JPH0931577A - ダイヤフラム - Google Patents
ダイヤフラムInfo
- Publication number
- JPH0931577A JPH0931577A JP9147096A JP9147096A JPH0931577A JP H0931577 A JPH0931577 A JP H0931577A JP 9147096 A JP9147096 A JP 9147096A JP 9147096 A JP9147096 A JP 9147096A JP H0931577 A JPH0931577 A JP H0931577A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- diaphragm
- gas
- mechanical strength
- corrosion resistance
- hard
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Diaphragms And Bellows (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 ダイヤフラムに関する発明である。半導体製
造に使用する超高純度特殊ガスを供給するクリーンバル
ブに使用し、高い機械的強度と疲労強度を有するため耐
久性に優れ、耐食性に優れているために腐食によるパー
ティクルが発生し難く、表面が優れた非触媒性を示すた
めに分解性の高いガスも分解させ難く、アウトガスも発
生し難いダイヤフラムを提供する。 【解決手段】 Ｃｏ−Ｎｉ基合金、例えば、組成は重量
比でＣｏ３０〜４０％、Ｎｉ２７〜３６％、Ｃｒ１２〜
２６％、Ｍｏ８〜１３％、Ｍｎ、Ｔｉ、Ａｌ、Ｆｅの１
種または２種以上各０．１〜３％、Ｎｂ０．５〜３％、
ミッシュメタル０．００５〜０．０５％、及び不可避不
純物より成るＣｏ−Ｎｉ基合金を、最終加工度２０〜９
０％で冷間圧延した材料を用いるダイヤフラム。
造に使用する超高純度特殊ガスを供給するクリーンバル
ブに使用し、高い機械的強度と疲労強度を有するため耐
久性に優れ、耐食性に優れているために腐食によるパー
ティクルが発生し難く、表面が優れた非触媒性を示すた
めに分解性の高いガスも分解させ難く、アウトガスも発
生し難いダイヤフラムを提供する。 【解決手段】 Ｃｏ−Ｎｉ基合金、例えば、組成は重量
比でＣｏ３０〜４０％、Ｎｉ２７〜３６％、Ｃｒ１２〜
２６％、Ｍｏ８〜１３％、Ｍｎ、Ｔｉ、Ａｌ、Ｆｅの１
種または２種以上各０．１〜３％、Ｎｂ０．５〜３％、
ミッシュメタル０．００５〜０．０５％、及び不可避不
純物より成るＣｏ−Ｎｉ基合金を、最終加工度２０〜９
０％で冷間圧延した材料を用いるダイヤフラム。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明はダイヤフラムに関するも
のであり、特に半導体製造に使用する超高純度特殊ガス
を供給するためのクリーンバルブのダイヤフラムに関す
る。
のであり、特に半導体製造に使用する超高純度特殊ガス
を供給するためのクリーンバルブのダイヤフラムに関す
る。
【０００２】
【従来の技術】半導体製造に使用する超高純度特殊ガス
を供給するためのクリーンバルブ用ダイヤフラムの材料
として、ステンレス鋼、Ｎｉ基合金、Ｃｏ基合金等が使
用されていた。
を供給するためのクリーンバルブ用ダイヤフラムの材料
として、ステンレス鋼、Ｎｉ基合金、Ｃｏ基合金等が使
用されていた。
【０００３】
【本発明が解決しようとする課題】半導体製造に使用す
る超高純度ガスは、腐食性の強いＨＢｒ、ＨＣｌのよう
なハロゲン系のガスや、分解性の高いＳｉＨ4のような
特殊ガスである。これらのガスの供給系からアウトガス
や腐食によるパーティクルが発生すると半導体を汚染し
品質や歩留りの低下の原因となる。また、分解性の高い
ガスの場合にはガスを分解させずにユースポイントまで
供給しなければならない。さらに、これらのガスの多く
は人体に危険であるために破損によりガスが外部に漏れ
ることがあってはならない。
る超高純度ガスは、腐食性の強いＨＢｒ、ＨＣｌのよう
なハロゲン系のガスや、分解性の高いＳｉＨ4のような
特殊ガスである。これらのガスの供給系からアウトガス
や腐食によるパーティクルが発生すると半導体を汚染し
品質や歩留りの低下の原因となる。また、分解性の高い
ガスの場合にはガスを分解させずにユースポイントまで
供給しなければならない。さらに、これらのガスの多く
は人体に危険であるために破損によりガスが外部に漏れ
ることがあってはならない。
【０００４】従って、クリーンバルブのダイヤフラムに
も次のような特性が要求される。 （１）アウトガスが発生しない。 （２）耐食性に優れ、腐食によるパーティクルが発生し
ない。 （３）分解性の高いガスに対しても非触媒性であり、ガ
スを分解させない。 （４）機械的強度が高く高圧に耐え、耐久性に優れてい
る。
も次のような特性が要求される。 （１）アウトガスが発生しない。 （２）耐食性に優れ、腐食によるパーティクルが発生し
ない。 （３）分解性の高いガスに対しても非触媒性であり、ガ
スを分解させない。 （４）機械的強度が高く高圧に耐え、耐久性に優れてい
る。
【０００５】これらの要求特性に対し、アウトガスの発
生については真空溶解材の採用、ダイヤフラムの面粗度
の向上等により改善されているが、他の項目については
全てを十分に満足するものがないという課題を有してい
た。
生については真空溶解材の採用、ダイヤフラムの面粗度
の向上等により改善されているが、他の項目については
全てを十分に満足するものがないという課題を有してい
た。
【０００６】
【課題を解決するための手段】前記課題を解決するため
に、本発明におけるダイヤフラムの材質を、高い機械的
強度と高い疲労強度及び耐食性を有するＣｏ−Ｎｉ基合
金とした。このＣｏ−Ｎｉ基合金とは、例えば、組成は
重量比でＣｏ３０〜４０％、Ｎｉ２７〜３６％、Ｃｒ１
２〜２６％、Ｍｏ８〜１３％、Ｍｎ、Ｔｉ、Ａｌ、Ｆｅ
の１種または２種以上各０．１〜３％、Ｎｂ０．５〜３
％、ミッシュメタル０，００５〜０．０５％、及び不可
避不純物より成るＣｏ−Ｎｉ基合金を示す。
に、本発明におけるダイヤフラムの材質を、高い機械的
強度と高い疲労強度及び耐食性を有するＣｏ−Ｎｉ基合
金とした。このＣｏ−Ｎｉ基合金とは、例えば、組成は
重量比でＣｏ３０〜４０％、Ｎｉ２７〜３６％、Ｃｒ１
２〜２６％、Ｍｏ８〜１３％、Ｍｎ、Ｔｉ、Ａｌ、Ｆｅ
の１種または２種以上各０．１〜３％、Ｎｂ０．５〜３
％、ミッシュメタル０，００５〜０．０５％、及び不可
避不純物より成るＣｏ−Ｎｉ基合金を示す。
【０００７】ここでＣｏ３０〜４０％、Ｎｉ２７〜３６
％を含むＣｏ−Ｎｉ基合金に限定した理由は、切り欠き
もろさがなく、機械的強度、疲労強度、耐食性、加工性
に優れているからである。Ｃｏが３０％未満では機械的
強度が低下し、Ｃｏが４０％を越えると硬くなり冷間加
工性が低下し不適当である。Ｎｉ２７〜３６％の理由は
機械的強度と加工性を維持する最適範囲を示している。
ＦｅもＮｉと同様の効果があるが、耐食性を低下させな
いためにこの範囲にしてある。
％を含むＣｏ−Ｎｉ基合金に限定した理由は、切り欠き
もろさがなく、機械的強度、疲労強度、耐食性、加工性
に優れているからである。Ｃｏが３０％未満では機械的
強度が低下し、Ｃｏが４０％を越えると硬くなり冷間加
工性が低下し不適当である。Ｎｉ２７〜３６％の理由は
機械的強度と加工性を維持する最適範囲を示している。
ＦｅもＮｉと同様の効果があるが、耐食性を低下させな
いためにこの範囲にしてある。
【０００８】Ｃｒ１２〜２６％、Ｍｏ８〜１３％の理由
は、Ｃｏ、Ｎｉを含有した条件において優れた耐食性を
有する最適範囲を示し、この下限未満では耐食性が劣
り、この上限を越えると冷間加工において硬くなり加工
困難になるため不適当である。Ｍｎは脱酸剤としての効
果及び溶体化処理に際してマトリクスの軟化を助ける。
Ａｌは脱酸剤としての効果及び機械的強度を高める効果
がある。Ｔｉは結晶粒微細化の効果がある。Ｎｂは機械
的強度を更に高める効果があるが、３％を越えると硬く
なり過ぎ不適当である。ミッシュメタルは合金の清浄度
を向上し、熱間加工性を著しく改善する。二次的効果と
して靱性の向上、粒界腐食の改善の効果もある。
は、Ｃｏ、Ｎｉを含有した条件において優れた耐食性を
有する最適範囲を示し、この下限未満では耐食性が劣
り、この上限を越えると冷間加工において硬くなり加工
困難になるため不適当である。Ｍｎは脱酸剤としての効
果及び溶体化処理に際してマトリクスの軟化を助ける。
Ａｌは脱酸剤としての効果及び機械的強度を高める効果
がある。Ｔｉは結晶粒微細化の効果がある。Ｎｂは機械
的強度を更に高める効果があるが、３％を越えると硬く
なり過ぎ不適当である。ミッシュメタルは合金の清浄度
を向上し、熱間加工性を著しく改善する。二次的効果と
して靱性の向上、粒界腐食の改善の効果もある。
【０００９】この合金を真空溶解にて溶製し、鍛造、熱
間圧延加工の後、最終圧延加工度２０〜９０％で冷間圧
延を行う。ここで加工度を２０％以上としたのは、加工
度がこれより低くなるとダイヤフラムに必要な機械的強
度が得られないからであり、加工度を９０％以下とした
のは、加工度がこれより高くなるとダイヤフラムの靱性
が低下するからである。圧延加工後、プレス抜き加工、
成形加工、表面研磨加工を行いダイヤフラムに仕上げ
る。また、この合金は時効硬化型合金なので、必要に応
じて最後に５００〜６００℃で時効処理して更に機械的
強度を高めることができる。図２にダイヤフラムの製造
工程の例を示す。
間圧延加工の後、最終圧延加工度２０〜９０％で冷間圧
延を行う。ここで加工度を２０％以上としたのは、加工
度がこれより低くなるとダイヤフラムに必要な機械的強
度が得られないからであり、加工度を９０％以下とした
のは、加工度がこれより高くなるとダイヤフラムの靱性
が低下するからである。圧延加工後、プレス抜き加工、
成形加工、表面研磨加工を行いダイヤフラムに仕上げ
る。また、この合金は時効硬化型合金なので、必要に応
じて最後に５００〜６００℃で時効処理して更に機械的
強度を高めることができる。図２にダイヤフラムの製造
工程の例を示す。
【００１０】
【作用】前記のような構成により、機械的強度が高くて
高圧ガスにも耐え、疲労強度が高いために繰り返しのバ
ルブ開閉にも疲労破壊やへたりが起こり難く、耐食性に
優れているために腐食性の強いガスに対してもパーティ
クルが発生し難く、分解性の高いガスに対してもガスを
分解させ難く、アウトガス発生も少ないダイヤフラムを
得ることができる。
高圧ガスにも耐え、疲労強度が高いために繰り返しのバ
ルブ開閉にも疲労破壊やへたりが起こり難く、耐食性に
優れているために腐食性の強いガスに対してもパーティ
クルが発生し難く、分解性の高いガスに対してもガスを
分解させ難く、アウトガス発生も少ないダイヤフラムを
得ることができる。
【００１１】
【実施例】Ｃｏ−Ｎｉ基合金（合金Ａ）を真空溶解にて
溶製し、鍛造、熱間圧延加工の後、常温で最終圧延加工
度７５％で圧延加工を行い、厚さ０．１５ｍｍの薄板材
にした。この薄板材をプレスにて直径２０ｍｍの円板に
打ち抜き、部分球殻形状に成形加工した。接ガス面とな
る部分球殻内面はポリッシングにより面粗度Ｒｍａｘ
０．０３μｍに仕上げた。このようにして製造したダイ
ヤフラムの特性を調べた。尚、比較材としてＳＵＳ３１
６Ｌ，Ｎｉ基合金（ハステロイ合金）、Ｃｏ基合金（当
社合金名スプロン１００）でもダイヤフラムを製造し、
特性を調べた。
溶製し、鍛造、熱間圧延加工の後、常温で最終圧延加工
度７５％で圧延加工を行い、厚さ０．１５ｍｍの薄板材
にした。この薄板材をプレスにて直径２０ｍｍの円板に
打ち抜き、部分球殻形状に成形加工した。接ガス面とな
る部分球殻内面はポリッシングにより面粗度Ｒｍａｘ
０．０３μｍに仕上げた。このようにして製造したダイ
ヤフラムの特性を調べた。尚、比較材としてＳＵＳ３１
６Ｌ，Ｎｉ基合金（ハステロイ合金）、Ｃｏ基合金（当
社合金名スプロン１００）でもダイヤフラムを製造し、
特性を調べた。
【００１２】表１に本発明ダイヤフラムの組成を示す。
また、図１に部分球殻形状ダイヤフラムの形状例を示
す。
また、図１に部分球殻形状ダイヤフラムの形状例を示
す。
【００１３】
【表１】
【００１４】表２に各ダイヤフラムの引張強さ、硬度を
示す。本発明ダイヤフラムは引張強さ、硬度共に最も高
く、機械的強度に優れていることがわかる。また、表３
にダイヤフラムを所定量だけ繰り返したわませたときの
破壊に至るまでの繰り返し数による耐久性を比較した結
果を示す。本発明ダイヤフラムは１００万回でも破壊せ
ず、耐久性に優れていることがわかる。
示す。本発明ダイヤフラムは引張強さ、硬度共に最も高
く、機械的強度に優れていることがわかる。また、表３
にダイヤフラムを所定量だけ繰り返したわませたときの
破壊に至るまでの繰り返し数による耐久性を比較した結
果を示す。本発明ダイヤフラムは１００万回でも破壊せ
ず、耐久性に優れていることがわかる。
【００１５】
【表２】
【００１６】
【表３】
【００１７】次に、表４に６０℃の各種薬液中での１時
間当たりの腐食減量による耐食性比較結果を示す。本発
明ダイヤフラムはどの薬液に対しても腐食減量が小さ
く、耐食性に優れていることがわかる。
間当たりの腐食減量による耐食性比較結果を示す。本発
明ダイヤフラムはどの薬液に対しても腐食減量が小さ
く、耐食性に優れていることがわかる。
【００１８】
【表４】
【００１９】次に、ダイヤフラム表面のガスに対する触
媒反応を調べるために、ＳｉＨ4ガスの温度を変えなが
ら各種ダイヤフラムの表面に接触させて、ＳｉＨ4ガス
がダイヤフラム表面と反応して分解してＨ2ガスが発生
する温度を調べた。表５に各種ダイヤフラムのＳｉＨ4
ガス分解によるＨ2ガス発生温度を示す。本発明ダイヤ
フラムは分解温度が３５０℃と高く、ＳｉＨ4ガスに対
して非触媒性に優れ分解させ難いことがわかる。
媒反応を調べるために、ＳｉＨ4ガスの温度を変えなが
ら各種ダイヤフラムの表面に接触させて、ＳｉＨ4ガス
がダイヤフラム表面と反応して分解してＨ2ガスが発生
する温度を調べた。表５に各種ダイヤフラムのＳｉＨ4
ガス分解によるＨ2ガス発生温度を示す。本発明ダイヤ
フラムは分解温度が３５０℃と高く、ＳｉＨ4ガスに対
して非触媒性に優れ分解させ難いことがわかる。
【００２０】
【表５】
【００２１】
【発明の効果】以上説明したように、本発明ダイヤフラ
ムは機械的強度が高く、疲労強度が高くて耐久性に優
れ、耐食性に優れているためにパーティクルが発生し難
く、表面が優れた非触媒性を示すために分解性の高いガ
スに対しても分解させ難く、アウトガスの発生も少ない
ため、半導体製造に使用する超高純度特殊ガスを供給す
るためのクリーンバルブ用ダイヤフラムとして最適であ
るという効果がある。
ムは機械的強度が高く、疲労強度が高くて耐久性に優
れ、耐食性に優れているためにパーティクルが発生し難
く、表面が優れた非触媒性を示すために分解性の高いガ
スに対しても分解させ難く、アウトガスの発生も少ない
ため、半導体製造に使用する超高純度特殊ガスを供給す
るためのクリーンバルブ用ダイヤフラムとして最適であ
るという効果がある。
【図１】部分球殻形状ダイヤフラムの形状例を示す図で
ある。
ある。
【図２】ダイヤフラムの製造工程の例を示す図である。
Claims (4)
- 【請求項１】 加工硬化及び時効硬化型Ｃｏ−Ｎｉ基合
金を用いることを特徴とするダイヤフラム。 - 【請求項２】 組成は重量比でＣｏ３０〜４０％、Ｎｉ
２７〜３６％、Ｃｒ１２〜２６％、Ｍｏ８〜１３％、Ｍ
ｎ、Ｔｉ、Ａｌ、Ｆｅの１種または２種以上各０．１〜
３％、Ｎｂ０．５〜３％、ミッシュメタル０．００５〜
０．０５％、及び不可避不純物から成るＣｏ−Ｎｉ基合
金を用いることを特徴とするダイヤフラム。 - 【請求項３】 組成は重量比でＣｏ３０．９〜３７．２
％、Ｎｉ３１．４〜３３．４％、Ｃｒ１９．５〜２０．
５％、Ｍｏ９．５〜１０．５％、Ｍｎ０．１〜０．５
％、Ｔｉ０．３〜０．７％、Ｆｅ１．１〜２．１％、Ｎ
ｂ０．８〜１．２％、ミッシュメタル０．０１〜０．０
２％、及び不可避不純物より成るＣｏ−Ｎｉ基合金を用
いることを特徴とするダイヤフラム。 - 【請求項４】 請求項２または３に記載の合金を、最終
加工度２０〜９０％で冷間圧延した材料を用いることを
特徴とするダイヤフラム。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9147096A JPH0931577A (ja) | 1995-05-17 | 1996-04-12 | ダイヤフラム |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11874795 | 1995-05-17 | ||
| JP9147096A JPH0931577A (ja) | 1995-05-17 | 1996-04-12 | ダイヤフラム |
| JP7-118747 | 1996-05-14 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0931577A true JPH0931577A (ja) | 1997-02-04 |
Family
ID=26432903
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9147096A Pending JPH0931577A (ja) | 1995-05-17 | 1996-04-12 | ダイヤフラム |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0931577A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2011074256A1 (ja) * | 2009-12-16 | 2011-06-23 | キヤノン電子株式会社 | 振動素子、光走査装置、アクチュエータ装置、映像投影装置及び画像形成装置 |
| JP2011202681A (ja) * | 2010-03-24 | 2011-10-13 | Seiko Instruments Inc | ダイアフラム、ダイアフラムバルブ、及びダイアフラムの製造方法 |
| JP2011226636A (ja) * | 2010-03-29 | 2011-11-10 | Seiko Instruments Inc | メタルダイアフラム及びその製造方法 |
| EP3327417A1 (en) * | 2016-11-29 | 2018-05-30 | Seiko Instruments Inc. | Diaphragm, pressure sensor using diaphragm, and diaphragm producing method |
| JP2019163537A (ja) * | 2018-03-16 | 2019-09-26 | セイコーインスツル株式会社 | Ｃｏ−Ｎｉ基合金ダイヤフラムおよびその製造方法 |
-
1996
- 1996-04-12 JP JP9147096A patent/JPH0931577A/ja active Pending
Cited By (13)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US9327968B2 (en) | 2009-12-16 | 2016-05-03 | Canon Denshi Kabushiki Kaisha | Vibrating element, optical scanning device, actuator device, video projection apparatus, and image forming apparatus |
| CN102666367A (zh) * | 2009-12-16 | 2012-09-12 | 佳能电子株式会社 | 振动元件、光扫描装置、致动装置、视频投影装置及图像形成装置 |
| JPWO2011074256A1 (ja) * | 2009-12-16 | 2013-04-25 | キヤノン電子株式会社 | 振動素子、光走査装置、アクチュエータ装置、映像投影装置及び画像形成装置 |
| JP5587912B2 (ja) * | 2009-12-16 | 2014-09-10 | キヤノン電子株式会社 | 振動素子、光走査装置、アクチュエータ装置、映像投影装置及び画像形成装置 |
| WO2011074256A1 (ja) * | 2009-12-16 | 2011-06-23 | キヤノン電子株式会社 | 振動素子、光走査装置、アクチュエータ装置、映像投影装置及び画像形成装置 |
| JP2011202681A (ja) * | 2010-03-24 | 2011-10-13 | Seiko Instruments Inc | ダイアフラム、ダイアフラムバルブ、及びダイアフラムの製造方法 |
| JP2011226636A (ja) * | 2010-03-29 | 2011-11-10 | Seiko Instruments Inc | メタルダイアフラム及びその製造方法 |
| EP3327417A1 (en) * | 2016-11-29 | 2018-05-30 | Seiko Instruments Inc. | Diaphragm, pressure sensor using diaphragm, and diaphragm producing method |
| CN108120545A (zh) * | 2016-11-29 | 2018-06-05 | 精工电子有限公司 | 膜片、使用膜片的压力传感器、膜片的制造方法 |
| JP2018087730A (ja) * | 2016-11-29 | 2018-06-07 | セイコーインスツル株式会社 | ダイヤフラム、ダイヤフラムを用いた圧力センサ、ダイヤフラムの製造方法 |
| EP3505896A1 (en) * | 2016-11-29 | 2019-07-03 | Seiko Instruments Inc. | Diaphragm, pressure sensor using diaphragm, and diaphragm producing method |
| US10451506B2 (en) | 2016-11-29 | 2019-10-22 | Seiko Instruments Inc. | Diaphragm, pressure sensor using diaphragm, and diaphragm producing method |
| JP2019163537A (ja) * | 2018-03-16 | 2019-09-26 | セイコーインスツル株式会社 | Ｃｏ−Ｎｉ基合金ダイヤフラムおよびその製造方法 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| KR101340251B1 (ko) | 다이어프램, 다이어프램 밸브 및 다이어프램의 제조 방법 | |
| JP4378773B2 (ja) | ステンレス鋼製製品の製造方法とそのステンレス鋼製製品 | |
| EP2759607B1 (en) | Diaphragm made of two-phase stainless steel, method of manufacturing the same, and pressure sensor, and diaphragm valve comprising the diaphragm | |
| JP4321066B2 (ja) | 金属ガスケットとその素材およびそれらの製造方法 | |
| CA2944847C (en) | Austenitic stainless steel and method for producing the same | |
| JP3343313B2 (ja) | ダイヤフラム弁 | |
| JPH0931577A (ja) | ダイヤフラム | |
| JPH02310339A (ja) | 強度、バネ特性及び成形性に優れたマルテンサイト系ステンレス鋼 | |
| JP3213254B2 (ja) | 高耐蝕性金属製品およびその製法 | |
| JP2009084597A (ja) | 耐水素性ばね用ステンレス鋼線及びそれを用いた耐水素性ばね製品 | |
| CN109154038A (zh) | 包含预氧化的镍基合金的合金体 | |
| JP2008075119A (ja) | 耐熱ばね用合金線及びそれを用いた耐熱ばね製品 | |
| JPS60234950A (ja) | 形状記憶効果および擬弾性効果を示すＦｅ−Ｎｉ−Ｔｉ−Ｃｏ合金とその製造法 | |
| JPH10140279A (ja) | Ｃｏ−Ｎｉ基合金 | |
| JP3114009B2 (ja) | 高耐食性ベローズ | |
| JP3190566B2 (ja) | 超塑性Ｎｉ−Ｃｏ基合金およびその超塑性加工方法 | |
| JP3013188B2 (ja) | ダイヤフラムバルブおよびダイヤフラムの製造方法 | |
| JP2008095639A (ja) | 圧縮機用ダイアフラム | |
| JP7262241B2 (ja) | Ｃｏ－Ｎｉ基合金ダイヤフラムおよびその製造方法 | |
| JP5654376B2 (ja) | メタルダイアフラム及びその製造方法 | |
| JP3567240B2 (ja) | Ｃｏ−Ｎｉ基高弾性合金及びその製造方法 | |
| WO2023067850A1 (ja) | Ｃｏ－Ｎｉ－Ｃｒ－Ｍｏ系合金からなるばね用線 | |
| JPS60245773A (ja) | 高耐食性Ｎｉ基合金の製造方法 | |
| JPH0971855A (ja) | 浸炭硬化食器類およびその製法 | |
| JP5026239B2 (ja) | ベローズの製造方法 |