JPH09223462A - プラズマディスプレイの製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】プラズマディスプレイの製造方法において、簡
便で高精度の隔壁層を形成するための製造方法を提供す
る。 【解決手段】ガラス基板上に感光性化合物を含む有機成
分とガラス微粒子を必須成分とする感光性ペーストを塗
布する工程、露光機を用いて光照射を行う工程、現像す
る工程、焼成する工程を経て、簡便に高精度のプラズマ
ディスプレイパネルの隔壁を形成することができる。特
に、ガラス微粒子と感光性化合物を含む有機成分を必須
成分とする感光性ペーストにおいて、有機成分の平均屈
折率とガラス微粒子の平均屈折率の差が０．１以下であ
る感光性ペーストを用いることによって、高精度に隔壁
層を形成することができる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は新規なプラズマディ
スプレイの製造方法に関する。本発明は、プラズマディ
スプレイ、プラズマアドレス液晶ディスプレイをはじめ
とするガラス隔壁層が必要なディスプレイの製造に用い
られる。

【０００２】

【従来の技術】近年、ディスプレイにおいて、小型・高
精細化が進んでおり、それに伴って、パターン加工技術
も技術向上が望まれている。特に、プラズマディスプレ
イパネルの隔壁形成には、ガラスなどの無機材料を高精
度かつ高アスペクト比でパターン加工をできる材料が望
まれている。

【０００３】従来、無機材料のパターン加工を行う場
合、無機粉末と有機バインダーからなるペーストによる
スクリーン印刷が多く用いられている。しかしながらス
クリーン印刷は精度の高いパターンが形成できないとい
う欠点があった。

【０００４】この問題を改良する方法として、特開平１
−２９６５３４号公報、特開平２−１６５５３８号公
報、特開平５−３４２９９２号公報では、感光性ペース
トを用いてフォトリソグラフィ技術に形成する方法が提
案されている。しかしながら、感光性ペーストの感度や
解像度が低いために高アスペクト比、高精細の隔壁が得
られないために、例えば８０μｍを越えるような厚みの
ものをパターン加工する場合、複数回の加工工程（スク
リーン印刷・露光・現像）を必要とするため、工程が長
くなる欠点があった。

【０００５】また、特開平２−１６５５３８号公報で
は、感光性ペーストを転写紙上にコーティングした後、
転写フィルムをガラス基板上に転写して隔壁を形成する
方法が、特開平３−５７１３８号公報では、フォトレジ
スト層の溝に誘電体ペーストを充填して隔壁を形成する
方法がそれぞれ提案されている。また特開平４−１０９
５３６号公報では、感光性有機フィルムを用いて隔壁を
形成する方法が提案されている。しかしながら、これら
の方法では、転写フィルムやフォトレジストあるいは有
機フィルムを必要とするために工程が増えるという問題
点があった。また、高精細度や高アスペクト比を有する
隔壁を得るには至っていない。

【０００６】また、隔壁以外に絶縁体層や誘電体層のパ
ターンを形成する場合も同様の課題がある。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】本発明はプラズマディ
スプレイの製造方法において、高アスペクト比かつ高精
度のパターン形成、特に隔壁層の形成を可能にする方法
を提供することを目的とする。

【０００８】

【課題を解決するための手段】本発明の目的は、プラズ
マディスプレイの製造方法であって、ガラス基板上に感
光性化合物を含む有機成分とガラス微粒子を必須成分と
する感光性ペーストを塗布する塗布工程、露光工程、現
像工程、焼成工程を経て、絶縁パターンを形成すること
を特徴とするプラズマディスプレイの製造方法により達
成される。

【０００９】

【発明の実施の形態】本発明は、ガラス基板上に感光性
化合物を含む有機成分とガラス微粒子を必須成分とする
感光性ペーストを塗布する工程、露光を行う工程、現像
する工程、焼成する工程を経て、隔壁層を形成すること
を特徴するプラズマディスプレイの製造方法である。

【００１０】特に、以上の工程を１回で行うことによっ
て、より簡便な工程で高精度の隔壁層を形成することが
できる。そのためには、感光性ペーストの厚膜感光化が
不可欠であるが、従来の感光性ペーストでは厚膜感光性
が不十分であり、１００μｍ以上の厚みの感光性ペース
トを感光するためには、塗布工程−露光工程を複数回繰
り返す必要があった。そのため、パターン形成の精度が
低下するという問題があった。

【００１１】発明者らは、厚膜感光化できない原因が感
光性ペースト内部での光散乱によるものであると考え、
鋭意検討を行った結果、感光性ペースト中の有機成分お
よび無機成分の屈折率制御を行うことによって、有機成
分と無機成分の界面での反射・散乱を削減し、高アスペ
クト比かつ高精度のパターン加工が可能になることを見
出した。

【００１２】具体的には、有機成分の平均屈折率と無機
微粒子の平均屈折率の差が０．１以下であることを特徴
とする感光性ペーストを用いることによって達成でき
る。特に、プラズマディスプレイの隔壁のように、無機
微粒子としてガラス微粒子を用いた場合、金属やセラミ
ックス、顔料等に比べて、微粒子の内部散乱や光吸収を
抑制できるため、より効果的である。

【００１３】ペースト中のガラス微粒子の含有率は５０
〜９５重量％、さらには、７０〜９５重量％であること
が焼成時の収縮率が小さく、焼成による形状変化が小さ
くなり好ましい。

【００１４】有機成分の平均屈折率とガラス微粒子の平
均屈折率の差は０．０７以下がより好ましく、さらに好
ましくは、感光性ペースト中のガラス微粒子の平均屈折
率Ｎ１と有機成分の屈折率Ｎ２が次式を満たすことによ
って、高アスペクト比のパターンを高精度に形成するこ
とができる。

【００１５】−０．０３＜Ｎ１−Ｎ２＜０．０７ また、重合によって有機成分の屈折率が変化することを
考慮すると、次式を満たすことがより好ましい。

【００１６】０＜Ｎ１−Ｎ２＜０．０７ 一方、ガラス微粒子の平均屈折率Ｎ１と有機成分が光照
射によって重合した後の屈折率Ｎ３について、次の式を
満たすことによって、高アスペクト比のパターンを形成
できる。

【００１７】−０．０３＜Ｎ１−Ｎ３＜０．０３ 本発明に用いるガラス基板は、公知のものであれば特に
限定はないが、一般的なソーダライムガラスやソーダラ
イムガラスをアニール処理したガラス、または、高歪み
点ガラス（例えば、旭硝子社製”ＰＤ−２００”）等を
用いることができる。ガラス基板のサイズには特に限定
はなく、１〜５ｍｍの厚みのガラスを用いることができ
る。

【００１８】また、ガラス基板上に、銀やアルミ、銅、
金、ニッケル、酸化錫、ＩＴＯ等をスクリーン印刷や感
光性導電ペーストを用いたフォトリソグラフィー法によ
って、電極層をパターン形成したものを用いることが一
般的である。さらに、放電の安定化のために電極層の上
に誘電体層をもうけたガラス基板を用いても良い。

【００１９】本発明に用いるガラス微粒子としては、公
知のものであれば特に限定はなく、ケイ素および／また
はホウ素の酸化物を必須成分とするガラスが用いられ
る。

【００２０】ガラス微粒子の粒子径は、作製しようとす
るパターンの形状を考慮して選ばれるが、５０重量％粒
子径が０．１〜１０μｍ、１０重量％粒子径が０．４〜
２μｍ、９０重量％粒子径が４〜１０μｍのサイズを有
しており、比表面積０．２〜３ｍ² ／ｇのガラス微粒子
を用いることが、パターン形成上において好ましい。

【００２１】また、ガラス微粒子として、形状が球状で
あるガラス微粒子を用いることによって、高アスペクト
比のパターンニングが可能である。具体的には、球形率
８０個数％以上であることが好ましい。より好ましくは
平均粒子径１．５〜４μｍ、比表面積０．５〜１．５ｍ
² ／ｇ、球形率９０個数％以上である。球形率とは、顕
微鏡観察において、球形もしくは楕球形の形状を有する
粒子の割合であり、光学顕微鏡において、円形、楕円形
として観察される。

【００２２】４３６ｎｍの波長での全光線透過率が５０
％以上のガラス微粒子を用いることによって、より正確
な形状のパターンを得ることができる。

【００２３】プラズマディスプレイやプラズマアドレス
液晶ディスプレイの隔壁に用いる場合は、熱軟化点が７
００℃以下のガラス基板上にパターン形成するため、無
機微粒子として、熱軟化温度が３５０〜６００℃のガラ
ス微粒子を６０重量％以上用いることが好ましい。

【００２４】また、焼成時に基板ガラスのそりを生じさ
せないためには、線熱膨張係数が５０〜９０×１０^-7、
さらには、６０〜９０×１０^-7のガラス微粒子を用いる
ことが好ましい。

【００２５】ガラス微粒子中の組成としては、ＳｉＯ₂
は３〜６０重量％の範囲で配合することが好ましく、３
重量％未満の場合はガラス層の緻密性、強度や安定性が
低下し、また熱膨張係数が所望の値から外れ、ガラス基
板とのミスマッチが起こりやすい。また６０重量％以下
にすることによって、熱軟化点が低くなり、ガラス基板
への焼き付けが可能になるなどの利点がある。

【００２６】Ｂ₂ Ｏ₃ は５〜５０重量％の範囲で配合す
ることによって、電気絶縁性、強度、熱膨張係数、絶縁
層の緻密性などの電気、機械および熱的特性を向上する
ことができる。５０重量％を越えるとガラスの安定性が
低下する。

【００２７】酸化ビスマス、酸化鉛、酸化リチウム、酸
化ナトリウム、酸化カリウムのうち少なくとも１種類を
５〜５０重量％含むガラス微粒子を用いることによっ
て、ガラス基板上にパターン加工できる温度特性を有す
るガラスペーストを得ることができる。５０重量％を越
えるとガラスの耐熱温度が低くなり過ぎてガラス基板上
への焼き付けが難しくなる。特に、酸化ビスマスを５〜
５０重量％含有するガラスを用いることは、ペーストの
ポットライフが長いなどの利点がある。

【００２８】酸化ビスマスを含むガラス組成としては、
酸化物換算表記で Ｂｉ₂ Ｏ₃ ５〜５０重量％ ＳｉＯ₂ ３〜６０重量％ Ｂ₂ Ｏ₃ ５〜５０重量％ の組成を含むものを５０重量％以上含有することが好ま
しい。

【００２９】ところで、一般に絶縁体として用いられる
ガラスは、１．５〜１．９程度の屈折率を有している。
有機成分の平均屈折率が無機微粒子の平均屈折率と大き
く異なる場合は、無機微粒子と感光性有機成分の界面で
の反射・散乱が大きくなり、精細なパターンが得られな
い。一般的な有機成分の屈折率は１．４５〜１．７であ
るため、無機微粒子の平均屈折率を１．５〜１．７にす
ることにより、無機微粒子と有機成分の屈折率を整合さ
せることができる。好ましくは、屈折率１．５５〜１．
６５にすることによって、有機成分の選択の幅が広がる
利点がある。

【００３０】Ｎａ₂ Ｏ、Ｌｉ₂ Ｏ、Ｋ₂ Ｏ等のアルカリ
金属の酸化物を合計で３〜２０重量％含有するガラス微
粒子を用いることによって、熱軟化温度、熱膨張係数の
コントロールが容易になるだけでなく、ガラスの平均屈
折率を低くすることができるため、有機物との屈折率差
を小さくすることが容易になる。アルカリ金属の酸化物
の添加量はペーストの安定性を向上させるためには、２
０重量％以下が好ましく、より好ましくは１５重量％以
下である。

【００３１】特に、アルカリ金属の中では酸化リチウム
を用いることによって、比較的ペーストの安定性を高く
することができ、また、酸化カリウムを用いた場合は、
比較的少量の添加でも屈折率を制御できる利点があるこ
とから、アルカリ金属酸化物の中でも、酸化リチウムと
酸化カリウムの添加が有効である。

【００３２】この結果、ガラス基板上に焼き付け可能な
熱軟化温度を有し、平均屈折率を１．５〜１．７にする
ことができ、有機成分との屈折率差を小さくすることが
容易になる。

【００３３】ＰｂＯやＢｉ₂ Ｏ₃ を含有するガラスは熱
軟化温度や耐水性向上の点から好ましいが、ＰｂＯやＢ
ｉ₂ Ｏ₃ を１０重量％以上含むガラス微粒子は、屈折率
が１．６以上になるものが多い。このため、Ｎａ₂ Ｏ、
Ｌｉ₂ Ｏ、Ｋ₂ Ｏなどのアルカリ金属の酸化物とＰｂＯ
やＢｉ₂ Ｏ₃ を併用することによって、熱軟化温度、熱
膨張係数、耐水性、屈折率のコントロールが容易にな
る。

【００３４】また、ガラス微粒子中に、Ａｌ₂ Ｏ₃ 、Ｂ
ａＯ、ＣａＯ、ＭｇＯ、ＴｉＯ₂ 、ＺｎＯ、ＺｒＯ₂ な
ど、特にＡｌ₂ Ｏ₃ 、ＢａＯ、ＺｎＯを添加することに
より、高度や加工性を改良することができるが、熱軟化
点、熱膨張係数、屈折率の制御の点からは、その含有量
は４０重量％以下が好ましく、より好ましくは３０重量
％以下であり、かつ、これらの含有量の合計が５０重量
％以下である。

【００３５】また、本発明に用いられるペースト中に、
熱軟化点が６００℃以上のガラス微粒子やセラミックス
微粒子を４０重量％以下の範囲で添加することによっ
て、焼成時の収縮率を抑制することができる。ただし、
この場合に用いる無機微粒子の屈折率差が０．１以下、
さらには、０．０５以下であることが、精度良くパター
ン形成する上で重要である。

【００３６】本発明におけるガラス微粒子の屈折率測定
は、ベッケ法により行うことができる。屈折率は露光波
長で測定することが効果を確認する上で正確である。特
に、３５０〜６５０ｎｍの範囲の波長の光で測定するこ
とが好ましい。さらには、ｉ線（３６５ｎｍ）もしくは
ｇ線（４３６ｎｍ）での屈折率測定が好ましい。

【００３７】また、プラズマディスプレイのコントラス
トを向上する目的で、隔壁層を黒色化する場合には、用
いる感光性ペースト中に黒色の金属酸化物を１〜１０重
量％含むことによって、黒色の隔壁を形成することがで
きる。

【００３８】この際に用いる黒色の金属酸化物として、
Ｃｒ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｍｎ、Ｃｕの酸化物の内、少なくと
も１種、好ましくは３種以上を含むことによって、黒色
の隔壁層を形成することができる。特に、ＦｅとＭｎの
酸化物をそれぞれ０．５重量％以上含有することによっ
て、より黒色の隔壁層を形成できる。

【００３９】本発明において使用される有機成分とは、
感光性の有機物を含むペースト中の有機成分（ペースト
から無機成分を除いた部分）のことである。

【００４０】本発明に用いる感光性ペーストに関して
は、感光性成分の含有率が有機成分中の１０重量％以
上、さらには、３０重量％以上であることが光に対する
感度の点で好ましい。

【００４１】有機成分は、感光性モノマー、感光性オリ
ゴマー、感光性ポリマーのうち少なくとも１種類から選
ばれる感光性成分を含有し、さらに必要に応じて、バイ
ンダー、光重合開始剤、紫外線吸光剤、増感剤、増感助
剤、重合禁止剤、可塑剤、増粘剤、有機溶媒、酸化防止
剤、分散剤、有機あるいは無機の沈殿防止剤やレベリン
グ剤などの添加剤成分を加えることも行われる。

【００４２】感光性成分としては、光不溶化型のものと
光可溶化型のものがあり、光不溶化型のものとして、 （Ａ）分子内に不飽和基などを１つ以上有する官能性の
モノマー、オリゴマー、ポリマーを含有するもの （Ｂ）芳香族ジアゾ化合物、芳香族アジド化合物、有機
ハロゲン化合物などの感光性化合物を含有するもの （Ｃ）ジアゾ系アミンとホルムアルデヒドとの縮合物な
どいわゆるジアゾ樹脂といわれるもの等がある。

【００４３】また、光可溶型のものとしては、 （Ｄ）ジアゾ化合物の無機塩や有機酸とのコンプレック
ス、キノンジアゾ類を含有するもの （Ｅ）キノンジアゾ類を適当なポリマーバインダーと結
合させた、例えばフェノール、ノボラック樹脂のナフト
キノン１，２−ジアジド−５−スルフォン酸エステル等
がある。

【００４４】本発明において用いる感光性成分は、上記
のすべてのものを用いることができる。感光性ペースト
として、無機微粒子と混合して簡便に用いることができ
る感光性成分は、（１）のものが好ましい。

【００４５】感光性モノマーとしては、炭素−炭素不飽
和結合を含有する化合物で、その具体的な例として、メ
チルアクリレート、エチルアクリレート、ｎ−プロピル
アクリレート、イソプロピルアクリレート、ｎ−ブチル
アクリレート、ｓｅｃ−ブチルアクリレート、ｓｅｃ−
ブチルアクリレート、イソ−ブチルアクリレート、ｔｅ
ｒｔ−ブチルアクリレート、ｎ−ペンチルアクリレー
ト、アリルアクリレート、ベンジルアクリレート、ブト
キシエチルアクリレート、ブトキシトリエチレングリコ
ールアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、ジシ
クロペンタニルアクリレート、ジシクロペンテニルアク
リレート、２−エチルヘキシルアクリレート、グリセロ
ールアクリレート、グリシジルアクリレート、ヘプタデ
カフロロデシルアクリレート、２−ヒドロキシエチルア
クリレート、イソボニルアクリレート、２−ヒドロキシ
プロピルアクリレート、イソデキシルアクリレート、イ
ソオクチルアクリレート、ラウリルアクリレート、２−
メトキシエチルアクリレート、メトキシエチレングリコ
ールアクリレート、メトキシジエチレングリコールアク
リレート、オクタフロロペンチルアクリレート、フェノ
キシエチルアクリレート、ステアリルアクリレート、ト
リフロロエチルアクリレート、アリル化シクロヘキシル
ジアクリレート、１，４−ブタンジオールジアクリレー
ト、１，３−ブチレングリコールジアクリレート、エチ
レングリコールジアクリレート、ジエチレングリコール
ジアクリレート、トリエチレングリコールジアクリレー
ト、ポリエチレングリコールジアクリレート、ジペンタ
エリスリトールヘキサアクリレート、ジペンタエリスリ
トールモノヒドロキシペンタアクリレート、ジトリメチ
ロールプロパンテトラアクリレート、グリセロールジア
クリレート、メトキシ化シクロヘキシルジアクリレー
ト、ネオペンチルグリコールジアクリレート、プロピレ
ングリコールジアクリレート、ポリプロピレングリコー
ルジアクリレート、トリグリセロールジアクリレート、
トリメチロールプロパントリアクリレート、アクリルア
ミド、アミノエチルアクリレート、フェニルアクリレー
ト、フェノキシエチルアクリレート、ベンジルアクリレ
ート、１−ナフチルアクリレート、２−ナフチルアクリ
レート、ビスフェノールＡジアクリレート、ビスフェノ
ールＡ−エチレンオキサイド付加物のジアクリレート、
ビスフェノールＡ−プロピレンオキサイド付加物のジア
クリレート、チオフェノールアクリレート、ベンジルメ
ルカプタンアクリレート、また、これらの芳香環の水素
原子のうち、１〜５個を塩素または臭素原子に置換した
モノマー、もしくは、スチレン、ｐ−メチルスチレン、
ｏ−メチルスチレン、ｍ−メチルスチレン、塩素化スチ
レン、臭素化スチレン、α−メチルスチレン、塩素化α
−メチルスチレン、臭素化α−メチルスチレン、クロロ
メチルスチレン、ヒドロキシメチルスチレン、カルボシ
キメチルスチレン、ビニルナフタレン、ビニルアントラ
セン、ビニルカルバゾール、および、上記化合物の分子
内のアクリレートを一部もしくはすべてをメタクリレー
トに変えたもの、γ−メタクリロキシプロピルトリメト
キシシラン、１−ビニル−２−ピロリドンなどが挙げら
れる。本発明ではこれらを１種または２種以上使用する
ことができる。

【００４６】これら以外に、不飽和カルボン酸等の不飽
和酸を加えることによって、感光後の現像性を向上する
ことができる。不飽和カルボン酸の具体的な例として
は、アクリル酸、メタアクリル酸、イタコン酸、クロト
ン酸、マレイン酸、フマル酸、ビニル酢酸、またはこれ
らの酸無水物などがあげられる。

【００４７】バインダーとしては、ポリビニルアルコー
ル、ポリビニルブチラール、メタクリル酸エステル重合
体、アクリル酸エステル重合体、アクリル酸エステル−
メタクリル酸エステル共重合体、α−メチルスチレン重
合体、ブチルメタクリレート樹脂などがあげられる。

【００４８】また、前述の炭素−炭素二重結合を有する
化合物のうち少なくとも１種類を重合して得られたオリ
ゴマーやポリマーを用いることができる。

【００４９】重合する際に、これらのモノマーの含有率
が１０重量％以上、さらに好ましくは３５重量％以上に
なるように、他の感光性のモノマーと共重合することが
できる。

【００５０】共重合するモノマーとしては、不飽和カル
ボン酸等の不飽和酸を共重合することによって、感光後
の現像性を向上することができる。不飽和カルボン酸の
具体的な例としては、アクリル酸、メタアクリル酸、イ
タコン酸、クロトン酸、マレイン酸、フマル酸、ビニル
酢酸、またはこれらの酸無水物などがあげられる。

【００５１】こうして得られた側鎖にカルボキシル基等
の酸性基を有するポリマーもしくはオリゴマーの酸価
（ＡＶ）は５０〜１８０、さらには７０〜１４０の範囲
が好ましい。酸価が５０未満であると、現像許容幅が狭
くなる。また、酸価が１８０を越えると未露光部の現像
液に対する溶解性が低下するようになるため現像液濃度
を濃くすると露光部まで剥がれが発生し、高精細なパタ
ーンが得られにくい。

【００５２】以上示した、ポリマーもしくはオリゴマー
に対して、光反応性基を側鎖または分子末端に付加させ
ることによって、感光性を持つ感光性ポリマーや感光性
オリゴマーとして用いることができる。

【００５３】好ましい光反応性基は、エチレン性不飽和
基を有するものである。エチレン性不飽和基としては、
ビニル基、アリル基、アクリル基、メタクリル基などが
あげられる。

【００５４】このような側鎖をオリゴマーやポリマーに
付加させる方法は、ポリマー中のメルカプト基、アミノ
基、水酸基やカルボキシル基に対して、グリシジル基や
イソシアネート基を有するエチレン性不飽和化合物やア
クリル酸クロライド、メタクリル酸クロライドまたはア
リルクロライドを付加反応させて作る方法がある。

【００５５】グリシジル基を有するエチレン性不飽和化
合物としては、アクリル酸グリシジル、メタクリル酸グ
リシジル、アリルグリシジルエーテル、エチルアクリル
酸グリシジル、クロトニルグリシジルエーテル、クロト
ン酸グリシジルエーテル、イソクロトン酸グリシジルエ
ーテルなどがあげられる。

【００５６】イソシアネート基を有するエチレン性不飽
和化合物としては、（メタ）アクリロイルイソシアネー
ト、（メタ）アクリロイルエチルイソシアネート等があ
る。

【００５７】また、グリシジル基やイソシアネート基を
有するエチレン性不飽和化合物やアクリル酸クロライ
ド、メタクリル酸クロライドまたはアリルクロライド
は、ポリマー中のメルカプト基、アミノ基、水酸基やカ
ルボキシル基に対して０．０５〜１モル当量付加させる
ことが好ましい。

【００５８】光重合開始剤としての具体的な例として、
ベンゾフェノン、ｏ−ベンゾイル安息香酸メチル、４，
４−ビス（ジメチルアミン）ベンゾフェノン、４，４−
ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、４，４−ジク
ロロベンゾフェノン、４−ベンゾイル−４−メチルジフ
ェニルケトン、ジベンジルケトン、フルオレノン、２，
２−ジエトキシアセトフェノン、２，２−ジメトキシ−
２−フェニル−２−フェニルアセトフェノン、２−ヒド
ロキシ−２−メチルプロピオフェノン、ｐ−ｔ−ブチル
ジクロロアセトフェノン、チオキサントン、２−メチル
チオキサントン、２−クロロチオキサントン、２−イソ
プロピルチオキサントン、ジエチルチオキサントン、ベ
ンジル、ベンジルジメチルケタノール、ベンジルメトキ
シエチルアセタール、ベンゾイン、ベンゾインメチルエ
ーテル、ベンゾインブチルエーテル、アントラキノン、
２−ｔ−ブチルアントラキノン、２−アミルアントラキ
ノン、β−クロルアントラキノン、アントロン、ベンズ
アントロン、ジベンゾスベロン、メチレンアントロン、
４−アジドベンザルアセトフェノン、２，６−ビス（ｐ
−アジドベンジリデン）シクロヘキサノン、２，６−ビ
ス（ｐ−アジドベンジリデン）−４−メチルシクロヘキ
サノン、２−フェニル−１，２−ブタジオン−２−（ｏ
−メトキシカルボニル）オキシム、１−フェニル−プロ
パンジオン−２−（ｏ−エトキシカルボニル）オキシ
ム、１，３−ジフェニル−プロパントリオン−２−（ｏ
−エトキシカルボニル）オキシム、１−フェニル−３−
エトキシ−プロパントリオン−２−（ｏ−ベンゾイル）
オキシム、ミヒラーケトン、２−メチル−［４−（メチ
ルチオ）フェニル］−２−モルフォリノ−１−プロパノ
ン、ナフタレンスルホニルクロライド、キノリンスルホ
ニルクロライド、Ｎ−フェニルチオアクリドン、４，４
−アゾビスイソブチロニトリル、ジフェニルジスルフィ
ド、ベンズチアゾールジスルフィド、トリフェニルホル
フィン、カンファーキノン、四臭素化炭素、トリブロモ
フェニルスルホン、過酸化ベンゾインおよびエオシン、
メチレンブルーなどの光還元性の色素とアスコルビン
酸、トリエタノールアミンなどの還元剤の組合せなどが
あげられる。本発明ではこれらを１種または２種以上使
用することができる。光重合開始剤は、感光性成分に対
し、０．０５〜１０重量％の範囲で添加され、より好ま
しくは、０．１〜５重量％である。重合開始剤の量が少
なすぎると、光感度が不良となり、光重合開始剤の量が
多すぎれば、露光部の残存率が小さくなりすぎるおそれ
がある。

【００５９】紫外線吸光剤を添加することも有効であ
る。紫外線吸収効果の高い吸光剤を添加することによっ
て高アスペクト比、高精細、高解像度が得られる。紫外
線吸光剤としては有機系染料からなるもの、中でも３５
０〜４５０ｎｍの波長範囲で高ＵＶ吸収係数を有する有
機系染料が好ましく用いられる。具体的には、アゾ系染
料、アミノケトン系染料、キサンテン系染料、キノリン
系染料、アミノケトン系染料、アントラキノン系、ベン
ゾフェノン系、ジフェニルシアノアクリレート系、トリ
アジン系、ｐ−アミノ安息香酸系染料などが使用でき
る。有機系染料は吸光剤として添加した場合にも、焼成
後の絶縁膜中に残存しないで吸光剤による絶縁膜特性の
低下を少なくできるので好ましい。これらの中でもアゾ
系およびベンゾフェノン系染料が好ましい。有機染料の
添加量は０．０５〜５重量％が好ましい。０．０５重量
％以下では紫外線吸光剤の添加効果が減少し、５重量％
を越えると焼成後の絶縁膜特性が低下するので好ましく
ない。より好ましくは０．１５〜１重量％である。有機
顔料からなる紫外線吸光剤の添加方法の一例を上げる
と、有機顔料を予め有機溶媒に溶解した溶液を作製し、
次に該有機溶媒中にガラス粉末を混合後、乾燥すること
によってできる。この方法によってガラス粉末の個々の
粉末表面に有機の膜をコートしたいわゆるカプセル状の
粉末が作製できる。

【００６０】本発明において、無機微粒子に含まれるＰ
ｂ、Ｆｅ、Ｃｄ、Ｍｎ、Ｃｏ、Ｍｇなどの金属および酸
化物がペースト中に含有する感光性成分と反応してペー
ストが短時間でゲル化し、塗布できなくなる場合があ
る。このような反応を防止するために安定化剤を添加し
てゲル化を防止することが好ましい。用いる安定化剤と
しては、トリアゾール化合物が好ましく用いられる。ト
リアゾール化合物の中でも特にベンゾトリアゾールが有
効に作用する。本発明において使用されるベンゾトリア
ゾールによるガラス粉末の表面処理の一例を上げると、
無機微粒子に対して所定の量のベンゾトリアゾールを酢
酸メチル、酢酸エチル、エチルアルコール、メチルアル
コールなどの有機溶媒に溶解した後、これら微粒子が十
分に浸すことができるように溶液中に１〜２４時間浸積
する。浸積後、好ましくは２０〜３０℃下で自然乾燥し
て溶媒を蒸発させてトリアゾール処理を行った粉末を作
製する。使用される安定化剤の割合（安定化剤／無機微
粒子）は０．０５〜５重量％が好ましい。

【００６１】増感剤は、感度を向上させるために添加さ
れる。増感剤の具体例としては、２，４−ジエチルチオ
キサントン、イソプロピルチオキサントン、２，３−ビ
ス（４−ジエチルアミノベンザル）シクロペンタノン、
２，６−ビス（４−ジメチルアミニベンザル）シクロヘ
キサノン、２，６−ビス（４−ジメチルアミノベンザ
ル）−４−メチルシクロヘキサノン、ミヒラーケトン、
４，４−ビス（ジエチルアミノ）−ベンゾフェノン、
４，４−ビス（ジメチルアミノ）カルコン、４，４−ビ
ス（ジエチルアミノ）カルコン、ｐ−ジメチルアミノシ
ンナミリデンインダノン、ｐ−ジメチルアミノベンジリ
デンインダノン、２−（ｐ−ジメチルアミノフェニルビ
ニレン）−イソナフトチアゾール、１，３−ビス（４−
ジメチルアミノベンザル）アセトン、１，３−カルボニ
ル−ビス（４−ジエチルアミノベンザル）アセトン、
３，３−カルボニル−ビス（７−ジエチルアミノクマリ
ン）、Ｎ−フェニル−Ｎ−エチルエタノールアミン、Ｎ
−フェニルエタノールアミン、Ｎ−トリルジエタノール
アミン、Ｎ−フェニルエタノールアミン、ジメチルアミ
ノ安息香酸イソアミル、ジエチルアミノ安息香酸イソア
ミル、３−フェニル−５−ベンゾイルチオテトラゾー
ル、１−フェニル−５−エトキシカルボニルチオテトラ
ゾールなどがあげられる。本発明ではこれらを１種また
は２種以上使用することができる。なお、増感剤の中に
は光重合開始剤としても使用できるものがある。増感剤
を本発明の感光性ペーストに添加する場合、その添加量
は感光性成分に対して通常０．０５〜１０重量％、より
好ましくは０．１〜１０重量％である。増感剤の量が少
なすぎれば光感度を向上させる効果が発揮されず、増感
剤の量が多すぎれば露光部の残存率が小さくなりすぎる
おそれがある。

【００６２】重合禁止剤は、保存時の熱安定性を向上さ
せるために添加される。重合禁止剤の具体的な例として
は、ヒドロキノン、ヒドロキノンのモノエステル化物、
Ｎ−ニトロソジフェニルアミン、フェノチアジン、ｐ−
ｔ−ブチルカテコール、Ｎ−フェニルナフチルアミン、
２，６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−メチルフェノール、クロ
ラニール、ピロガロールなどが挙げられる。重合禁止剤
を添加する場合、その添加量は、感光性ペースト中に、
通常、０．００１〜１重量％である。

【００６３】可塑剤の具体的な例としては、ジブチルフ
タレート、ジオクチルフタレート、ポリエチレングリコ
ール、グリセリンなどがあげられる。

【００６４】酸化防止剤は、保存時におけるアクリル系
共重合体の酸化を防ぐために添加される。酸化防止剤の
具体的な例として２，６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾ
ール、ブチル化ヒドロキシアニソール、２，６−ジ−ｔ
−４−エチルフェノール、２，２−メチレン−ビス−
（４−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、２，２−
メチレン−ビス−（４−エチル−６−ｔ−ブチルフェノ
ール）、４，４−ビス−（３−メチル−６−ｔ−ブチル
フェノール）、１，１，３−トリス−（２−メチル−６
−ｔ−ブチルフェノール）、１，１，３−トリス−（２
−メチル−４−ヒドロキシ−ｔ−ブチルフェニル）ブタ
ン、ビス［３，３−ビス−（４−ヒドロキシ−３−ｔ−
ブチルフェニル）ブチリックアシッド］グリコールエス
テル、ジラウリルチオジプロピオナート、トリフェニル
ホスファイトなどが挙げられる。酸化防止剤を添加する
場合、その添加量は通常、添加量は、ペースト中に、通
常、０．００１〜１重量％である。

【００６５】本発明の感光性ペーストには、溶液の粘度
を調整したい場合、有機溶媒を加えてもよい。このとき
使用される有機溶媒としては、メチルセロソルブ、エチ
ルセロソルブ、ブチルセロソルブ、メチルエチルケト
ン、ジオキサン、アセトン、シクロヘキサノン、シクロ
ペンタノン、イソブチルアルコール、イソプロピルアル
コール、テトラヒドロフラン、ジメチルスルフォキシ
ド、γ−ブチロラクトン、ブロモベンゼン、クロロベン
ゼン、ジブロモベンゼン、ジクロロベンゼン、ブロモ安
息香酸、クロロ安息香酸などやこれらのうちの１種以上
を含有する有機溶媒混合物が用いられる。

【００６６】有機成分の屈折率は、露光により感光性成
分を感光させる時点におけるペースト中の有機成分の屈
折率のことである。つまり、ペーストを塗布し、乾燥工
程後に露光を行う場合は、乾燥工程後のペースト中の有
機成分の屈折率のことである。

【００６７】本発明における屈折率の測定は、一般的に
行われるＶブロック法が好ましく、測定する波長は、ペ
ーストを塗布した後に、露光する光の波長で測定するこ
とが効果を確認する上で正確である。特に、３５０〜６
５０ｎｍの範囲中の波長の光で測定することが好まし
い。さらには、ｉ線（３６５ｎｍ）もしくはｇ線（４３
６ｎｍ）での屈折率測定が好ましい。

【００６８】また、有機成分が光照射によって重合した
後の屈折率を測定するためには、ペースト中に対して光
照射する場合と同様の光を有機成分のみに照射すること
によって測定できる。

【００６９】ガラス基板上に焼き付けを行うことができ
る酸化ビスマスや酸化鉛を１０重量％以上含有するガラ
ス粉末は、屈折率が１．６以上になる場合があり、この
場合は有機物の屈折率を高くする必要がある。

【００７０】この場合、有機成分中に高屈折率成分を導
入する必要があり、有機成分中に硫黄原子、臭素原子、
ヨウ素原子、ナフタレン環、ビフェニル環、アントラセ
ン環、カルバゾール環を有する化合物を１０重量％以上
用いることが高屈折率化に有効である。また、ベンゼン
環を２０重量％以上含有することによって、高屈折率化
ができる。

【００７１】特に、硫黄原子もしくはナフタレン環を１
０重量％以上含有することによって、より簡便に有機成
分を高屈折率化することができる。ただし、含有量が６
０重量％以上になると光感度が低下するという問題が発
生するので、１０〜６０重量％の範囲で含有することが
好ましい。

【００７２】有機成分の屈折率を高くする方法として
は、感光性モノマーやバインダー中に、硫黄原子、ナフ
タレン環を持つ化合物を用いることが有効である。

【００７３】分子内に硫黄原子を原子を含有するモノマ
ーとしては、次の一般式（Ａ）、（Ｂ）または（Ｃ）で
示される化合物が上げられる。構造式中のＲは水素原子
もしくはメチル基を示す。

【００７４】

【化１】 また、増感剤は、露光波長に吸収を有しているものが用
いられる、この場合、吸収波長近傍では屈折率が極端に
高くなるため、増感剤を多量に添加することによって、
屈折率を向上することができる。この場合の増感剤の添
加量としてペースト中に０．５〜１０重量％添加するこ
とができる。より好ましくは、１〜６重量％である。

【００７５】感光性ペーストは、通常、ガラス微粒子、
紫外線吸光剤、感光性ポリマー、感光性モノマー、光重
合開始剤および溶媒等の各種成分を所定の組成となるよ
うに調合した後、３本ローラや混練機で均質に混合分散
し作製する。

【００７６】ペーストの粘度は無機微粒子、増粘剤、有
機溶媒、可塑剤および沈殿防止剤などの添加割合によっ
て適宜調整されるが、その範囲は２０００〜２０万ｃｐ
ｓ（センチ・ポイズ）である。例えばガラス基板への塗
布をスピンコート法で行う場合は、２０００〜５０００
ｃｐｓが好ましい。スクリーン印刷法で１回塗布して膜
厚１０〜２０μｍを得るには、５万〜２０万ｃｐｓが好
ましい。ブレードコーター法やダイコーター法などを用
いる場合は、２０００〜２００００ｃｐｓが好ましい。

【００７７】次に本発明によって、プラズマディスプレ
イの隔壁層のパターン加工を行う一例について説明す
る。ただし、本発明はこれに限定されない。ガラス基板
やポリマー製フィルムの上に、感光性ペーストを全面塗
布、もしくは部分的に塗布する。塗布方法としては、ス
クリーン印刷、バーコーター、ロールコーター等公知の
方法を用いることができる。塗布厚みは、塗布回数、コ
ーターのギャップ、スクリーンのメッシュ、ペーストの
粘度を選ぶことによって調整できるが、プラズマディス
プレイの隔壁は１００〜２００μｍの厚みが必要であ
り、乾燥や焼成による収縮を考慮して、１２０〜３００
μｍ程度の厚みで塗布することが好ましい。

【００７８】ここでペーストとガラス基板との密着性を
高めるためにガラス基板の表面処理を行うことができ
る。表面処理液としてはシランカップリング剤、例えば
ビニルトリクロロシラン、ビニルトリメトキシシラン、
ビニルトリエトキシシラン、トリス−（２−メトキシエ
トキシ）ビニルシラン、γ−グリシドキシプロピルトリ
メトキシシラン、γ−（メタクリロキシプロピル）トリ
メトキシシラン、γ（２−アミノエチル）アミノプロピ
ルトリメトキシシラン、γ−クロロプロピルトリメトキ
シシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラ
ン、γ−アミノプロピルトリエトキシシランなどあるい
は有機金属例えば有機チタン、有機アルミニウム、有機
ジルコニウムなどである。シランカップリング剤あるい
は有機金属を有機溶媒例えばエチレングリコールモノメ
チルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテ
ル、メチルアルコール、エチルアルコール、プロピルア
ルコール、ブチルアルコールなどで０．１〜５％の濃度
に希釈したものを用いる。次にこの表面処理液をスピナ
ーなどで基板上に均一に塗布した後に８０〜１４０℃で
１０〜６０分間乾燥することによって表面処理ができる また、ポリマーフィルム上に塗布した場合、フィルム状
の感光性ペーストシート（感光性グリーンシート）をガ
ラス基板上に張り付けることによって、簡便にガラス基
板上への塗布を行うことができる。

【００７９】塗布した後、露光装置を用いて露光を行
う。露光は通常のフォトリソグラフィーで行われるよう
に、フォトマスクを用いてマスク露光する方法が一般的
である。用いるマスクは、感光性有機成分の種類によっ
て、ネガ型もしくはポジ型のどちらかを選定する。ま
た、フォトマスクを用いずに、レーザー光などで直接描
画する方法を用いても良い。露光装置としては、ステッ
パー露光機、プロキシミティ露光機等を用いることがで
きる。

【００８０】露光工程を１回だけ行うことが、複数回の
露光を行う場合に比べて、精度良く簡便に隔壁層を形成
する方法としては好ましい。

【００８１】また、大面積の露光を行う場合は、ガラス
基板などの基板上に感光性ペーストを塗布した後に、搬
送しながら露光を行うことによって、小さな有効露光面
積の露光機で、大きな面積を露光することができる。

【００８２】この際使用される活性光源は、たとえば、
可視光線、近紫外線、紫外線、電子線、Ｘ線、レーザー
光などが挙げられるが、これらの中で紫外線が好まし
く、その光源としてはたとえば低圧水銀灯、高圧水銀
灯、超高圧水銀灯、ハロゲンランプ、殺菌灯などが使用
できる。これらのなかでも超高圧水銀灯が好適である。
露光条件は塗布厚みによって異なるが、０．５〜１００
ｍＷ／ｃｍ² の出力の超高圧水銀灯を用いて０．５〜３
０分間露光を行なう。特に、露光量が０．３〜５Ｊ／ｃ
ｍ² 程度の露光を行うことが好ましい。

【００８３】塗布した感光性ペースト表面に酸素遮蔽膜
を設けることによって、パターン形状を向上することが
できる。酸素遮蔽膜の一例としては、ＰＶＡやセルロー
スなどの膜、あるいは、ポリエステルなどのフィルムが
上げられる。

【００８４】ＰＶＡ膜の形成方法は濃度が０．５〜５重
量％の水溶液をスピナーなどの方法で基板上に均一に塗
布した後に７０〜９０℃で１０〜６０分間乾燥すること
によって水分を蒸発させて行う。また水溶液中にアルコ
ールを少量添加すると絶縁膜との塗れ性が良くなり蒸発
が容易になるので好ましい。さらに好ましいＰＶＡの溶
液濃度は、１〜３重量％である。この範囲にあると感度
が一層向上する。ＰＶＡ塗布によって感度が向上するの
は次の理由が推定される。すなわち感光性成分が光反応
する際に、空気中の酸素があると光硬化の感度を妨害す
ると考えられるが、ＰＶＡの膜があると余分な酸素を遮
断できるので露光時に感度が向上するので好ましい。

【００８５】ポリエステルやポリプロピレン、ポリエチ
レン等の透明なフィルムを用いる場合は、塗布後の感光
性ペーストの上に、これらのフィルムを張り付けて用い
る方法がある。

【００８６】露光後、現像液を使用して現像を行なう
が、この場合、浸漬法やスプレー法、ブラシ法で行な
う。

【００８７】現像液は、感光性ペースト中の有機成分が
溶解可能である有機溶媒を使用できる。また該有機溶媒
にその溶解力が失われない範囲で水を添加してもよい。
感光性ペースト中にカルボキシル基等の酸性基を持つ化
合物が存在する場合、アルカリ水溶液で現像できる。ア
ルカリ水溶液として水酸化ナトリウムや水酸化カルシウ
ム水溶液などのような金属アルカリ水溶液を使用できる
が、有機アルカリ水溶液を用いた方が焼成時にアルカリ
成分を除去しやすいので好ましい。

【００８８】有機アルカリとしては、公知のアミン化合
物を用いることができる。具体的には、テトラメチルア
ンモニウムヒドロキサイド、トリメチルベンジルアンモ
ニウムヒドロキサイド、モノエタノールアミン、ジエタ
ノールアミンなどが挙げられる。アルカリ水溶液の濃度
は通常０．０１〜１０重量％、より好ましくは０．１〜
５重量％である。アルカリ濃度が低すぎれば未露光部が
除去されずに、アルカリ濃度が高すぎれば、パターン部
を剥離させ、また露光部を腐食させるおそれがあり良く
ない。また、現像時の現像温度は、２０〜５０℃で行う
ことが工程管理上好ましい。

【００８９】次に焼成炉にて焼成を行う。焼成雰囲気
や、温度はペーストや基板の種類によって異なるが、空
気中、窒素、水素等の雰囲気中で焼成する。焼成温度は
４００〜６１０℃で行う。ガラス基板上にパターン加工
する場合は、５２０〜６１０℃の温度で１０〜６０分間
保持して焼成を行う。焼成炉としては、バッチ式の焼成
炉やベルト式の連続型焼成炉を用いることができる。

【００９０】また、以上の工程中に、乾燥、予備反応の
目的で、５０〜３００℃加熱工程を導入しても良い。

【００９１】以上の工程によって得られた隔壁層を有す
るガラス基板はプラズマディスプレイの前面側もしくは
背面側に用いることができる。また、プラズマアドレス
液晶ディスプレイのアドレス部分の放電を行うための基
板として用いることができる。

【００９２】形成した隔壁層の間に蛍光体を塗布した後
に、前背面のガラス基板を合わせて封着し、ヘリウム、
ネオン、キセノン等の希ガスを封入することによって、
プラズマディスプレイのパネル部分を製造できる。

【００９３】さらに、駆動用のドライバーＩＣを実装す
ることによって、プラズマディスプレイを製造すること
ができる。

【００９４】

【実施例】以下に、本発明を実施例を用いて、具体的に
説明する。ただし、本発明はこれに限定はされない。な
お、実施例、比較例中の濃度（％）は特にことわらない
限り、重量％である。

【００９５】実施例は、ガラス微粒子および有機成分か
らなる感光性ペーストを作成した。作成手順は、まず、
有機成分の各成分を８０℃に加熱しながら溶解し、その
後、ガラス微粒子を添加し、混練機で混練することによ
ってペーストを作成した。ペーストの粘度は、溶媒の量
で調整した。本実施例では、γ−ブチルラクトンを１０
〜４０％の範囲で使用した。

【００９６】次に、３０ｃｍ角のソーダガラス基板上
に、スクリーン印刷法による複数回塗布によって、１０
０μｍ、１５０μｍ、２００μｍの塗布厚みになるよう
に塗布を行った後、８０℃で３０分乾燥した。

【００９７】次に、フォトマスクを介して露光を行っ
た。マスクは、ピッチ２２０μｍ、線幅６０μｍ、プラ
ズマディスプレイにおけるストライプ状の隔壁パターン
形成が可能になるように設計したクロムマスクを用い
た。露光は、５０ｍＷ／ｃｍ² の出力の超高圧水銀灯で
２分間紫外線露光を行った。その後、モノエタノールア
ミンの１％水溶液に浸漬して、現像を行った。

【００９８】さらに、得られたガラス基板を１２０℃で
１時間乾燥した後、５８０℃もしくは８５０℃で１時間
焼成を行った。焼成により約２０％程度の収縮が生じ
る。

【００９９】評価は、パターン形状（線幅５０μｍ、高
さ８０μｍもしくは１２０μｍ、ピッチ２２０μｍがタ
ーゲット）を電子顕微鏡観察によって観察した。高さ８
０μｍ、１２０μｍ、１６０μｍ共に良好な形状が得ら
れている場合は○、８０μｍのみ良好な形状が得られて
いる場合を△、８０μｍ、１２０μｍの両方とも欠落な
どにより良好な形状が得られていない場合を×として評
価を行った。

【０１００】１８０μｍ厚みの塗布を行って、パターン
形成した結果、良好なパターンが形成できるものについ
ては、◎として評価した。

【０１０１】また、有機成分の屈折率は、ペースト中の
有機成分だけを調整して、乾燥工程を経た後、エリプソ
メトリー法によって、２５℃における４３６ｎｍの波長
の光に関して測定を行った。

【０１０２】また、実施例中のペースト組成は乾燥後工
程後の組成である。乾燥前の組成は、溶媒であるγ−ブ
チルラクトンの量がペースト中に１５％になっている以
外は、表中の組成比である。

【０１０３】実施例１〜７ 表１に示す組成の感光性ペーストを用いて、パターン作
成を行った。焼成は、５６０℃で行った。

【０１０４】比較例１ 表１に示す組成の感光性ペーストを用いて、パターン作
成を行った。焼成は、５６０℃で行った。

【０１０５】

【表１】

【表２】 表中の略称に関して、次に示す。

【０１０６】（ポリマー１〜２の構造中の数字は、それ
ぞれのモノマーの構成モル比を示す） ＴＭＰＴＡ ：トリメチロールプロパントリアクリレート ＴＢＰＭＡ ：トリブロモフェニルメタクリレート ＴＢＢ−ＡＤＡ ：テトラブロモビスフェノールＡジアクリレート ＢＭＥＸＳ−ＭＡ：

【化２】 ＭＰＳ−ＭＡ ：

【化３】 ＰＶＡ ：ポリビニルアルコール スダン ：アゾ系染料、Ｃ₂₄Ｈ₂₀Ｎ₄ Ｏユヒ゜ナール D-50 ：ベンゾフェノン系染料（ユピナールＤ−５０）Ｃ₁₃Ｈ₁₀Ｏ₅ ＭＴＰＭＰ ：２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２− モルホリノプロパン−１ ＥＰＡ ：ｐ−ジメチルアミノ安息香酸エチルエステル ＤＥＴ ：２，４−ジエチルチオキサントン γ−ＢＬ ：γ−ブチロラクトン ポリマー１ ：

【化４】 ポリマー２ ：

【化５】

【０１０７】

【発明の効果】本発明のプラズマディスプレイの製造方
法によって、高精度の隔壁を簡便な工程で形成できる。

Claims (25)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】ガラス基板上に感光性化合物を含む有機成
   分とガラス微粒子を必須成分とする感光性ペーストを塗
   布する塗布工程、露光工程、現像工程、焼成工程を経
   て、ガラス成分を６０重量％以上含む絶縁パターンを形
   成することを特徴とするプラズマディスプレイの製造方
   法。
2. 【請求項２】露光工程において１回の光照射で露光を行
   うことを特徴とする請求項１記載のプラズマディスプレ
   イの製造方法。
3. 【請求項３】絶縁パターンが隔壁であることを特徴とす
   る請求項１記載のプラズマディスプレイの製造方法。
4. 【請求項４】塗布工程において塗布厚みが１２０〜３０
   ０μｍであり、露光工程において１回の光照射で露光を
   行い、１００〜２００μｍ厚みの隔壁を得ることを特徴
   とする請求項１記載のプラズマディスプレイの製造方
   法。
5. 【請求項５】感光性ペースト中のガラス微粒子の平均屈
   折率Ｎ１と有機成分の平均屈折率Ｎ２が、次式を満たす
   ペーストを用いることを特徴とする請求項１記載のプラ
   ズマディスプレイの製造方法。 −０．１＜Ｎ１−Ｎ２＜０．１
6. 【請求項６】感光性ペースト中のガラス微粒子の平均屈
   折率Ｎ１と有機成分の平均屈折率Ｎ２とに関して、次式
   を満たすペーストを用いることを特徴とする請求項１記
   載のプラズマディスプレイの製造方法。 ０＜Ｎ１−Ｎ２＜０．０７
7. 【請求項７】平均屈折率が１．５〜１．７の範囲のガラ
   ス微粒子を用いることを特徴とする請求項１記載のプラ
   ズマディスプレイの製造方法。
8. 【請求項８】平均屈折率が１．５５〜１．６５の範囲の
   ガラス微粒子を用いることを特徴とする請求項１記載の
   プラズマディスプレイの製造方法。
9. 【請求項９】５０〜９５重量％のガラス微粒子と５〜５
   ０重量％の有機成分を含むペーストを用いることを特徴
   とする請求項１記載のプラズマディスプレイの製造方
   法。
10. 【請求項１０】ガラス微粒子として、熱軟化温度が３５
    ０〜６００℃のガラス微粒子を用いることを特徴とする
    請求項１記載のプラズマディスプレイの製造方法。
11. 【請求項１１】ガラス微粒子として、酸化ビスマス、酸
    化鉛のうち少なくとも１種類を含有し、その含有率の合
    計が５〜５０重量％のガラス微粒子を用いることを特徴
    とする請求項１記載のプラズマディスプレイの製造方
    法。
12. 【請求項１２】ガラス微粒子として、酸化リチウム、酸
    化ナトリウム、酸化カリウムのうち少なくとも１種類を
    含有し、その含有率の合計が３〜２０重量％のガラス微
    粒子を用いることを特徴とする請求項１記載のプラズマ
    ディスプレイの製造方法。
13. 【請求項１３】ガラス微粒子として、酸化リチウムを３
    〜２０重量％含有するガラス微粒子を用いることを特徴
    とする請求項１記載のプラズマディスプレイの製造方
    法。
14. 【請求項１４】ガラス微粒子として、酸化ビスマスを５
    〜３０重量％含有し、かつ、酸化リチウム、酸化ナトリ
    ウム、酸化カリウムのうち少なくとも１種類を３〜１５
    重量％含有するガラス微粒子を用いることを特徴とする
    請求項１記載のプラズマディスプレイの製造方法。
15. 【請求項１５】ガラス微粒子として、酸化珪素を３〜６
    ０重量％、酸化ホウ素を５〜５０重量％含有するガラス
    微粒子を用いることを特徴とする請求項１記載のプラズ
    マディスプレイの製造方法。
16. 【請求項１６】ガラス微粒子として、酸化珪素を３〜６
    ０重量％、酸化ホウ素を５〜５０重量％、酸化バリウム
    を１〜３０重量％、酸化アルミニウムを１〜３０重量％
    含有するガラス微粒子を用いることを特徴とする請求項
    １記載のプラズマディスプレイの製造方法。
17. 【請求項１７】ガラス微粒子として、球形率８０個数％
    以上のガラス微粒子を用いることを特徴とする請求項１
    記載のプラズマディスプレイの製造方法。
18. 【請求項１８】ガラス微粒子として、線熱膨張係数が６
    ０〜９０×１０^-7のガラス微粒子を用いることを特徴と
    する請求項１記載のプラズマディスプレイの製造方法。
19. 【請求項１９】有機成分中に、分子内にカルボキシル基
    を含有する重量平均分子量５００〜１０万のオリゴマー
    もしくはポリマーを１０〜９０重量％含むことを特徴と
    する請求項１記載のプラズマディスプレイの製造方法。
20. 【請求項２０】有機成分中に、分子内に不飽和二重結合
    を有する重量平均分子量５００〜１０万のオリゴマーも
    しくはポリマーを１０〜９０重量％含むことを特徴とす
    る請求項１記載のプラズマディスプレイの製造方法。
21. 【請求項２１】有機成分中に、分子内にカルボキシル基
    と不飽和二重結合を含有する重量平均分子量５００〜１
    ０万のオリゴマーもしくはポリマーを１０〜９０重量％
    含むことを特徴とする請求項１記載のプラズマディスプ
    レイの製造方法。
22. 【請求項２２】有機成分中に、多官能のアクリレート化
    合物および／またはメタアクリレート化合物を１０〜８
    ０重量％含むことを特徴とする請求項１記載のプラズマ
    ディスプレイの製造方法。
23. 【請求項２３】有機成分中に、ベンゼン環、ナフタレン
    環、硫黄原子を合計で１０〜６０重量％含有することを
    特徴とする請求項１記載のプラズマディスプレイの製造
    方法。
24. 【請求項２４】有機成分中に、紫外線吸収特性を持つ化
    合物を０．０５〜５重量％含有することを特徴とする請
    求項１記載のプラズマディスプレイの製造方法。
25. 【請求項２５】紫外線吸収特性を持つ化合物として、有
    機染料を用いることを特徴とする請求項２４記載のプラ
    ズマディスプレイの製造方法。