JPH093030A - 2−ヒドロキシベンゾニトリルの製造法 - Google Patents
2−ヒドロキシベンゾニトリルの製造法Info
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- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C253/00—Preparation of carboxylic acid nitriles
- C07C253/20—Preparation of carboxylic acid nitriles by dehydration of carboxylic acid amides
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Abstract
ズアミドの脱水による2−ヒドロキシベンゾニトリルの
製造法において、この反応を不均一系触媒作用により実
施することを特徴とする、2−ヒドロキシベンゾニトリ
ルの製造法に関する。殊にこのために、好適には使用前
に乾燥させるリン酸で浸漬されたシリカゲルを触媒とし
て使用する。この反応は、減圧下に温度200〜400
℃で実施するのが有利である。
Description
ロキシベンズアミドの脱水による2−ヒドロキシベンゾ
ニトリルの製造法に関する。
性物質製造用の重要な中間体である。
ヒドロキシベンゾニトリルの製造は、基本的には公知で
ある。しかしながら、脱水剤として、高価な上に化学量
論的量又は化学量論的過剰量で使用されるべき試薬のみ
が記載されている。
例えば窒化塩化リンを用いての100〜600℃での2
−ヒドロキシベンズアミドの転換が記載されている。
245号明細書は、ホスゲンを用いて非極性溶媒中でア
ミドを変換することにより2−ヒドロキシベンゾニトリ
ルを製造する方法を記載している。その際、このニトリ
ルは収率>90%で得られる。ここでホスゲンを化学量
論的過剰量で使用しなければならないことは別として、
工業的方法でのホスゲンの使用は、その極度の毒性によ
り著しい困難と結びついている。
ドロキシベンゾニトリルの製造のために、脱水剤として
のチオリン酸ジアミド(Bull. Soc. Chim. Belg. 86, 4
(1977))、チオニルジイミダゾール(Heterocycles 12,
1285(1979))及びクロルギ酸トリクロロメチル(Tetra
hedron Lett. 2203 (1986))を使用することも公知であ
る。
に化学量論的量又は化学量論的過剰量で使用されなけれ
ばならないので、これらの全ての方法は実験室規模での
製造のためにのみ好適である。
キシ安息香酸メチルエステルから2−ヒドロキシベンゾ
ニトリルへの触媒作用による転換は公知である(Izv. A
kad.Nauk. Kaz. SSR, Ser. Khim. 1987 (2), 62)。そ
こでは触媒として、リン酸ホウ素が使用された。問題な
のは、この方法の場合には、アンモニア及び、メチルエ
ステルに由来するメタノールからのメチルアミンの形成
である。更に、2−ヒドロキシベンゾニトリルは温度>
100℃で液相で不可逆的に、高温で融解するトリアジ
ンに移行する傾向を有する。即ち、形成された2−ヒド
ロキシベンゾニトリルが、高温の反応器中で更に反応し
て大部分がトリアジンになる。従って、生成物収率は悪
い。更に、反応器が短い時間内に目詰まりするので、こ
の操作方法は工業的方法には適さない。
にかつ可能な限り経済的に2−ヒドロキシベンズアミド
から良好な収率で2−ヒドロキシベンゾニトリルを製造
することを可能にする方法を提供するという課題に基づ
いている。
ヒドロキシベンズアミドから2−ヒドロキシベンゾニト
リルへの脱水を特に良好な結果を伴って不均一系触媒作
用により実施できることを見出した。殊にこのために、
リン酸で浸漬されたシリカゲルを触媒として使用するこ
とができる。好適にはリン酸で浸漬されたシリカゲル
を、使用前に乾燥させる。シリカゲルとして、ここでは
例えばカリ−ヒェミー(Kali-Chemie)のAF125が
好適であるが、仕様から相応する他のシリカゲル品質の
ものも使用してよい。脱水反応を200〜400℃の温
度で実施するのが有利である。好適には、この反応を減
圧下で行う。この反応を有利に圧力5〜100ミリバー
ル、特に有利に20〜40ミリバールで実施する場合に
は、高温で融解するトリアジンへの2−ヒドロキシベン
ゾニトリルの二次反応は起こらないことも特に意外であ
った。この反応を、LHSV(Liquid hourly space ve
locity;液空間速度)0.05〜1h-1で、特に0.1〜
0.5h-1で実施するのが有利である。脱水反応からの
粗製流出物は、一般に、反応水と共に90重量%を超え
る2−ヒドロキシベンゾニトリルから成り、純粋な2−
ヒドロキシベンゾニトリルは、蒸留による後処理により
得るのが好適であり、ここでは真空蒸留が有利である。
ロキシベンズアミドの脱水により2−ヒドロキシベンゾ
ニトリルを製造する方法において、その反応を不均一系
触媒作用により実施することを特徴とする2−ヒドロキ
シベンゾニトリルの製造法である。
形又は小球形、砕石形、棒状、管状又はモノリス状、例
えば蜂巣状でも実施されうる。しかしながら、この触媒
を粉末状で使用することも可能である。一般的に、ここ
で使用される触媒は、酸化アルミニウム及び/又は酸化
ケイ素及び/又は酸化チタン及び/又は酸化ジルコニウ
ム及び/又はケイ酸塩を含有してよい。このような酸化
物原料は、その場合に、一般に無機酸、特にリン酸で処
理され、熱により後処理される(例1も参照)。
中で実施するのが有利である。ここで脱水反応を、触
媒、即ちリン酸、有利に5〜85重量%リン酸水溶液で
浸漬されたシリカゲルを、温度200〜500℃、有利
に300〜400℃、特に有利に380〜390℃に差
し当たり加熱するように実施するのが好適である。次い
で2−ヒドロキシベンズアミドを融解された状態で触媒
上に添加することができ、その際にLHSVは0.05
〜1h-1、有利に0.1〜0.5h-1であるべきである。
には減圧下で、有利に圧力5〜100ミリバールで、特
に有利に圧力20〜40ミリバールで実施する。この様
にして得られる粗生成物(粗製流出物とも称される)
は、一般に、蒸留により有利に真空下で精製され、その
際に、この生成物は高温で融解するトリアジンを形成す
る傾向を有するので、この蒸留は2−ヒドロキシベンゾ
ニトリルに大きな熱的負荷をかけずに行うべきである。
ベンゾニトリルを容易でかつ経済的な方法で製造する可
能性を提供する。
annoverのAF125)を30重量%リン酸500gと
共に室温で2時間撹拌する。固体を濾別し、次いで11
0℃で30時間かけて乾燥させる。
図1に示す。2−ヒドロキシベンズアミド80g(0.
58モル)を加熱可能な出発物質受器中で融解させる
(初流分温度:150℃)。圧力30ミリバール及び触
媒温度380〜390℃で、この液状アミドを触媒(触
媒量:100ml)上に配量する(約15ml/時間)。L
HSVは0.15h-1である。実験装置からの粗製流出
物として76gが得られる。
蒸留装置中で行なう:
ゾニトリルから成る。従って、2−ヒドロキシベンゾニ
トリルの収率は87%である。
g(1.53モル)を加熱可能な受器中で融解させる
(初流分温度:150℃)。圧力20ミリバール及び触
媒温度380〜400℃で、この液状アミドを触媒(触
媒量:100ml、触媒製造は例1を参照)上に配量する
(約20ml/時間)。LHSVは0.2h-1である。触
媒炉の粗製流出物として202gが得られる。
ゾニトリルから成る。従って、2−ヒドロキシベンゾニ
トリルの収率は87%である。
g(1.09モル)を加熱可能な受器中で融解させる
(初流分温度:150℃)。圧力30ミリバール及び触
媒温度380〜390℃でこの液状アミドを触媒(触媒
量:100ml、触媒製造は例1を参照)上に配量する
(約10ml/時間)。LHSVは0.1h-1である。粗
製流出物として145gが得られる。
ゾニトリルから成る。従って、2−ヒドロキシベンゾニ
トリルの収率は85%である。
Claims (10)
- 【請求項1】 気相での2−ヒドロキシベンズアミドの
脱水による2−ヒドロキシベンゾニトリルの製造法にお
いて、この反応を不均一系触媒作用により実施すること
を特徴とする、2−ヒドロキシベンゾニトリルの製造
法。 - 【請求項2】 触媒としてリン酸処理されたシリカゲル
を使用する、請求項1に記載の方法。 - 【請求項3】 リン酸で浸漬されたシリカゲルを使用前
に乾燥させる、請求項1又は2に記載の方法。 - 【請求項4】 反応を温度200〜400℃で実施す
る、請求項1から3のいずれかに記載の方法。 - 【請求項5】 反応を減圧下で実施する、請求項1から
4のいずれかに記載の方法。 - 【請求項6】 反応を圧力5〜100ミリバールで実施
する、請求項5に記載の方法。 - 【請求項7】 反応を圧力20〜40ミリバールで実施
する、請求項6に記載の方法。 - 【請求項8】 反応を液空間速度0.05〜1h-1で実
施する、請求項1から7のいずれかに記載の方法。 - 【請求項9】 反応を液空間速度0.1〜0.5h-1で実
施する、請求項8に記載の方法。 - 【請求項10】 脱水の粗製流出物から蒸留による後処
理により純粋な2−ヒドロキシベンゾニトリルを得る、
請求項1から9のいずれかに記載の方法。
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