JPH0986064A

JPH0986064A - 直描型水なし平版印刷版原版およびその製造方法

Info

Publication number: JPH0986064A
Application number: JP7243146A
Authority: JP
Inventors: Shunichi Yanagida; 俊一柳田; Norimasa Ikeda; 憲正池田
Original assignee: Toray Industries Inc
Current assignee: Toray Industries Inc
Priority date: 1995-09-21
Filing date: 1995-09-21
Publication date: 1997-03-31

Abstract

(57)【要約】【課題】感度の向上した直描型水なし平版印刷版原版を
得る。【解決手段】基板上に感熱層、シリコーンゴム層を順次
積層してなる直描型水なし平版印刷版原版において、感
熱層が炭素の薄膜層であることを特徴とする直描型水な
し平版印刷版原版。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は湿し水を用いずに印
刷が可能な、水なし平版印刷版原版に関するものであ
り、特にレーザ光で直接製版できる直描型水なし平版印
刷版原版に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】製版用フィルムを使用しないで、原稿か
ら直接オフセット印刷版を作製する、いわゆるダイレク
ト製版は、熟練度を必要としない簡易性、短時間で印刷
版が得られる迅速性、多様なシステムから品質とコスト
に応じて選択可能である合理性などの特徴を生かして、
軽印刷業界のみでなく、一般オフセット印刷、グラビア
印刷の分野にも進出し始めている。

【０００３】特に最近では、プリプレスシステムやイメ
ージセッター、レーザプリンタなどの出力システムの急
激な進歩によって新しいタイプの各種平版印刷材料が開
発されている。

【０００４】これらの平版印刷版を、製版方法から分類
すると、レーザ光を照射する方法、サーマルヘッドで書
き込む方法、ピン電極で電圧を部分的に印加する方法、
インクジェットでインキ反撥層またはインキ着肉層を形
成する方法などが挙げられる。

【０００５】なかでも、レーザ光を用いる方法は解像
度、および製版速度の面で他の方式よりも優れており、
その種類も多い。

【０００６】このレーザ光を用いる平版印刷版はさら
に、光反応によるフォトンモードのものと、光熱変換を
行って熱反応を起こさせるヒートモードの２つのタイプ
に分けられる。

【０００７】フォトンモードタイプとしては（１）フォトポリマーを用いた高感度ＰＳ版（２）有機光導電体や酸化亜鉛を用いた電子写真式平版（３）銀塩方式平版（４）銀塩複合方式平版（５）直描マスター等があり、ヒートモードタイプとしては（６）熱破壊方式平版が挙げられる。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、（１）
の方式はレーザ光源に主としてアルゴンイオンレーザを
使用しているため装置が大型となり、また印刷版も高感
度のフォトポリマーを使用しているため、印刷版の取扱
いに注意が必要で、なおかつ保存安定性も低下しやすい
といった欠点がある。

【０００９】（２）の電子写真式平版は、明室で取り扱
えるといった利点はあるが、感光層の帯電後２〜５分の
間で暗減衰が大きくなるため、帯電後短時間で露光現像
処理をする必要があり、大判サイズを高解像力で出力す
るのは難しい。

【００１０】（３）の銀塩方式は、さまざま波長のレー
ザに対応した印刷版が開発されているが、銀廃液が出る
ことが問題となっており、また感度が高いために、取扱
いに注意を要するといった問題もある。

【００１１】（４）の銀塩複合方式平版は、感光層上に
高感度ハロゲン化銀乳剤層を設けて上層のハロゲン化銀
乳剤層をアルゴンイオンレーザで露光、現像後それをマ
スクとしてさらに紫外線で露光、現像を行うものであ
る。しかし、この印刷版は露光、現像工程が２回あるた
め、印刷版の処理が複雑になるという問題がある。

【００１２】（５）の直描マスターは、直接印刷版にレ
ーザで書き込むわけではないが、レーザプリンタで形成
されたトナー画像をインキ着肉部として、印刷版上に転
写するものである。しかし、印刷版の解像度という面で
は、他の方式と比較して劣っている。

【００１３】以上のフォトンモードタイプに対して、
（６）の熱破壊方式は、明室で取り扱えるといった利点
があり、また光源となる半導体レーザの急激な進歩によ
って、最近その有用性が見直されてきている。

【００１４】例えば、特開平６―１９９０６４号、ＵＳ
Ｐ５３３９７３７号、ＵＳＰ５３５３７０５号、ＥＰ０
５８０３９３号、特開平６―５５７２３号、ＥＰ０５７
３０９１号、ＵＳＰ５３７８５８０号公報にはレーザ光
を光源として用いる、直描型水なし平版印刷版原版が記
載されている。

【００１５】この熱破壊方式の印刷版原版の感熱層は、
レーザ光吸収化合物としてカーボンブラックを用い、熱
分解化合物としてニトロセルロースを使用している。そ
してこのカーボンブラックがレーザ光を吸収することに
よって熱エネルギーに変換され、さらにその熱で感熱層
が破壊される。

【００１６】そして最終的に、現像によってこの部分を
除去することによって、表面のシリコーンゴム層が同時
に剥離され、インキ着肉部となる。

【００１７】しかしながらこの印刷版は、レーザ光の吸
収率が十分ではないために、印刷版の感度が低いといっ
た問題があった。

【００１８】この原因として、使用しているカーボンブ
ラックの１次粒子径が適当でないことが挙げられる。

【００１９】すなわち、上述の特許で使用されているカ
ーボンブラックの１次粒子径は、全て３０μｍ以上で、
使用している半導体レーザ（波長８００ｎｍ付近）の光
を必ずしも効率良く吸収しているとは言えない。

【００２０】これは、レーザ光の吸収効率の１つの目安
である、印刷版としての黒色度が上記の粒子径では、最
大にならないということによるものである。

【００２１】すなわち、黒色度は粒子径が２０μｍ前後
の時が最大となり、３０μｍよりも大きくなると黒色度
が低下してしまう。これは表面での光の反射が多くなっ
てしまうためである。

【００２２】また、粒子径が１５μｍよりも小さくなっ
ても、黒色度は低下する。

【００２３】これは、粒子が小さくなるとカーボンブラ
ック自体が透明性を帯びやすくなることと、粒子の分散
性が低下することによるものである。

【００２４】また、上記特許のカーボンブラックは給油
量が高い、すなわちハイストラクチャー構造を有してい
るために、粒子どうしが相互に凝集してしまい、感熱層
溶液の粘度が高くなって取扱が不便になったり、塗膜が
均一にならないといった問題点を有していた。

【００２５】また、特に特開平６―５５７２３号、ＥＰ
０５７３０９１号、ＵＳＰ５３７８５８０号では光源と
してＮｄ―ＹＡＧレーザを用いているために、露光装置
がかなり大がかりなものとなってしまうといった、別の
問題点を有していた。

【００２６】さらに、ＵＳＰ５３７９６９８には、金属
薄膜を感熱層として用いる直描型水なし平版印刷版が記
載されている。

【００２７】これは、感熱層がかなり薄いために、非常
にシャープな画像が得られ、印刷版の解像度という面で
は有利であるが、金属薄膜自体がレーザ光を一部反射し
てしまうために、レーザ光が効率良く吸収されず、結果
的に印刷版の感度が悪くなってしまうといった問題があ
った。

【００２８】この問題を解決するためには、金属薄膜上
に反射防止層を設けなければならず、塗布工程がさらに
増えて、コストがかかる結果となる。

【００２９】また、レーザ光で金属を瞬間的に蒸発させ
るため、周囲に金属蒸気が拡散するといった問題もあっ
た。

【００３０】また、金属薄膜とシリコーンゴム層の接着
性が悪いために、間に接着層を設けなければ耐刷性が低
下してしまうといった問題もあった。

【００３１】本発明はかかる従来技術の欠点を改良する
ため、鋭意検討を行った結果、炭素を蒸着あるいは、ス
パッタリング等することによって、基板上に黒色の炭素
薄膜を形成し、これを、レーザ照射することによって微
細なパターンが容易に形成できることを、見いだしたも
のである。

【００３２】すなわち、黒色の炭素薄膜が形成されたこ
とによってレーザ光の吸収効率が飛躍的に向上し、印刷
版としての感度が向上したのである。

【００３３】したがって、本発明の目的は、上述のよう
に感度の向上した、直描型水なし平版印刷版を提供する
ことにある。

【００３４】

【課題を解決するための手段】前記目的を達成するた
め、本発明は下記の構成からなる。

【００３５】１．基板上に感熱層、シリコーンゴム層を
順次積層してなる直描型水なし平版印刷版原版におい
て、該感熱層が炭素の薄膜層であることを特徴とする直
描型水なし平版印刷版原版。

【００３６】２．炭素の薄膜層が、非晶質炭素薄膜であ
ることを特徴とする前記１記載の直描型水なし平版印刷
版原版。

【００３７】３．感熱層の膜厚が、２０〜１０００オン
グストロームであることを特徴とする前記１記載の直描
型水なし平版印刷版原版。

【００３８】４．感熱層の、光学濃度が０．６〜２．３
であることを特徴とする前記１記載の直描型水なし平版
印刷版原版。

【００３９】５．前記１〜４のいずれかに記載の直描型
水なし平版印刷版原版を、選択的に露光、現像してな
る、水なし平版印刷版。

【００４０】６．基板上に、真空蒸着またはスパッタリ
ングにより炭素の薄膜層を形成し、次いでシリコーンゴ
ム層を形成することを特徴とする、直描型水なし平版印
刷版の製造方法。

【００４１】

【発明の実施の形態】ここで、直描型とは、露光時にネ
ガあるいはポジのフィルムを用いずに、印刷版上に直接
記録ヘッドから、画像形成を行うことをいう。

【００４２】また、ここでの光学濃度とはラッテンフィ
ルターＮｏ．１０６を用いて、マクベス濃度計ＲＤ
―５１４で測定を行った場合の数値をいう。

【００４３】次に、本発明に使用する直描型水なし平版
印刷版について説明する。

【００４４】本発明で使用される感熱層は、レーザ光を
効率よく吸収して、その熱によって瞬間的に一部または
全部が蒸発、融解または燃焼することが重要である。

【００４５】まず、レーザ光を効率良く吸収するために
は、光源として用いられる半導体レーザの波長（８００
ｎｍ付近）に対する吸収率が重要となってくる。

【００４６】そして、この８００ｎｍ付近の光に対する
吸収率の指標として、鋭意検討した結果、光学濃度が良
く対応していることが判明した。すなわち、光学濃度が
高いほどレーザ光を効率良く吸収することができるので
ある。

【００４７】したがって炭素の薄膜を厚くすれば、薄膜
がより黒くなり、光学濃度も高くなってレーザ光の吸収
率が向上するが、薄膜を蒸発、融解、または燃焼させる
ために要するエネルギーが、膜厚が薄い場合よりも余分
に必要となるために、版材の感度が低下してしまう。

【００４８】しかし、逆に膜厚が薄すぎても、感熱層の
光学濃度が上がらないために、レーザ光が効率よく吸収
されず、同様に版材の感度が低下してしまうといった問
題がある。

【００４９】したがって、感熱層の膜厚、及び光学濃度
については最適値が存在し、この範囲をはずれると、上
述の問題が生じてしまう。

【００５０】このため、膜厚と感度の関係を検討した結
果、膜厚としては２０〜１０００オングストロームが好
ましく、より好ましくは４０〜２００オングストローム
であった。

【００５１】膜厚が２０オングストロームよりも薄くて
も、また１０００オングストロームよりも厚くても版材
の感度が低下してしまう。

【００５２】また、光学濃度では０．６〜２．３の範囲
が好ましく、より好ましくは０．８〜１．８である。

【００５３】光学濃度が０．６よりも小さいと、レーザ
光が効率良く吸収されないために、印刷版の感度が低下
しやすく、２．３より大きくても、パターン形成するた
めのエネルギーが余分に必要となるために、感度が低下
してしまう。

【００５４】またこの時の、炭素薄膜は、いわゆるダイ
ヤモンド薄膜やグラファイト薄膜ではなく、非晶質炭素
薄膜であることが好ましい。

【００５５】このような、非晶質炭素薄膜はイオンビー
ム蒸着、イオン化蒸着等の通常の真空蒸着や、イオンビ
ームスパッタリング等のスパッタリングを行えば得るこ
とができ、この時ダイヤモンド薄膜や、グラファイト薄
膜は殆ど形成されないため、これらの方法で形成された
薄膜は、非晶質炭素薄膜となっている。

【００５６】このような薄膜の形成方法としては、真空
蒸着、スパッタリングの何れかの方法で行うことが好ま
しい。

【００５７】真空蒸着は、１０^-4〜１０^-7ｍｍＨｇの減
圧容器中で、炭素を加熱蒸発させ、基板の表面に薄膜を
形成させるのが一般的である。

【００５８】この時、炭素は融点が３９２３（Ｋ）と、
かなり高いために、蒸着するためには、炭素の加熱温度
及び蒸着時間を長くする必要がある。

【００５９】スパッタリングは１０^-1〜１０^-3ｍｍＨｇ
の減圧容器中で１対の電極に直流あるいは交流電圧を加
えて、グロー放電を起こさせ、陰極のスパッタリング現
象を利用して基板上に薄膜を形成する。

【００６０】この方法では、融点が高い炭素でも比較的
容易に薄膜を形成することができる。

【００６１】また、上述の感熱層とシリコーンゴム層の
接着性を上げるために、感熱層上に、シランカップリン
グ剤層を設けることも可能である。

【００６２】これによって、印刷版の耐刷性や溶剤耐性
が向上する。

【００６３】シランカップリング剤としては、ビニルシ
ラン、（メタ）アクリロイルシラン、エポキシシラン、
アミノシラン、メルカプトシラン、クロロシラン等公知
のものが全て使用できるが、なかでも（メタ）アクリロ
イルシラン、エポキシシラン、アミノシラン、メルカプ
トシランが好ましく使用される。

【００６４】具体的には、（メタ）アクリロイルシラン
としては、３―（メタ）アクリロイルプロピルトリメト
キシシラン、３―（メタ）アクリロイルプロピルトリエ
トキシシランであり、エポキシシランとしては、３―グ
リシドキシプロピルトリメトキシシラン、２―（３，４
―エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン
であり、アミノシランとしては、Ｎ―２―（アミノエチ
ル）―３―アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ―２
―（アミノエチル）―３―アミノプロピルメチルジメト
キシシラン、３―アミノプロピルトリエトキシシランで
あり、メルカプトシランとしては、３―メルカプトプロ
ピルトリメトキシシラン、３―メルカプトプロピルトリ
エトキシシラン等が挙げられる。

【００６５】これらのシランカップリング剤は、適当な
溶剤に溶かして希薄溶液の状態で、感熱層上に塗布し、
熱キュアーを行う。

【００６６】このシランカップリング剤層の膜厚は、シ
ランカップリング剤の単分子膜が形成される程度の膜厚
があれば十分であり、具体的には５００オングストロー
ム以下が好ましく、より好ましくは１００オングストロ
ーム以下である。

【００６７】膜厚が５００オングストロームよりも厚い
場合には、シリコーンゴム層との接着性が低下しやすく
なり、印刷版の耐刷性や溶剤耐性が低下する。

【００６８】以上の感熱層を形成するための基板として
は、寸法的に安定な板状物が用いられる。この様な寸法
的に安定な板状物としては、従来印刷版の基板として使
用されたものが含まれ、それらを好適に使用することが
できる。かかる基板としては、紙、プラスチック（例え
ばポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレンなど）
がラミネ−トされた紙、例えばアルミニウム（アルミニ
ウム合金も含む。）、亜鉛、銅などのような金属の板、
例えばセルロース、カルボキシメチルセルロース、セル
ロースアセテート、ポリエチレンテレフタレ−ト、ポリ
エチレン、ポリエステル、ポリアミド、ポリイミド、ポ
リスチレン、ポリプロピレン、ポリカ−ボネ−ト、ポリ
ビニルアセタ−ルなどのようなプラスチックのフィル
ム、上記の如き金属がラミネ−トもしくは蒸着された紙
もしくはプラスチックフィルムなどが含まれる。これら
の基板のうち、アルミニウム板は寸法的に著しく安定で
あり、しかも安価であるので特に好ましい。また、軽印
刷用の基板として用いられている、ポリエチレンテレフ
タレ−トフィルムも好ましく使用される。

【００６９】本発明で使用する水なし平版印刷版は、基
板と感熱層との接着を強固にするため、プライマ−層を
設けても良い。本発明で使用する直描型水なし平版印刷
版原版のプライマ−層は、次の条件を満たすことが必要
である。すなわち、基板と感熱層とをよく接着し、経時
において安定であること、さらに現像液の溶剤に対する
耐溶剤性が良いことである。このような条件を満たすも
のとして、特公昭６１−５４２１９号公報に示されるよ
うなエポキシ樹脂を含むものの他、ポリウレタン樹脂、
フェノ−ル樹脂、アクリル樹脂、アルキッド樹脂、ポリ
エステル樹脂、ポリアミド樹脂、メラミン樹脂、尿素樹
脂、ベンゾグアナミン樹脂、塩化ビニル―酢酸ビニル共
重合体、塩化ビニル樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、
エチレン―酢酸ビニル共重合体、ポリカーボネート樹
脂、ポリアクリロニトリル―ブタジエン共重合体、ポリ
エーテル樹脂、ポリエーテルスルフォン樹脂、ミルクカ
ゼイン、ゼラチン等を使用することが出来る。これらの
樹脂は単独であるいは二種以上混合して用いることがで
きる。

【００７０】これらの中では、ポリウレタン樹脂、ポリ
エステル樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、尿素樹脂
等を単独で、あるいは２種以上を混合して用いることが
好ましい。

【００７１】また、上記プライマー層を構成するアンカ
ー剤としては、例えばシランカップリング剤等の、公知
の接着剤を用いることができ、また有機チタネート等も
有効である。

【００７２】さらに塗工性を改良する目的で、界面活性
剤を添加することも任意である。

【００７３】また、印刷版の露光部は、プライマー層が
露出して画線部となるために、このプライマー層中に染
料等の添加剤を含有させて検版性を向上させることが好
ましい。

【００７４】上記のプライマー層を形成するための組成
物は、ＤＭＦ、メチルエチルケトン、メチルイソブチル
ケトン、ジオキサン、トルエン、キシレン、ＴＨＦ等の
適当な有機溶剤に溶解させることによって組成物溶液と
して調整される。かかる組成物溶液を基板上に均一に塗
布し必要な温度で必要な時間加熱することにより、プラ
イマー層が形成される。

【００７５】プライマ−層の厚さは被覆層にして０．５
〜５０ｇ／ｍ²が好ましく、より好ましくは１〜１０ｇ
／ｍ²である。厚さが０．５ｇ／ｍ²よりも薄いと基板
表面の形態欠陥および化学的悪影響の遮断効果がおと
り、５０ｇ／ｍ²よりも厚いと経済的見地から不利とな
るので上記の範囲が好ましい。

【００７６】最上層のシリコーンゴム層としては、従来
の水なし平版印刷版のシリコーンゴム組成物がすべて使
用できる。

【００７７】このようなシリコ−ンゴム層は線状オルガ
ノポリシロキサン（好ましくはジメチルポリシロキサ
ン）をまばらに架橋することにより得られるものであ
り、代表的なシリコ−ンゴム層は、次式（Ｉ）に示すよ
うな繰り返し単位を有するものである。

【００７８】

【化１】（ここでｎは２以上の整数である。Ｒは炭素数１〜１０
のアルキル、アリ−ル、あるいはシアノアルキル基であ
る。全体のＲの４０％以下がビニル、フェニル、ハロゲ
ン化ビニル、ハロゲン化フェニルであり、Ｒの６０％以
上がメチル基であるものが好ましい。また、鎖末端もし
くは側鎖のかたちで分子鎖中に少なくとも一つ以上の水
酸基を有する。）本発明の印刷版に適用するシリコ−ンゴム層の場合には
次に示すような縮合型の架橋を行うシリコ−ンゴム（Ｒ
ＴＶ、ＬＴＶ型シリコ−ンゴム）を用いることができ
る。このようなシリコ−ンゴムとしてはオルガノポリシ
ロキサン鎖のＲの一部がＨに置換されたものも使用でき
るが、通常次式（II）と（III ）、（IV）で表される末
端基どうしの縮合によって架橋される。これにさらに過
剰の架橋剤を存在させる場合もある。

【００７９】

【化２】

【化３】

【化４】（ここでＲは先に説明したＲと同様であり、Ｒ1 、Ｒ2
は一価の低級アルキル基であり、Ａｃはアセチル基であ
る。）このような縮合型の架橋を行うシリコ−ンゴムには、
錫、亜鉛、鉛、カルシウム、マンガンなどの金属カルボ
ン酸塩、例えばラウリン酸ジブチル錫、錫（ＩＩ）オク
トエ−ト、ナフテン酸塩など、あるいは塩化白金酸のよ
うな触媒が添加される。

【００８０】さらに、本発明においては、上述の縮合型
シリコーンゴムの他に、付加型のシリコーンゴムを用い
ることも可能である。

【００８１】付加型シリコーンゴムとしては、下記に示
すようにＳｉ―Ｈ結合を有するハイドロジェンポリシロ
キサンとＣＨ＝ＣＨ結合を有するビニルポリシロキサン
を白金系の触媒で架橋硬化させたものが好ましく用いら
れる。

【００８２】（１）１分子中にケイ素原子に直接結合したアルケニル基（望ましくはビニル基）を少なくとも２個有するオルガノポリシロキサン１００重量部（２）１分子中に少なくとも式（Ｖ）基を２個有するオルガノハイドロジェンポリシロキサン０．１〜１０００重量部（３）付加触媒０．００００１〜１０重量部成分（１）のアルケニル基は分子鎖末端、中間のいずれ
にあってもよく、アルケニル基以外の有機基としては、
置換もしくは非置換のアルキル基、アリ−ル基である。
成分（１）は水酸基を微量有してもよい。成分（２）は
成分（１）と反応してシリコ−ンゴム層を形成するが、
感光層に対する接着性の付与の役割を果たす。成分
（２）の水素基は分子鎖末端、中間のいずれにあっても
よく、水素以外の有機基としては成分（１）と同様のも
のから選ばれる。成分（１）と成分（２）の有機基はイ
ンキ反撥性の向上の点で総じて基数の６０％以上がメチ
ル基であることが好ましい。成分（１）及び成分（２）
の分子構造は直鎖状、環状、分枝状いずれでもよく、ど
ちらか少なくとも一方の分子量が１０００を超えること
がゴム物性の面で好ましく、更に、成分（２）の分子量
が１０００を超えることが好ましい。成分（１）として
は、α，ω−ジビニルポリジメチルシロキサン、両末端
メチル基の（メチルビニルシロキサン）（ジメチルシロ
キサン）共重合体などが例示され、成分（２）として
は、両末端水素基のポリジメチルシロキサン、α，ω−
ジメチルポリメチルハイドロジェンシロキサン、両末端
メチル基の（メチルハイドロジェンシロキサン）（ジメ
チルシロキサン）共重合体、環状ポリメチルハイドロジ
ェンシロキサンなどが例示される。成分（３）の付加触
媒は、公知のもののなかから任意に選ばれるが、特に白
金系の化合物が望ましく、白金単体、塩化白金、塩化白
金酸、オレフィン配位白金などが例示される。これらの
組成物の硬化速度を制御する目的で、テトラシクロ（メ
チルビニル）シロキサンなどのビニル基含有のオルガノ
ポリシロキサン、炭素−炭素三重結合含有のアルコ−
ル、アセトン、メチルエチルケトン、メタノ−ル、エタ
ノ−ル、プロピレングリコ−ルモノメチルエ−テルなど
の架橋抑制剤を添加することも可能である。これらの組
成物は、３成分を混合した時点において付加反応が起
き、硬化が始まるが、硬化速度は反応温度が高くなるに
従い急激に大きくなる特徴を有する。故に組成物のゴム
化までのポットライフを長くし、かつ感光層上での硬化
時間を短くする目的で、組成物の硬化条件は、基板、感
光層の特性が変わらない範囲の温度条件で、かつ完全に
硬化するまで高温に保持しておくことが、感光層との接
着力の安定性の面で好ましい。

【００８３】これらの組成物の他に、感熱層との接着性
を向上させる目的で前述の公知のシランカップリング剤
を添加することも、有効である。

【００８４】また、シリコーンゴム層中にシランカップ
リング剤を添加した場合には、あえてシランカップリン
グ剤層を設ける必要はない。

【００８５】これ以外にも、縮合型シリコ−ンゴム層の
組成物である水酸基含有オルガノポリシロキサン、加水
分解性官能基含有シラン（もしくはシロキサン）を添加
することも任意であり、またゴム強度を向上させる目的
で、シリカなどの公知の充填剤を添加させることも任意
である。

【００８６】これら、シリコーンゴム層の膜厚は０．５
〜５０ｇ／ｍ²が好ましく、さらに好ましくは０．５〜
１０ｇ／ｍ²である。膜厚が０．５ｇ／ｍ²よりも小さ
い場合には印刷版のインキ反撥性が低下しやすく、５０
ｇ／ｍ²よりも大きい場合には、経済的見地から不利で
ある。

【００８７】以上説明したようにして構成された水なし
平版印刷版原版の表面のシリコーンゴム層を保護するな
どの目的で、シリコーンゴム層の表面にプレ−ンまたは
凹凸処理した薄い保護フィルムをラミネ−トしたり、特
開平５―３２３５８８号公報に記載の現像溶媒に溶解す
るような、ポリマーの塗膜を形成することも可能であ
る。

【００８８】特に、保護フィルムをラミネートした場合
には、保護フィルム上からレーザ露光を行い、その後保
護フィルムを剥離することによって印刷版上にパターン
を形成する、いわゆる剥離現像を行うことによって印刷
版を作成することも可能である。

【００８９】次に、本発明における水なし平版印刷版原
版の製造方法について説明する。基板上にリバースロー
ルコーター、エアーナイフコーター、メーヤバーコータ
ーなどの通常のコーターあるいはホエラーのような回転
塗布装置を用い、必要に応じてプライマー層組成物を塗
布し１００〜３００℃で数分間硬化した後、感熱層を蒸
着またはスパッタリングによって形成し、シリコーンゴ
ム組成物を塗布し５０〜１５０℃の温度で数分間熱処理
してゴム硬化させて形成する。

【００９０】そして、必要に応じて保護フィルムをラミ
ネートするかあるいは、保護層を形成する。

【００９１】このようにして得られた直描型水なし平版
印刷版原版を、保護フィルムを剥離してからまたは、保
護フィルム上からレーザ光で画像状に露光する。

【００９２】露光には通常レーザ光が使用されるが、こ
の時の光源としては、発振波長が３００ｎｍ〜１５００
ｎｍの範囲にあるＡｒイオンレーザ、Ｋｒイオンレー
ザ、Ｈｅ―Ｎｅレーザ、Ｈｅ―Ｃｄレーザ、ルビーレー
ザ、ガラスレーザ、半導体レーザ、ＹＡＧレーザ、チタ
ンサファイアレーザ、色素レーザ、窒素レーザ、金属蒸
気レーザ等の種々のレーザが使用できる。なかでも、半
導体レーザは近年の技術的進歩により、小型化し、経済
的にも他のレーザ光源よりも有利であるので、好まし
い。

【００９３】上記の方法で露光された、直描型水なし平
版印刷版は必要に応じて、剥離現像、または通常の溶剤
現像処理される。

【００９４】本発明で用いられる現像液としては、例え
ば水や、水に下記の極性溶媒を添加したものや、脂肪族
炭化水素類（ヘキサン、ヘプタン、「アイソパーＥ，
Ｇ，Ｈ」（ＥＳＳＯ製イソパラフィン系炭化水素の商品
名）、ガソリン、灯油など）、芳香族炭化水素類（トル
エン、キシレンなど）、ハロゲン化炭化水素類（トリク
レンなど）などの少なくとも１種類以上の混合溶媒に下
記の極性溶媒を少なくとも１種類添加したものが好まし
く用いられる。

【００９５】アルコール類（メタノール、エタノール、
プロパノール、イソプロパノール、エチレングリコー
ル、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、
ポリエチレングリコール、プロピレングルコール、ジプ
ロピレングリコール、トリプロピレングリコール、ポリ
プロピレングリコール、１，３―ブチレングリコール、
２，３―ブチレングリコール、ヘキシレングリコール、
２―エチル―１，３―ヘキサンジオールなど）エーテル類（エチレングリコールモノエチルエーテル、
ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレン
グリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコール
モノヘキシルエーテル、ジエチレングリコールモノ―２
―エチルヘキシルエーテル、トリエチレングリコールモ
ノエチルエーテル、テトラエチレングリコールモノエチ
ルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテ
ル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、トリ
プロピレングリコールモノメチルエーテル、ジオキサ
ン、テトラヒドロフランなど）ケトン類（アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソ
ブチルケトン、ジアセトンアルコールなど）エステル類（酢酸エチル、酢酸ブチル、乳酸メチル、乳
酸エチル、乳酸ブチル、エチレングリコールモノメチル
エーテルアセテート、エチレングリコールモノエチルエ
ーテルアセテート、ジエチレングリコールモノメチルエ
ーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエ
ーテルアセテートなど）カルボン酸（２―エチル酪酸、カプロン酸、カプリル
酸、２―エチルヘキサン酸、カプリン酸、オレイン酸、
ラウリル酸など）また、上記の現像液組成には、公知の界面活性剤を添加
することも自由に行われる。また、さらにアルカリ剤、
例えば炭酸ナトリウム、モノエタノールアミン、ジエタ
ノールアミン、ジグリコールアミン、モノグリコールア
ミン、トリエタノールアミン、ケイ酸ナトリウム、ケイ
酸カリウム、水酸化カリウム、ホウ酸ナトリウムなどを
添加することもできる。

【００９６】また、これらの現像液にはクリスタルバイ
オレット、ビクトリピュアブルー、アストラゾンレッド
などの公知の塩基性染料、酸性染料、油溶性染料を添加
して現像と同時に画像部の染色化を行うことができる。

【００９７】現像する際には、これらの現像液を、不織
布、脱脂綿、布、スポンジ等に含浸させて、版面を拭き
取ることによって、現像することができる。

【００９８】また、現像には特開昭６３―１６３３５７
に記載されているような自動現像機を用い、上記の現像
液で版面を前処理した後に水道水などでシャワーしなが
ら回転ブラシで版面を擦ることによって、好適に現像す
ることができる。

【００９９】上記の現像液に代えて、温水や水蒸気を版
面に噴射することによっても現像が可能である。

【０１００】

【実施例】以下実施例によって本発明をさらに詳しく説
明するが、本発明はこれらに限定されない。

【０１０１】実施例１〜６厚さ０．２４ｍｍの脱脂したアルミ板上に下記の組成よ
りなるプライマー液を塗布し、２２０℃、２分間乾燥
し、４ｇ／ｍ²のプライマ−層を設けた。

【０１０２】（ａ）カンコ−ト９０Ｔ−２５−３０９４（関西ペイント（株）製、エポキシフェノ−ル樹脂）１５重量部（ｂ）ビクトリアピュアブルーＢＯＨナフタレンスルフォン酸０．１重量部（ｃ）ジメチルホルムアミド８５重量部次いで、このプライマー層上に炭素の薄膜を、蒸着、ま
たはスパッタリングによって表１の様に形成した。

【０１０３】続いて、感熱層上に次の組成を有するシリ
コ−ンゴム溶液を塗布し、１２０℃２分間乾燥し、厚さ
２ｇ／ｍ²のシリコ−ンゴム層を設けた。

【０１０４】（ａ）ポリジメチルシロキサン（分子量約３５，０００、末端水酸基）１００重量部（ｂ）エチルトリアセトキシシラン１２重量部（ｃ）ジブチル錫ジアセテート０．１重量部（ｄ）３―アミノプロピルトリエトキシシラン０．２重量部（ｅ）“アイソパ−Ｇ”（エクソン化学（株）製）１２００重量部上記のようにして得られた積層板に、厚さ８μｍのポリ
エステルフィルム“ルミラー”（東レ（株）製）をカレ
ンダーローラーを用いてラミネートし、直描型水なし平
版印刷版原版を得た。

【０１０５】その後、この印刷版原版の“ルミラー”を
剥離し、Ｘ―Ｙテーブルに装着した半導体レーザ（ＳＬ
Ｄ―３０４ＸＴ、出力１Ｗ、波長８０９ｎｍ、ソニー
（株）製）を用いて、ビーム直径２０μｍ、露光時間１
０μｓでパルス露光を行った。この時、レーザ出力はＬ
Ｄパルス変調駆動装置で任意に変化させ、版面上でのレ
ーザパワーを測定した。

【０１０６】続いて、下記の組成を有する現像液を含浸
させた木綿パッドで擦り、現像を行った。

【０１０７】（ａ）水８０重量部（ｂ）ジエチレングリコールモノ―２―エチルヘキシルエーテル２０重量部この印刷版の画像再現性を５０倍のルーペで評価し、ド
ットが形成される最小レーザパワーを決定し、その結果
から印刷版の感度を測定した。

【０１０８】表１に示したごとく、本発明によると高感
度が得られることが判る。

【０１０９】比較例１，２実施例１において、感熱層を銅のみ、およびチタンのみ
の真空蒸着膜とした以外は、すべて同様にして印刷版を
作製し、評価した。

【０１１０】

【表１】

【０１１１】

【発明の効果】本発明の直描型水なし平版印刷版は、従
来の直描型水なし平版印刷版よりも、感度が向上した。

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】基板上に感熱層、シリコーンゴム層を順次
積層してなる直描型水なし平版印刷版原版において、該
感熱層が炭素の薄膜層であることを特徴とする直描型水
なし平版印刷版原版。
【請求項２】炭素の薄膜層が、非晶質炭素薄膜であるこ
とを特徴とする請求項１に記載の直描型水なし平版印刷
版原版。
【請求項３】感熱層の膜厚が、２０〜１０００オングス
トロームであることを特徴とする請求項１に記載の直描
型水なし平版印刷版原版。
【請求項４】感熱層の光学濃度が０．６〜２．３である
ことを特徴とする請求項１に記載の直描型水なし平版印
刷版原版。
【請求項５】請求項１〜４のいずれかに記載の直描型水
なし平版印刷版原版を、選択的に露光、現像してなる、
水なし平版印刷版。
【請求項６】基板上に、真空蒸着またはスパッタリング
により炭素の薄膜層を形成し、次いでシリコーンゴム層
を形成することを特徴とする、直描型水なし平版印刷版
の製造方法。