JPH09195095A - 表面処理装置のサイホン防止用配管 - Google Patents
表面処理装置のサイホン防止用配管Info
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- JPH09195095A JPH09195095A JP447496A JP447496A JPH09195095A JP H09195095 A JPH09195095 A JP H09195095A JP 447496 A JP447496 A JP 447496A JP 447496 A JP447496 A JP 447496A JP H09195095 A JPH09195095 A JP H09195095A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 電磁弁を遮断した場合に、処理液が電磁弁や
メイン配管まで逆流することを確実に防止できる表面処
理装置のサイホン防止用配管を提供する。 【解決手段】 表面処理槽１の底部に設置したエア攪拌
用パイプ２に対して、表面処理槽１の液面よりも低い位
置に設けられた電磁弁３から圧縮空気を供給するパイプ
４の液面下の位置に逆止弁７を設け、また液面上の位置
にサイホン防止用の小孔６を設ける。
メイン配管まで逆流することを確実に防止できる表面処
理装置のサイホン防止用配管を提供する。 【解決手段】 表面処理槽１の底部に設置したエア攪拌
用パイプ２に対して、表面処理槽１の液面よりも低い位
置に設けられた電磁弁３から圧縮空気を供給するパイプ
４の液面下の位置に逆止弁７を設け、また液面上の位置
にサイホン防止用の小孔６を設ける。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、底部にエア攪拌用
パイプが設置された表面処理装置のためのサイホン防止
用配管に関するものである。
パイプが設置された表面処理装置のためのサイホン防止
用配管に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】めっき等の表面処理装置においては、図
２に示されるように表面処理槽１の底部にエア攪拌用パ
イプ２を設置しておき、このエア攪拌用パイプ２に電磁
弁３を介して圧縮空気を供給して気泡を発生させること
により、表面処理液を攪拌する工夫がなされている。こ
の場合、電磁弁３及びメイン配管４は表面処理槽１の液
面よりも低い位置に設けられていることが多いため、電
磁弁３を遮断して圧縮空気の供給を停止すると、サイホ
ンの原理によって表面処理槽１の処理液が電磁弁３の方
へ逆流することとなる。
２に示されるように表面処理槽１の底部にエア攪拌用パ
イプ２を設置しておき、このエア攪拌用パイプ２に電磁
弁３を介して圧縮空気を供給して気泡を発生させること
により、表面処理液を攪拌する工夫がなされている。こ
の場合、電磁弁３及びメイン配管４は表面処理槽１の液
面よりも低い位置に設けられていることが多いため、電
磁弁３を遮断して圧縮空気の供給を停止すると、サイホ
ンの原理によって表面処理槽１の処理液が電磁弁３の方
へ逆流することとなる。
【０００３】そこで従来から、表面処理槽１の上端を越
えてエア攪拌用パイプ２に圧縮空気を供給するパイプ５
の液面上の位置に、サイホン防止用の小孔６を設けてい
る。このサイホン防止用の小孔６は、圧縮空気の供給が
停止されたときにパイプ５の内部を大気圧に戻し、サイ
ホンによる逆流を防止するためのものであるが、運転中
はこの小孔６を通じて圧縮空気が漏洩することとなるの
で、あまり大きい孔とすることはできない。
えてエア攪拌用パイプ２に圧縮空気を供給するパイプ５
の液面上の位置に、サイホン防止用の小孔６を設けてい
る。このサイホン防止用の小孔６は、圧縮空気の供給が
停止されたときにパイプ５の内部を大気圧に戻し、サイ
ホンによる逆流を防止するためのものであるが、運転中
はこの小孔６を通じて圧縮空気が漏洩することとなるの
で、あまり大きい孔とすることはできない。
【０００４】そのため、電磁弁３が遮断されたときには
パイプ５の内部を瞬時に大気圧に戻すことができなくな
り、表面処理槽１の処理液が電磁弁３やメイン配管４の
方へ逆流することを防止できないおそれがあった。その
結果、電磁弁３の内部が腐食されて動作不良を生じた
り、配管内に結晶が析出してつまりを生じたりするおそ
れがあった。
パイプ５の内部を瞬時に大気圧に戻すことができなくな
り、表面処理槽１の処理液が電磁弁３やメイン配管４の
方へ逆流することを防止できないおそれがあった。その
結果、電磁弁３の内部が腐食されて動作不良を生じた
り、配管内に結晶が析出してつまりを生じたりするおそ
れがあった。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】本発明は上記した従来
の問題点を解決して、電磁弁を遮断した場合に、処理液
が電磁弁やメイン配管まで逆流することを確実に防止す
ることができるようにした表面処理装置のサイホン防止
用配管を提供するためになされたものである。
の問題点を解決して、電磁弁を遮断した場合に、処理液
が電磁弁やメイン配管まで逆流することを確実に防止す
ることができるようにした表面処理装置のサイホン防止
用配管を提供するためになされたものである。
【０００６】
【課題を解決するための手段】上記の課題を解決するた
めになされた本発明は、表面処理槽の底部に設置したエ
ア攪拌用パイプと、表面処理槽の液面よりも低い位置に
設けられた電磁弁と、このエア攪拌用パイプに対して表
面処理槽の上端を越えて圧縮空気を供給するパイプとを
備え、かつこのパイプの液面下の位置に逆止弁を、液面
上の位置にサイホン防止用の小孔を設けたことを特徴と
するものである。
めになされた本発明は、表面処理槽の底部に設置したエ
ア攪拌用パイプと、表面処理槽の液面よりも低い位置に
設けられた電磁弁と、このエア攪拌用パイプに対して表
面処理槽の上端を越えて圧縮空気を供給するパイプとを
備え、かつこのパイプの液面下の位置に逆止弁を、液面
上の位置にサイホン防止用の小孔を設けたことを特徴と
するものである。
【０００７】
【発明の実施の形態】以下に本発明の好ましい実施の形
態を、図１を参照しつつ詳細に説明する。図１において
も、１は表面処理槽、２はその底部に設置された多数の
エア噴出孔を備えたエア攪拌用パイプ、３は表面処理槽
の液面よりも低い位置に設けられた電磁弁、４はこの電
磁弁３に接続されたメイン配管、５は表面処理槽１の上
端を越えてエア攪拌用パイプ２に圧縮空気を供給するパ
イプである。
態を、図１を参照しつつ詳細に説明する。図１において
も、１は表面処理槽、２はその底部に設置された多数の
エア噴出孔を備えたエア攪拌用パイプ、３は表面処理槽
の液面よりも低い位置に設けられた電磁弁、４はこの電
磁弁３に接続されたメイン配管、５は表面処理槽１の上
端を越えてエア攪拌用パイプ２に圧縮空気を供給するパ
イプである。
【０００８】このパイプ５には、液面上の位置にサイホ
ン防止用の小孔６が設けられているほか、液面下の位置
に逆止弁７が処理液に浸漬された状態で設けられてい
る。逆止弁７としては、逆流が生じたときに内蔵された
ボールが弁を閉じる形式のボールチャック弁等を用いる
ことができる。しかし逆止弁７の形式はこれに限定され
るものではない。
ン防止用の小孔６が設けられているほか、液面下の位置
に逆止弁７が処理液に浸漬された状態で設けられてい
る。逆止弁７としては、逆流が生じたときに内蔵された
ボールが弁を閉じる形式のボールチャック弁等を用いる
ことができる。しかし逆止弁７の形式はこれに限定され
るものではない。
【０００９】このように構成された本発明のサイホン防
止用配管は、通常の運転時には電磁弁３を介してパイプ
５に供給される圧縮空気が逆止弁７を順方向に流れ、エ
ア攪拌用パイプ２から気泡となって処理液中に噴出され
て処理液をエア攪拌する。これによって処理液は均一に
攪拌され、濃度差や温度差による表面処理のバラツキを
無くすることができる。
止用配管は、通常の運転時には電磁弁３を介してパイプ
５に供給される圧縮空気が逆止弁７を順方向に流れ、エ
ア攪拌用パイプ２から気泡となって処理液中に噴出され
て処理液をエア攪拌する。これによって処理液は均一に
攪拌され、濃度差や温度差による表面処理のバラツキを
無くすることができる。
【００１０】また電磁弁３を遮断した場合には、サイホ
ンの原理によって表面処理槽１から電磁弁３の方向に処
理液が逆流しようとするが、従来と同様にサイホン防止
用の小孔６から吸引される外気によってパイプ５の内部
は大気圧に戻されるのみならず、逆止弁７が動作して処
理液が液面を越えてパイプ５内を逆流することを防止す
る。
ンの原理によって表面処理槽１から電磁弁３の方向に処
理液が逆流しようとするが、従来と同様にサイホン防止
用の小孔６から吸引される外気によってパイプ５の内部
は大気圧に戻されるのみならず、逆止弁７が動作して処
理液が液面を越えてパイプ５内を逆流することを防止す
る。
【００１１】このため、サイホン防止用の小孔６のみで
は防止できなかった逆流も逆止弁７によって確実に防止
されることとなり、電磁弁３の内部を腐食させたり、処
理液の結晶の析出による電磁弁３の動作不良や配管内に
結晶が析出してつまりを生じたりするおそれを無くする
ことができる。
は防止できなかった逆流も逆止弁７によって確実に防止
されることとなり、電磁弁３の内部を腐食させたり、処
理液の結晶の析出による電磁弁３の動作不良や配管内に
結晶が析出してつまりを生じたりするおそれを無くする
ことができる。
【００１２】
【発明の効果】以上に説明したように、本発明において
はエア攪拌用パイプに圧縮空気を供給するためのパイプ
の液面下の位置に逆止弁を、液面上の位置にサイホン防
止用の小孔を設けたので、電磁弁を遮断した場合に、処
理液が電磁弁やメイン配管まで逆流することを確実に防
止することができる利点がある。
はエア攪拌用パイプに圧縮空気を供給するためのパイプ
の液面下の位置に逆止弁を、液面上の位置にサイホン防
止用の小孔を設けたので、電磁弁を遮断した場合に、処
理液が電磁弁やメイン配管まで逆流することを確実に防
止することができる利点がある。
【図１】本発明の実施の形態を示す部分断面図である。
【図２】従来例を示す部分断面図である。
１ 表面処理槽 ２ エア攪拌用パイプ ３ 電磁弁 ４ メイン配管 ５ パイプ ６ サイホン防止用の小孔 ７ 逆止弁
Claims (1)
- 【請求項１】 表面処理槽の底部に設置したエア攪拌用
パイプと、表面処理槽の液面よりも低い位置に設けられ
た電磁弁と、このエア攪拌用パイプに対して表面処理槽
の上端を越えて圧縮空気を供給するパイプとを備え、か
つこのパイプの液面下の位置に逆止弁を、液面上の位置
にサイホン防止用の小孔を設けたことを特徴とする表面
処理装置のサイホン防止用配管。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP00447496A JP3628091B2 (ja) | 1996-01-16 | 1996-01-16 | 表面処理装置のサイホン防止用配管 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP00447496A JP3628091B2 (ja) | 1996-01-16 | 1996-01-16 | 表面処理装置のサイホン防止用配管 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09195095A true JPH09195095A (ja) | 1997-07-29 |
| JP3628091B2 JP3628091B2 (ja) | 2005-03-09 |
Family
ID=11585121
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP00447496A Expired - Fee Related JP3628091B2 (ja) | 1996-01-16 | 1996-01-16 | 表面処理装置のサイホン防止用配管 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3628091B2 (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007146196A (ja) * | 2005-11-24 | 2007-06-14 | Fujikura Ltd | メッキ装置 |
| WO2016076005A1 (ja) * | 2014-11-14 | 2016-05-19 | 合同会社ナポレ企画 | スライドファスナー用表面電解処理装置 |
| CN110699742A (zh) * | 2019-11-29 | 2020-01-17 | 无锡星亿智能环保装备股份有限公司 | 一种电镀溶液的空气搅拌系统 |
| CN110714221A (zh) * | 2019-11-29 | 2020-01-21 | 无锡星亿智能环保装备股份有限公司 | 一种电镀溶液空气搅拌管路 |
-
1996
- 1996-01-16 JP JP00447496A patent/JP3628091B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007146196A (ja) * | 2005-11-24 | 2007-06-14 | Fujikura Ltd | メッキ装置 |
| JP4602896B2 (ja) * | 2005-11-24 | 2010-12-22 | 株式会社フジクラ | メッキ装置 |
| WO2016076005A1 (ja) * | 2014-11-14 | 2016-05-19 | 合同会社ナポレ企画 | スライドファスナー用表面電解処理装置 |
| CN110699742A (zh) * | 2019-11-29 | 2020-01-17 | 无锡星亿智能环保装备股份有限公司 | 一种电镀溶液的空气搅拌系统 |
| CN110714221A (zh) * | 2019-11-29 | 2020-01-21 | 无锡星亿智能环保装备股份有限公司 | 一种电镀溶液空气搅拌管路 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3628091B2 (ja) | 2005-03-09 |
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