JPH09311439A - 湿し水不要平版印刷原版 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 レーザー光によるヒートモード記録が可
能であり、感度及び画像再現性に優れた湿し水不要平版
印刷原版を提供する。 【解決手段】 支持体上に、Ｍｇ、Ｍｎ、Ｚｎ、Ａｌ、
Ｉｎ、Ｓｎ等の金属及びＩｎ₂ Ｏ₃ 、Ａｌ₂ Ｏ₃ 、ＷＯ
₃ 、ＴｉＯ、ＳｉＯ、ＧｅＯ₃ 等の金属酸化物を含有す
る層及びインキ反撥性のシリコーンゴム層を順次積層し
た湿し水不要平版印刷原版であって、金属及び金属酸化
物を含有する層における金属酸化物の含有量が１０〜５
０体積％であることを特徴とする。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明はレーザー光によるヒ
ートモード記録によって、湿し水を必要としない印刷が
できる湿し水不要平版印刷版（以下、水なし平版と称
す）に関し、特に、感度および画像再現性良好な水なし
平版に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来の湿し水を必要とする印刷方式は、
湿し水とインキの微妙なバランスのコントロールが難し
く、インキの乳化を起こしたり、湿し水にインキが混ざ
ったりして、インキ濃度不良や地汚れを発生し、損紙の
原因となるなど、大きな問題点を有していた。それに対
して、水なし平版は湿し水を必要としないために数多く
の利点を有する。

【０００３】一方、近年プリプレスシステムやイメージ
セッター、レーザープリンターなどの出力システムの急
激な進歩によって、印刷画像をデジタルデーター化し、
コンピューター・トウ ー・プレート、コンピューター・
トウ ー・シリンダー等の新しい製版方法により、印刷版
を得る方法提案されるようになり、これらの印刷システ
ムのための新しいタイプの印刷材料が望まれ、開発が進
められている。

【０００４】レーザー書き込みにより水なし平版を形成
できる例としては、特公昭４２−２１８７９号公報、特
開昭５０−１５８４０５号公報、特開平６−５５７２３
号公報、同６−１８６７５０号公報、ＵＳ５，３５３，
７０５号公報およびＷＯ−９４０１２８０号公報、特開
平７−３１４９３４号公報、同５−９４００８号公報等
が挙げられる。これらにはカーボンブラック等のレーザ
ー光吸収剤およびニトロセルロース等の自己酸化性のバ
インダーを含有した記録層、あるいは、ある種の金属薄
膜よりなる記録層上にインキ反撥性のシリコーンゴム層
を設け、レーザー照射によりシリコーンゴム層の一部除
去してインク付着性とし、水なし印刷することが記載さ
れている。しかし、これらはシリコーンゴム層の除去が
レーザー照射による記録層のアブレーションによってな
されるために、細線の直線性および網点の真円性に乏し
く、印刷画像としては不満足であり、その改良が強く望
まれていた。さらに、金属薄膜よりなる記録層は、一般
的にレーザー光に対する反射率が高いため、レーザー光
のエネルギーを有効に利用することができず、記録層の
アブレーションに大きな光エネルギーが必要となる。従
って、高速走査で画像書き込みするには、大出力のレー
ザー光源が必要となり、高エネルギーを要するのみなら
ず、画像記録装置も大型且つ高価なものとなるという欠
点を有しており、その改善が強く望まれていた。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】したがって、本発明の
目的は感度及び画像再現性が良好な、レーザー光による
ヒートモード記録が可能な湿し水不要平版印刷原版を提
供することである。

【０００６】

【課題を解決するための手段】本発明者等は鋭意検討の
結果、支持体上に、金属及び金属酸化物を含有する層及
びインキ反撥性のシリコーンゴム層を順次積層してなる
湿し水不要平版印刷原版であって、該金属及び金属酸化
物を含有する層における金属酸化物の含有量が１０〜５
０体積％であることを特徴とする湿し水不要平版印刷原
版によって本発明の目的を達成するに至った。

【０００７】本発明においては、前記金属と特定量の金
属酸化物とを含有する層がレーザー光によるヒートモー
ド記録可能な層としての機能を有することになる。

【０００８】本発明において、ヒートモード記録可能な
層とは、露光された光を熱に変換し、その熱によってこ
の層の上にある層（本発明においてはインク反撥性のシ
リコーンゴム層）の保持力を低下させる機能を有する層
をいう。この機能として好ましいのは、例えば、熱によ
り記録可能な層がアブレーション（溶融、凝集）し、そ
の結果として隣接するインク反撥性のシリコーンゴム層
が水なし平版から剥がれ易くなる機能である。

【０００９】本発明における金属と特定量の金属酸化物
とを含有するヒートモード記録層は、金属単体の記録層
に比べ、レーザー光に対する反射率が低下し、かつ、熱
伝導性が低下するため、レーザー光のエネルギーを有効
に利用できる。その結果、レーザー書き込みによる感度
および画像再現性が著しく向上する。

【００１０】

【発明の実施の形態】以下に、本発明を詳しく説明す
る。

【００１１】本発明の水なし平版は、支持体上に、少な
くとも、金属及び金属酸化物を含有する層（以下、適
宜、金属等含有層又は単に記録層と称する）、インキ反
撥性のシリコーンゴム層を順次積層してなるものであ
り、この金属等含有層に、特定量の金属酸化物を含有す
ることを特徴とするものであるが、記録層中に含有され
る金属酸化物の含有量は、記録層を構成する化合物全体
に対して、１０〜５０体積％であり、好ましくは１５〜
４０体積％であり、更に好ましくは２０〜４０体積％で
ある。金属酸化物の含有量が１０体積％未満であると、
反射率及び熱伝導性低下の効果が不十分となり、５０体
積％を超えると、感度及び画像再現性が低下するため、
いずれも好ましくない。この金属と金属酸化物とを特定
量含有させるには、金属と金属酸化物とを同時に蒸着さ
せる方法の他、予め所定の比率で金属と金属酸化物とを
混合した後、スパッタリング法などで層形成する方法、
金属層と金属酸化物層とを別々に層形成し、複数層を積
層する方法などの公知の方法を適用することができる。

【００１２】本発明に係るヒートモード記録層に含有さ
れる金属としては、Ｍｇ、Ｓｃ、Ｙ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｈ
ｆ、Ｖ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｃｒ、Ｍｏ、Ｗ、Ｍｎ、Ｒｅ、Ｆ
ｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ｉｒ、Ｐｔ、Ｃ
ｕ，Ａｇ，Ａｕ、Ｚｎ、Ｃｄ、Ａｌ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｓ
ｉ、Ｇｅ、Ｓｎ、Ｐｂ、Ａｓ、Ｓｂ、Ｂｉ、Ｓｅ、Ｔｅ
等が挙げられ、これらは単独で用いてもよく、２種以上
を組み合わせて又は合金として用いても良い。これら金
属のなかでも、低融点あるいは低反射率のものとしてＭ
ｇ、Ｍｎ、Ｚｎ、Ａｌ、Ｉｎ、Ｓｎ、Ｂｉ、Ｔｅ等が好
ましく、さらに、無公害性の点からはＭｇ、Ｍｎ、Ｚ
ｎ、Ａｌ、Ｉｎ、Ｓｎが好ましい。

【００１３】また、記録層に含有される金属酸化物とし
ては、ＰｂＯ、ＷＯ₂ 、ＷＯ₃ 、ＴｉＯ、Ｔｉ₂ Ｏ₃ 、
ＳｉＯ、ＳｉＯ₂ 、Ｉｎ₂ Ｏ、ＩｎＯ、Ｉｎ₂ Ｏ₃ 、Ａ
ｌ₂Ｏ₃ 、ＭｏＯ、ＭｏＯ₂ 、ＭｏＯ₃ 、ＧｅＯ、Ｇｅ
Ｏ₂ 、ＣｄＯ、Ｇａ₂ Ｏ、Ｇａ₂ Ｏ₃ 、Ｎａ₂ Ｏ、Ｒｅ
Ｏ₂ 、ＲｅＯ₃ 、Ｒｅ₂ Ｏ₇ 、ＺｎＯ、ＳｎＯ、Ｓｍ ₂
Ｏ₃ 、Ｅｕ₂ Ｏ₃ 、Ｙ₂ Ｏ₃ 、Ｖ₂ Ｏ₃ 、ＶＯ₂ 、Ｎｂ
₂ Ｏ₅ 、ＨｆＯ₂ 、Ｌａ₂ Ｏ₃ 、Ｙｂ₂ Ｏ₃ 、Ｚｒ
Ｏ₂ 、Ｎｄ₂ Ｏ₃ 、ＣｅＯ₂ 、ＭｎＯ、ＮｉＯ等が挙げ
られ、これらの化合物は単独で用いてもよく、あるいは
２種以上組み合わせて用いてもよい。これらのうち、Ｉ
ｎ₂ Ｏ₃ 、Ａｌ₂ Ｏ₃ 、ＴｉＯ、ＷＯ₃ 、ＧｅＯ₂ 、Ｍ
ｏＯ₂ 、ＺｒＯ₂ 等が好ましい。

【００１４】本発明の記録層を支持体上に設ける方法と
しては、前記の金属及び金属酸化物を蒸着（抵抗加熱、
電子ビーム加熱）する方法、スパッタリング法、イオン
プレーティング法等の種々の方法を用いることができ
る。本発明の記録層を設ける一つの好適な方法として
は、真空槽内で蒸着法を用いる際に、金属と金属酸化物
とを別の蒸着源を用い、金属は抵抗加熱により、金属酸
化物は電子ビームにより同時に蒸着を行う方法がある。
両者の混合率の制限は、各々の蒸発源に対して水晶振動
型の膜厚モニターを配置し、それにより蒸発速度を制御
することにより行うことができる。

【００１５】また、記録層の厚さは、層を構成する材料
によって異なるが、５０オングストローム未満では光吸
収率が小さく感度が低下し、１０００オングストローム
を超えると感度及び画像再現性の低下が起きるため、５
０〜１０００オングストロームが好ましく、より好まし
くは１００〜８００オングストロームである。さらに、
この場合の記録層の光学濃度は、０．１５以上であるこ
とが、レーザー光のエネルギーを有効に利用する観点か
ら好ましい。

【００１６】本発明に前記記録層の上に積層されるイン
キ反撥性のシリコーンゴム層は、縮合型シリコーンを架
橋剤を用いて硬化させるか、付加型シリコーンを触媒に
より付加重合させて形成することが好ましい。即ち、前
記の感熱層上に、シリコーンゴムの皮膜を反応形成させ
るものである。縮合型シリコーンを用いる場合には、
（ａ）ジオルガノポリシロキサン１００重量部に対し
て、（ｂ）縮合型架橋剤を３〜７０重量部、（ｃ）触媒
０．０１〜４０重量部を加えた組成物を用いるのが好適
である。

【００１７】前記成分（ａ）のジオルガノポリシロキサ
ンは、下記一般式で示されるような繰り返し単位を有す
るポリマーである。Ｒ¹ およびＲ² は炭素数１〜１０ア
ルキル基、ビニル基、アリール基であり、またその他の
適当な置換基を有していても良い。一般的にはＲ¹ およ
びＲ² の６０％以上がメチル基、あるいはハロゲン化ビ
ニル基、ハロゲン化フェニル基などであるものが好まし
い。

【００１８】

【化１】

【００１９】このようなジオルガノポリシロキサンは両
末端に水酸基を有するものを用いるのが好ましい。

【００２０】また、前記成分（ａ）は、数平均分子量が
３，０００〜１００，０００であり、より好ましくは、
１０，０００〜７０，０００である。

【００２１】成分（ｂ）の架橋剤は縮合型のものであれ
ばいずれであってもよいが、次の一般式で示されるよう
なものが好ましい。

【００２２】

【化２】

【００２３】ここでＲ¹ は先に説明したＲ¹ と同じ意味
であり、Ｘは、Ｃｌ、Ｂｒ，Ｉなどのハロゲン原子、水
素原子、水酸基、或いは、以下に示す如き有機置換基を
表す。

【００２４】

【化３】

【００２５】式中、Ｒ³ は炭素数１〜１０のアルキル基
および炭素数６〜２０のアリール基を、Ｒ⁴ 、Ｒ⁵ は炭
素数１〜１０のアルキル基を示す。

【００２６】成分（ｃ）としては、錫、亜鉛、鉛、カル
シウム、マンガンなどの金属のカルボン酸塩、例えば、
ラウリン酸ジブチル、オクチル酸鉛、ナフテン酸鉛な
ど、あるいは塩化白金酸等のような公知の触媒が挙げら
れる。

【００２７】付加型シリコーンを用いる場合には、
（ｄ）付加反応性官能基を有するジオルガノポリシロキ
サン１００重量部に対して、（ｅ）オルガノハイドロジ
ェンポリシロキサン０．１〜２５重量部及び（ｆ）付加
触媒０．００００１〜１重量部を添加した組成物を用い
ることが好ましい。

【００２８】上記成分（ｄ）の付加反応性官能基を有す
るジオルガノポリシロキサンとは、１分子中にケイ素原
子に直接結合したアルケニル基（より好ましくはビニル
基）を少なくとも２個有するオルガノポリシロキサン
で、アルケニル基は分子の末端、中間いずれにあっても
よく、アルケニル基以外の有機基としては、置換もしく
は非置換の炭素数１〜１０のアルキル基、アリール基を
有していてもよい。また、成分（ｄ）には水酸基を微量
有することも任意である。成分（ｄ）は、数平均分子量
が３，０００〜１００，０００であり、より好ましく
は、１０，０００〜７０，０００である。

【００２９】成分（ｅ）としては、両末端に水素基を有
するポリジメチルシロキサン、α、ω−ジメチルポリシ
ロキサン、両末端にメチル基を有するメチルシロキサン
−ジメチルシロキサン共重合体、環状ポリメチルシロキ
サン、両末端にトリメチルシリル基を有するポリメチル
シロキサン、両末端トリメチルシリル基のジメチルシロ
キサン−メチルシロキサン共重合体などが例示される。

【００３０】成分（ｆ）としては、公知の重合触媒の中
から任意に選ばれるが、特に白金系の化合物が望まし
く、白金単体、塩化白金、塩化白金酸、オレフィン配位
白金などが例示される。

【００３１】これらの組成物においてシリコーンゴム層
の硬化速度を制御する目的で、テトラシクロ（メチルビ
ニル）シロキサンなどのビニル基含有のオルガノポリシ
ロキサン、炭素−炭素三重結合含有のアルコ−ル、アセ
トン、メチルエチルケトン、メタノ−ル、エタノ−ル、
プロピレングリコ−ルモノメチルエ−テルなどの架橋抑
制剤を添加することも可能である。

【００３２】なお、シリコーンゴム層には必要に応じ
て、シリカ、炭酸カルシウム、酸化チタンなどの無機物
の微粉末、シランカップリング剤、チタネート系カップ
リング剤やアルミニウム系カップリング剤などの接着助
剤や光重合開始剤を添加しても良い。

【００３３】本発明に係るインキ反撥性のシリコーンゴ
ム層は、厚さが小さいとインキ反撥性が低下し、傷が入
りやすい等の問題点があり、厚さが大きい場合、現像性
が悪くなるという点から、厚みとしては乾燥膜厚として
０．５〜５ｇ／ｍ² が好ましく、より好ましくは１〜３
ｇ／ｍ² である。

【００３４】この水なし平版において、シリコーンゴム
層の上に、耐刷性、耐傷性、画像再現性及び汚れ性等の
向上の目的で、更に種々のシリコーンゴム層を塗工して
も良い。

【００３５】更に、シリコーンゴム層は柔軟で傷がつき
やすいため、表面保護の目的で、シリコーンゴム層上に
透明なフィルム、例えばポリエチレン、ポリプロピレ
ン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビリニデン、ポリビニル
アルコール、ポリエチレンテレフタレート、セロファン
等をラミネートしたり、ポリマーのコーティングを施し
ても良い。これらのフィルムは延伸して用いても良い。
また、表面にマット加工を施しても良いが、画像再現性
の観点から、マット加工の無いものの方が本発明では好
ましい。

【００３６】本発明の水なし平版は通常の印刷機にセッ
トできる程度のたわみ性を有し、同時に印刷時にかかる
荷重に耐えるものでなければならない。従って、前記金
属層及びシリコーンゴム層を積層するために、この水な
し平版に用いられる代表的な支持体としては、コート
紙、アルミニウムのような金属板、ポリエチレンテレフ
タレートのようなプラスチックフィルム、ゴムあるいは
それらを複合させたものを挙げることができ、より好ま
しくはアルミニウム、アルミニウム含有合金（例えば、
珪素、銅、マンガン、マグネシウム、クロム、亜鉛、
鉛、ビスマス、ニッケルなどの金属と、アルミニウムと
の合金）およびプラスチックフィルムである。

【００３７】支持体の膜厚は２５μｍから３ｍｍ、好ま
しくは７５μｍから５００μｍが適当であるが、用いる
支持体の種類と印刷条件により最適な厚さは変動する。
一般には１００μｍから３００μｍが最も好ましい。

【００３８】本発明においては、支持体と記録層間の接
着性向上、印刷特性向上又は高感度化のために、支持体
にコロナ処理等の表面処理を施したり、プライマー層を
設けることができる。本発明に用いられるプライマー層
としては、例えば、特開昭６０−２２９０３号公報に開
示されているような種々の感光性ポリマーを感光性樹脂
層を積層する前に露光して硬化せしめたもの、特開昭６
２−５０７６０号公報に開示されているエポキシ樹脂を
熱硬化せしめたもの、特開昭６３−１３３１５１号公報
に開示されているゼラチンを硬膜せしめたもの、更に特
開平３−２００９６５号公報に開示されているウレタン
樹脂とシランカップリング剤を用いたものや特開平３−
２７３２４８号公報に開示されているウレタン樹脂を用
いたもの等を挙げることができる。この他、ゼラチンま
たはカゼインを硬膜させたものも有効である。更に、前
記のプライマー層中に、ポリウレタン、ポリアミド、ス
チレン／ブタジエンゴム、カルボキシ変性スチレン／ブ
タジエンゴム、アクリロニトリル／ブタジエンゴム、カ
ルボキシ変性アクリロニトリル／ブタジエンゴム、ポリ
イソプレン、アクリレートゴム、ポリエチレン、塩素化
ポリエチレン、塩素化ポリプロピレン、塩化ビニル／酢
酸ビニル共重合体、塩化ゴム、ハロゲン化ポリヒドロキ
シスチレン、ニトロセルロース等のポリマーを添加して
も良い。その添加割合は任意であり、フィルム層を形成
できる範囲内であれば、添加剤だけでプライマー層を形
成しても良い。また、これらのプライマー層には前記の
目的に沿って、染料、光重合開始剤、接着助剤（例え
ば、重合性モノマー、ジアゾ樹脂、シランカップリング
剤、チタネートカップリング剤やアルミニウムカップリ
ング剤）、顔料、シリカ粉末や酸化チタン粉末等の添加
物を含有させることもできる。また、塗布後、露光によ
って硬化させることもできる。一般に、プライマー層の
塗布量は乾燥重量で０．０５〜１０ｇ／ｍ² の範囲が適
当であり、好ましくは０．１〜８ｇ／ｍ² であり、さら
に好ましくは０．２〜５ｇ／ｍ² である。

【００３９】本発明においては、製版即ち記録に用いら
れるレーザー光エネルギーが、本発明の水なし平版のヒ
ートモード記録層に吸収されて熱に変換され、記録層の
アブレーション（溶融・凝集）が起き、結果としてレー
ザー露光部の記録層とシリコーンゴム層の間の密着力が
低下し、露光部におけるシリコーンゴム層を容易に除去
することができる。

【００４０】本発明において、水なし平版を露光するの
に使用されるレーザーは、シリコーンゴム層が剥離除去
されるのに十分な密着力の低下が起きるのに必要な露光
量を与えるものであれば特に制限はなく、Ａｒレーザ
ー、炭酸ガスレーザーのごときガスレーザー、ＹＡＧレ
ーザーのような固体レーザー、そして半導体レーザーな
どが使用できる。通常出力が５０ｍＷクラス以上のレー
ザーが必要となる。保守性、価格などの実用的な面から
は、半導体レーザーおよび半導体励起の固体レーザー
（ＹＡＧレーザーなど）が好適に使用される。

【００４１】これらのレーザーの記録波長は赤外線の波
長領域であり、８００ｎｍから１１００ｎｍの発振波長
を利用することが多い。

【００４２】また、特開平６−１８６７５０号公報に記
載されているイメージング装置を用いて露光することも
可能である。

【００４３】前記の如くシリコーンゴム層の表面保護の
ためのフィルムを設ける場合には、レーザー露光する際
には光透過性のフィルムであればそのまま露光しても良
いし、剥がした後に露光しても良い。

【００４４】本発明の水なし平版を製版する際に用いら
れる現像液としては、水なし平版の現像液として公知の
もの、例えば、炭化水素類、極性溶媒、水及びこれらの
組み合わせ等、が使用できるが、安全性の観点から、水
または水を主成分とする炭化水素類の水溶液を用いるこ
とが好ましく、安全性および引火性等を考慮すると炭化
水素類の濃度は４０重量％未満が望ましい。

【００４５】用い得る炭化水素類としては、脂肪族炭化
水素類〔具体的には、例えば、ヘキサン、ヘプタン、ガ
ソリン、灯油、市販の溶剤である”アイソパーＥ、Ｈ、
Ｇ”（エッソ化学社製）等〕、芳香族炭化水素類（例え
ば、トルエン、キシレン等）、あるいはハロゲン化炭化
水素（トリクレン等）等が挙げられる。また、極性溶媒
としては、アルコール類（具体的には、例えば、メタノ
ール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、
ベンジルアルコール、エチレングリコールモノメチルエ
ーテル、２−エトキシエタノール、ジエチレングリコー
ルモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノヘキ
シルエーテル、トリエチレングリコールモノメチルエー
テル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、ジプ
ロピレングリコールモノメチルエーテル、ポリエチレン
グリコールモノメチルエーテル、ポリプロピレングリコ
ール、テトラエチレングリコール等）、ケトン類（例え
ば、アセトン、メチルエチルケトン等）、エステル類
（例えば、酢酸エチル、乳酸メチル、乳酸ブチル、プロ
ピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエ
チレングリコールアセテート、ジエチルフタレート
等）、その他、トリエチルフォスフェート、トリクレジ
ルフォスフェート等が挙げられる。また、単に水道水、
純水、蒸留水等の水そのものを用いることもできる。ま
た、これらは単独で用いてもよく、２種以上、例えば、
有機溶剤系現像液に水を添加したり、極性溶媒に水を添
加したり、炭化水素類と極性溶媒を組み合わせて、用い
ることもできる。

【００４６】さらに、上記炭化水素類や極性溶媒のうち
水に対する親和性の低いものについては界面活性剤等を
添加して水に対する溶解性を向上させてもよい。また、
界面活性剤とともにアルカリ剤（例えば、炭酸ナトリウ
ム、ジエタノールアミン、水酸化ナトリウム等）を添加
することもできる。

【００４７】現像は、例えば、上記のような現像液を含
む現像用パッドで版面をこすったり、現像液を版面に注
いだ後に水中にて現像ブラシでこするなど、公知の方法
で行うことができる。現像液温は任意の温度で現像でき
るが、好ましくは１０℃〜５０℃である。これにより画
像部のインキ反撥層が除かれ、その部分がインキ受容部
となる。

【００４８】また、このように処理された刷版を積み重
ねて保管する場合には、刷版を保護するために合紙を挿
入し、挟んでおくことが好ましい。

【００４９】以上のような現像処理、又はそれに続く水
洗、乾燥処理は、自動処理機で行うこともできる。この
ような自動処理機の好ましいものは、特開平２−２２０
０６１号公報に記載されている。

【００５０】また、本発明の水なし平版は、接着層をシ
リコーンゴム層表面に張り合わせた後に、接着層を剥離
することにより現像することも可能である。接着層は、
シリコーンゴム層の表面に密着できる公知のものがいず
れも使用できる。これらの接着層を可撓性支持体に設け
たものは、例えば、住友スリーエム社の「スコッチテー
プ＃８５１Ａ」の商品名で市販されている。

【００５１】

【実施例】本発明を実施例によりさらに詳細に説明す
る。ただし、本発明は下記の実施例に限定されるもので
はない。

【００５２】（実施例１〜１８、比較例１〜５）厚さ１
８８μｍのポリエチレンテレフタレート支持体上に、蒸
着真空度５×１０^-5Ｔｏｒｒの条件下に、表１に示した
金属と金属酸化物とを別の蒸発源を用い、金属は抵抗加
熱により、金属化合物は電子ビームにより同時に蒸着を
行い記録層を形成した。両者の混合率の制限は、各々の
蒸発源に対して水晶振動型の膜厚モニターを配置し、そ
れにより蒸発速度を制御することにより行った。この時
の記録層の厚みは、４００オングストロームであり、金
属酸化物の組成比は、体積パーセントで３０％に調製し
た。

【００５３】次に、下記の塗布液を前記記録層上に塗布
し、加熱（１１０℃、１分）、乾燥することにより、乾
燥膜厚２μｍの付加型シリコーンゴム層を形成し、水な
し平版印刷版を得た。

【００５４】 〔シリコーンゴム層塗布液組成〕 α，ω−ジビニルポリジメチルシロキサン（重合度約７００） ９．００ｇ (CH₃)₃-Si-O-(SiH(CH₃)-O)₈-Si(CH₃)₃ ０．６０ｇ ポリジメチルシロキサン（重合度 約８０００） ０．５０ｇ オレフィン−塩化白金酸 ０．０８ｇ 抑制剤［HC≡C-C(CH₃)₂ -O-Si(CH₃)₃] ０．０７ｇ アイソパーＧ（エッソ化学（株））製 ５５ｇ 得られた本発明の水なし平版に、波長１０６４ｎｍ、ビ
ーム径４０μｍ（１／ｅ² )の半導体励起ＹＡＧレーザ
ーを用いて連続線の書き込みを走査速度を変えて行い、
その後、イソプロパノールを含ませた現像用パッドで版
面拭きを行い、レーザー照射部のシリコーンゴム層を除
去した。この時、レーザー未照射部のシリコーン層は除
去されずに水なし平版表面に保持され、シャープなエッ
ジのシリコーン画像が形成できた走査速度を書き込みし
きい値として、感度および線画像再現性の比較を行っ
た。その結果を表１に示した。

【００５５】

【表１】

【００５６】以上より、金属と金属酸化物との混合物か
らなる本発明の水なし平版の記録層によれば、金属単独
層の記録層に比べ、低エネルギーのレーザー照射で良好
な画像が得られることが明らかとなった。

【００５７】（実施例９、１９、２０、比較例１、６）
実施例９のＩｎとＷＯ₃ の組成比を下記表２に示す如く
変える以外は、全く同様の方法で得られた水なし平版を
それぞれ実施例１９、２０、比較例６とし、各試料につ
いて、感度および線画像再現性の比較を行った。組成比
と性能評価の結果を表２に示した。

【００５８】

【表２】

【００５９】前記表２より明らかなように、１０〜５０
体積％の範囲で金属酸化物が混合された実施例９、１９
及び２０の記録層は、比較例１の金属単独層及び比較例
６の金属酸化物を５０体積％の範囲を超えて含む記録層
に比べ、良好な感度を示すことが確認された。

【００６０】（実施例２１）厚さ１００μｍのポリエチ
レンテレフタレート支持体上に、下記組成の塗布液を塗
布し、加熱（１００℃、１分）、乾燥することにより、
乾燥膜厚０．２μｍのプライマー層を設ける以外は、実
施例１と同様の方法で水なし平版を得た。この水なし平
版に、出力１１０ｍＷ、波長８３０ｎｍ、ビーム径１０
μｍ（１／ｅ２)の半導体レーザーを用いて、主走査速
度６ｍ／秒にて書き込みを行い、その後、スコッチテー
プ＃８５１Ａ（住友スリーエム社製）をシリコーンゴム
層表面に張り合わせた後、剥離して、レーザー照射部の
シリコーンゴム層を除去して水なし平版を製版した。

【００６１】 〔プライマー層塗布液組成〕 塩素化ポリエチレン １重量部

【００６２】

【化４】

【００６３】 メチルエチルケトン １０重量部 シクロヘキサン １００重量部 かくして得られた印刷版の解像力は７μｍで、シャープ
なエッジの水なし平版印刷版が形成された。この記録条
件にて、２００線の網点形成を行ったところ網点面積率
２％から９８％までが版上に形成できた。

【００６４】

【発明の効果】本発明の湿し水不要平版印刷原版によれ
ば、、レーザー光によるヒートモード記録が可能であ
り、感度および画像再現性に優れる。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 支持体上に、金属及び金属酸化物を含有
   する層及びインキ反撥性のシリコーンゴム層を順次積層
   した湿し水不要平版印刷原版であって、該金属及び金属
   酸化物を含有する層における金属酸化物の含有量が１０
   〜５０体積％であることを特徴とする湿し水不要平版印
   刷原版。