JPH09221520A - 光学活性メタ置換ｎ，ｎ−ジフェニルアクリルアミド重合体およびその製造法 - Google Patents
光学活性メタ置換ｎ，ｎ−ジフェニルアクリルアミド重合体およびその製造法Info
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- JPH09221520A JPH09221520A JP2767196A JP2767196A JPH09221520A JP H09221520 A JPH09221520 A JP H09221520A JP 2767196 A JP2767196 A JP 2767196A JP 2767196 A JP2767196 A JP 2767196A JP H09221520 A JPH09221520 A JP H09221520A
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F20/00—Homopolymers and copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical or a salt, anhydride, ester, amide, imide or nitrile thereof
- C08F20/02—Monocarboxylic acids having less than ten carbon atoms, Derivatives thereof
- C08F20/52—Amides or imides
- C08F20/54—Amides, e.g. N,N-dimethylacrylamide or N-isopropylacrylamide
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- Investigating Or Analysing Materials By The Use Of Chemical Reactions (AREA)
- Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 光学材料としての利用が期待できる新規な光
学活性ポリマ−を提供する。 【解決手段】 下記の式（１）で表される構成単位を主
体とし、重合度が５以上である光学活性メタ置換Ｎ，Ｎ
−ジフェニルアクリルアミド重合体、およびその製造
法。 【化１】 （式中、Ｘは、炭素数８以下のアルキル基、炭素数８以
下のアルコキシ基、ハロゲン原子より選ばれる原子団，
または原子である。）
学活性ポリマ−を提供する。 【解決手段】 下記の式（１）で表される構成単位を主
体とし、重合度が５以上である光学活性メタ置換Ｎ，Ｎ
−ジフェニルアクリルアミド重合体、およびその製造
法。 【化１】 （式中、Ｘは、炭素数８以下のアルキル基、炭素数８以
下のアルコキシ基、ハロゲン原子より選ばれる原子団，
または原子である。）
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、光学活性メタ置換
Ｎ，Ｎ−ジフェニルアクリルアミド重合体およびその製
造法に関するものである。この光学活性メタ置換Ｎ，Ｎ
−ジフェニルアクリルアミド重合体は大きな旋光度を有
し、光学異性体分離用材料などの光学的機能材料として
期待できるものである。
Ｎ，Ｎ−ジフェニルアクリルアミド重合体およびその製
造法に関するものである。この光学活性メタ置換Ｎ，Ｎ
−ジフェニルアクリルアミド重合体は大きな旋光度を有
し、光学異性体分離用材料などの光学的機能材料として
期待できるものである。
【０００２】
【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】光学分
割剤、液晶、非線形光学材料などの機能材料として利用
されている光学活性な高分子物質は、従来から多く知ら
れている。例えば、特開昭５６−１０６９０７号公報に
は光学活性なメタクリル酸トリフェニルメチルの重合体
が開示され、この物質はらせん構造を有しており、高い
旋光度を示し、光学分割剤として有用であることが記載
されている。また、特開昭５６−１６７７０８号公報に
は光学活性なアクリル酸アミドの重合体が開示され、こ
の物質はその分子不斉に基づいて大きな旋光性を示し、
光学分割剤に用いられることが記載されている。さら
に、特開昭６３−１４４６公報には光学活性なポリ（メ
タ）アクリルアミド化合物が開示され、この物質は側鎖
に光学活性基を有しており、ラセミ体混合物をそれらの
光学対掌体に分離するための吸着剤として有用なことが
記されている。そして、特開平１−７９２３０公報には
光学活性な高分子化合物を用いた液晶組成物が開示され
ている。
割剤、液晶、非線形光学材料などの機能材料として利用
されている光学活性な高分子物質は、従来から多く知ら
れている。例えば、特開昭５６−１０６９０７号公報に
は光学活性なメタクリル酸トリフェニルメチルの重合体
が開示され、この物質はらせん構造を有しており、高い
旋光度を示し、光学分割剤として有用であることが記載
されている。また、特開昭５６−１６７７０８号公報に
は光学活性なアクリル酸アミドの重合体が開示され、こ
の物質はその分子不斉に基づいて大きな旋光性を示し、
光学分割剤に用いられることが記載されている。さら
に、特開昭６３−１４４６公報には光学活性なポリ（メ
タ）アクリルアミド化合物が開示され、この物質は側鎖
に光学活性基を有しており、ラセミ体混合物をそれらの
光学対掌体に分離するための吸着剤として有用なことが
記されている。そして、特開平１−７９２３０公報には
光学活性な高分子化合物を用いた液晶組成物が開示され
ている。
【０００３】Ｎ，Ｎ−ジフェニルアクリルアミドは、キ
ラルなアニオン開始剤を用いて重合を行うことにより、
光学活性なポリマ−を与え、光学分割剤として有用であ
ることが、すでに前記の特開昭５６−１６７７０８号公
報に報告されている。しかしながら、そのポリマ−の旋
光度は十分に大きな値であるとはいえず、光学分割剤と
しても分離対象とする化合物は限られている。
ラルなアニオン開始剤を用いて重合を行うことにより、
光学活性なポリマ−を与え、光学分割剤として有用であ
ることが、すでに前記の特開昭５６−１６７７０８号公
報に報告されている。しかしながら、そのポリマ−の旋
光度は十分に大きな値であるとはいえず、光学分割剤と
しても分離対象とする化合物は限られている。
【０００４】このような背景に基づき、本発明が解決し
ようとする課題は、Ｎ，Ｎ−ジフェニルアクリルアミド
重合体よりも優れた光学的物性が期待できる、Ｎ，Ｎ−
ジフェニルアクリルアミド誘導体の重合体およびその製
造法を提供することである。
ようとする課題は、Ｎ，Ｎ−ジフェニルアクリルアミド
重合体よりも優れた光学的物性が期待できる、Ｎ，Ｎ−
ジフェニルアクリルアミド誘導体の重合体およびその製
造法を提供することである。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、鋭意研究
を重ねた結果、Ｎ，Ｎ−ジフェニルアクリルアミドの一
方のベンゼン環のメタ位に置換基を有するメタ置換Ｎ，
Ｎ−ジフェニルアクリルアミドの重合体が目的に適うこ
とを見い出だし、本発明を完成するに至った。即ち、本
発明は、下記の式（１）で表される構成単位を主体と
し、重合度が５以上である光学活性メタ置換Ｎ，Ｎ−ジ
フェニルアクリルアミド重合体およびその製造法を提供
するものである。
を重ねた結果、Ｎ，Ｎ−ジフェニルアクリルアミドの一
方のベンゼン環のメタ位に置換基を有するメタ置換Ｎ，
Ｎ−ジフェニルアクリルアミドの重合体が目的に適うこ
とを見い出だし、本発明を完成するに至った。即ち、本
発明は、下記の式（１）で表される構成単位を主体と
し、重合度が５以上である光学活性メタ置換Ｎ，Ｎ−ジ
フェニルアクリルアミド重合体およびその製造法を提供
するものである。
【０００６】
【化２】 （式中、Ｘは、炭素数８以下のアルキル基、炭素数８以
下のアルコキシ基、ハロゲン原子より選ばれる原子団、
または原子である。）
下のアルコキシ基、ハロゲン原子より選ばれる原子団、
または原子である。）
【０００７】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て詳細に説明する。
て詳細に説明する。
【０００８】本発明の光学活性メタ置換Ｎ，Ｎ−ジフェ
ニルアクリルアミド重合体は、上記の式（１）で表され
る構成単位を主体とするものであるが、Ｘで表される置
換基としては、炭素数８以下のアルキル基、炭素数８以
下のアルコキシ基、ハロゲン原子より選ばれる原子団、
または原子である。上記のアルキル基の具体例として
は、メチル基、エチル基、ブチル基などが挙げられる
が、好ましくはメチル基である。上記のアルコキシ基の
具体例としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ
基などが挙げられるが、好ましくはメトキシ基である。
上記のハロゲン原子の具体例としては、フッ素、塩素、
臭素などが挙げられるが、好ましくは塩素である。
ニルアクリルアミド重合体は、上記の式（１）で表され
る構成単位を主体とするものであるが、Ｘで表される置
換基としては、炭素数８以下のアルキル基、炭素数８以
下のアルコキシ基、ハロゲン原子より選ばれる原子団、
または原子である。上記のアルキル基の具体例として
は、メチル基、エチル基、ブチル基などが挙げられる
が、好ましくはメチル基である。上記のアルコキシ基の
具体例としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ
基などが挙げられるが、好ましくはメトキシ基である。
上記のハロゲン原子の具体例としては、フッ素、塩素、
臭素などが挙げられるが、好ましくは塩素である。
【０００９】本発明の光学活性メタ置換Ｎ，Ｎ−ジフェ
ニルアクリルアミド重合体の構成単位を形成するモノマ
−であるメタ置換Ｎ，Ｎ−ジフェニルアクリルアミド
は、公知の方法で製造できる。即ち、それぞれ対応する
メタ置換ジフェニルアミンとアクリル酸クロリドを、過
剰のメタ置換ジフェニルアミンまたは他のアミンの存在
下に、反応させることによって得られる。
ニルアクリルアミド重合体の構成単位を形成するモノマ
−であるメタ置換Ｎ，Ｎ−ジフェニルアクリルアミド
は、公知の方法で製造できる。即ち、それぞれ対応する
メタ置換ジフェニルアミンとアクリル酸クロリドを、過
剰のメタ置換ジフェニルアミンまたは他のアミンの存在
下に、反応させることによって得られる。
【００１０】本発明の光学活性メタ置換Ｎ，Ｎ−ジフェ
ニルアクリルアミド重合体を得るための重合法はイオン
重合である。重合に用いられる重合開始剤は、光学活性
なアニオン触媒であり、これはフルオレニルリチウムと
不斉配位子からなる錯体である。不斉配位子の具体例と
しては、（−）−スパルティン、（＋）−（２Ｓ，３
Ｓ）−２，３−ジメトキシ−１，４−ビス（ジメチルア
ミノ）ブタン、（＋）−（Ｓ）−１−（２−ピロジニル
メチル）ピロリジンなどが挙げられるが、好ましくは
（−）−スパルティンで、これは重合体の旋光度を大き
くするのに最も効果的である。
ニルアクリルアミド重合体を得るための重合法はイオン
重合である。重合に用いられる重合開始剤は、光学活性
なアニオン触媒であり、これはフルオレニルリチウムと
不斉配位子からなる錯体である。不斉配位子の具体例と
しては、（−）−スパルティン、（＋）−（２Ｓ，３
Ｓ）−２，３−ジメトキシ−１，４−ビス（ジメチルア
ミノ）ブタン、（＋）−（Ｓ）−１−（２−ピロジニル
メチル）ピロリジンなどが挙げられるが、好ましくは
（−）−スパルティンで、これは重合体の旋光度を大き
くするのに最も効果的である。
【００１１】重合は、溶媒中で実施される。溶媒は、モ
ノマ−およびポリマ−を、少なくとも低重合体の間は、
溶解するものであればいかなるものでもよいが、アニオ
ン重合および光学活性な重合を阻害するものは、もちろ
ん使えない。使用される溶媒の具体例としては、ベンゼ
ン、トルエン、ジオキサン、ジエチルエ−テル、ヘキサ
ン−ベンゼン混合物、ヘキサン−トルエン混合物、テト
ラヒドロフランなどが挙げられる。
ノマ−およびポリマ−を、少なくとも低重合体の間は、
溶解するものであればいかなるものでもよいが、アニオ
ン重合および光学活性な重合を阻害するものは、もちろ
ん使えない。使用される溶媒の具体例としては、ベンゼ
ン、トルエン、ジオキサン、ジエチルエ−テル、ヘキサ
ン−ベンゼン混合物、ヘキサン−トルエン混合物、テト
ラヒドロフランなどが挙げられる。
【００１２】重合温度は、−１５０〜０℃、好ましくは
−１２０〜−５０℃である。
−１２０〜−５０℃である。
【００１３】本発明による光学活性メタ置換Ｎ，Ｎ−ジ
フェニルアクリルアミド重合体の製造は、リビング重合
で行われるので、反応終了後、アルコ−ルなどで末端封
鎖することが好ましい。
フェニルアクリルアミド重合体の製造は、リビング重合
で行われるので、反応終了後、アルコ−ルなどで末端封
鎖することが好ましい。
【００１４】本発明の光学活性メタ置換Ｎ，Ｎ−ジフェ
ニルアクリルアミド重合体の重合度は、５以上であり、
好ましくは２０以上である。そして、この重合体は、Ｍ
ｗ／Ｍｎの値が１に近く、狭い分子量分布を持つ。ま
た、高い旋光度を有する。
ニルアクリルアミド重合体の重合度は、５以上であり、
好ましくは２０以上である。そして、この重合体は、Ｍ
ｗ／Ｍｎの値が１に近く、狭い分子量分布を持つ。ま
た、高い旋光度を有する。
【００１５】
【実施例】以下、実施例によって本発明を具体的に説明
するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【００１６】実施例１Ｎ−（３−メトキシフェニル）−Ｎ−フェニルアクリル
アミドの合成 乾燥、窒素置換した反応容器に、ベンゼン（３００ｍ
Ｌ）、Ｎ−（３−メトキシフェニル）−Ｎ−フェニルア
ミン（２５０ｍｍｏｌ）、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン
（３２ｍＬ、２５２ｍｍｏｌ）を加え、０℃に冷却した
後、撹拌下に、ゆっくりとアクリル酸クロリド（２２ｍ
Ｌ、２７１ｍｍｏｌ）を滴下した。０℃で１時間、室温
で１８時間撹拌した後、１Ｎ塩酸（２００ｍＬ）を加え
た。水層をエ−テル（１００ｍＬ×２）で抽出し、得ら
れた有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液（３００ｍ
Ｌ）で洗浄後、硫酸ナトリウムを加えて乾燥した。濾過
後、溶媒を濃縮することにより粗生成物を得た。この粗
生成物をエ−テル／ヘキサンより再結晶することにより
精製し、Ｎ−（３−メトキシフェニル）−Ｎ−フェニル
アクリルアミドを得た。
アミドの合成 乾燥、窒素置換した反応容器に、ベンゼン（３００ｍ
Ｌ）、Ｎ−（３−メトキシフェニル）−Ｎ−フェニルア
ミン（２５０ｍｍｏｌ）、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン
（３２ｍＬ、２５２ｍｍｏｌ）を加え、０℃に冷却した
後、撹拌下に、ゆっくりとアクリル酸クロリド（２２ｍ
Ｌ、２７１ｍｍｏｌ）を滴下した。０℃で１時間、室温
で１８時間撹拌した後、１Ｎ塩酸（２００ｍＬ）を加え
た。水層をエ−テル（１００ｍＬ×２）で抽出し、得ら
れた有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液（３００ｍ
Ｌ）で洗浄後、硫酸ナトリウムを加えて乾燥した。濾過
後、溶媒を濃縮することにより粗生成物を得た。この粗
生成物をエ−テル／ヘキサンより再結晶することにより
精製し、Ｎ−（３−メトキシフェニル）−Ｎ−フェニル
アクリルアミドを得た。
【００１７】ｍｐ．…５２．０−５３．０℃ ＩＲ（ＫＢｒ）…１６６９、１５８９、１４９１、１４
０６、１３４０、１２３２、７０２ｃｍ-1 1 Ｈ−ＮＭＲ（５００ＭＨｚ）…δ３．７８（ｓ、３
Ｈ、ＣＨ3 ）、５．６３（ｄｄ、１Ｈ、Ｊ＝２．０、１
０．５Ｈｚ、ｖｉｎｙｌ）、６．２１（ｄｄ、１Ｈ、Ｊ
＝１０．５、１６．５Ｈｚ、ｖｉｎｙｌ）、６．４７
（ｄｄ、１Ｈ、Ｊ＝２．０、１６．５Ｈｚ、ｖｉｎｙ
ｌ）、６．８−７．４（ｍ．９Ｈ、ａｒｏｍａｔｉｃ） 元素分析…計算値Ｃ７５．８７、Ｈ５．９７、Ｎ５．５
３ 測定値Ｃ７５．６７、Ｈ５．９６、Ｎ５．４９Ｎ−（３−メトキシフェニル）−Ｎ−フェニルアクリル
アミドの重合 トルエンは精製しナトリウムで乾燥して蒸留したものに
少量のｎ−ブチルリチウムを加えて保存し、重合直前に
真空蒸留して用いた。また、（−）−スパルティンはＣ
ａＨ2 で乾燥したものを真空蒸留して用いた。
０６、１３４０、１２３２、７０２ｃｍ-1 1 Ｈ−ＮＭＲ（５００ＭＨｚ）…δ３．７８（ｓ、３
Ｈ、ＣＨ3 ）、５．６３（ｄｄ、１Ｈ、Ｊ＝２．０、１
０．５Ｈｚ、ｖｉｎｙｌ）、６．２１（ｄｄ、１Ｈ、Ｊ
＝１０．５、１６．５Ｈｚ、ｖｉｎｙｌ）、６．４７
（ｄｄ、１Ｈ、Ｊ＝２．０、１６．５Ｈｚ、ｖｉｎｙ
ｌ）、６．８−７．４（ｍ．９Ｈ、ａｒｏｍａｔｉｃ） 元素分析…計算値Ｃ７５．８７、Ｈ５．９７、Ｎ５．５
３ 測定値Ｃ７５．６７、Ｈ５．９６、Ｎ５．４９Ｎ−（３−メトキシフェニル）−Ｎ−フェニルアクリル
アミドの重合 トルエンは精製しナトリウムで乾燥して蒸留したものに
少量のｎ−ブチルリチウムを加えて保存し、重合直前に
真空蒸留して用いた。また、（−）−スパルティンはＣ
ａＨ2 で乾燥したものを真空蒸留して用いた。
【００１８】重合開始剤は以下のように調製した。ガラ
スアンプル中、フルオレン０．１０ｇ（０．６０ｍｍｏ
ｌ）のトルエン（１．９ｍＬ）溶液にｎ−ブチルリチウ
ムのヘプタン溶液０．５０ｍＬ（１．２３Ｍ）を加え、
よく撹拌した後、（−）−スパルティンのトルエン溶液
０．５０ｍＬ（１．４７Ｍ）を加えることにより、フル
オレニルリチウム−（−）−スパルティン錯体のトルエ
ン溶液（０．２０Ｍ）を得た。
スアンプル中、フルオレン０．１０ｇ（０．６０ｍｍｏ
ｌ）のトルエン（１．９ｍＬ）溶液にｎ−ブチルリチウ
ムのヘプタン溶液０．５０ｍＬ（１．２３Ｍ）を加え、
よく撹拌した後、（−）−スパルティンのトルエン溶液
０．５０ｍＬ（１．４７Ｍ）を加えることにより、フル
オレニルリチウム−（−）−スパルティン錯体のトルエ
ン溶液（０．２０Ｍ）を得た。
【００１９】乾燥したガラスアンプル中にＮ−（３−メ
トキシフェニル）−Ｎ−フェニルアクリルアミド０．５
０ｇ（１．９７ｍｍｏｌ）を加え、乾燥窒素で置換した
後、三方コックを取り付けた。これにトルエン１０ｍＬ
を加え、モノマ−を溶解した後、−９８℃に冷却した。
アンプルをよく振り混ぜながら、上記錯体のトルエン溶
液０．５０ｍＬ（０．１０ｍｍｏｌ）を添加し、重合を
開始した。２時間後、少量のメタノ−ルを加えて重合を
停止し、重合混合物を大量のメタノ−ル（約２００ｍ
Ｌ）に沈殿させ、不溶部を遠心分離により回収した。さ
らに、得られた不溶部を真空乾燥（６０℃、７時間）す
ることにより、光学活性ポリ［Ｎ−（３−メトキシフェ
ニル）−Ｎ−フェニルアクリルアミド］（４６５ｍｇ、
９３％）を得た。得られたポリマ−の比旋光度は［α］
365 25＝−１３０゜（ＣＨＣｌ3 、ｃ＝１．０）であっ
た。
トキシフェニル）−Ｎ−フェニルアクリルアミド０．５
０ｇ（１．９７ｍｍｏｌ）を加え、乾燥窒素で置換した
後、三方コックを取り付けた。これにトルエン１０ｍＬ
を加え、モノマ−を溶解した後、−９８℃に冷却した。
アンプルをよく振り混ぜながら、上記錯体のトルエン溶
液０．５０ｍＬ（０．１０ｍｍｏｌ）を添加し、重合を
開始した。２時間後、少量のメタノ−ルを加えて重合を
停止し、重合混合物を大量のメタノ−ル（約２００ｍ
Ｌ）に沈殿させ、不溶部を遠心分離により回収した。さ
らに、得られた不溶部を真空乾燥（６０℃、７時間）す
ることにより、光学活性ポリ［Ｎ−（３−メトキシフェ
ニル）−Ｎ−フェニルアクリルアミド］（４６５ｍｇ、
９３％）を得た。得られたポリマ−の比旋光度は［α］
365 25＝−１３０゜（ＣＨＣｌ3 、ｃ＝１．０）であっ
た。
【００２０】得られたポリマ−２０ｍｇを反応容器にと
り、メタノ−ル０．４ｍＬを加え、続いて冷却しなが
ら、ゆっくりと濃硫酸０．６ｍＬを滴下した。反応混合
物を約９０℃で２４時間撹拌した後、１Ｎ塩酸（約１０
ｍＬ）を加え、遠心分離によりポリマ−を回収した。さ
らに数回ポリマ−を１Ｎ塩酸で洗浄（約１０ｍＬ×２）
し、真空乾燥（４０℃、２時間）した。続いて、得られ
たポリマ−にベンゼン１ｍＬを加え、ジアゾメタンのエ
−テル溶液を加え撹拌することにより、メチルエステル
へと変換した。ヘキサン１０ｍＬを加え、沈殿したポリ
マ−を遠心分離することにより回収した。さらに得られ
たポリマ−を真空乾燥（６０℃、２時間）し、ポリ（ア
クリル酸メチル）（約８ｍｇ）を得た。得られたポリマ
−のＮＭＲ測定（５００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ3 、６０℃）
より、２連子のタクチシチ−（ｍ：ｒ＝５８：４２）を
決定した。また、ＧＰＣ分析（ＴＳＫＧ４０００Ｈ8 ＋
Ｓｈｏｄｅｘ８０２．５、ＣＨＣｌ3 、ポリスチレン
スタンダ−ド）により、平均重合度５２、Ｍｗ／Ｍｎ＝
１．０６であることをそれぞれ決定した。
り、メタノ−ル０．４ｍＬを加え、続いて冷却しなが
ら、ゆっくりと濃硫酸０．６ｍＬを滴下した。反応混合
物を約９０℃で２４時間撹拌した後、１Ｎ塩酸（約１０
ｍＬ）を加え、遠心分離によりポリマ−を回収した。さ
らに数回ポリマ−を１Ｎ塩酸で洗浄（約１０ｍＬ×２）
し、真空乾燥（４０℃、２時間）した。続いて、得られ
たポリマ−にベンゼン１ｍＬを加え、ジアゾメタンのエ
−テル溶液を加え撹拌することにより、メチルエステル
へと変換した。ヘキサン１０ｍＬを加え、沈殿したポリ
マ−を遠心分離することにより回収した。さらに得られ
たポリマ−を真空乾燥（６０℃、２時間）し、ポリ（ア
クリル酸メチル）（約８ｍｇ）を得た。得られたポリマ
−のＮＭＲ測定（５００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ3 、６０℃）
より、２連子のタクチシチ−（ｍ：ｒ＝５８：４２）を
決定した。また、ＧＰＣ分析（ＴＳＫＧ４０００Ｈ8 ＋
Ｓｈｏｄｅｘ８０２．５、ＣＨＣｌ3 、ポリスチレン
スタンダ−ド）により、平均重合度５２、Ｍｗ／Ｍｎ＝
１．０６であることをそれぞれ決定した。
【００２１】実施例２Ｎ−フェニル−Ｎ−（３−トリル）アクリルアミドの合
成 乾燥、窒素置換した反応容器に、ベンゼン（３００ｍ
Ｌ）、Ｎ−フェニル−Ｎ−（３−トリル）アミン（２５
０ｍｍｏｌ）、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン（３２ｍＬ、
２５２ｍｍｏｌ）を加え、０℃に冷却した後、撹拌下
に、ゆっくりとアクリル酸クロリド（２２ｍＬ、２７１
ｍｍｏｌ）を滴下した。０℃で１時間、室温で１８時間
撹拌した後、１Ｎ塩酸（２００ｍＬ）を加えた。水層を
エ−テル（１００ｍＬ×２）で抽出し、得られた有機層
を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液（３００ｍＬ）で洗浄
後、硫酸ナトリウムを加えて乾燥した。濾過後、溶媒を
濃縮することにより粗生成物を得た。この粗生成物をカ
ラムクロマトグラフィ−（エ−テル／ヘキサン＝１／
４）により精製し、Ｎ−フェニル−Ｎ−（３−トリル）
アクリルアミドを得た。
成 乾燥、窒素置換した反応容器に、ベンゼン（３００ｍ
Ｌ）、Ｎ−フェニル−Ｎ−（３−トリル）アミン（２５
０ｍｍｏｌ）、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン（３２ｍＬ、
２５２ｍｍｏｌ）を加え、０℃に冷却した後、撹拌下
に、ゆっくりとアクリル酸クロリド（２２ｍＬ、２７１
ｍｍｏｌ）を滴下した。０℃で１時間、室温で１８時間
撹拌した後、１Ｎ塩酸（２００ｍＬ）を加えた。水層を
エ−テル（１００ｍＬ×２）で抽出し、得られた有機層
を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液（３００ｍＬ）で洗浄
後、硫酸ナトリウムを加えて乾燥した。濾過後、溶媒を
濃縮することにより粗生成物を得た。この粗生成物をカ
ラムクロマトグラフィ−（エ−テル／ヘキサン＝１／
４）により精製し、Ｎ−フェニル−Ｎ−（３−トリル）
アクリルアミドを得た。
【００２２】ＩＲ（ｎｅａｔ）…１６７１、１６０５、
１４９３、１４０６、１３３０、９８２、７８７、７０
２ｃｍ-1 1 Ｈ−ＮＭＲ（５００ＭＨｚ）…δ２．３３（ｓ、３
Ｈ、ＣＨ3 ）、５．６２（ｄｄ、１Ｈ、Ｊ＝２．０、１
０．５Ｈｚ、ｖｉｎｙｌ）、６．２０（ｄｄ、１Ｈ、Ｊ
＝１０．５、１６．５Ｈｚ、ｖｉｎｙｌ）、６．４６
（ｄｄ、１Ｈ、Ｊ＝２．０、１６．５Ｈｚ、ｖｉｎｙ
ｌ）、７．０−７．４（ｍ．９Ｈ、ａｒｏｍａｔｉｃ） ＭＳ（ＦＤ）…ｍ／ｚ ２３７（Ｍ+ ）Ｎ−フェニル−Ｎ−（３−トリル）アクリルアミドの重
合 実施例１と同様にして重合を行った。その結果、収率７
５％、［α］365 25＝−１４２゜（ＣＨＣｌ3 、ｃ＝
１．０）、平均重合度４３、Ｍｗ／Ｍｎ＝１．１０であ
った。
１４９３、１４０６、１３３０、９８２、７８７、７０
２ｃｍ-1 1 Ｈ−ＮＭＲ（５００ＭＨｚ）…δ２．３３（ｓ、３
Ｈ、ＣＨ3 ）、５．６２（ｄｄ、１Ｈ、Ｊ＝２．０、１
０．５Ｈｚ、ｖｉｎｙｌ）、６．２０（ｄｄ、１Ｈ、Ｊ
＝１０．５、１６．５Ｈｚ、ｖｉｎｙｌ）、６．４６
（ｄｄ、１Ｈ、Ｊ＝２．０、１６．５Ｈｚ、ｖｉｎｙ
ｌ）、７．０−７．４（ｍ．９Ｈ、ａｒｏｍａｔｉｃ） ＭＳ（ＦＤ）…ｍ／ｚ ２３７（Ｍ+ ）Ｎ−フェニル−Ｎ−（３−トリル）アクリルアミドの重
合 実施例１と同様にして重合を行った。その結果、収率７
５％、［α］365 25＝−１４２゜（ＣＨＣｌ3 、ｃ＝
１．０）、平均重合度４３、Ｍｗ／Ｍｎ＝１．１０であ
った。
【００２３】実施例３Ｎ−（３−クロロフェニル）−Ｎ−フェニルアクリルア
ミドの合成 乾燥、窒素置換した反応容器に、ベンゼン（３００ｍ
Ｌ）、Ｎ−（３−クロロフェニル）−Ｎ−フェニルアミ
ン（２５０ｍｍｏｌ）、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン（３
２ｍＬ、２５２ｍｍｏｌ）を加え、０℃に冷却した後、
撹拌下に、ゆっくりとアクリル酸クロリド（２２ｍＬ、
２７１ｍｍｏｌ）を滴下した。０℃で１時間、室温で１
８時間撹拌した後、１Ｎ塩酸（２００ｍＬ）を加えた。
水層をエ−テル（１００ｍＬ×２）で抽出し、得られた
有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液（３００ｍＬ）
で洗浄後、硫酸ナトリウムを加えて乾燥した。濾過後、
溶媒を濃縮することにより粗生成物を得た。この粗生成
物をカラムクロマトグラフィ−（エ−テル／ヘキサン＝
１／４）により精製し、Ｎ−（３−クロロフェニル）−
Ｎ−フェニルアクリルアミドを得た。
ミドの合成 乾燥、窒素置換した反応容器に、ベンゼン（３００ｍ
Ｌ）、Ｎ−（３−クロロフェニル）−Ｎ−フェニルアミ
ン（２５０ｍｍｏｌ）、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン（３
２ｍＬ、２５２ｍｍｏｌ）を加え、０℃に冷却した後、
撹拌下に、ゆっくりとアクリル酸クロリド（２２ｍＬ、
２７１ｍｍｏｌ）を滴下した。０℃で１時間、室温で１
８時間撹拌した後、１Ｎ塩酸（２００ｍＬ）を加えた。
水層をエ−テル（１００ｍＬ×２）で抽出し、得られた
有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液（３００ｍＬ）
で洗浄後、硫酸ナトリウムを加えて乾燥した。濾過後、
溶媒を濃縮することにより粗生成物を得た。この粗生成
物をカラムクロマトグラフィ−（エ−テル／ヘキサン＝
１／４）により精製し、Ｎ−（３−クロロフェニル）−
Ｎ−フェニルアクリルアミドを得た。
【００２４】ＩＲ（ｎｅａｔ）…１６７３、１５９１、
１４７７、１４０４、１３２５、１２５５、７０４ｃｍ
-1 1 Ｈ−ＮＭＲ（５００ＭＨｚ）…δ ５．６６（ｄｄ、
１Ｈ、Ｊ＝２．０、１０．５Ｈｚ、ｖｉｎｙｌ）、６．
２７（ｄｄ、１Ｈ、Ｊ＝１０．５、１７．５Ｈｚ、ｖｉ
ｎｙｌ）、６．４９（ｄｄ、１Ｈ、Ｊ＝２．０、１７．
５Ｈｚ、ｖｉｎｙｌ）、７．１−７．５（ｍ．９Ｈ、ａ
ｒｏｍａｔｉｃ） ＭＳ（ＦＤ）…ｍ／ｚ ２５７（Ｍ+ ）Ｎ−（３−クロロフェニル）−Ｎ−フェニルアクリルア
ミドの重合 実施例１と同様にして重合を行った。その結果、収率８
２％、［α］365 25＝−３４３゜（ＣＨＣｌ3 、ｃ＝
１．０）、平均重合度３８、Ｍｗ／Ｍｎ＝１．１５であ
った。
１４７７、１４０４、１３２５、１２５５、７０４ｃｍ
-1 1 Ｈ−ＮＭＲ（５００ＭＨｚ）…δ ５．６６（ｄｄ、
１Ｈ、Ｊ＝２．０、１０．５Ｈｚ、ｖｉｎｙｌ）、６．
２７（ｄｄ、１Ｈ、Ｊ＝１０．５、１７．５Ｈｚ、ｖｉ
ｎｙｌ）、６．４９（ｄｄ、１Ｈ、Ｊ＝２．０、１７．
５Ｈｚ、ｖｉｎｙｌ）、７．１−７．５（ｍ．９Ｈ、ａ
ｒｏｍａｔｉｃ） ＭＳ（ＦＤ）…ｍ／ｚ ２５７（Ｍ+ ）Ｎ−（３−クロロフェニル）−Ｎ−フェニルアクリルア
ミドの重合 実施例１と同様にして重合を行った。その結果、収率８
２％、［α］365 25＝−３４３゜（ＣＨＣｌ3 、ｃ＝
１．０）、平均重合度３８、Ｍｗ／Ｍｎ＝１．１５であ
った。
【００２５】
【発明の効果】本発明による光学活性メタ置換Ｎ，Ｎ−
ジフェニルアクリルアミド重合体は、高い旋光度を有し
ており、光学異性体分離用充填剤などの光学的機能材料
としての応用が可能である。
ジフェニルアクリルアミド重合体は、高い旋光度を有し
ており、光学異性体分離用充填剤などの光学的機能材料
としての応用が可能である。
Claims (3)
- 【請求項１】 下記の式（１）で表される構成単位を主
体とし、重合度が５以上である光学活性メタ置換Ｎ，Ｎ
−ジフェニルアクリルアミド重合体。 【化１】 （式中、Ｘは、炭素数８以下のアルキル基、炭素数８以
下のアルコキシ基、ハロゲン原子より選ばれる原子団、
または原子である。） - 【請求項２】 フルオレニルリチウムと不斉配位子から
なる錯体を開始剤に用いた不斉アニオン重合反応により
光学活性メタ置換Ｎ，Ｎ−ジフェニルアクリルアミド重
合体を得ることを特徴とする光学活性メタ置換Ｎ，Ｎ−
ジフェニルアクリルアミド重合体の製造法。 - 【請求項３】 不斉配位子が（−）−スパルティンであ
る請求項２記載の光学活性メタ置換Ｎ，Ｎ−ジフェニル
アクリルアミド重合体の製造法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2767196A JPH09221520A (ja) | 1996-02-15 | 1996-02-15 | 光学活性メタ置換ｎ，ｎ−ジフェニルアクリルアミド重合体およびその製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2767196A JPH09221520A (ja) | 1996-02-15 | 1996-02-15 | 光学活性メタ置換ｎ，ｎ−ジフェニルアクリルアミド重合体およびその製造法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09221520A true JPH09221520A (ja) | 1997-08-26 |
Family
ID=12227422
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2767196A Pending JPH09221520A (ja) | 1996-02-15 | 1996-02-15 | 光学活性メタ置換ｎ，ｎ−ジフェニルアクリルアミド重合体およびその製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH09221520A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN112789341A (zh) * | 2018-10-05 | 2021-05-11 | 日本曹达株式会社 | 粘接性组合物 |
-
1996
- 1996-02-15 JP JP2767196A patent/JPH09221520A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN112789341A (zh) * | 2018-10-05 | 2021-05-11 | 日本曹达株式会社 | 粘接性组合物 |
| US20210347726A1 (en) * | 2018-10-05 | 2021-11-11 | Nippon Soda Co., Ltd. | Adhesive composition |
| US11834390B2 (en) * | 2018-10-05 | 2023-12-05 | Nippon Soda Co., Ltd. | Adhesive composition |
| CN112789341B (zh) * | 2018-10-05 | 2024-03-08 | 日本曹达株式会社 | 粘接性组合物 |
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