剤としてＢＨ
Ｔ（武田薬品）０．０２５重量％を用い、１．０ｍｌ／
分で移動させ、試料濃度は０．１重量％とし、試料注入
量は５００マイクロリットルとし、検出器として示差屈
折計を用いた。標準ポリスチレンは、分子量がＭｗ＜１
０００およびＭｗ＞４×１０⁶ については東ソー社製を
用い、１０００＜Ｍｗ＜４×１０⁶ についてはプレッシ
ャーケミカル社製を用いた。

【０１４２】［ヒートシール性］縦１０ｃｍ×横５ｃｍ
の不織布試料を、流れ方向を縦として１０枚切出し、互
いに重ね合わせて熱板ヒートシール機によりヒートシー
ルした。

【０１４３】このとき上段シールバーは５ｍｍ巾、下段
シールバーは２５ｍｍ巾で２ｍｍのシリコンゴムを貼っ
たものを用いた。シール条件は、シール温度が上段１５
５℃、下段１５０℃、シール圧力２kg／cm² 、シール時
間１.０秒とした。このようにヒートシールした試料
を、引張試験機によりゲージ長１００ｍｍ、引張速度３
００ｍｍ／分で引張試験して、ヒートシール強度を評価
した。

【０１４４】［ベタツキ感］カトーテック社製ＫＥＳ−
７０摩擦感テスターを用いて、表面摩擦抵抗値（ＭＩ
Ｕ）によりベタツキ感を評価した。数値が小さいほどベ
タツキ感が小さいことを示す。以下に実施例で用いたポ
リプロピレンの製造例を示す。

【０１４５】

【製造例１】充分に窒素置換した２リットルのステンレ
ス製オートクレーブに、精製したn-ヘキサン７５０ｍｌ
を入れ、プロピレン雰囲気下で２０分攪拌した。反応系
を昇温し、６０℃になった時点でメチルアルミノオキサ
ンをＡｌ原子に換算して０.２ミリモル、rac-ジメチル
シリレンビス｛1-（2-メチルインデニル）｝ジルコニウ
ムジクロリドをＺｒ原子に換算して０.００２ミリモル
加え、プロピレン圧７kg／cm²G として７０℃で１時間
重合を行った。重合後、濾過によって溶媒を取り除き、
メタノールで洗浄した後、８０℃で１０時間乾燥した。
得られたポリプロピレン（１）は１８ｇであり、重合活
性は９０００ｇＰＰ／ミリモルＺｒ、ＭＦＲは３３ｇ／
10分であった。

【０１４６】

【製造例２】触媒の調製 充分に窒素置換したガラス製フラスコにメチルアルミノ
キサンのトルエン溶液（Ａｌ；１.５２モル／リット
ル、ＣＨ₃／Ａｌモル比；２.１２）８００ｍｌを装入し
た。

【０１４７】フラスコ内の温度を３７〜４０℃、留出温
度を２７〜２８.５℃一定下、３０ｍｍＨｇにて４時間
蒸留し、液部を完全に留出させた。フラスコには乾固し
た白色のメチルアルミノキサン５３.６ｇが残った。こ
の固体状のメチルアルミノキサンにトルエン６５０ｍｌ
を加え再溶解した。このようにして得られたメチルアル
ミノキサン／トルエン溶液は、Ａｌ濃度が１.３２モル
／リットルの無色透明な均一溶液であり、ＣＨ₃ ／Ａｌ
比（モル比）は１.５４であった。

【０１４８】充分に窒素置換した４００ｍｌの反応器に
２００℃で４時間乾燥したシリカ（富士デヴィソン社製
F-948）１０ｇおよびトルエン１５０ｍｌを装入し、攪
拌しながら系を０℃とした。ここへ、前記メチルアルミ
ノキサン／トルエン溶液をアルミニウム原子に換算して
６７ミリモル窒素雰囲気下で６０分かけて滴下した。次
いで、この温度で３０分、９５℃で４時間反応させた。
反応系を放冷し、６０℃になった時点で上澄み溶液をデ
カンテーションによって取り除き、続いて室温下トルエ
ン１５０ｍｌで３回洗浄し、全容量が１５０ｍｌとなる
ようトルエンを加え再懸濁した。その結果、シリカ１ｇ
に対してＡｌを５.５ミリモル有する固体成分（ａ-1）
を得た。

【０１４９】充分に窒素置換した２００ｍｌの反応器
に、上記で得た固体成分（ａ-1）をＡｌ原子に換算して
９ミリモル、トルエンに溶解したrac-ジメチルシリレン
ビス｛1-（2-メチル-4-フェニルインデニル）｝ジルコ
ニウムジクロリドをＺｒ原子に換算して０.０３ミリモ
ル加え５分間攪拌した。次いでn-ヘキサン１００ｍｌを
加え、トリイソブチルアルミニウムを１.５ミリモル加
えて５分間攪拌した後、プロピレンガス（１.６リット
ル／ｈｒ）を２時間、２０℃で流通させ、プロピレンの
予備重合を行った。上澄み溶液をデカンテーションによ
って取り除き、ヘキサン１５０ｍｌで３回洗浄し、n-デ
カンで再懸濁した。その結果、固体触媒１ｇ当たりポリ
プロピレン３ｇを有し、ジルコニウムが０.００９６ミ
リモル、アルミニウムが４.７８ミリモル担持された固
体触媒成分（ｂ-1）を得た。この際、反応器および攪拌
羽根への予備重合触媒の付着は認められず、得られた予
備重合触媒は良好な形状をしていた。

【０１５０】プロピレン共重合 充分に窒素置換した２リットルのオートクレーブに、プ
ロピレン４００ｇ、エチレン１０リットルを仕込み、５
０℃に昇温してトリイソブチルアルミニウム１.０ミリ
モルおよび上記で得られた固体触媒成分（ｂ-1）をジル
コニウムとして、０.０００５ミリモル加え、６０℃で
１時間重合を行った。

【０１５１】得られたポリプロピレンは、１２３.４ｇ
であり、重合活性は２４００ｇ／ｇ触媒、２４７ｋｇ−
ポリマー／ｍｍｏｌ−Ｚｒ・ｈｒであり、エチレン成分
含量は１.０モル％、n-デカン可溶成分量が０.６重量
％、ＭＦＲが１.０５ｇ／10分、融点が１３１℃、嵩密
度が０.４０ｇ／ｃｍ³ であった。

【０１５２】過酸化物による変性 上記で得られたポリプロピレン１００重量部にＢＨＴ
（2,6-ジ-tert-ブチル-4-メチルフェノール）０.１重量
部、Irganox 1010 ０.１重量部、ステアリン酸カルシ
ウム０.１重量部、およびパーヘキシン２５Ｂ ０.０７
重量部配合し、ヘンシェルミキサーで混合した後、２０
０〜２５０℃に設定した押出機で溶融混練してポリプロ
ピレンを変性した。

【０１５３】

【製造例３】触媒の調製 充分に窒素置換した２００ｍｌの反応器に、製造例２で
得た固体成分（ａ-1）をＡｌ原子に換算して９ミリモ
ル、トルエンに溶解したrac-ジメチルシリレンビス｛1-
（2,7-ジメチル-4-イソプロピルインデニル）｝ジルコ
ニウムジクロリドをＺｒ原子に換算して０.０３ミリモ
ル加え５分間攪拌した。次いでn-ヘキサン１００ｍｌを
加え、トリイソブチルアルミニウムを１.５ミリモル加
えて５分間攪拌した後、プロピレンガス（１.６リット
ル／ｈｒ）を２時間、２０℃で流通させ、プロピレンの
予備重合を行った。上澄み溶液をデカンテーションによ
って取り除き、ヘキサン１５０ｍｌで３回洗浄し、n-デ
カンで再懸濁した。その結果、固体触媒１ｇ当たりポリ
プロピレン３ｇを有し、ジルコニウムが０.００９４ミ
リモル、アルミニウムが４.８２ミリモル担持された固
体触媒成分（ｂ-2）を得た。

【０１５４】プロピレン共重合 充分に窒素置換した２リットルのオートクレーブに、プ
ロピレン４００ｇ、エチレン６リットルを仕込み、５０
℃に昇温してトリイソブチルアルミニウム１.０ミリモ
ルおよび固体触媒成分（ｂ-2）をジルコニウムとして、
０.０００５ミリモル加え、６０℃で１時間重合を行っ
た。

【０１５５】得られたポリプロピレンは、１４３ｇであ
り、重合活性は２７００ｇ／ｇ触媒、２８６ｋｇ−ポリ
マー／ｍｍｏｌ−Ｚｒ・ｈｒであり、エチレン成分含量
は５.０モル％、n-デカン可溶成分量が０.４８重量％、
ＭＦＲが２.０ｇ／10分、融点が１２９℃、嵩密度が０.
４２ｇ／ｃｍ³ であった。

【０１５６】過酸化物による変性 このポリプロピレンを、製造例２と同様にして変性し、
ポリプロピレン（３）を得た。

【０１５７】

【製造例４】触媒の調製 充分に窒素置換した２００ｍｌの反応器に、前記の固体
成分（ａ-1）をＡｌ原子に換算して９ミリモル、トルエ
ンに溶解したrac-ジメチルシリレンビス｛1-（2-メチル
-4,5-ベンゾインデニル）｝ジルコニウムジクロリドを
Ｚｒ原子に換算して０.０３ミリモル加え５分間攪拌し
た。次いでn-ヘキサン１００ｍｌを加え、トリイソブチ
ルアルミニウムを１.５ミリモル加えて５分間攪拌した
後、プロピレンガス（１.６リットル／ｈｒ）を２時
間、２０℃で流通させ、プロピレンの予備重合を行っ
た。上澄み溶液をデカンテーションによって取り除き、
ヘキサン１５０ｍｌで３回洗浄し、n-デカンで再懸濁し
た。その結果、固体触媒１ｇ当たりポリプロピレン３ｇ
を有し、ジルコニウムが０.００９１ミリモル、アルミ
ニウムが５.０１ミリモル担持された固体触媒成分（ｂ-
3）を得た。

【０１５８】プロピレン共重合 充分に窒素置換した２リットルのオートクレーブに、プ
ロピレン４００ｇ、エチレン２リットルを仕込み、５０
℃に昇温してトリイソブチルアルミニウム１.０ミリモ
ルおよび固体触媒成分（ｂ-3）をジルコニウムとして、
０.０００５ミリモル加え、６０℃で１時間重合を行っ
た。

【０１５９】１０４.９ｇのポリプロピレンが得られ
た。このポリプロピレンのＭＦＲは２.０５ｇ／10分、
融点は１３８℃ であった。またエチレン成分含量は８.
０モル％であった。

【０１６０】過酸化物による変性 このポリプロピレンを、製造例２と同様にして変性し、
ポリプロピレン（４）を得た。

【０１６１】

【実施例１〜４】上記のようにメタロセン系触媒を用い
て得られた各ポリプロピレン（実施例番号と同じ番号の
製造例のもの）を、押出機で溶融混練した後、０.６
φ、１１４１孔の紡糸口金から単孔あたり毎分０.６ｇ
で紡糸した後、エアーサッカーにより引取り、分散・堆
積させた後、ヒートエンボスにより点融着させて目付が
２０ｇ／ｍ² の不織布を製造した。結果を表１に示す。

【０１６２】

【比較例１】固体状チタン触媒成分を用いて製造された
ポリプロピレン（エチレン成分含量０.３８モル％、Ｍ
ＦＲ＝３４ｇ／10分、分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）＝２.
６５）を用いて実施例１と同様にして不織布を製造し
た。結果を表１に示す。

【０１６３】

【比較例２】製造例２のプロピレン共重合を、メタセロ
ン系触媒にかえて固体状チタン触媒成分を用いて製造し
た。得られたポリプロピレンのエチレン成分含量は１.
１％で、ＭＦＲは２.８ｇ／10分であった。これを用い
て実施例１と同様にして不織布を製造した。結果を表１
に表す。

【０１６４】

【表１】

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】メタロセン系触媒を用いて製造されたポリ
   プロピレンからなるポリプロピレン製不織布。
2. 【請求項２】前記ポリプロピレンは、エチレンから導か
   れる単位を０〜１０モル％の量で含有し、メルトフロー
   レート（ＭＦＲ：ＡＳＴＭ Ｄ１２３８、２３０℃、
   ２.１６kg荷重下）が１５〜１００ｇ／10分であり、分
   子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）が１.３〜２.５であることを特
   徴とする請求項１に記載のポリプロピレン製不織布。
3. 【請求項３】ＭＩＵ（表面摩擦抵抗値）が０.３を超え
   ることなしにヒートシール強度が０.５kg／５cm以上で
   あることを特徴とする請求項１に記載のポリプロピレン
   製不織布。