JP2001114828A - 光学活性メタクリル酸エステル重合体及びその製造方法 - Google Patents
光学活性メタクリル酸エステル重合体及びその製造方法Info
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F20/00—Homopolymers and copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical or a salt, anhydride, ester, amide, imide or nitrile thereof
- C08F20/02—Monocarboxylic acids having less than ten carbon atoms, Derivatives thereof
- C08F20/10—Esters
- C08F20/26—Esters containing oxygen in addition to the carboxy oxygen
- C08F20/30—Esters containing oxygen in addition to the carboxy oxygen containing aromatic rings in the alcohol moiety
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
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- C08F20/10—Esters
- C08F20/12—Esters of monohydric alcohols or phenols
- C08F20/16—Esters of monohydric alcohols or phenols of phenols or of alcohols containing two or more carbon atoms
- C08F20/18—Esters of monohydric alcohols or phenols of phenols or of alcohols containing two or more carbon atoms with acrylic or methacrylic acids
Abstract
(57)【要約】
【課題】 優れた光学的物性が期待できる、新規な高分
子化合物及びその製造方法の提供。 【解決手段】 式（Ｉ）で表される繰り返し単位を有す
る光学活性メタクリル酸エステル重合体及びその製造方
法。 【化１】 ［式中、Ｒ1は 【化２】 【化３】 は同一又は異なって、炭素数６〜１４の２価の芳香族環
を示し、Ｒ2及びＲ3は同一又は異なって、炭素数１〜１
２のアルキル基を示し、Ｘ及びＸ’は同一又は異なっ
て、炭素又は窒素を示す。）
子化合物及びその製造方法の提供。 【解決手段】 式（Ｉ）で表される繰り返し単位を有す
る光学活性メタクリル酸エステル重合体及びその製造方
法。 【化１】 ［式中、Ｒ1は 【化２】 【化３】 は同一又は異なって、炭素数６〜１４の２価の芳香族環
を示し、Ｒ2及びＲ3は同一又は異なって、炭素数１〜１
２のアルキル基を示し、Ｘ及びＸ’は同一又は異なっ
て、炭素又は窒素を示す。）
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、光学活性メタクリ
ル酸エステル重合体及びその製造方法に関するものであ
る。
ル酸エステル重合体及びその製造方法に関するものであ
る。
【０００２】
【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】光学分
割用分離剤、液晶、非線形光学材料などの機能材料とし
て利用されている光学活性な合成高分子物質は、従来か
ら多く知られている。例えば、特開昭５６−１０６９０
７号公報には光学活性なメタクリル酸トリフェニルメチ
ルの重合体が開示され、この物質は螺旋構造を有してお
り、高い旋光度を示し、光学分割剤として有用であるこ
とが記載されている。また、特開昭５６−１６７７０８
号公報には光学活性なアクリル酸アミドの重合体が開示
され、この物質は、その分子不斉に基づいて大きな旋光
性を示し、光学分割用分離剤に用いられることが記載さ
れている。さらに、特開昭６３−１４４６号公報には光
学活性なポリ（メタ）アクリルアミド化合物が開示さ
れ、この物質は側鎖に光学活性基を有しており、ラセミ
体混合物をそれらの光学対掌体に分離するための吸着剤
として有用であることが記載されている。そして、特開
平１−７９２３０号公報には、光学活性な合成高分子化
合物を用いた液晶組成物が開示されている。
割用分離剤、液晶、非線形光学材料などの機能材料とし
て利用されている光学活性な合成高分子物質は、従来か
ら多く知られている。例えば、特開昭５６−１０６９０
７号公報には光学活性なメタクリル酸トリフェニルメチ
ルの重合体が開示され、この物質は螺旋構造を有してお
り、高い旋光度を示し、光学分割剤として有用であるこ
とが記載されている。また、特開昭５６−１６７７０８
号公報には光学活性なアクリル酸アミドの重合体が開示
され、この物質は、その分子不斉に基づいて大きな旋光
性を示し、光学分割用分離剤に用いられることが記載さ
れている。さらに、特開昭６３−１４４６号公報には光
学活性なポリ（メタ）アクリルアミド化合物が開示さ
れ、この物質は側鎖に光学活性基を有しており、ラセミ
体混合物をそれらの光学対掌体に分離するための吸着剤
として有用であることが記載されている。そして、特開
平１−７９２３０号公報には、光学活性な合成高分子化
合物を用いた液晶組成物が開示されている。
【０００３】また、メタクリル酸エステルとしては、こ
れまでにメタクリル酸トリフェニルメチル（特開昭５６
−１４２２１６号公報参照）やメタクリル酸ジフェニル
−２−ピリジルメチル（特開昭５７−２０９９０８号公
報参照）、メタクリル酸シクロブチルジフェニルメチル
などの側鎖に嵩高いエステル基を有するメタクリル酸エ
ステルを不斉なアニオン重合開始剤を用いて重合すると
左右どちらか一方巻きの螺旋構造を有するポリマーが得
られ、このポリマーは高度なイソタクチシチーを有する
ことが知られている。しかしながら、これらの合成高分
子はそれぞれ特異な性質を有するが、得意とする応用範
囲は自ずと狭いものである。例えば、上記の合成高分子
化合物を応用した光学分割剤にしても分離対象とするラ
セミ体化合物や使用できる溶媒は限られている。従っ
て、このような応用範囲を広げるためには、特異な性質
を有する新規な高分子化合物の種類を増やすことが必要
である。
れまでにメタクリル酸トリフェニルメチル（特開昭５６
−１４２２１６号公報参照）やメタクリル酸ジフェニル
−２−ピリジルメチル（特開昭５７−２０９９０８号公
報参照）、メタクリル酸シクロブチルジフェニルメチル
などの側鎖に嵩高いエステル基を有するメタクリル酸エ
ステルを不斉なアニオン重合開始剤を用いて重合すると
左右どちらか一方巻きの螺旋構造を有するポリマーが得
られ、このポリマーは高度なイソタクチシチーを有する
ことが知られている。しかしながら、これらの合成高分
子はそれぞれ特異な性質を有するが、得意とする応用範
囲は自ずと狭いものである。例えば、上記の合成高分子
化合物を応用した光学分割剤にしても分離対象とするラ
セミ体化合物や使用できる溶媒は限られている。従っ
て、このような応用範囲を広げるためには、特異な性質
を有する新規な高分子化合物の種類を増やすことが必要
である。
【０００４】このような背景に基づき、本発明が解決し
ようとする課題は、優れた光学的物性が期待できる、新
規な高分子化合物及びその製造方法を提供することにあ
る。
ようとする課題は、優れた光学的物性が期待できる、新
規な高分子化合物及びその製造方法を提供することにあ
る。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明者らは上記課題を
解決するために鋭意研究を重ねた結果、高度なイソタク
チシチーを有する新規な光学活性メタクリル酸エステル
重合体を見出し、本発明を完成するに至った。
解決するために鋭意研究を重ねた結果、高度なイソタク
チシチーを有する新規な光学活性メタクリル酸エステル
重合体を見出し、本発明を完成するに至った。
【０００６】即ち、本発明は、式（Ｉ）で表される繰り
返し単位を有する光学活性メタクリル酸エステル重合体
及びその製造方法を提供するものである。
返し単位を有する光学活性メタクリル酸エステル重合体
及びその製造方法を提供するものである。
【０００７】
【化６】
【０００８】（式中、Ｒ1は
【０００９】
【化７】
【００１０】
【化８】
【００１１】は同一又は異なって、炭素数６〜１４の２
価の芳香族環を示し、Ｒ2及びＲ3は同一又は異なって、
炭素数１〜１２のアルキル基を示し、Ｘ及びＸ’は同一
又は異なって、炭素原子又は窒素原子を示す。）
価の芳香族環を示し、Ｒ2及びＲ3は同一又は異なって、
炭素数１〜１２のアルキル基を示し、Ｘ及びＸ’は同一
又は異なって、炭素原子又は窒素原子を示す。）
【００１２】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を詳細
に説明する。
に説明する。
【００１３】本発明の式（Ｉ）で表される繰り返し単位
を有する光学活性メタクリル酸エステル重合体におい
て、
を有する光学活性メタクリル酸エステル重合体におい
て、
【００１４】
【化９】
【００１５】は同一又は異なって炭素数６〜１４の２価
の芳香族環を示すが、具体的にはフェニレン基やナフチ
レン基が例示され、好ましくはフェニレン基である。
の芳香族環を示すが、具体的にはフェニレン基やナフチ
レン基が例示され、好ましくはフェニレン基である。
【００１６】Ｒ2及びＲ3は同一又は異なって炭素数１〜
１２のアルキル基を示すが、好ましくは炭素数１〜８の
アルキル基であり、さらに好ましくは炭素数１〜４のア
ルキル基である。
１２のアルキル基を示すが、好ましくは炭素数１〜８の
アルキル基であり、さらに好ましくは炭素数１〜４のア
ルキル基である。
【００１７】本発明の光学活性メタクリル酸エステル重
合体の重合度は５以上が好ましく、さらに好ましくは１
０〜１０００である。
合体の重合度は５以上が好ましく、さらに好ましくは１
０〜１０００である。
【００１８】なお本発明における重合度はゲル・パーミ
エーション・クロマトグラフィー法（ＧＰＣ法）で測定
するが、不溶性重合体については、重合体を加水分解
し、ポリメタクリル酸とし、これをさらにメチルエステ
ル化してポリメタクリル酸メチルに変換し測定する。
エーション・クロマトグラフィー法（ＧＰＣ法）で測定
するが、不溶性重合体については、重合体を加水分解
し、ポリメタクリル酸とし、これをさらにメチルエステ
ル化してポリメタクリル酸メチルに変換し測定する。
【００１９】本発明の式（Ｉ）で表される繰り返し単位
を有する光学活性メタクリル酸エステル重合体は、下記
式(II)で表されるメタクリル酸エステルを光学活性なア
ニオン重合開始剤を用いて低温でアニオン不斉重合する
か、又はラジカル重合開始剤を用いてラジカル重合する
ことによって得ることができる。
を有する光学活性メタクリル酸エステル重合体は、下記
式(II)で表されるメタクリル酸エステルを光学活性なア
ニオン重合開始剤を用いて低温でアニオン不斉重合する
か、又はラジカル重合開始剤を用いてラジカル重合する
ことによって得ることができる。
【００２０】
【化１０】
【００２１】（式中、Ｒ1は前記と同じ意味を示す。）
また式(II)で表されるメタクリル酸エステルは、下記式
(III)又は(IV)で表される３級アルコールのカリウムア
ルコキシドに、メタクリル酸クロリドを反応させること
により容易に得ることができる。
また式(II)で表されるメタクリル酸エステルは、下記式
(III)又は(IV)で表される３級アルコールのカリウムア
ルコキシドに、メタクリル酸クロリドを反応させること
により容易に得ることができる。
【００２２】
【化１１】
【００２３】（式中、
【００２４】
【化１２】
【００２５】Ｒ2、Ｒ3、Ｘ及びＸ’は前記と同じ意味を
示す。） また、上記式(III)で表される３級アルコールは、下記
反応式（Ａ）に示すように常法に従って、一般式(V)で
表される化合物に、一般式(VI)で表される化合物の金属
ハロゲナイドを作用させることにより得ることができ
る。
示す。） また、上記式(III)で表される３級アルコールは、下記
反応式（Ａ）に示すように常法に従って、一般式(V)で
表される化合物に、一般式(VI)で表される化合物の金属
ハロゲナイドを作用させることにより得ることができ
る。
【００２６】また、上記式(IV)で表される３級アルコー
ルは、下記反応式（Ｂ）に示すように常法に従って、一
般式(VII)で表される化合物に、一般式(VI)で表される
化合物の金属ハロゲナイドを作用させることにより得る
ことができる。
ルは、下記反応式（Ｂ）に示すように常法に従って、一
般式(VII)で表される化合物に、一般式(VI)で表される
化合物の金属ハロゲナイドを作用させることにより得る
ことができる。
【００２７】
【化１３】
【００２８】
【化１４】
【００２９】（式中、
【００３０】
【化１５】
【００３１】Ｒ2、Ｒ3、Ｘ及びＸ’は前記を同じ意味を
示し、Ｍは金属ハロゲナイドを示す。） 本発明に用いられる光学活性なアニオン重合開始剤とし
ては、有機金属化合物と不斉配位子との錯体等が挙げら
れ、具体的には下記式(VIII)で表されるＮ，Ｎ’−ジフ
ェニルエチレンジアミンのモノリチウムアミド（ＤＰＥ
ＤＡ−ＬＩ）と、下記式(IX)で表される（＋）−２，３
−ジメトキシ−１，４−ビス（ジメチルアミノ）ブタン
（ＤＤＢ）、下記式(X)で表される（＋）−１−（２−
ピロリジニルメチル）ピロリジン（ＰＭＰ）又は下記式
(XI)で表される（−）−スパルテイン（Ｓｐ）等の不斉
配位子との錯体が挙げられる。
示し、Ｍは金属ハロゲナイドを示す。） 本発明に用いられる光学活性なアニオン重合開始剤とし
ては、有機金属化合物と不斉配位子との錯体等が挙げら
れ、具体的には下記式(VIII)で表されるＮ，Ｎ’−ジフ
ェニルエチレンジアミンのモノリチウムアミド（ＤＰＥ
ＤＡ−ＬＩ）と、下記式(IX)で表される（＋）−２，３
−ジメトキシ−１，４−ビス（ジメチルアミノ）ブタン
（ＤＤＢ）、下記式(X)で表される（＋）−１−（２−
ピロリジニルメチル）ピロリジン（ＰＭＰ）又は下記式
(XI)で表される（−）−スパルテイン（Ｓｐ）等の不斉
配位子との錯体が挙げられる。
【００３２】
【化１６】
【００３３】また、本発明に用いられるラジカル重合開
始剤としては、ジイソプロピルパーオキシジカーボネー
ト（ＤＰＣ）又はアゾビスイソブチロニトリル（ＡＩＢ
Ｎ）等が挙げられる。
始剤としては、ジイソプロピルパーオキシジカーボネー
ト（ＤＰＣ）又はアゾビスイソブチロニトリル（ＡＩＢ
Ｎ）等が挙げられる。
【００３４】
【発明の効果】本発明で得られた光学活性メタクリル酸
エステル重合体は、高度にイソタクチシチーを有するた
め光学分割用分離剤として最適である。
エステル重合体は、高度にイソタクチシチーを有するた
め光学分割用分離剤として最適である。
【００３５】
【実施例】以下、本発明を詳細に説明するが、本発明が
これらの実施例に限定されるものではないことは言うま
でもない。
これらの実施例に限定されるものではないことは言うま
でもない。
【００３６】合成例１：９−フェニル−１０，１０−ジ
メチル−９，１０−ジヒドロアントラセン−９−オール
（ＤＭＰＡＯＨ）の合成 窒素雰囲気下、ジエチルエーテル（５０ml）とマグネシ
ウム片（５．７ｇ、０．２３４mol）の入ったフラスコ
にブロモベンゼンのジエチルエーテル溶液（１．６１
Ｍ、９６．３ml、０．１５５mol）を１時間かけて加
え、さらに１時間還流した。室温まで冷却した後、１
０，１０−ジメチルアントロン（２３ｇ、０．１０３mo
l）のジエチルエーテル（３００ml）溶液を加え、２時
間撹拌した。反応液に水１００mlを加え、撹拌後ジエチ
ルエーテル層を取り出した。ジエチルエーテル層から再
結晶により下記式(XII)で表される目的化合物を得た。 収量：１８．７ｇ（収率：６０．５％） 融点：１４５．５〜１４６．５℃ ＩＲ（ＫＢｒ）：３５５２cm-1（ＯＨ）1 Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3，２５℃）δ：
１．７６（ｓ，３Ｈ），１．８０（ｓ，３Ｈ），２．７
９（ｓ，１Ｈ），７．０７〜７．２３（ｍ，５Ｈ），
７．２７〜７．３５（ｍ，４Ｈ），７．５４〜７．５８
（ｍ，４Ｈ）
メチル−９，１０−ジヒドロアントラセン−９−オール
（ＤＭＰＡＯＨ）の合成 窒素雰囲気下、ジエチルエーテル（５０ml）とマグネシ
ウム片（５．７ｇ、０．２３４mol）の入ったフラスコ
にブロモベンゼンのジエチルエーテル溶液（１．６１
Ｍ、９６．３ml、０．１５５mol）を１時間かけて加
え、さらに１時間還流した。室温まで冷却した後、１
０，１０−ジメチルアントロン（２３ｇ、０．１０３mo
l）のジエチルエーテル（３００ml）溶液を加え、２時
間撹拌した。反応液に水１００mlを加え、撹拌後ジエチ
ルエーテル層を取り出した。ジエチルエーテル層から再
結晶により下記式(XII)で表される目的化合物を得た。 収量：１８．７ｇ（収率：６０．５％） 融点：１４５．５〜１４６．５℃ ＩＲ（ＫＢｒ）：３５５２cm-1（ＯＨ）1 Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3，２５℃）δ：
１．７６（ｓ，３Ｈ），１．８０（ｓ，３Ｈ），２．７
９（ｓ，１Ｈ），７．０７〜７．２３（ｍ，５Ｈ），
７．２７〜７．３５（ｍ，４Ｈ），７．５４〜７．５８
（ｍ，４Ｈ）
【００３７】
【化１７】
【００３８】合成例２：メタクリル酸９−（９−フェニ
ル−１０，１０−ジメチル−９，１０−ジヒドロキシア
ントラセニル（ＤＭＰＡＭＡ）の合成 窒素雰囲気下、フラスコにＫＨ（３５重量％、１４．８
ｇ、０．１２７mol）とＴＨＦ（３０ml）を入れ、撹拌
懸濁後静置し、上澄み液を除去した。このＴＨＦを加え
て上澄みを除去する操作を３回行った後、ＴＨＦ（２０
ml）を加え、懸濁液とした。ここに合成例１で得られた
ＤＭＰＡＯＨ（１９ｇ、０．０６３mol）のＴＨＦ（２
００ml）溶液を１時間かけて加え、さらに３時間還流し
た。水素ガスの発生が終了したのを確認した後、０℃に
冷却し、メタクリル酸塩化物（７．４ml、０．０７６mo
l）のＴＨＦ（７０ml）溶液を遮光下で３０分かけて加
えた。さらに３０分撹拌した後、水を加えた。反応液を
水とジエチルエーテルで分液し、ジエチルエーテル層を
取り出した。ジエチルエーテル層から溶媒を除去して粗
結晶を得、ベンゼン／ジエチルエーテル、ベンゼン／ヘ
キサン、ヘキサンで順に再結晶を行い、下記式(XIII)で
表される目的化合物を得た。 収量：７．９ｇ（収率：３４．１％） 融点：１６５．５〜１６６．３℃ ＩＲ（ＫＢｒ）：１７２５cm-1（Ｃ＝Ｏ）1 Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3，２５℃）δ：
１．８５（ｓ，３Ｈ），１．８７（ｓ，３Ｈ），１．９
７（ｓ，３Ｈ），５．５８（ｍ，１Ｈ），６．２５
（ｍ，１Ｈ），７．０６〜７．３８（ｍ，１１Ｈ），
７．５４〜７．６０（ｍ，２Ｈ） 元素分析値（Ｃ26Ｈ24Ｏ2）： 計算値 Ｃ ８７．５７％、 Ｈ ６．５６％ 実測値 Ｃ ８７．５７％、 Ｈ ６．５５％ ＦＤ Ｍａｓｓ：計算値 ｍ／ｚ＝３６８．２、実測値
ｍ／ｚ＝３６８．２
ル−１０，１０−ジメチル−９，１０−ジヒドロキシア
ントラセニル（ＤＭＰＡＭＡ）の合成 窒素雰囲気下、フラスコにＫＨ（３５重量％、１４．８
ｇ、０．１２７mol）とＴＨＦ（３０ml）を入れ、撹拌
懸濁後静置し、上澄み液を除去した。このＴＨＦを加え
て上澄みを除去する操作を３回行った後、ＴＨＦ（２０
ml）を加え、懸濁液とした。ここに合成例１で得られた
ＤＭＰＡＯＨ（１９ｇ、０．０６３mol）のＴＨＦ（２
００ml）溶液を１時間かけて加え、さらに３時間還流し
た。水素ガスの発生が終了したのを確認した後、０℃に
冷却し、メタクリル酸塩化物（７．４ml、０．０７６mo
l）のＴＨＦ（７０ml）溶液を遮光下で３０分かけて加
えた。さらに３０分撹拌した後、水を加えた。反応液を
水とジエチルエーテルで分液し、ジエチルエーテル層を
取り出した。ジエチルエーテル層から溶媒を除去して粗
結晶を得、ベンゼン／ジエチルエーテル、ベンゼン／ヘ
キサン、ヘキサンで順に再結晶を行い、下記式(XIII)で
表される目的化合物を得た。 収量：７．９ｇ（収率：３４．１％） 融点：１６５．５〜１６６．３℃ ＩＲ（ＫＢｒ）：１７２５cm-1（Ｃ＝Ｏ）1 Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3，２５℃）δ：
１．８５（ｓ，３Ｈ），１．８７（ｓ，３Ｈ），１．９
７（ｓ，３Ｈ），５．５８（ｍ，１Ｈ），６．２５
（ｍ，１Ｈ），７．０６〜７．３８（ｍ，１１Ｈ），
７．５４〜７．６０（ｍ，２Ｈ） 元素分析値（Ｃ26Ｈ24Ｏ2）： 計算値 Ｃ ８７．５７％、 Ｈ ６．５６％ 実測値 Ｃ ８７．５７％、 Ｈ ６．５５％ ＦＤ Ｍａｓｓ：計算値 ｍ／ｚ＝３６８．２、実測値
ｍ／ｚ＝３６８．２
【００３９】
【化１８】
【００４０】実施例１：メタクリル酸９−（９−フェニ
ル−１０，１０−ジメチル−９，１０−ジヒドロキシア
ントラセニル（ＤＭＰＡＭＡ）の重合 窒素雰囲気下、メタクリル酸９−（９−フェニル−１
０，１０−ジメチル−９，１０−ジヒドロアントラセニ
ル（ＤＭＰＡＭＡ）（０．３ｇ）のトルエン（６ml）溶
液を−７８℃に冷却し、Ｎ，Ｎ’−ジフェニルエチレン
ジアミンのモノリチウムアミド（ＤＰＥＤＡ−Ｌｉ）と
（＋）−２，３−ジメトキシ−１，４−ビス（ジメチル
アミノ）ブタン（ＤＤＢ）との錯体のトルエン溶液
（０．２Ｍ）を［モノマー］／［錯体］＝２０（モル
比）になるように加えた。２４時間後、少量のメタノー
ルを添加した後、反応液を大量のメタノール中に入れ、
メタノール不溶分を遠心分離により回収し、６０℃で１
２時間真空乾燥した。収量：０．２６ｇ（収率：８８．
０％）。
ル−１０，１０−ジメチル−９，１０−ジヒドロキシア
ントラセニル（ＤＭＰＡＭＡ）の重合 窒素雰囲気下、メタクリル酸９−（９−フェニル−１
０，１０−ジメチル−９，１０−ジヒドロアントラセニ
ル（ＤＭＰＡＭＡ）（０．３ｇ）のトルエン（６ml）溶
液を−７８℃に冷却し、Ｎ，Ｎ’−ジフェニルエチレン
ジアミンのモノリチウムアミド（ＤＰＥＤＡ−Ｌｉ）と
（＋）−２，３−ジメトキシ−１，４−ビス（ジメチル
アミノ）ブタン（ＤＤＢ）との錯体のトルエン溶液
（０．２Ｍ）を［モノマー］／［錯体］＝２０（モル
比）になるように加えた。２４時間後、少量のメタノー
ルを添加した後、反応液を大量のメタノール中に入れ、
メタノール不溶分を遠心分離により回収し、６０℃で１
２時間真空乾燥した。収量：０．２６ｇ（収率：８８．
０％）。
【００４１】得られた重合体（１００mg）を少量の塩酸
を含むメタノール中で４８時間還流した後、溶媒を留去
した。残渣を少量のメタノールに溶解し、多量のジエチ
ルエーテルに投入して不溶分を遠心分離により回収し
た。回収分を乾燥後、ベンゼン中ジアゾメタンで処理
し、溶媒を留去した。残渣を少量のベンゼンに溶解し、
多量のヘキサンに投入し不溶分を遠心分離により回収し
た。回収分を乾燥し、ＧＰＣと1Ｈ−ＮＭＲにより重合
度（ＤＰ）と立体規則性（タクチシチー）を決定した。
ＤＰ＝７６、重量平均分子量／数平均分子量（Ｍｗ／Ｍ
ｎ）＝１．９２（ＰＭＭＡ）、立体規則性：ｍｍ／ｍｒ
／ｒｒ＝＞９９／＜１／０。
を含むメタノール中で４８時間還流した後、溶媒を留去
した。残渣を少量のメタノールに溶解し、多量のジエチ
ルエーテルに投入して不溶分を遠心分離により回収し
た。回収分を乾燥後、ベンゼン中ジアゾメタンで処理
し、溶媒を留去した。残渣を少量のベンゼンに溶解し、
多量のヘキサンに投入し不溶分を遠心分離により回収し
た。回収分を乾燥し、ＧＰＣと1Ｈ−ＮＭＲにより重合
度（ＤＰ）と立体規則性（タクチシチー）を決定した。
ＤＰ＝７６、重量平均分子量／数平均分子量（Ｍｗ／Ｍ
ｎ）＝１．９２（ＰＭＭＡ）、立体規則性：ｍｍ／ｍｒ
／ｒｒ＝＞９９／＜１／０。
【００４２】このように光学活性なアニオン重合開始剤
として、Ｎ，Ｎ’−ジフェニルエチレンジアミンのモノ
リチウムアミド（ＤＰＥＤＡ−Ｌｉ）と（＋）−２，３
−ジメトキシ−１，４−ビス（ジメチルアミノ）ブタン
（ＤＤＢ）などの不斉配位子を用いた系では重合の立体
制御能が高く、高度なイソタクチシチーを有する重合体
が得られた。また、ラジカル重合においてもほぼ完全に
イソタクチックな重合体が得られた。
として、Ｎ，Ｎ’−ジフェニルエチレンジアミンのモノ
リチウムアミド（ＤＰＥＤＡ−Ｌｉ）と（＋）−２，３
−ジメトキシ−１，４−ビス（ジメチルアミノ）ブタン
（ＤＤＢ）などの不斉配位子を用いた系では重合の立体
制御能が高く、高度なイソタクチシチーを有する重合体
が得られた。また、ラジカル重合においてもほぼ完全に
イソタクチックな重合体が得られた。
【００４３】合成例３：９−フェニル−１０，１０−ジ
ブチル−９，１０−ジヒドロアントラセン−９−オール
（ＤＢＰＡＯＨ）の合成 窒素雰囲気下、ジエチルエーテル（２０ml）とマグネシ
ウム片（２．７ｇ、０．１１mol）の入ったフラスコに
ブロモベンゼンのジエチルエーテル溶液（１．０８Ｍ、
６７．７ml、０．０７３mol）を３０分かけて加え、さ
らに１時間還流した。室温まで冷却した後、１０，１０
−ジブチルアントロン（１５ｇ、０．０４９mol）のジ
エチルエーテル（１２０ml）溶液を加え、２時間撹拌し
た。反応液に水５０mlを加え、撹拌後ジエチルエーテル
層を取り出した。ジエチルエーテル層から再結晶により
下記式(XIV)で表される目的化合物を得た。 収量：８．０ｇ（収率：４２．５％） 融点：１１０．５〜１１１．５℃ ＩＲ（ＫＢｒ）：３５５２cm-1（ＯＨ）1 Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3，２５℃）δ：
０．６２〜０．６８（ｔ，３Ｈ），０．７１〜０．７６
（ｔ，３Ｈ），０．８０〜０．９２（ｍ，４Ｈ），１．
００〜１．２０（ｍ，４Ｈ），２．００〜２．０８
（ｍ，２Ｈ），２．１８〜２．２６（ｍ，２Ｈ），２．
２７（ｓ，１Ｈ），７．１２〜７．３３（ｍ，９Ｈ）
ブチル−９，１０−ジヒドロアントラセン−９−オール
（ＤＢＰＡＯＨ）の合成 窒素雰囲気下、ジエチルエーテル（２０ml）とマグネシ
ウム片（２．７ｇ、０．１１mol）の入ったフラスコに
ブロモベンゼンのジエチルエーテル溶液（１．０８Ｍ、
６７．７ml、０．０７３mol）を３０分かけて加え、さ
らに１時間還流した。室温まで冷却した後、１０，１０
−ジブチルアントロン（１５ｇ、０．０４９mol）のジ
エチルエーテル（１２０ml）溶液を加え、２時間撹拌し
た。反応液に水５０mlを加え、撹拌後ジエチルエーテル
層を取り出した。ジエチルエーテル層から再結晶により
下記式(XIV)で表される目的化合物を得た。 収量：８．０ｇ（収率：４２．５％） 融点：１１０．５〜１１１．５℃ ＩＲ（ＫＢｒ）：３５５２cm-1（ＯＨ）1 Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3，２５℃）δ：
０．６２〜０．６８（ｔ，３Ｈ），０．７１〜０．７６
（ｔ，３Ｈ），０．８０〜０．９２（ｍ，４Ｈ），１．
００〜１．２０（ｍ，４Ｈ），２．００〜２．０８
（ｍ，２Ｈ），２．１８〜２．２６（ｍ，２Ｈ），２．
２７（ｓ，１Ｈ），７．１２〜７．３３（ｍ，９Ｈ）
【００４４】
【化１９】
【００４５】合成例４：メタクリル酸９−（９−フェニ
ル−１０，１０−ジブチル−９．１０−ジヒドロキシア
ントラセニル（ＤＢＰＡＭＡ）の合成 窒素雰囲気下、フラスコにＫＨ（３５重量％、５．０
ｇ、０．０４４mol）とＴＨＦ（２０ml）を入れ、撹拌
懸濁後静置し、上澄み液を除去した。このＴＨＦを加え
て上澄みを除去する操作を３回行った後、ＴＨＦ（２０
ml）を加え、懸濁液とした。ここに合成例３で得られた
ＤＢＰＡＯＨ（７．９ｇ、０．０２１mol）のＴＨＦ
（８０ml）溶液を１時間かけて加え、さらに３時間還流
した。水素ガスの発生が終了したのを確認した後、０℃
に冷却し、メタクリル酸塩化物（２．４ml、０．０２５
mol）のＴＨＦ（２０ml）溶液を遮光下で１５分かけて
加えた。さらに３０分撹拌した後、水を加えた。反応液
を水とジエチルエーテルで分液し、ジエチルエーテル層
を取り出した。ジエチルエーテル層から溶媒を除去して
粗結晶を得、ベンゼン／ジエチルエーテル、ベンゼン／
ヘキサン、ヘキサンで順に再結晶を行い、下記式(XV)で
表される目的化合物を得た。 収量：５．５ｇ（収率：５９．３％） 融点：１３３．９〜１３４．８℃ ＩＲ（ＫＢｒ）：１７２２cm-1（Ｃ＝Ｏ）1 Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3，２５℃）δ：
０．７０〜０．７６（ｔ，３Ｈ），０．７７〜０．８２
（ｔ，３Ｈ），０．９９〜１．２５（ｍ，８Ｈ），１．
９１〜１．９８（ｍ，５Ｈ），２．２２〜２．２９
（ｍ，２Ｈ），５．５８（ｍ，１Ｈ），６．２２（ｍ，
１Ｈ），７．１１〜７．２３（ｍ，５Ｈ），７．２８〜
７．３４（ｍ，４Ｈ），７．４０〜７．４５（ｍ，２
Ｈ），７．４９〜７．５４（ｍ，２Ｈ） 元素分析値（Ｃ31Ｈ36Ｏ2）： 計算値 Ｃ ８４．９１％、 Ｈ ８．０２％ 実測値 Ｃ ８４．９２％、 Ｈ ８．０３％ ＦＤ Ｍａｓｓ：計算値 ｍ／ｚ＝４５２．３、実測値
ｍ／ｚ＝４５２．３
ル−１０，１０−ジブチル−９．１０−ジヒドロキシア
ントラセニル（ＤＢＰＡＭＡ）の合成 窒素雰囲気下、フラスコにＫＨ（３５重量％、５．０
ｇ、０．０４４mol）とＴＨＦ（２０ml）を入れ、撹拌
懸濁後静置し、上澄み液を除去した。このＴＨＦを加え
て上澄みを除去する操作を３回行った後、ＴＨＦ（２０
ml）を加え、懸濁液とした。ここに合成例３で得られた
ＤＢＰＡＯＨ（７．９ｇ、０．０２１mol）のＴＨＦ
（８０ml）溶液を１時間かけて加え、さらに３時間還流
した。水素ガスの発生が終了したのを確認した後、０℃
に冷却し、メタクリル酸塩化物（２．４ml、０．０２５
mol）のＴＨＦ（２０ml）溶液を遮光下で１５分かけて
加えた。さらに３０分撹拌した後、水を加えた。反応液
を水とジエチルエーテルで分液し、ジエチルエーテル層
を取り出した。ジエチルエーテル層から溶媒を除去して
粗結晶を得、ベンゼン／ジエチルエーテル、ベンゼン／
ヘキサン、ヘキサンで順に再結晶を行い、下記式(XV)で
表される目的化合物を得た。 収量：５．５ｇ（収率：５９．３％） 融点：１３３．９〜１３４．８℃ ＩＲ（ＫＢｒ）：１７２２cm-1（Ｃ＝Ｏ）1 Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3，２５℃）δ：
０．７０〜０．７６（ｔ，３Ｈ），０．７７〜０．８２
（ｔ，３Ｈ），０．９９〜１．２５（ｍ，８Ｈ），１．
９１〜１．９８（ｍ，５Ｈ），２．２２〜２．２９
（ｍ，２Ｈ），５．５８（ｍ，１Ｈ），６．２２（ｍ，
１Ｈ），７．１１〜７．２３（ｍ，５Ｈ），７．２８〜
７．３４（ｍ，４Ｈ），７．４０〜７．４５（ｍ，２
Ｈ），７．４９〜７．５４（ｍ，２Ｈ） 元素分析値（Ｃ31Ｈ36Ｏ2）： 計算値 Ｃ ８４．９１％、 Ｈ ８．０２％ 実測値 Ｃ ８４．９２％、 Ｈ ８．０３％ ＦＤ Ｍａｓｓ：計算値 ｍ／ｚ＝４５２．３、実測値
ｍ／ｚ＝４５２．３
【００４６】
【化２０】
【００４７】実施例２：メタクリル酸９−（９−フェニ
ル−１０，１０−ジブチル−９，１０−ジヒドロアント
ラセニル（ＤＢＰＡＭＡ）の重合 窒素雰囲気下、メタクリル酸９−（９−フェニル−１
０，１０−ジブチル−９，１０−ジヒドロアントラセニ
ル（ＤＢＰＡＭＡ）（０．２ｇ）のトルエン溶液に０℃
にてアゾビスイソブチロニトリル（ＡＩＢＮ）を［モノ
マー］／［開始剤］＝５０（モル比）になるように加え
た。２４時間後、−７８℃に冷却した後、反応液を大量
のヘキサン中に入れ、不溶分を遠心分離により回収し、
６０℃で１２時間真空乾燥した。収量：０．１３ｇ（収
率：６６．２％）。
ル−１０，１０−ジブチル−９，１０−ジヒドロアント
ラセニル（ＤＢＰＡＭＡ）の重合 窒素雰囲気下、メタクリル酸９−（９−フェニル−１
０，１０−ジブチル−９，１０−ジヒドロアントラセニ
ル（ＤＢＰＡＭＡ）（０．２ｇ）のトルエン溶液に０℃
にてアゾビスイソブチロニトリル（ＡＩＢＮ）を［モノ
マー］／［開始剤］＝５０（モル比）になるように加え
た。２４時間後、−７８℃に冷却した後、反応液を大量
のヘキサン中に入れ、不溶分を遠心分離により回収し、
６０℃で１２時間真空乾燥した。収量：０．１３ｇ（収
率：６６．２％）。
【００４８】得られた重合体（１００mg）を少量の塩酸
を含むメタノール中で４８時間還流した後、溶媒を留去
した。残渣を少量のメタノールに溶解し、多量のジエチ
ルエーテルに投入して不溶分を遠心分離により回収し
た。回収分を乾燥後、ベンゼン中ジアゾメタンで処理
し、溶媒を留去した。残渣を少量のベンゼンに溶解し、
多量のヘキサンに投入し不溶分を遠心分離により回収し
た。回収分を乾燥し、ＧＰＣと1Ｈ−ＮＭＲにより重合
度（ＤＰ）と立体規則性（タクチシチー）を決定した。 ＤＰ＝９７４、重量平均分子量／数平均分子量（Ｍｗ／
Ｍｎ）＝３．２５（ＰＭＭＡ）、立体規則性：ｍｍ／ｍ
ｒ／ｒｒ＝９８．２／１．０／０．８。 実施例３：ＩＤＰＤＭＡの重合 窒素雰囲気下、式(XVI)
を含むメタノール中で４８時間還流した後、溶媒を留去
した。残渣を少量のメタノールに溶解し、多量のジエチ
ルエーテルに投入して不溶分を遠心分離により回収し
た。回収分を乾燥後、ベンゼン中ジアゾメタンで処理
し、溶媒を留去した。残渣を少量のベンゼンに溶解し、
多量のヘキサンに投入し不溶分を遠心分離により回収し
た。回収分を乾燥し、ＧＰＣと1Ｈ−ＮＭＲにより重合
度（ＤＰ）と立体規則性（タクチシチー）を決定した。 ＤＰ＝９７４、重量平均分子量／数平均分子量（Ｍｗ／
Ｍｎ）＝３．２５（ＰＭＭＡ）、立体規則性：ｍｍ／ｍ
ｒ／ｒｒ＝９８．２／１．０／０．８。 実施例３：ＩＤＰＤＭＡの重合 窒素雰囲気下、式(XVI)
【００４９】
【化２１】
【００５０】で表されるＩＤＰＤＭＡ（０．３ｇ）のト
ルエン（９ml）溶液を−７８℃に冷却し、Ｎ，Ｎ’−ジ
フェニルエチレンジアミンのモノリチウムアミド（ＤＰ
ＥＤＡ−Ｌｉ）と（＋）−２，３−ジメトキシ−１，４
−ビス（ジメチルアミノ）ブタン（ＤＤＢ）との錯体の
トルエン溶液（０．２Ｍ）を［モノマー］／［錯体］＝
２０（モル比）になるように加えた。２４時間後、少量
のメタノールを添加した後、反応液を大量のメタノール
中に入れ、メタノール不溶分を遠心分離により回収し、
６０℃で１２時間真空乾燥した。収量：０．０７ｇ（収
率：２４．０％）得られた重合体（５０mg）を少量の塩
酸を含むメタノール中で４８時間還流した後、溶媒を留
去した。残渣を少量のメタノールに溶解し、多量のジエ
チルエーテルに投入して不溶分を遠心分離により回収し
た。回収分を乾燥後、ベンゼン中ジアゾメタンで処理
し、溶媒を留去した。残渣を少量のベンゼンに溶解し、
多量のヘキサンに投入し不溶分を遠心分離により回収し
た。回収分を乾燥し、ＧＰＣと1Ｈ−ＮＭＲにより重合
度（ＤＰ）と立体規則性（タクチシチー）を決定した。 ＤＰ＝４８、重量平均分子量／数平均分子量（Ｍｗ／Ｍ
ｎ）＝１．２８（ＰＭＭＡ）、立体規則性：ｍｍ／ｍｒ
／ｒｒ＝＞９９／＜１／０。
ルエン（９ml）溶液を−７８℃に冷却し、Ｎ，Ｎ’−ジ
フェニルエチレンジアミンのモノリチウムアミド（ＤＰ
ＥＤＡ−Ｌｉ）と（＋）−２，３−ジメトキシ−１，４
−ビス（ジメチルアミノ）ブタン（ＤＤＢ）との錯体の
トルエン溶液（０．２Ｍ）を［モノマー］／［錯体］＝
２０（モル比）になるように加えた。２４時間後、少量
のメタノールを添加した後、反応液を大量のメタノール
中に入れ、メタノール不溶分を遠心分離により回収し、
６０℃で１２時間真空乾燥した。収量：０．０７ｇ（収
率：２４．０％）得られた重合体（５０mg）を少量の塩
酸を含むメタノール中で４８時間還流した後、溶媒を留
去した。残渣を少量のメタノールに溶解し、多量のジエ
チルエーテルに投入して不溶分を遠心分離により回収し
た。回収分を乾燥後、ベンゼン中ジアゾメタンで処理
し、溶媒を留去した。残渣を少量のベンゼンに溶解し、
多量のヘキサンに投入し不溶分を遠心分離により回収し
た。回収分を乾燥し、ＧＰＣと1Ｈ−ＮＭＲにより重合
度（ＤＰ）と立体規則性（タクチシチー）を決定した。 ＤＰ＝４８、重量平均分子量／数平均分子量（Ｍｗ／Ｍ
ｎ）＝１．２８（ＰＭＭＡ）、立体規則性：ｍｍ／ｍｒ
／ｒｒ＝＞９９／＜１／０。
【００５１】このように光学活性なアニオン重合開始剤
として、Ｎ，Ｎ’−ジフェニルエチレンジアミンのモノ
リチウムアミド（ＤＰＥＤＡ−Ｌｉ）と（＋）−２，３
−ジメトキシ−１，４−ビス（ジメチルアミノ）ブタン
（ＤＤＢ）などの不斉配位子を用いた系では重合の立体
制御能が高く、高度にイソタクチシチーを有する重合体
が得られた。
として、Ｎ，Ｎ’−ジフェニルエチレンジアミンのモノ
リチウムアミド（ＤＰＥＤＡ−Ｌｉ）と（＋）−２，３
−ジメトキシ−１，４−ビス（ジメチルアミノ）ブタン
（ＤＤＢ）などの不斉配位子を用いた系では重合の立体
制御能が高く、高度にイソタクチシチーを有する重合体
が得られた。
【００５２】実施例４：ＨＤＰＤＭＡの重合 窒素雰囲気下、式(XVII)
【００５３】
【化２２】
【００５４】で表されるＨＤＰＤＭＡ（０．１ｇ）のト
ルエン（２ml）溶液を−７８℃に冷却し、Ｎ，Ｎ’−ジ
フェニルエチレンジアミンのモノリチウムアミド（ＤＰ
ＥＤＡ−Ｌｉ）と（＋）−２，３−ジメトキシ−１，４
−ビス（ジメチルアミノ）ブタン（ＤＤＢ）との錯体の
トルエン溶液（０．２Ｍ）を［モノマー］／［錯体］＝
２０（モル比）になるように加えた。２４時間後、少量
のメタノールを添加した後、反応液を大量のメタノール
中に入れ、メタノール不溶分を遠心分離により回収し、
６０℃で１２時間真空乾燥した。収量：０．００９ｇ
（収率：８．９％）。
ルエン（２ml）溶液を−７８℃に冷却し、Ｎ，Ｎ’−ジ
フェニルエチレンジアミンのモノリチウムアミド（ＤＰ
ＥＤＡ−Ｌｉ）と（＋）−２，３−ジメトキシ−１，４
−ビス（ジメチルアミノ）ブタン（ＤＤＢ）との錯体の
トルエン溶液（０．２Ｍ）を［モノマー］／［錯体］＝
２０（モル比）になるように加えた。２４時間後、少量
のメタノールを添加した後、反応液を大量のメタノール
中に入れ、メタノール不溶分を遠心分離により回収し、
６０℃で１２時間真空乾燥した。収量：０．００９ｇ
（収率：８．９％）。
【００５５】得られた重合体（５mg）を少量の塩酸を含
むメタノール中で４８時間還流した後、溶媒を留去し
た。残渣を少量のメタノールに溶解し、多量のジエチル
エーテルに投入して不溶分を遠心分離により回収した。
回収分を乾燥後、ベンゼン中ジアゾメタンで処理し、溶
媒を留去した。残渣を少量のベンゼンに溶解し、多量の
ヘキサンに投入し不溶分を遠心分離により回収した。回
収分を乾燥し、ＧＰＣと 1Ｈ−ＮＭＲにより重合度（Ｄ
Ｐ）と立体規則性（タクチシチー）を決定した。ＤＰ＝
４０、重量平均分子量／数平均分子量（Ｍｗ／Ｍｎ）＝
１．１２（ＰＭＭＡ）、立体規則性：ｍｍ／ｍｒ／ｒｒ
＝＞９９／＜１／０。
むメタノール中で４８時間還流した後、溶媒を留去し
た。残渣を少量のメタノールに溶解し、多量のジエチル
エーテルに投入して不溶分を遠心分離により回収した。
回収分を乾燥後、ベンゼン中ジアゾメタンで処理し、溶
媒を留去した。残渣を少量のベンゼンに溶解し、多量の
ヘキサンに投入し不溶分を遠心分離により回収した。回
収分を乾燥し、ＧＰＣと 1Ｈ−ＮＭＲにより重合度（Ｄ
Ｐ）と立体規則性（タクチシチー）を決定した。ＤＰ＝
４０、重量平均分子量／数平均分子量（Ｍｗ／Ｍｎ）＝
１．１２（ＰＭＭＡ）、立体規則性：ｍｍ／ｍｒ／ｒｒ
＝＞９９／＜１／０。
【００５６】このように光学活性なアニオン重合開始剤
として、Ｎ，Ｎ’−ジフェニルエチレンジアミンのモノ
リチウムアミド（ＤＰＥＤＡ−Ｌｉ）と（＋）−２，３
−ジメトキシ−１，４−ビス（ジメチルアミノ）ブタン
（ＤＤＢ）などの不斉配位子を用いた系では重合の立体
制御能が高く、高度にイソタクチシチーを有する重合体
が得られた。
として、Ｎ，Ｎ’−ジフェニルエチレンジアミンのモノ
リチウムアミド（ＤＰＥＤＡ−Ｌｉ）と（＋）−２，３
−ジメトキシ−１，４−ビス（ジメチルアミノ）ブタン
（ＤＤＢ）などの不斉配位子を用いた系では重合の立体
制御能が高く、高度にイソタクチシチーを有する重合体
が得られた。
Claims (5)
- 【請求項１】 式（Ｉ）で表される繰り返し単位を有す
る光学活性メタクリル酸エステル重合体。 【化１】 （式中、Ｒ1は 【化２】 【化３】 は同一又は異なって、炭素数６〜１４の２価の芳香族環
を示し、Ｒ2及びＲ3は同一又は異なって、炭素数１〜１
２のアルキル基を示し、Ｘ及びＸ’は同一又は異なっ
て、炭素原子又は窒素原子を示す。） - 【請求項２】 【化４】 がフェニレン基である請求項１記載の光学活性メタクリ
ル酸エステル重合体。 - 【請求項３】 重合度が５以上である請求項１又は２記
載の光学活性メタクリル酸エステル重合体。 - 【請求項４】 式(II)で表されるメタクリル酸エステル
を光学活性なアニオン重合開始剤又はラジカル重合開始
剤を用いて重合することを特徴とする請求項１〜３のい
ずれか一項に記載の光学活性メタクリル酸エステル重合
体の製造方法。 【化５】 （式中、Ｒ1は前記と同じ意味を示す。） - 【請求項５】 光学活性なアニオン重合開始剤がＮ，
Ｎ’−ジフェニルエチレンジアミンのモノリチウムアミ
ドと（＋）−２，３−ジメトキシ−１，４−ビス（ジメ
チルアミノ）ブタンとの錯体、Ｎ，Ｎ’−ジフェニルエ
チレンジアミンのモノリチウムアミドと（＋）−１−
（２−ピロリジニルメチル）ピロリジンとの錯体又は
Ｎ，Ｎ’−ジフェニルエチレンジアミンのモノリチウム
アミドと（−）−スパルテインとの錯体である請求項４
記載の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP29832299A JP2001114828A (ja) | 1999-10-20 | 1999-10-20 | 光学活性メタクリル酸エステル重合体及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP29832299A JP2001114828A (ja) | 1999-10-20 | 1999-10-20 | 光学活性メタクリル酸エステル重合体及びその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001114828A true JP2001114828A (ja) | 2001-04-24 |
Family
ID=17858163
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP29832299A Pending JP2001114828A (ja) | 1999-10-20 | 1999-10-20 | 光学活性メタクリル酸エステル重合体及びその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2001114828A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2006109560A1 (ja) * | 2005-04-07 | 2006-10-19 | Nara Institute Of Science And Technology | 光学活性な共重合体、その製造方法及びその共重合体を用いたクロマトグラフィー用充填剤 |
| WO2007034962A1 (ja) * | 2005-09-26 | 2007-03-29 | Japan Science And Technology Agency | 不斉構造を有する組成物およびその製造方法 |
| WO2011136059A1 (en) * | 2010-04-26 | 2011-11-03 | Canon Kabushiki Kaisha | Novel 10,10-dialkylanthrone compound and organic light-emitting device including the same |
| JP2015114556A (ja) * | 2013-12-12 | 2015-06-22 | 富士フイルム株式会社 | 感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、パターン形成方法、電子デバイスの製造方法、電子デバイス |
| CN107068911A (zh) * | 2016-04-25 | 2017-08-18 | 中节能万润股份有限公司 | 一种含有蒽酮类化合物的有机电致发光器件及其应用 |
-
1999
- 1999-10-20 JP JP29832299A patent/JP2001114828A/ja active Pending
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|---|---|---|---|---|
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