JPH09227732A

JPH09227732A - プロピレン系ポリマー組成物および成形体

Info

Publication number: JPH09227732A
Application number: JP8036960A
Authority: JP
Inventors: Shinya Matsunaga; 松永　　慎也; Junji Tan; 淳二丹
Original assignee: Mitsui Petrochemical Industries Ltd
Current assignee: Mitsui Petrochemical Industries Ltd
Priority date: 1996-02-23
Filing date: 1996-02-23
Publication date: 1997-09-02

Abstract

(57)【要約】【課題】メタロセン系触媒によって得られるプロピレ
ン系ポリマーの電気的特性、物理的特性および流動特性
を改善したプロピレン系ポリマー組成物、ならびにそれ
からなる成形体を提供する。【解決手段】メタロセン系触媒を用いて得られるプロ
ピレン系ポリマー（Ａ）に、静電防止剤（Ｂ）および／
または滑剤（Ｃ）を配合したプロピレン系ポリマー組成
物からなる成形体。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、ジルコニウム、ハ
フニウム、チタン等の遷移金属を含むメタロセン系触媒
を用いて重合によって得られるポリオレフィンとくにプ
ロピレン系ポリマーの電気的特性、物理的特性および流
動特性の改善された組成物、ならびにこの組成物から得
られる成形体に関する。

【０００２】

【従来の技術】ジルコニウム、ハフニウム、チタン等の
遷移金属を含むメタロセン系触媒を用いて重合により得
られるポリオレフィンとくにプロピレン系ポリマーは、
触媒がシングルサイトであることからユニークな特性を
有し、各メタロセン系触媒に応じて、組成分布や分子量
分布が比較的狭いプロピレン系ポリマーなど、狙った特
性のポリオレフィンとくにプロピレン系ポリマーが得ら
れる。このようなメタロセン系触媒を用いて得られるポ
リオレフィンとくにプロピレン系ポリマーはその特性に
応じて種々の用途に用いられるが、その用途によっては
さらに電気的特性、物理的特性および流動特性に優れた
ものが望まれている。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、メタ
ロセン系触媒によって得られるポリオレフィンとくにプ
ロピレン系ポリマーの電気的特性、物理的特性および流
動特性を改善したポリオレフィンとくにプロピレン系ポ
リマー組成物、ならびにこの組成物からなる成形体を提
供することである。

【０００４】

【課題を解決するための手段】本発明は、次のポリオレ
フィンとくにプロピレン系ポリマー組成物、およびこの
組成物からなる成形体である。（１）（Ａ）メタロセン系触媒を用いて得られるポリオ
レフィンとくにプロピレン系ポリマーに、（Ｂ）静電防
止剤、および／または（Ｃ）滑剤を配合してなることを
特徴とするポリオレフィンとくにプロピレン系ポリマー
組成物。（２）静電防止剤（Ｂ）および／または滑剤（Ｃ）を、
プロピレン系ポリマー（Ａ）１００重量部に対してそれ
ぞれ０．００５〜２重量部配合してなることを特徴とす
る上記（１）記載のプロピレン系ポリマー組成物。（３）上記（１）または（２）記載の組成物からなる成
形体。

【０００５】本発明で使用されるポリオレフィンとくに
プロピレン系ポリマー（Ａ）は、シングルサイト触媒で
あるメタロセン系触媒を用いて炭素数３以上、とくにプ
ロピレンを主モノマーとし、必要に応じて他のα−オレ
フィンあるいはさらにジエン、トリエン等の多不飽和オ
レフィンを重合して得られるα−オレフィンとくにプロ
ピレンの単独重合体またはプロピレンを主モノマーとす
る共重合体である。プロピレン系ポリマー（Ａ）中にお
けるプロピレンから誘導される構造単位は５０〜１００
モル％、好ましくは８０〜１００モル％、他の共重合モ
ノマーから誘導される構造単位は０〜５０モル％、好ま
しくは０〜２０モル％であるのが望ましい。プロピレン
系ポリマー（Ａ）の性状は特に限定されず、樹脂状、ワ
ックス状、液状等いずれも使用できる。

【０００６】上記α−オレフィンとしては、エチレン、
１−ブテン、１−ペンテン、３−メチル−１−ブテン、
４−メチル−１−ペンテン、１−ヘキセン、１−オクテ
ン、１−デセン、１−ドデセン、１−テトラデセンなど
が例示できる。また上記多不飽和オレフィンとしては、
１，３−ブタジエン、１，３−ペンタジエン、１，４−
ペンタジエン、１，３−ヘキサジエン、１，４−ヘキサ
ジエン、１，５−ヘキサジエン、４−メチル−１，４−
ヘキサジエン、５−メチル−１，４−ヘキサジエン、６
−メチル−１，６−オクタジエン、７−メチル−１，６
−オクタジエン、６−エチル−１，６−オクタジエン、
６−プロピル−１，６−オクタジエン、６−ブチル−
１，６−オクタジエン、６−メチル−１，６−ノナジエ
ン、７−メチル−１，６−ノナジエン、６−エチル−
１，６−ノナジエン、７−エチル−１，６−ノナジエ
ン、６−メチル−１，６−デカジエン、７−メチル−
１，６−デカジエン、６−メチル−１，６−ウンデカジ
エン、１，７−オクタジエン、１，９−デカジエン、イ
ソプレン、ブタジエン、エチリデンノルボルネン、ビニ
ルノルボルネンおよびジシクロペンタジエンなどの炭素
数４〜２０のジエン化合物等があげられる。

【０００７】プロピレン系ポリマー（Ａ）の具体的なも
のとしては、プロピレン単独重合体、プロピレン・エチ
レン共重合体、プロピレン・ブテン共重合体、プロピレ
ン・ブテン・エチレン共重合体、プロピレン・ヘキセン
共重合体、プロピレン・３−メチル−１−ブテン共重合
体、プロピレン・４−メチル−１−ペンテン共重合体な
どがあげられる。共重合体の場合、ランダム共重合体で
あってもブロック共重合体であってもよい。上記プロピ
レン系ポリマー（Ａ）は１種単独で使用することもでき
るし、２種以上を併用することもできる。

【０００８】本発明においてプロピレン系ポリマー
（Ａ）として使用されるプロピレンの単独重合体として
は、密度が０．８８〜０．９２ｇ／ｃｍ³、極限粘度
［η］が０．５〜１０ｄｌ／ｇ、結晶化度（Ｘ線によ
る）が４０〜８０％、分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）が１．
５〜２０のものが例示される。

【０００９】本発明においてプロピレン系ポリマー
（Ａ）として使用されるプロピレンを主体モノマーとす
るブロック共重合体としては、コモノマー含量が０．５
〜２０モル％、密度が０．８６〜０．９１ｇ／ｃｍ³、
極限粘度［η］が０．５〜１０ｄｌ／ｇ、結晶化度（Ｘ
線による）が３０〜７０％、分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）
が１．５〜２０のものが例示される。

【００１０】本発明においてプロピレン系ポリマー
（Ａ）として使用されるプロピレンを主体モノマーとす
るランダム共重合体としては、コモノマー含量が０．５
〜２０モル％、密度が０．８６〜０．９１ｇ／ｃｍ³、
極限粘度［η］が０．５〜１０ｄｌ／ｇ、結晶化度（Ｘ
線による）が３０〜７０％、分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）
が１．５〜２０のものが例示される。

【００１１】本発明においてプロピレン系ポリマー
（Ａ）として使用されるプロピレンを主体モノマーとす
るプロピレン系エラストマーとしては、コモノマー含量
が１０〜５０モル％、密度が０．８５〜０．９０ｇ／ｃ
ｍ³、極限粘度［η］が０．５〜１０ｄｌ／ｇ、結晶化
度（Ｘ線による）が０〜６０％、分子量分布（Ｍｗ／Ｍ
ｎ）が１．５〜２０のものが例示される。

【００１２】本発明で用いるポリオレフィンとくにプロ
ピレン系ポリマー（Ａ）は、メタロセン系触媒を用い
て、多段式、回分式、半回分式、連続式のいずれの重合
反応によっても製造することができるが、実質的に液状
媒体が存在しない状態での気相重合法、オレフィン自体
を液状媒体として用いるバルク重合法、重合に不活性な
炭化水素系液状媒体を用いるスラリー重合法などの方法
により製造するのが好ましい。またメタロセン系触媒
は、必要に応じて、触媒中の成分の少なくとも１成分を
ＳｉＯ₂、Ａｌ₂Ｏ₃、ＭｇＯ、ＴｉＯ₂などの無機担体に
担持させて用いることも行われる。また予め、プロピレ
ンモノマーによる予備重合を行った後、これらの重合を
行うこともある。

【００１３】重合圧力は常圧から５０ｋｇ／ｃｍ²（ゲ
ージ圧）、重合温度は常温から１５０℃である。多段式
の場合、メタロセン系触媒の存在下に、第１の重合工程
において、プロピレンの単独重合を行うか、あるいはプ
ロピレンとエチレンおよび／または炭素数４〜１０のオ
レフィンとの共重合を行って結晶性重合体（結晶性ポリ
プロピレン部）を製造し、第２の重合工程において、エ
チレンおよび炭素数３〜２０のオレフィンから選ばれる
２種以上の単量体の共重合を行い、低結晶性共重合体
（低結晶性共重合体部）または非晶性共重合体（非晶性
共重合体部）を製造するのが好ましい。

【００１４】ポリオレフィンとくにプロピレン系ポリマ
ー（Ａ）の製造に用いられるシングルサイト触媒として
のメタロセン系触媒としては、従来から使用されている
公知のメタロセン系触媒が制限なく使用でき、例えばチ
タン、ジルコニウム、ハフニウムなどの遷移金属を有す
るメタロセン化合物（ａ）と有機アルミニウムオキシ化
合物（ｂ）とからなる触媒、およびメタロセン化合物
（ａ）とイオン化イオン性化合物（ｃ）とからなる触媒
等があげられる。

【００１５】上記メタロセン化合物（ａ）の具体的なも
のとしては、下記一般式（１）で表される遷移金属化合
物などがあげられる。ＭＬ_x …（１）

【００１６】一般式（１）中、Ｍは周期律表第IVＢ族か
ら選ばれる遷移金属原子であり、具体的にジルコニウ
ム、チタンまたはハフニウムであり、ｘは遷移金属の原
子価である。

【００１７】一般式（１）中、Ｌは遷移金属に配位する
配位子であり、これらのうち少なくとも１個の配位子Ｌ
はシクロペンタジエニル骨格を有する配位子であり、こ
のシクロペンタジエニル骨格を有する配位子は置換基を
有していてもよい。シクロペンタジエニル骨格を有する
配位子としては、例えばシクロペンタジエニル基、メチ
ルシクロペンタジエニル基、エチルシクロペンタジエニ
ル基、メチルプロピルシクロペンタジエニル基、メチル
ブチルシクロペンタジエニル基、メチルヘキシルシクロ
ペンタジエニル基、メチルベンジルシクロペンタジエニ
ル基などのアルキルまたはシクロアルキル置換シクロペ
ンタジエニル基、さらにインデニル基、４，５，６，７
−テトラヒドロインデニル基、フルオレニル基などがあ
げられる。これらの基は、ハロゲン原子、トリアルキル
シリル基などで置換されていてもよい。

【００１８】一般式（１）で示される化合物が配位子Ｌ
としてシクロペンタジエニル骨格を有する基を２個以上
有する場合には、そのうち２個のシクロペンタジエニル
骨格を有する基同士は、エチレン、プロピレンなどのア
ルキレン基、イソプロピリデン、ジフェニルメチレンな
どの置換アルキレン基、シリレン基またはジメチルシリ
レン基、ジフェニルシリレン基、メチルフェニルシリレ
ン基などの置換シリレン基などを介して結合されている
ことが望ましい。

【００１９】シクロペンタジエニル骨格を有する配位子
以外のＬとしては、炭素数１〜１２の炭化水素基、アル
コキシ基、アリーロキシ基、スルホン酸含有基（−ＳＯ
₃Ｒ¹）、ハロゲン原子または水素原子（ここで、Ｒ¹は
アルキル基、ハロゲン原子で置換されたアルキル基、ア
リール基またはハロゲン原子もしくはアルキル基で置換
されたアリール基である。）などがあげられる。

【００２０】一般式（１）で表されるメタロセン化合物
（ａ）は、例えば遷移金属の原子価が４である場合、よ
り具体的には下記一般式（２）で表される。Ｒ² _kＲ³ _lＲ⁴ _mＲ⁵ _nＭ …（２）

【００２１】一般式（２）中、Ｍは一般式（１）と同様
の遷移金属であり、Ｒ²はシクロペンタジエニル骨格を
有する基（配位子）であり、Ｒ³、Ｒ⁴およびＲ⁵は、そ
れぞれ独立にシクロペンタジエニル骨格を有する基また
は一般式（１）中のシクロペンタジエニル骨格を有する
配位子以外のＬと同様である。ｋは１以上の整数であ
り、ｋ＋ｌ＋ｍ＋ｎ＝４である。

【００２２】本発明においては、またメタロセン化合物
（ａ）として下記一般式（３）で表される遷移金属化合
物を用いることができる。

【化１】

【００２３】一般式（３）中、Ｍは周期律表第IVＢ族の
遷移金属原子を示し、好ましい遷移金属原子の具体的な
ものはチタン、ジルコニウム、ハフニウムである。

【００２４】一般式（３）中、Ｒ¹およびＲ²はそれぞれ
独立に水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜２０の炭化
水素基、炭素数１〜２０のハロゲン化炭化水素基、ケイ
素含有基、酸素含有基、イオウ含有基、窒素含有基また
はリン含有基を示し、具体的には、フッ素、塩素、臭
素、ヨウ素などのハロゲン原子；メチル、エチル、プロ
ピル、ブチル、ヘキシル、シクロヘキシル、オクチル、
ノニル、ドデシル、アイコシル、ノルボルニル、アダマ
ンチルなどのアルキル基、ビニル、プロぺニル、シクロ
ヘキセニルなどのアルケニル基、ベンジル、フェニルエ
チル、フェニルプロピルなどのアリールアルキル基、フ
ェニル、トリル、ジメチルフェニル、トリメチルフェニ
ル、エチルフェニル、プロピルフェニル、ビフェニル、
ナフチル、メチルナフチル、アントラセニル、フェナン
トリルなどのアリール基等の炭素数１〜２０の炭化水素
基；前記炭化水素基にハロゲン原子が置換したハロゲン
化炭化水素基；メチルシリル、フェニルシリルなどのモ
ノ炭化水素置換シリル、ジメチルシリル、ジフェニルシ
リルなどのジ炭化水素置換シリル、トリメチルシリル、
トリエチルシリル、トリプロピルシリル、トリシクロヘ
キシルシリル、トリフェニルシリル、ジメチルフェニル
シリル、メチルジフェニルシリル、トリトリルシリル、
トリナフチルシリルなどのトリ炭化水素置換シリル、ト
リメチルシリルエーテルなどの炭化水素置換シリルのシ
リルエーテル、トリメチルシリルメチルなどのケイ素置
換アルキル基、トリメチルシリルフェニルなどのケイ素
置換アリール基、などのケイ素含有基；ヒドロオキシ
基、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、ブトキシなどの
アルコキシ基、フェノキシ、メチルフェノキシ、ジメチ
ルフェノキシ、ナフトキシなどのアリローキシ基、フェ
ニルメトキシ、フェニルエトキシなどのアリールアルコ
キシ基などの酸素含有基；前記酸素含有基の酸素がイオ
ウに置換した置換基などのイオウ含有基；アミノ基、メ
チルアミノ、ジメチルアミノ、ジエチルアミノ、ジプロ
ピルアミノ、ジブチルアミノ、ジシクロヘキシルアミノ
などのアルキルアミノ基、フェニルアミノ、ジフェニル
アミノ、ジトリルアミノ、ジナフチルアミノ、メチルフ
ェニルアミノなどのアリールアミノ基またはアルキルア
リールアミノ基などの窒素含有基；ジメチルフォスフィ
ノ、ジフェニルフォスフィノなどのフォスフィノ基など
のリン含有基等である。

【００２５】一般式（３）において、Ｒ¹は炭化水素基
であることが好ましく、特にメチル、エチル、プロピル
の炭素数１〜３の炭化水素基であることが好ましい。ま
たＲ ²は水素原子または炭化水素基が好ましく、特に水
素原子またはメチル、エチルもしくはプロピルの炭素数
１〜３の炭化水素基であることが好ましい。

【００２６】一般式（３）中、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵およびＲ⁶
はそれぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜
２０の炭化水素基、炭素数１〜２０のハロゲン化炭化水
素基を示し、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵およびＲ⁶のうち、Ｒ³を含
む２個の基がアルキル基であることが好ましく、Ｒ³と
Ｒ⁵、またはＲ³とＲ⁶がアルキル基であることが好まし
い。このアルキル基は、２級または３級アルキル基であ
ることが好ましい。また、このアルキル基はハロゲン原
子、ケイ素含有基等で置換されていてもよく、ハロゲン
原子、ケイ素含有基としては前記Ｒ¹、Ｒ²で例示した置
換基等があげられる。

【００２７】一般式（３）において、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵お
よびＲ⁶で示される基のうち、アルキル基以外の基は水
素原子であることが好ましい。炭素数１〜２０の炭化水
素基としては、メチル、エチル、ｎ−プロピル、ｉ−プ
ロピル、ｎ−ブチル、ｉ−ブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔ
ｅｒｔ−ブチル、ペンチル、ヘキシル、シクロヘキシ
ル、ヘプチル、オクチル、ノニル、ドデシル、アイコシ
ル、ノルボルニル、アダマンチルなどの鎖状アルキル基
および環状アルキル基；ベンジル、フェニルエチル、フ
ェニルプロピル、トリルメチルなどのアリールアルキル
基などがあげられ、２重結合、３重結合を含んでいても
よい。

【００２８】また一般式（３）中、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵およ
びＲ⁶から選ばれる２種の基が互いに結合して芳香族環
以外の単環あるいは多環を形成してもよい。

【００２９】一般式（３）中、Ｘ¹およびＸ²はそれぞれ
独立に水素原子、ハロゲン、炭素数１〜２０の炭化水素
基、炭素数１〜２０のハロゲン化炭化水素基、酸素含有
基またはイオウ含有基を示し、具体的には前記Ｒ¹およ
びＲ²と同様のハロゲン原子、炭素数１〜２０の炭化水
素基、炭素数１〜２０のハロゲン化炭化水素基、酸素含
有基等が例示できる。

【００３０】イオウ含有基としては、前記Ｒ¹、Ｒ²と同
様の基、およびメチルスルホネート、トリフルオロメタ
ンスルフォネート、フェニルスルフォネート、ベンジル
スルフォネート、ｐ−トルエンスルフォネート、トリメ
チルベンゼンスルフォネート、トリイソブチルベンゼン
スルフォネート、ｐ−クロルベンゼンスルフォネート、
ペンタフルオロベンゼンスルフォネートなどのスルフォ
ネート基、メチルスルフィネート、フェニルスルフィネ
ート、ベンジルスルフィネート、ｐ−トルエンスルフィ
ネート、トリメチルベンゼンスルフィネート、ペンタフ
ルオロベンゼンスルフィネートなどのスルフィネート基
等が例示できる。

【００３１】一般式（３）中、Ｙは炭素数１〜２０の２
価の炭化水素基、炭素数１〜２０の２価のハロゲン化炭
化水素基、２価のケイ素含有基、２価のゲルマニウム含
有基、２価のスズ含有基、−Ｏ−、−ＣＯ−、−Ｓ−、
−ＳＯ−、−ＳＯ₂−、−ＮＲ⁷−、−Ｐ(Ｒ⁷)−、−Ｐ
(Ｏ)(Ｒ⁷)−、−ＢＲ⁷−またはＡｌＲ⁷−［ただし、Ｒ⁷
は水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜２０の炭化水素
基または炭素数１〜２０のハロゲン化炭化水素基］を示
し、具体的には、メチレン、ジメチルメチレン、１，２
−エチレン、ジメチル−１，２−エチレン、１，３−ト
リメチレン、１，４−テトラメチレン、１，２−シクロ
ヘキシレン、１，４−ジクロヘキシレンなどのアルキレ
ン基、ジフェニルメチレン、ジフェニル−１，２−エチ
レンなどのアリールアルキレン基などの炭素数１〜２０
の２価の炭化水素基；クロロメチレンなどの上記炭素数
１〜２０の２価の炭化水素基をハロゲン化したハロゲン
化炭化水素基；メチルシリレン、ジメチルシリレン、ジ
エチルシリレン、ジ（ｎ−プロピル）シリレン、ジ（ｉ
−プロピル）シリレン、ジ（シクロヘキシル）シリレ
ン、メチルフェニルシリレン、ジフェニルシリレン、ジ
（ｐ−トリル）シリレン、ジ（ｐ−クロロフェニル）シ
リレンなどのアルキルシリレン、アルキルアリールシリ
レン、アリールシリレン基、テトラメチル−１，２−ジ
シリレン、テトラフェニル−１，２−ジシリレンなどの
アルキルジシリレン、アルキルアリールジシリレン、ア
リールジシリレン基などの２価のケイ素含有基；上記２
価のケイ素含有基のケイ素をゲルマニウムに置換した２
価のゲルマニウム含有基；上記２価のケイ素含有基のケ
イ素をスズに置換した２価のスズ含有基置換基等であ
り、Ｒ⁷は、前記Ｒ¹、Ｒ²と同様のハロゲン原子、炭素
数１〜２０の炭化水素基、炭素数１〜２０のハロゲン化
炭化水素基等である。

【００３２】このうち２価のケイ素含有基、２価のゲル
マニウム含有基、２価のスズ含有基であることが好まし
く、さらに２価のケイ素含有基であることが好ましく、
このうち特にアルキルシリレン、アルキルアリールシリ
レン、アリールシリレンであることが好ましい。

【００３３】また一般式（３）において、Ｒ¹〜Ｒ⁶の組
合せが、Ｒ¹が炭化水素基、Ｒ³が炭素数６〜１６のアリ
ール基、Ｒ²、Ｒ⁴、Ｒ⁵およびＲ⁶が水素原子であるのも
好ましい。この場合、Ｘ¹、Ｘ²としてはハロゲン原子、
炭素数１〜２０の炭化水素基であることが好ましい。

【００３４】上記Ｒ¹の炭化水素基としては、メチル、
エチル、プロピル、ブチルの炭素数１〜４の炭化水素基
であることが好ましい。また上記Ｒ³の炭素数６〜１６
のアリール基としては、フェニル、α−ナフチル、β−
ナフチル、アントラセニル、フェナントリル、ピレニ
ル、アセナフチル、フェナレニル（ペリナフテニル）、
アセアントリレニルなどである。これらのうちフェニ
ル、ナフチルであることが好ましい。これらのアリール
基は、前記Ｒ ¹と同様のハロゲン原子、炭素数１〜２０
の炭化水素基、炭素数１〜２０のハロゲン化炭化水素基
等で置換されていてもよい。

【００３５】上記Ｒ¹〜Ｒ⁶の組合せにおける具体的なメ
タロセン化合物（ａ）としては、ｒａｃ−ジメチルシリ
レン−ビス（４−フェニル−１−インデニル）ジルコニ
ウムジクロリド、ｒａｃ−ジメチルシリレン−ビス（２
−メチル−４−フェニル−１−インデニル）ジルコニウ
ムジクロリド、ｒａｃ−ジメチルシリレン−ビス（２−
メチル−４−（α−ナフチル）−１−インデニル）ジル
コニウムジクロリド、ｒａｃ−ジメチルシリレン−ビス
（２−メチル−４−（β−ナフチル）−１−インデニ
ル）ジルコニウムジクロリド、ｒａｃ−ジメチルシリレ
ン−ビス（２−メチル−４−（１−アントラセニル）−
１−インデニル）ジルコニウムジクロリドなどがあげら
れる。

【００３６】本発明では、上記のようなメタロセン化合
物（ａ）は１種単独で用いることもできるし、２種以上
を組合せて用いることもできる。また上記のようなメタ
ロセン化合物（ａ）は、炭化水素あるいはハロゲン化炭
化水素に希釈して用いてもよい。

【００３７】また上記のようなメタロセン化合物（ａ）
は、粒子状担体化合物と接触させて用いることもでき
る。上記担体化合物としては、ＳｉＯ₂、Ａｌ₂Ｏ₃、Ｍ
ｇＯなどの無機担体化合物、ポリエチレン、ポリプロピ
レン、スチレン−ジビニルベンゼン共重合体などの樹脂
を用いることができる。これらの担体化合物は１種単独
で用いることもできるし、２種以上を組合せて用いるこ
ともできる。

【００３８】本発明において、前記メタロセン化合物
（ａ）とともに用いられる有機アルミニウムオキシ化合
物（ｂ）は、従来公知のアルミノオキサンであり、具体
的には下記一般式（４）または（５）で表わされるアル
ミニウム化合物である。

【化２】（式中、Ｒはメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル
基などの炭化水素基であり、好ましくはメチル基、エチ
ル基、特に好ましくはメチル基であり、ｍは２以上、好
ましくは５〜４０の整数である。）

【００３９】ここで、このアルミノオキサンは式（ＯＡ
１(Ｒ¹)）で表わされるアルキルオキシアルミニウム単
位および式（ＯＡ１(Ｒ²)）で表わされるアルキルオキ
シアルミニウム単位［ここで、Ｒ¹およびＲ²はＲと同様
の炭化水素基を例示することができ、Ｒ¹およびＲ²は相
異なる基を表わす］からなる混合アルキルオキシアルミ
ニウム単位から形成されていてもよい。

【００４０】また本発明で用いられる有機アルミニウム
オキシ化合物（ｂ）は、少量のアルミニウム以外の金属
の有機化合物成分を含有していてもよい。有機アルミニ
ウムオキシ化合物（ｂ）は１種単独で用いてもよいし、
２種以上を併用することもできる。

【００４１】本発明において、前記メタロセン化合物
（ａ）とともに用いられるイオン化イオン性化合物
（ｃ）としては、ルイス酸、イオン性化合物、ボラン化
合物およびカルボラン化合物などを例示することができ
る。上記ルイス酸としては、ＢＲ₃（Ｒは、フッ素、メ
チル基、トリフルオロメチル基などの置換基を有してい
てもよいフェニル基またはフッ素である。）で示される
化合物等があげられ、例えばトリフルオロボロン、トリ
フェニルボロン、トリス（４−フルオロフェニル）ボロ
ン、トリス（３，５−ジフルオロフェニル）ボロン、ト
リス（４−フルオロメチルフェニル）ボロン、トリス
（ペンタフルオロフェニル）ボロン、トリス（ｐ−トリ
ル）ボロン、トリス（ｏ−トリル）ボロン、トリス
（３，５−ジメチルフェニル）ボロンなどがあげられ
る。

【００４２】上記イオン性化合物としては、トリアルキ
ル置換アンモニウム塩、Ｎ，Ｎ−ジアルキルアニリニウ
ム塩、ジアルキルアンモニウム塩、トリアリールホスフ
ォニウム塩、トリフェニルカルベニウムテトラキス（ペ
ンタフルオロフェニル）ボレート、Ｎ，Ｎ−ジメチルア
ニリニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレ
ート、フェロセニウムテトラ（ペンタフルオロフェニ
ル）ボレートなどをあげることができる。

【００４３】上記ボラン化合物としては、デカボラン
（１４）、ビス〔トリ（ｎ−ブチル）アンモニウム〕ノ
ナボレートなどをあげることができる。イオン化イオン
性化合物（ｃ）は１種単独で用いてもよいし、２種以上
を併用してもよい。

【００４４】以上のように、本発明はポリオレフィンに
適用できる。中でもプロピレン系ポリマーは好適な本発
明の態様であり、以下に説明する。

【００４５】本発明のプロピレン系ポリマー組成物は、
前記プロピレン系ポリマー（Ａ）に、静電防止剤（Ｂ）
および／または滑剤（Ｃ）を配合してなる組成物であ
る。以下、本発明で用いられる静電防止剤（Ｂ）、滑剤
（Ｃ）について順次説明する。

【００４６】《静電防止剤（Ｂ）》本発明で用いられる
静電防止剤（Ｂ）としては、従来から静電防止剤または
帯電防止剤として使用されているものが特に限定される
ことなく使用でき、例えばアニオン性界面活性剤、カチ
オン性界面活性剤、非イオン性界面活性剤、両性界面活
性剤などがあげられる。

【００４７】静電防止剤（Ｂ）として使用する上記アニ
オン性界面活性剤としては、脂肪酸またはロジン酸セッ
ケン、Ｎ−アシルカルボン酸塩、エーテルカルボン酸
塩、脂肪酸アミン塩等のカルボン酸塩；スルホコハク酸
塩、エステルスルホン酸塩、Ｎ−アシルスルホン酸塩等
のスルホン酸塩；硫酸化油、硫酸エステル塩、硫酸アル
キル塩、硫酸アルキルポリオキシエチレン塩、硫酸エー
テル塩、硫酸アミド塩等の硫酸エステル塩；リン酸アル
キル塩、リン酸アルキルポリオキシエチレン塩、リン酸
エーテル塩、リン酸アミド塩等のリン酸エステル塩など
があげられる。

【００４８】静電防止剤（Ｂ）として使用する前記カチ
オン性界面活性剤としては、アルキルアミン塩等のアミ
ン塩；アルキルトリメチルアンモニウムクロリド、アル
キルベンジルジメチルアンモニウムクロリド、アルキル
ジヒドロキシエチルメチルアンモニウムクロリド、ジア
ルキルジメチルアンモニウムクロリド、テトラアルキル
アンモニウム塩、Ｎ，Ｎ−ジ（ポリオキシエチレン）ジ
アルキルアンモニウム塩、Ｎ−アルキルアルカンアミド
アンモニウムの塩等の第４級アンモニウム塩；１−ヒド
ロキシエチル−２−アルキル−２−イミダゾリン、１−
ヒドロキシエチル−１−アルキル−２−アルキル−２−
イミダゾリン等のアルキルイミダゾリン誘導体；イミダ
ゾリニウム塩、ピリジニウム塩、イソキノリニウム塩な
どがあげられる。

【００４９】静電防止剤（Ｂ）として使用する前記非イ
オン性界面活性剤としては、アルキルポリオキシエチレ
ンエーテル、ｐ−アルキルフェニルポリオキシエチレン
エーテル等のエーテル形；脂肪酸ソルビタンポリオキシ
エチレンエーテル、脂肪酸ソルビトールポリオキシエチ
レンエーテル、脂肪酸グリセリンポリオキシエチレンエ
ーテル等のエーテルエステル形；脂肪酸ポリオキシエチ
レンエステル、モノグリセリド、ジグリセリド、ソルビ
タンエステル、ショ糖エステル、２価アルコールエステ
ル、ホウ酸エステル等のエステル形；ジアルコールアル
キルアミン、ジアルコールアルキルアミンエステル、脂
肪酸アルカノールアミド、Ｎ，Ｎ−ジ（ポリオキシエチ
レン）アルカンアミド、アルカノールアミンエステル、
Ｎ，Ｎ−ジ（ポリオキシエチレン）アルカンアミン、ア
ミンオキシド、アルキルポリエチレンイミン等の含窒素
形などがあげられる。

【００５０】静電防止剤（Ｂ）として使用する前記両性
界面活性剤としては、モノアミノカルボン酸、ポリアミ
ノカルボン酸等のアミノ酸形；Ｎ−アルキルアミノプロ
ピオン酸塩、Ｎ，Ｎ−ジ（カルボキシエチル）アルキル
アミン塩等のＮ−アルキル−β−アラニン形；Ｎ−アル
キルベタイン、Ｎ−アルキルアミドベタイン、Ｎ−アル
キルスルホベタイン、Ｎ，Ｎ−ジ（ポリオキシエチレ
ン）アルキルベタイン、イミダゾリニウムベタイン等の
ベタイン形；１−カルボキシメチル−１−ヒドロキシ−
１−ヒドロキシエチル−２−アルキル−２−イミダゾリ
ン、１−スルホエチル−２−アルキル−２−イミダゾリ
ン等のアルキルイミダゾリン誘導体などがあげられる。

【００５１】上記界面活性剤としては非イオン性界面活
性剤、両性界面活性剤が好ましく、中でもモノグリセリ
ド、ジグリセリド、ホウ酸エステル、ジアルコールアル
キルアミン、ジアルコールアルキルアミンエステル、ア
ミド等のエステル形または含窒素形の非イオン性界面活
性剤；ベタイン形の両性界面活性剤が好ましい。

【００５２】静電防止剤（Ｂ）としては市販品を使用す
ることもでき、例えばエレクトロストリッパーＴＳ５
（花王（株）製、商標、グリセリンモノステアレー
ト）、エレクトロストリッパーＥＡ（花王（株）製、商
標、ラウリルジエタノールアミン）、デノン３３１Ｐ
（丸菱油化（株）製、商標、ステアリルジエタノールア
ミンモノステアレート）、エレクトロストリッパーＥＡ
−７（花王（株）製、商標、ポリオキシエチレンラウリ
ルアミンカプリルエステル）、レジスタットＰＥ−１３
９（第一工業製薬（株）製、商標、ステアリン酸モノ＆
ジグリセリドホウ酸エステル）、ケミスタット４７００
（三洋化成（株）製、商標、アルキルジメチルベタイ
ン）などがあげられる。

【００５３】これらの静電防止剤（Ｂ）は、単独である
いは組合せて用いることができる。静電防止剤（Ｂ）の
配合量は、プロピレン系ポリマー（Ａ）１００重量部に
対して０．０５〜２重量部、好ましくは０．１〜１重量
部とするのが望ましい。

【００５４】静電防止剤（Ｂ）の配合量が、プロピレン
系ポリマー（Ａ）１００重量部に対して上記のような範
囲にあると、表面固有抵抗を減らして帯電による障害を
防止することができ、電気的特性に優れた組成物が得ら
れ、しかもプロピレン系ポリマー（Ａ）の性質、例えば
引張り強度などが低下することもない。

【００５５】《滑剤（Ｃ）》本発明で用いられる滑剤
（Ｃ）としては、従来から樹脂の滑剤として使用されて
いるものが特に限定されることなく使用できる。滑剤
（Ｃ）の具体的なものとしては、以下のような化合物が
用いられる。

【００５６】キャンデリラワックス、カルナバワック
ス、ライスワックス、木ロウ、ホホバ油等の天然植物系
ワックス；ミツロウ、ラノリン、鯨ロウ等の天然動物系
ワックス；モンタンワックス、オゾケライト、セレシン
等の天然鉱物系ワックス；パラフィンワックス、マイク
ロクリスタリンワックス、ペトロラクタム等の天然石油
系ワックス；トロプシュワックス、ポリエチレンワック
ス等の合成炭化水素；モンタンワックス誘導体、パラフ
ィンワックス誘導体、マイクロクリスタリンワックス誘
導体等の合成変性ワックス；硬化ヒマシ油、硬化ヒマシ
油誘導体、硬化ナタネ油、硬化大豆油等の合成水素添加
ワックス；ステアリン酸Ｃａ、ステアリン酸Ｂａ、ステ
アリン酸Ｚｎ、ステアリン酸Ｌｉ等の合成金属石けん；
ステアリン酸、１２−ヒドロキシステアリン酸等の合成
高級樹脂肪酸；オレイン酸アミド、ステアリン酸アミ
ド、エルカ酸アミド、エチレンビスステアリン酸アミ
ド、ＥＢＳ等の合成脂肪酸アミド；ブチルステアレー
ト、長鎖脂肪酸エステル等の合成脂肪酸エステル；セタ
ノール、ステアリルアルコール等の合成高級アルコール
など。

【００５７】滑剤（Ｃ）としては市販品を使用すること
もでき、例えばアーモスリップＣＰ（ライオン（株）
製、商標）、ニュートロン２（日本精化（株）製、商
標）、アルフローＰ−１０（日本油脂（株）製、商
標）、アーモワックスＥＢＳ（ライオンアーマー（株）
製、商標）などがあげられる。

【００５８】これらの滑剤（Ｃ）は、単独であるいは組
合せて用いることができる。滑剤（Ｃ）の配合量は、プ
ロピレン系ポリマー（Ａ）１００重量部に対して０．０
０５〜２重量部、好ましくは０．０１〜１重量部、さら
に好ましくは０．０５〜１重量部とするのが望ましい。

【００５９】滑剤（Ｃ）の配合量が、プロピレン系ポリ
マー（Ａ）１００重量部に対して上記のような範囲にあ
ると、本発明のプロピレン系ポリマー組成物を加熱溶融
して成形する際の流動性が改善され、また成形加工機や
金型への粘着性を抑制し、成形体の型離れが改善され、
さらにまたフィルムに成形した場合には口開きなどのス
リップ性が改善され、しかもプロピレン系ポリマー
（Ａ）の性質、例えば引張り強度などが低下することも
ない。さらに、ステアリン酸Ｃａ等の高級脂肪酸の金属
塩は、滑剤だけでなく防銹剤としての効果を有するた
め、このような高級脂肪酸の金属塩を含有したプロピレ
ン系ポリマー組成物は離型性に優れ、成形機等の銹防止
に有効である。

【００６０】本発明のプロピレン系ポリマー組成物に
は、必要により用途に応じて上記必須である静電防止剤
（Ｂ）および／または滑剤（Ｃ）に加えて、フェノール
系安定剤（Ｄ）、リン系安定剤（Ｅ）、イオウ系安定剤
（Ｆ）、ヒンダードアミン系安定剤（Ｇ）等の他の添加
剤を配合することも行われる。以下、他の添加剤につい
て順次説明する。

【００６１】《フェノール系安定剤（Ｄ）》フェノール
系安定剤（Ｄ）としては、従来から安定剤として使用さ
れているフェノール系の安定剤が特に限定されることな
く用いられる。フェノール系安定剤（Ｄ）の具体的なも
のとしては、以下のような化合物が用いられる。

【００６２】2,6-ジ-t-ブチル-4-メチルフェノール、2,
6-ジ-t-ブチル-4-エチルフェノール、2,6-ジシクロヘキ
シル-4-メチルフェノール、2,6-ジ-t-アミル-4-メチル
フェノール、2,6-ジ-t-オクチル-4-n-プロピルフェノー
ル、2,6-ジシクロヘキシル-4-n-オクチルフェノール、2
-イソプロピル-4-メチル-6-t-ブチルフェノール、2-t-
ブチル-2-エチル-6-t-オクチルフェノール、2-イソブチ
ル-4-エチル-6-t-ヘキシルフェノール、2-シクロヘキシ
ル-4-n-ブチル-6-イソプロピルフェノール、dl-α-トコ
フェロール、t-ブチルヒドロキノン、2,2'-メチレンビ
ス(4-メチル-6-t-ブチルフェノール)、4,4'-ブチリデン
ビス(3-メチル-6-t-ブチルフェノール)、4,4'-チオビス
(3-メチル-6-t-ブチルフェノール)、2,2-チオビス(4-メ
チル-6-t-ブチルフェノール)、4,4'-メチレンビス(2,6-
ジ-t-ブチルフェノール)、2,2'-メチレンビス[6-(1-メ
チルシクロヘキシル)-p-クレゾール]、2,2'-エチリデン
ビス(4,6-ジ-t-ブチルフェノール)、2,2'-ブチリデンビ
ス(2-t-ブチル-4-メチルフェノール)、2-t-ブチル-6-(3
-t-ブチル-2-ヒドロキシ-5-メチルベンジル)-4-メチル
フェニルアクリレート、2-[1-(2-ヒドロキシ-3,5-ジ-t-
ペンチルフェニル)エチル]-4,6-ジ-t-ペンチルフェニル
アクリレート、1,1,3-トリス(2-メチル-4-ヒドロキシ-5
-t-ブチルフェニル)ブタン、トリエチレングリコール-
ビス[3-(3-t-ブチル-5-メチル-4-ヒドロキシフェニル)
プロピオネート]、1,6-ヘキサンジオール-ビス[3-(3,5-
ジ-t-ブチル-4-ヒドロキシフェニル)プロピオネート]、
2,2-チオジエチレンビス[3-(3,5-ジ-t-ブチル-4-ヒドロ
キシフェニル)プロピオネート]、N,N'-ヘキサメチレン
ビス(3,5-ジ-t-ブチル-4-ヒドロキシ-ヒドロシンナミ
ド）、3,5-ジ-t-ブチル-4-ヒドロキシベンジルホスホネ
ート-ジエチルエステル、トリス(2,6-ジメチル-3-ヒド
ロキシ-4-t-ブチルベンジル)イソシアヌレート、トリス
(3,5-ジ-t-ブチル-4-ヒドロキシベンジル)イソシアヌレ
ート、トリス[(3,5-ジ-t-ブチル-4-ヒドロキシフェニ
ル)プロピオニルオキシエチル]イソシアヌレート、トリ
ス(4-t-ブチル-2,6-ジメチル-3-ヒドロキシベンジル)イ
ソシアヌレート、2,4-ビス(n-オクチルチオ)-6-(4-ヒド
ロキシ-3,5-ジ-t-ブチルアニリノ)-1,3,5-トリアジン、
テトラキス[メチレン-3-(3,5-ジ-t-ブチル-4-ヒドロキ
シフェニル)プロピオネート]メタン、2,2'-メチレンビ
ス(4-メチル-6-t-ブチルフェノール)テレフタレート、
1,3,5-トリメチル-2,4,6-トリス(3,5-ジ-t-ブチル-4-ヒ
ドロキシベンジル)ベンゼン、3,9-ビス[1,1-ジメチル-2
-{β-(3-t-ブチル-4-ヒドロキシ-5-メチルフェニル)プ
ロピオニルオキシ}エチル]-2,4,8,10-テトラオキサスピ
ロ[5,5]ウンデカン、2,2-ビス[4-(2-(3,5-ジ-t-ブチル-
4-ヒドロキシヒドロシンナモイルオキシ))エトキシフェ
ニル]プロパン、β-(3,5-ジ-t-ブチル-4-ヒドロキシフ
ェニル)プロピオン酸ステアリルエステルなど。

【００６３】これらの中では、β-(3,5-ジ-t-ブチル-4-
ヒドロキシフェニル)プロピオン酸ステアリルエステ
ル、テトラキス[メチレン-3-(3,5-ジ-t-ブチル-4-ヒド
ロキシフェニル)プロピオネート]メタン、トリス(3,5-
ジ-t-ブチル-4-ヒドロキシベンジル)イソシアヌレー
ト、1,3,5-トリメチル-2,4,6-トリス(3,5-ジ-t-ブチル-
4-ヒドロキシベンジル)ベンゼン、dl-α-トコフェロー
ル、トリス(2,6-ジメチル-3-ヒドロキシ-4-t-ブチルベ
ンジル)イソシアヌレート、トリス[(3,5-ジ-t-ブチル-4
-ヒドロキシフェニル)プロピオニルオキシエチル]イソ
シアヌレート、3,9-ビス[1,1-ジメチル-2-{β-(3-t-ブ
チル-4-ヒドロキシ-5-メチルフェニル)プロピオニルオ
キシ}エチル]-2,4,8,10-テトラオキサスピロ[5,5]ウン
デカンが好ましい。

【００６４】フェノール系安定剤（Ｄ）としては市販品
を使用することもでき、例えばイルガノクス１０１０
（Irganox1010、チバガイギー社、商標）、イルガノク
ス１０７６（Irganox1076、チバガイギー社、商標）、
イルガノクス１３３０（Irganox1330、チバガイギー
社、商標）、イルガノクス３１１４（Irganox3114、チ
バガイギー社、商標）、イルガノクス３１２５（Irgano
x3125、チバガイギー社、商標）、ＢＨＴ（武田薬品工
業（株）、商標）、シアノクス１７９０（Cyanox1790、
サイアナミド社、商標）、スミライザーＧＡ−８０（Su
milizer GA-80、住友化学（株）、商標）、ビタミンＥ
（エーザイ（株））などがあげられる。

【００６５】これらのフェノール系安定剤（Ｄ）は、単
独であるいは組合せて用いることができる。フェノール
系安定剤（Ｄ）の配合量は、前記プロピレン系ポリマー
（Ａ）１００重量部に対して０.００５〜２重量部、好
ましくは０．０１〜１重量部、さらに好ましくは０．０
５〜０．５重量部とするのが望ましい。

【００６６】フェノール系安定剤（Ｄ）の含有量が、プ
ロピレン系ポリマー（Ａ）１００重量部に対して上記の
ような範囲内にあると、耐熱性、耐老化性等の安定性の
向上効果が高く、また安定剤の費用が廉価に抑えられ、
プロピレン系ポリマー（Ａ）の性質、例えば引張り強度
などが低下することもない。

【００６７】《リン系安定剤（Ｅ）》リン系安定剤
（Ｅ）としては、従来から安定剤として使用されている
リン系の安定剤が特に限定されることなく用いられる。
リン系安定剤（Ｅ）の具体的なものとしては、以下のよ
うな化合物が用いられる。

【００６８】トリオクチルホスファイト、トリラウリル
ホスファイト、トリデシルホスファイト、オクチル-ジ
フェニルホスファイト、トリス(2,4-ジ-t-ブチルフェニ
ル)ホスファイト、トリフェニルホスファイト、トリス
(ブトキシエチル)ホスファイト、トリス(ノニルフェニ
ル)ホスファイト、ジステアリルペンタエリスリトール
ジホスファイト、テトラ（トリデシル)-1,1,3-トリス(2
-メチル-5-t-ブチル-4-ヒドロキシフエニル)ブタンジホ
スファイト、テトラ(Ｃ₁₂〜Ｃ₁₅混合アルキル)-4,4'-イ
ソプロピリデンジフェニルジホスファイト、テトラ(ト
リデシル)-4,4'-ブチリデンビス(3-メチル-6-t-ブチル
フェノール)ジホスファイト、トリス(3,5-ジ-t-ブチル-
4-ヒドロキシフェニル)ホスファイト、トリス(モノ・ジ
混合ノニルフェニル)ホスファイト、水素化-4,4'-イソ
プロピリデンジフェノールポリホスファイト、ビス(オ
クチルフェニル)・ビス[4,4'-ブチリデンビス(3-メチル
-6-t-ブチルフェノール)]・1,6-ヘキサンジオールジホ
スファイト、フェニル・4,4'-イソプロピリデンジフェ
ノール・ペンタエリスリトールジホスファイト、トリス
[4,4'-イソプロピリデンビス(2-t-ブチルフェノール)]
ホスファイト、フェニル・ジイソデシルホスファイト、
ジ(ノニルフェニル)ペンタエリスリトールジホスファイ
ト、トリス(1,3-ジ-ステアロイルオキシイソプロピル)
ホスファイト、4,4'-イソプロピリデンビス(2-t-ブチル
フェノール)・ジ(ノニルフェニル)ホスファイト、9,10-
ジ-ヒドロ-9-オキサ-9-オキサ-10-ホスファフェナンス
レン-10-オキサイド、ビス(2,4-ジ-t-ブチル-6-メチル
フェニル）・エチルフォスファイト、2-[{2,4,8,10-テ
トラキス(1,1-ジメチルエチル)ジベンゾ(D,F)(1,3,2)-
ジオキサホスフェフィン-6-イル}オキシ]-N,N-ビス〔2-
[{2,4,8,10-テトラキス(1,1-ジメチルエチル)ジベンゾ
(D,F)(1,3,2)-ジオキサホスフェフィン-6-イル}オキシ]
エチル〕エタンアミンなど。

【００６９】またビス(ジアルキルフェニル)ペンタエリ
スリトールジホスファイトエステルは、下記一般式
（６）で示されるスピロ型ないし一般式（７）で示され
るケージ形のものも使用される。通常はこのようなホス
ファイトエステルを製造する方法から生じる経済的理由
のために両異性体の混合物が最も多く使用される。

【００７０】

【化３】

【００７１】ここで、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³は、水素または炭
素原子数１〜９のアルキル基、特に分枝のあるアルキル
基、なかでもtert-ブチル基が好ましく、またフェニル
基におけるその置換位置は２，４，６位が最も好まし
い。好適なホスファイトエステルは、ビス(2,4-ジ-t-ブ
チルフェニル)ペンタエリスリトールジホスファイト、
ビス(2,6-ジ-t-ブチル-4-メチルフェニル)ペンタエリス
リトールジホスファイト等であり、また炭素とリンとが
直接結合した構造を持つホスフォナイト、例えばテトラ
キス(2,4-ジ-t-ブチルフェニル)-4,4'-ビフェニレンジ
ホスフォナイトなどの化合物もあげられる。

【００７２】リン系安定剤（Ｅ）としては市販品を使用
することもでき、例えばイルガフォス１６８（Irgafos
168、チバガイギー社、商標）、イルガフォス１２（Irg
afos12、チバガイギー社、商標）、イルガフォス３８
（Irgafos 38、チバガイギー社、商標）、マーク３２９
Ｋ（Mark 329K、旭電化（株）、商標）、マークＰＥＰ
３６（Mark PEP36、旭電化（株）、商標）、マークＰＥ
Ｐ−８（Mark PEP-8、旭電化（株）、商標）、Ｓａｎｄ
ｓｔａｂＰ−ＥＰＱ（クラリアント社、商標）、ウェ
ストン６１８（Weston 618、ＧＥ社、商標）、ウェスト
ン６１９Ｇ（Weston 619G、ＧＥ社、商標）、ウェスト
ン−６２４（Weston-624、ＧＥ社、商標）などがあげら
れる。

【００７３】これらのリン系安定剤（Ｅ）は単独である
いは組合せて用いることができる。リン系安定剤（Ｅ）
の配合量は、前記プロピレン系ポリマー（Ａ）１００重
量部に対して０.００５〜２重量部、好ましくは０．０
１〜１重量部、さらに好ましくは０．０５〜０．５重量
部とするのが望ましい。

【００７４】リン系安定剤（Ｅ）の含有量が、プロピレ
ン系ポリマー（Ａ）１００重量部に対して上記のような
範囲内にあると、耐熱性、耐老化性等の安定性の向上効
果が高く、また安定剤の費用が廉価に抑えられ、プロピ
レン系ポリマー（Ａ）の性質、例えば引張り強度などが
低下することもない。

【００７５】《イオウ系安定剤（Ｆ）》イオウ系安定剤
（Ｆ）としては、従来から安定剤として使用されている
イオウ系の安定剤が特に限定されることなく用いられ
る。イオウ系安定剤（Ｆ）の具体的なものとしては、以
下のような化合物が用いられる。

【００７６】ジラウリル−、ジミリスチル−、ジステア
リル−などのジアルキルチオジプロピオネートおよびブ
チル−、オクチル−、ラウリル−、ステアリル−などの
アルキルチオプロピオン酸の多価アルコール（例えばグ
リセリン、トリメチロールエタン、トリメチロールプロ
パン、ペンタエリスリトール、トリスヒドロキシエチル
イソシアヌレート）のエステル（例えばペンタエリスリ
トールテトララウリルチオプロピオネート）など。さら
に具体的には、ジラウリルチオジプロピオネート、ジミ
リスチルチオジプロピオネート、ジステアリルチオジプ
ロピオネート、ラウリルステアリルチオジプロピオネー
ト、ジステアリルチオジブチレートなどがあげられる。

【００７７】イオウ系安定剤（Ｆ）としては市販品を使
用することもでき、例えばＤＳＴＰ（ヨシトミ）（吉富
（株）社、商標）、ＤＬＴＰ（ヨシトミ）（吉富（株）
社、商標）、ＤＬＴＯＩＢ（吉富（株）社、商標）、Ｄ
ＭＴＰ（ヨシトミ）（吉富（株）社、商標）、Ｓｅｅｎ
ｏｘ４１２Ｓ（白石カルシウム（株）社、商標）、Ｃ
ｙａｎｏｘ１２１２（サイアナミド社、商標）などが
あげられる。

【００７８】これらのイオウ系安定剤（Ｆ）は、単独で
あるいは組合せて用いることができる。イオウ系安定剤
（Ｆ）の配合量は、前記プロピレン系ポリマー（Ａ）１
００重量部に対して０.００５〜２重量部、好ましくは
０．０１〜１重量部、さらに好ましくは０．０５〜０．
５重量部とするのが望ましい。

【００７９】イオウ系安定剤（Ｆ）の含有量が、プロピ
レン系ポリマー（Ａ）１００重量部に対して上記のよう
な範囲内にあると、耐熱性、耐老化性等の安定性の向上
効果が高く、また安定剤の費用が廉価に抑えられ、プロ
ピレン系ポリマー（Ａ）の性質、例えば引張り強度など
が低下することもない。

【００８０】《ヒンダードアミン系安定剤（Ｇ）》ヒン
ダードアミン系安定剤（Ｇ）としては、従来公知のピペ
リジンの２位および６位の炭素に結合しているすべての
水素がメチル基で置換された構造を有する化合物が特に
限定されることなく用いられるが、具体的には以下のよ
うな化合物が用いられる。（１）ビス(2,2,6,6-テトラメチル-4-ピペリジル)セバ
ケート、（２）コハク酸ジメチル-1-(2-ヒドロキシエチ
ル)-4-ヒドロキシ-2,2,6,6-テトラメチルピペリジン重
縮合物、（３）ポリ[[6-(1,1,3,3-テトラメチルブチル)
イミノ-1,3,5-トリアジン-2-4-ジイル][(2,2,6,6-テト
ラメチル-4-ピペリジル)イミノ]ヘキサメチレン[(2,2,
6,6-テトラメチル-4-ピペリジル)イミノ]]、（４）テト
ラキス(2,2,6,6-テトラメチル-4-ピペリジル)-1,2,3,4-
ブタンテトラカルボキシレート、（５）2,2,6,6-テトラ
メチル-4-ピペリジニルベンゾエート、（６）ビス-(1,
2,6,6-ペンタメチル-4-ピペリジニル)-2-(3,5-ジ-t-ブ
チル-4-ヒドロキシベンジル)-2-n-ブチルマロネート、
（７）ビス-(N-メチル-2,2,6,6-テトラメチル-4-ピペリ
ジニル)セバケート、（８）1,1'-(1,2-エタンジイル)ビ
ス(3,3,5,5-テトラメチルピペラジノン）、（９）(ミッ
クスト2,2,6,6-テトラメチル-4-ピペリジル／トリデシ
ル)-1,2,3,4-ブタンテトラカルボキシレート、（10）
(ミックスト1,2,2,6,6-ペンタメチル-4-ピペリジル／ト
リデシル)-1,2,3,4-ブタンテトラカルボキシレート、
（11）ミックスト{2,2,6,6-テトラメチル-4-ピペリジル
／β,β,β',β'-テトラメチル-3-9-[2,4,8,10-テトラ
オキサスピロ（5,5）ウンデカン]ジエチル}-1,2,3,4-ブ
タンテトラカルボキシレート、（12）ミックスト{1,2,
2,6,6-ペンタメチル-4-ピペリジル／β,β,β',β'-テ
トラメチル-3-9-[2,4,8,10-テトラオキサスピロ(5,5)ウ
ンデカン]ジエチル}-1,2,3,4-ブタンテトラカルボキシ
レート、（13）N,N'-ビス(3-アミノプロピル)エチレン
ジアミン-2-4-ビス[N-ブチルN-（1,2,2,6,6-ペンタメチ
ル-4-ピペリジル)アミノ]-6-クロロ-1,3,5-トリアジン
縮合物、（14）ポリ[[6-N-モルホリル-1,3,5-トリアジ
ン-2-4-ジイル][(2,2,6,6-テトラメチル-4-ピペリジル)
イミノ]ヘキサメチレン[(2,2,6,6-テトラメチル-4-ピペ
リジル)イミノ]]、（15）N,N'-ビス(2,2,6,6-テトラメ
チル-4-ピペリジル)ヘキサメチレンジアミンと1,2-ジブ
ロモエタンとの縮合物、（16）[N-(2,2,6,6-テトラメチ
ル-4-ピペリジル)-2-メチル-2-(2,2,6,6-テトラメチル-
4-ピペリジル)イミノ]プロピオンアミドなど。

【００８１】なかでも、上記（１）、（２）、（３）、
（４）、（８）、（10）、（11）、（14）、（15）の化
合物が好ましく用いられる。これらのヒンダードアミン
系安定剤（Ｇ）は、単独であるいは組合せて用いられ
る。

【００８２】ヒンダードアミン系安定剤（Ｇ）の配合量
は、プロピレン系ポリマー（Ａ）１００重量部に対して
０．００５〜２重量部、好ましくは０．０１〜１重量
部、さらに好ましくは０．０５〜０．５重量部とするの
が望ましい。

【００８３】ヒンダードアミン系安定剤（Ｇ）の含有量
が、プロピレン系ポリマー（Ａ）１００重量部に対して
上記のような範囲内にあると、耐熱性、耐老化性等の安
定性の向上効果が高く、また安定剤の費用が廉価に抑え
られ、プロピレン系ポリマー（Ａ）の性質、例えば引張
り強度などが低下することもない。

【００８４】本発明のプロピレン系ポリマー組成物に
は、核剤が配合されていてもよい。プロピレン系ポリマ
ー組成物に核剤を配合することによって、結晶粒子の微
細化が図れるとともに、結晶化速度が向上し、高速成形
が可能になる。

【００８５】上記核剤としては、従来知られている種々
の核剤が特に制限されることなく用いられる。好ましい
核剤としては、下記一般式（８）で表される化合物を例
示することができる。

【００８６】

【化４】

【００８７】（式中、Ｒ¹は酸素、イオウまたは炭素数
１〜１０の炭化水素基であり、Ｒ²、Ｒ ³は水素または炭
素数１〜１０の炭化水素基であり、Ｒ²、Ｒ³は同種であ
っても異種であってもよく、Ｒ²同士、Ｒ³同士またはＲ
²とＲ³が結合して環状となっていてもよく、Ｍは１〜３
価の金属原子であり、ｎは１〜３の整数である。）

【００８８】一般式（８）で表される化合物の具体的な
ものとしては、ナトリウム-2,2'-メチレン-ビス(4,6-ジ
-t-ブチルフェニル)フォスフェート、ナトリウム-2,2'-
エチリデン-ビス(4,6-ジ-t-ブチルフェニル)フォスフェ
ート、リチウム-2,2'-メチレン-ビス-(4,6-ジ-t-ブチル
フェニル)フォスフェート、リチウム-2,2'-エチリデン-
ビス(4,6-ジ-t-ブチルフェニル)フォスフェート、ナト
リウム-2,2'-エチリデン-ビス(4-i-プロピル-6-t-ブチ
ルフェニル)フォスフェート、リチウム-2,2'-メチレン-
ビス(4-メチル-6-t-ブチルフェニル)フォスフェート、
リチウム-2,2'-メチレン-ビス(4-エチル-6-t-ブチルフ
ェニル)フォスフェート、カルシウム-ビス[2,2'-チオビ
ス(4-メチル-6-t-ブチルフェニル)フォスフェート]、カ
ルシウム-ビス[2,2'-チオビス(4-エチル-6-t-ブチルフ
ェニル)フォスフェート]、カルシウム-ビス[2,2'-チオ
ビス-(4,6-ジ-t-ブチルフェニル)フォスフェート]、マ
グネシウム-ビス[2,2'-チオビス(4,6-ジ-t-ブチルフェ
ニル)フォスフェート]、マグネシウム-ビス[2,2'-チオ
ビス-(4-t-オクチルフェニル)フォスフェート]、ナトリ
ウム-2,2'-ブチリデン-ビス(4,6-ジ-メチルフェニル)フ
ォスフェート、ナトリウム-2,2'-ブチリデン-ビス(4,6-
ジ-t-ブチルフェニル)フォスフェート、ナトリウム-2,
2'-t-オクチルメチレン-ビス(4,6-ジ-メチルフェニル)
フォスフェート、ナトリウム-2,2'-t-オクチルメチレン
-ビス(4,6-ジ-t-ブチルフェニル)フォスフェート、カル
シウム-ビス-(2,2'-メチレン-ビス(4,6-ジ-t-ブチルフ
ェニル)フォスフェート)、マグネシウム-ビス[2,2'-メ
チレン-ビス(4,6-ジ-t-ブチルフェニル)フォスフェー
ト]、バリウム-ビス[2,2'-メチレン-ビス(4,6-ジ-t-ブ
チルフェニル)フォスフェート]、ナトリウム-2,2'-メチ
レン-ビス(4-メチル-6-t-ブチルフェニル)フォスフェー
ト、ナトリウム-2,2'-メチレン-ビス(4-エチル-6-t-ブ
チルフェニル)フォスフェート、ナトリウム(4,4'-ジメ
チル-5,6'-ジ-t-ブチル-2,2'-ビフェニル)フォスフェー
ト、カルシウム-ビス[(4,4'-ジメチル-6,6'-ジ-t-ブチ
ル-2,2'-ビフェニル)フォスフェート]、ナトリウム-2,
2'-エチリデン-ビス(4-m-ブチル-6-t-ブチルフェニル)
フォスフェート、ナトリウム-2,2'-メチレン-ビス(4,6-
ジ-メチルフェニル)フォスフェート、ナトリウム-2,2'-
メチレン-ビス(4,6-ジ-エチルフェニル)フォスフェー
ト、カリウム-2,2'-エチリデン-ビス(4,6-ジ-t-ブチル
フェニル)フォスフェート、カルシウム-ビス[2,2'-エチ
リデン-ビス(4,6-ジ-t-ブチルフェニル)フオスフェー
ト]、マグネシウム-ビス[2,2'-エチリデン-ビス(4,6-ジ
-t-ブチルフェニル)フォスフェート]、バリウム-ビス
[2,2'-エチリデン-ビス(4,6-ジ-t-ブチルフェニル)フォ
スフェート]、アルミニウム-トリス[2,2'-メチレン-ビ
ス(4,6-ジ-t-ブチルフェル）フォスフェート]およびア
ルミニウム-トリス[2,2'-エチリデン-ビス(4,6-ジ-t-ブ
チルフェニル)フォスフェート]およびこれらの２種以上
の混合物等を例示することができる。特にナトリウム-
2,2'-メチレン-ビス(4,6-ジ-t-ブチルフェニル)フォス
フェートが好ましい。

【００８９】また好ましい核剤としては、下記一般式
（９）で表される化合物を例示することができる。

【化５】（式中、Ｒ¹は水素または炭素数１〜１０の炭化水素基
であり、Ｍは１〜３価の金属原子であり、ｎは１〜３の
整数である。）

【００９０】一般式（９）で表される化合物の具体的な
ものとしては、ナトリウム-ビス(4-t-ブチルフェニル)
フォスフェート、ナトリウム-ビス(4-メチルフェニル)
フォスフェート、ナトリウム-ビス(4-エチルフェニル)
フォスフェート、ナトリウム-ビス(4-i-プロピルフェニ
ル)フォスフェート、ナトリウム-ビス(4-t-オクチルフ
ェニル)フォスフェート、カリウム-ビス(4-t-ブチルフ
ェニル)フォスフェート、カルシウム-ビス(4-t-ブチル
フェニル)フォスフェート、マグネシウム-ビス(4-t-ブ
チルフェニル)フォスフェート、リチウム-ビス(4-t-ブ
チルフェニル)フォスフェート、アルミニウム-ビス(4-t
-ブチルフェニル)フォスフェートおよびこれらの２種以
上の混合物等を例示することができる。特にナトリウム
-ビス(4-t-ブチルフェニル)フォスフェートが好まし
い。

【００９１】また好ましい核剤としては、下記一般式
（１０）で表される化合物を例示することができる。

【化６】（式中、Ｒ¹は水素または炭素数１〜１０の炭化水素基
である。）

【００９２】一般式（１０）で表される化合物の具体的
なものとしては、1,3,2,4-ジベンジリデンソルビトー
ル、1,3-ベンジリデン-2,4-p-メチルベンジリデンソル
ビトール、1,3-ベンジリデン-2,4-p-エチルベンジリデ
ンソルビトール、1,3-p-メチルベンジリデン-2,4-ベン
ジリデンソルビトール、1,3-p-エチルベンジリデン-2,4
-ベンジリデンソルビトール、1,3-p-メチルベンジリデ
ン-2,4-p-エチルベンジリデンソルビトール、1,3-p-エ
チルベンジリデン-2,4-p-メチルベンジリデンソルビト
ール、1,3,2,4-ジ(p-メチルベンジリデン)ソルビトー
ル、1,3,2,4-ジ(p-エチルベンジリデン)ソルビトール、
1,3,2,4-ジ(p-n-プロピルベンジリデン)ソルビトール、
1,3,2,4-ジ(p-i-プロピルベンジリデン)ソルビトール、
1,3,2,4-ジ(p-n-ブチルベンジリデン)ソルビトール、1,
3,2,4-ジ(p-s-ブチルベンジリデン)ソルビトール、1,3,
2,4-ジ(p-t-ブチルベンジリデン)ソルビトール、1,3,2,
4-ジ(2',4'-ジメチルベンジリデン)ソルビトール、1,3,
2,4-ジ(p-メトキシベンジリデン)ソルビトール、1,3,2,
4-ジ(p-エトキシベンジリデン)ソルビトール、1,3-ベン
ジリデン-2-4-p-クロルベンジリデンソルビトール、1,3
-p-クロルベンジリデン-2,4-ベンジリデンソルビトー
ル、1,3-p-クロルベンジリデン-2,4-p-メチルベンジリ
デンソルビトール、1,3-p-クロルベンジリデン-2,4-p-
エチルベンジリデンソルビトール、1,3-p-メチルベンジ
リデン-2,4-p-クロルベンジリデンソルビトール、1,3-p
-エチルベンジリデン-2,4-p-クロルベンジリデンソルビ
トールおよび1,3,2,4-ジ(p-クロルベンジリデン)ソルビ
トールおよびこれらの２種以上の混合物等を例示でき、
特に1,3,2,4-ジベンジリデンソルビトール、1,3,2,4-ジ
(p-メチルベンジリデン)ソルビトール、1,3,2,4-ジ(p-
エチルベンジリデン)ソルビトール、1,3-p-クロルベン
ジリデン-2,4-p-メチルベンジリデンソルビトール、1,
3,2,4-ジ(p-クロルベンジリデン)ソルビトールおよびそ
れらの２種以上の混合物が好ましい。

【００９３】その他の核剤としては、芳香族カルボン酸
や脂肪族カルボン酸の金属塩、または無機化合物等を例
示できる。上記金属塩としては、安息香酸アルミニウム
塩、p-t-ブチル安息香酸アルミニウム塩やアジピン酸ナ
トリウム、チオフェネカルボン酸ナトリウム、ピローレ
カルボン酸ナトリウムなどがあげられる。また上記無機
化合物としては、シリカ、ケイ藻土、アルミナ、酸化チ
タン、酸化マグネシウム、軽石粉、軽石バルーン、水酸
化アルミニウム、水酸化マグネシウム、塩基性炭酸マグ
ネシウム、ドロマイト、硫酸カルシウム、チタン酸カリ
ウム、硫酸バリウム、亜硫酸カルシウム、タルク、クレ
ー、マイカ、アスベスト、ガラス繊維、ガラスフレー
ク、ガラスビーズ、ケイ酸カルシウム、モンモリロナイ
ト、ベントナイト、グラファイト、アルミニウム粉、硫
化モリブデンなどがあげられる。

【００９４】本発明のプロピレン系ポリマー組成物にお
いて、上記核剤はプロピレン系ポリマー組成物１００重
量部に対して０.００１〜１０重量部、好ましくは０.０
１〜５重量部、特に好ましくは０.１〜３重量部の割合
で配合されることが望ましい。核剤を上記の量でプロピ
レン系ポリマー組成物に配合することにより、プロピレ
ン系ポリマー組成物が本来有する優れた特性が損なわれ
ることなく、結晶粒子が微細で結晶化度が向上したプロ
ピレン系ポリマー組成物が得られる。

【００９５】本発明のプロピレン系ポリマー組成物に
は、前記（Ａ）成分、（Ｂ）成分および／または（Ｃ）
成分、必要により配合されるその他の添加剤または核剤
に加えて、衝撃強度を向上させるためのゴム成分を配合
したり、その他の耐候安定剤、アンチブロッキング剤、
防曇剤、染料、顔料などを配合することができ、その配
合割合は適宜量である。

【００９６】さらに本発明では、本発明の目的を損なわ
ない範囲で、プロピレン系ポリマー組成物にシリカ、ケ
イ藻土、アルミナ、酸化チタン、酸化マグネシウム、軽
石粉、軽石バルーン、水酸化アルミニウム、水酸化マグ
ネシウム、塩基性炭酸マグネシウム、ドロマイト、硫酸
カルシウム、チタン酸カリウム、硫酸バリウム、亜硫酸
カルシウム、タルク、クレー、マイカ、アスベスト、ガ
ラス繊維、ガラスフレーク、ガラスビーズ、ケイ酸カル
シウム、モンモリロナイト、ベントナイト、グラファイ
ト、アルミニウム粉、硫化モリブデン、ボロン繊維、炭
化ケイ素繊維、ポリエチレン繊維、ポリプロピレン繊
維、ポリエステル繊維、ポリアミド繊維などの充填剤を
配合してもよい。

【００９７】本発明のプロピレン系ポリマー組成物は、
従来からポリプロピレンが用いられてきた分野で特に制
限されることなく用いられるが、特に押出シート、未延
伸フィルム、延伸フィルム、フィラメント、押出成形
体、射出成形体、ブロー成形体などの用途に好適に用い
られる。

【００９８】本発明の成形体は、本発明のプロピレン系
ポリマー組成物からなる成形体である。成形方法は特に
限定されないが、（Ｄ）〜（Ｇ）成分の少なくとも１種
の添加剤を配合している場合は熱成形が好ましい。具体
的な成形方法としては押出成形、射出成形、ブロー成
形、押出ブロー成形、射出ブロー成形、インフレーショ
ン成形、モールドスタンピング成形などの公知の成形法
が採用でき、成形法に応じて押出成形体、射出成形体、
ブロー成形体、押出ブロー成形体、射出ブロー成形体、
インフレーション成形体、モールドスタンピング成形体
などが得られる。成形方法としては押出成形法または射
出成形法が好ましい。

【００９９】本発明の成形体を製造するに際しては、プ
ロピレン系ポリマー組成物の流動性、離型性が改善され
ており、また成形機や金型等への粘着性が抑制されてい
るので、容易に成形することができる。

【０１００】本発明の成形体である押出成形体の形状お
よび製品種類は特に限定されないが、具体的にはシー
ト、フィルム、パイプ、ホース、電線被覆、フィラメン
トなどがあげられ、シート、フィルム、フィラメントな
どとして特に好適に用いられる。

【０１０１】本発明のプロピレン系ポリマー組成物を押
出成形してシート、フィルム（未延伸フィルム）などの
押出成形体を製造する際には、公知の押出装置を用いる
ことができる。例えば、単軸スクリュー押出機、混練押
出機、ラム押出機、ギヤ押出機などを用い、溶融したプ
ロピレン系ポリマー組成物をＴダイから押出すことによ
り製造することができる。また成形条件も、公知の条件
を採用することができる。このような押出シート、フィ
ルム（未延伸フィルム）は、帯電が防止されるほかスリ
ップ性が向上し、またプロピレン系ポリマー（Ａ）が本
来有している物理的特性、例えば引張り強度、耐熱性、
耐老化性、透明性、透視性、光沢、剛性、防湿性、ガズ
バリヤ性等は低下していない。

【０１０２】延伸フィルムは、本発明のプロピレン系ポ
リマー組成物からなるシートまたはフィルムを用いて公
知の延伸装置により製造することができる。例えば、テ
ンター法（縦横延伸、横縦延伸）、同時二軸延伸法、一
軸延伸法などがあげられる。延伸フィルムの延伸倍率
は、二軸延伸フィルムの場合には、通常２０〜７０倍で
あることが望ましく、一軸延伸フィルムの場合には通常
は２〜１０倍であることが望ましい。また延伸フィルム
の厚さは、通常５〜２００μｍであることが望ましい。
このような延伸フィルムは、帯電が防止されるほかスリ
ップ性が向上し、またプロピレン系ポリマー（Ａ）が本
来有している物理的特性、例えば引張り強度、耐熱性、
耐老化性、透明性、透視性、光沢、剛性、防湿性、ガズ
バリヤ性等は低下していない。

【０１０３】また本発明のプロピレン系ポリマー組成物
からは、インフレーションフィルムを製造することもで
きる。

【０１０４】本発明のプロピレン系ポリマー組成物から
なるシート、未延伸フィルム、延伸フィルムは、帯電が
防止されるほかスリップ性が向上し、またプロピレン系
ポリマー（Ａ）が本来有している物理的特性、例えば引
張り強度、耐熱性、耐老化性、透明性、透視性、光沢、
剛性、防湿性、ガズバリヤ性等は低下していないため、
包装用フィルムなどに幅広く用いることができる。また
防湿性に優れるため、薬品の錠剤、カプセルなどの包装
に用いられるプレススルーパック（press through pac
k）用としても好適である。

【０１０５】本発明のプロピレン系ポリマー組成物から
なるフィラメントは、例えば溶融したプロピレン系ポリ
マー組成物を、紡糸口金を通して押出すことにより製造
することができる。このようにして得られたフィラメン
トは、さらに延伸処理してもよい。この延伸の程度は、
プロピレン系ポリマー（Ａ）に少なくとも一軸方向の分
子配向が有効に付与される程度に行えばよく、延伸倍率
は、通常５〜１０倍であることが望ましい。このような
フィラメントは、帯電が防止され、またプロピレン系ポ
リマー（Ａ）が本来有している物理的特性、例えば引張
り強度、耐熱性、耐老化性、透明性、透視性、光沢、剛
性、防湿性、ガズバリヤ性等は低下していない。

【０１０６】本発明のプロピレン系ポリマー組成物から
なる射出成形体は、公知の射出成形装置により製造する
ことができる。また成形条件も、公知の条件を採用する
ことができる。本発明の成形体である射出成形体は、帯
電が防止され、また物理的特性、例えば剛性、耐熱性、
耐老化性、耐衝撃性、表面光沢、耐薬品性、耐磨耗性な
どは低下していないので、自動車内装用トリム材、自動
車用外装材、家電製品のハウジング、容器など幅広く用
いることができる。

【０１０７】本発明のプロピレン系ポリマー組成物から
なるブロー成形体は、公知のブロー成形装置により製造
することができる。また成形条件も、公知の条件を採用
することができる。例えば押出ブロー成形の場合には、
樹脂温度１００〜３００℃でダイより上記プロピレン系
ポリマー組成物を溶融状態でチューブ状パリソンを押出
し、次いで付与すべき形状の金型中にパリソンを保持し
た後、空気を吹き込み樹脂温度１３０〜３００℃で金型
に着装し、中空成形品を得る。延伸倍率は、横方向に
１.５〜５倍であることが望ましい。

【０１０８】射出ブロー成形の場合には、樹脂温度１０
０〜３００℃でプロピレン系ポリマー組成物を金型に射
出してパリソンを成形し、次いで付与すべき形状の金型
中にパリソンを保持した後空気を吹き込み、樹脂温度１
２０〜３００℃で金型に着装し、中空成形品を得る。延
伸倍率は、縦方向に１.１〜１.８倍であることが望まし
く、横方向に１.３〜２.５倍であるであることが望まし
い。このようなブロー成形体は、帯電が防止され、また
プロピレン系ポリマー（Ａ）が本来有している物理的特
性、例えば引張り強度、耐熱性、耐老化性、透明性、透
視性、光沢、剛性、防湿性、ガズバリヤ性等は低下して
いない。

【０１０９】本発明のプロピレン系ポリマー組成物は、
表皮材と基材とを同時にプレス成形することにより、両
者が複合一体化した成形体を製造する方法（モールドス
タンピング成形）における基材として用いることができ
る。この成形方法により得られたモールドスタンピング
成形体は、ドアートリム、リアーパッケージトリム、シ
ートバックガーニッシュ、インストルメントパネルなど
の自動車用内装材として好適に用いられる。このような
モールドスタンピング成形体は、帯電が防止され、また
物理的特性、例えば剛性、耐熱性、耐老化性、耐衝撃
性、表面光沢、耐薬品性、耐磨耗性など等は低下してい
ない。

【０１１０】

【発明の効果】本発明のポリオレフィンとくにプロピレ
ン系ポリマー組成物は、メタロセン系触媒を用いて得ら
れるポリオレフィンとくにプロピレン系ポリマー（Ａ）
に、静電防止剤および／または滑剤を配合しているの
で、電気的特性、物理的特性および流動特性に優れてい
る。本発明の成形体は、上記ポリオレフィンとくにプロ
ピレン系ポリマー組成物からなるので、電気的特性、物
理的特性および流動特性に優れている。

【０１１１】

【発明の実施の形態】以下、実施例に基づいて本発明を
さらに具体的に説明するが、本発明はこれら実施例に限
定されるものではない。各実施例における物性の測定方
法、使用したポリマーは下記の通りである。

【０１１２】《物性測定法》（１）メルトフローレート（ＭＦＲ）ＡＳＴＭＤ１２３８−６５Ｔに準じて、２３０℃、
２．１６ｋｇ荷重下で測定した。（２）極限粘度（［η］）１３５℃デカヒドロナフタレン中で測定した。（３）分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）ｏ−ジクロルベンゼンを溶媒として、１４０℃において
ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）に
より測定して求めた。

【０１１３】（４）結晶化度（Ｘｃ）２００℃で成形した厚み０．５ｍｍのプレスシートを用
い、Ｘ線回折装置により測定して求めた。（５）ポリマー組成１０ｍｍφの試料管中、約２００ｍｇのポリマーを１ｍ
ｌのヘキサクロロブタジエン中に均一に溶解させた試料
を、測定温度１２０℃、測定周波数２５．０２ＭＨｚ、
スペクトル幅１５００Ｈｚ、パルス繰返し時間４．２ｓ
ｅｃ、パルス幅６μｓｅｃの条件で¹³Ｃ−ＮＭＲスペク
トル測定することにより求めた。（６）融点（Ｔｍ）示差走査熱量計により、一度融解させて１０℃／ｍｉｎ
の降温速度で固化させた試料を、次いで１０℃／ｍｉｎ
の昇温速度で測定することにより求めた。

【０１１４】（７）表面固有抵抗試料から射出成形した２ｍｍ厚の角板を２３℃、５０％
ＲＨの環境下で７日間保存した後、ＪＩＳＫ６７２
３に準じで測定した。（８）静摩擦係数ＡＳＴＭＤ−１８９４−７５の（Ｃ）法に準じて測定
した。すなわち、試料からＴダイによりフィルム成形し
た厚み２５μｍのフィルムより、大小２枚１組の試験フ
ィルム（２５０×１３０ｍｍ、１２０×１２０ｍｍ）を
切取り、スリップ用治具のフィルム取付プレートへ大き
い方の試験フィルムを固定し、その上に小さい方のフィ
ルムに荷重を乗せて重ね、小さい方のフィルムを滑らせ
て滑り始めるときの応力を測定し、下式により静摩擦係
数を求めた。荷重は、重量２００±５ｇで表面積６．３
５×６．３５ｃｍのもので３．２ｍｍの厚さの中密度発
砲ゴムで包んであるものを使用した。静摩擦係数＝動き始める時の応力(ｇ)／荷重(ｇ)

【０１１５】各実施例で使用した、メタロセン系触媒を
用いて常法に従って製造したプロピレン系ポリマーの物
性を表１に示す。なお表中、Ａ−１はホモポリマー、Ａ
−２はランダム共重合体、Ａ−３はブロック共重合体で
ある。

【表１】

【０１１６】実施例１表１に示すＡ−１のプロピレン系ポリマー１００重量部
に対してテトラキス［メチレン−３−（３，５−ジ−ｔ
−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］
メタンを０．１５重量部、トリス（２，４−ジ−ｔ−ブ
チルフェニル）ホスファイトを０．１重量部、ステアリ
ン酸モノグリセリドを０．２重量部、エルカ酸アミドを
０．２重量部、さらにステアリン酸カルシウムを０．０
５重量部配合し、２０ｍｍφ単軸押出機により２００℃
にて溶融混練することにより試料を調製した。ＭＦＲ、
表面固有抵抗、静摩擦係数の結果を表２に示す。

【０１１７】比較例１表１に示すＡ−１のプロピレン系ポリマー１００重量部
に対してテトラキス［メチレン−３−（３，５−ジ−ｔ
−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］
メタンを０．１５重量部、トリス（２，４−ジ−ｔ−ブ
チルフェニル）ホスファイトを０．１重量部配合し、２
０ｍｍφ単軸押出機により２００℃にて溶融混練するこ
とにより試料を調製した。ＭＦＲ、表面固有抵抗、静摩
擦係数の結果を表２に示す。

【０１１８】実施例２Ａ−１のプロピレン系ポリマーの代わりに、Ａ−２のプ
ロピレン系ポリマーを用いた以外は実施例１と同様の操
作により試料を調製した。結果を表２に示す。

【０１１９】比較例２Ａ−１のプロピレン系ポリマーの代わりに、Ａ−２のプ
ロピレン系ポリマーを用いた以外は比較例１と同様の操
作により試料を調製した。結果を表２に示す。

【０１２０】実施例３表１に示すＡ−３のプロピレン系ポリマー１００重量部
に対してテトラキス［メチレン−３−（３，５−ジ−ｔ
−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］
メタンを０．１５重量部、トリス（２，４−ジ−ｔ−ブ
チルフェニル）ホスファイトを０．１重量部、ステアリ
ン酸カルシウムを０．０５重量部配合し、２０ｍｍφ単
軸押出機により２００℃にて溶融混練することにより試
料を調製した。結果を表２に示す。

【０１２１】比較例２Ａ−１のプロピレン系ポリマーの代わりに、Ａ−３のプ
ロピレン系ポリマーを用いた以外は比較例１と同様の操
作により試料を調製した。結果を表２に示す。

【０１２２】

【表２】

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】（Ａ）メタロセン系触媒を用いて得られ
るプロピレン系ポリマーに、（Ｂ）静電防止剤、および／または（Ｃ）滑剤を配合し
てなることを特徴とするプロピレン系ポリマー組成物。
【請求項２】静電防止剤（Ｂ）および／または滑剤
（Ｃ）を、プロピレン系ポリマー（Ａ）１００重量部に
対してそれぞれ０．００５〜２重量部配合してなること
を特徴とする請求項１記載のプロピレン系ポリマー組成
物。
【請求項３】請求項１または２記載の組成物からなる
成形体。