JPS6134946A - 純水洗浄装置 - Google Patents
純水洗浄装置Info
- Publication number
- JPS6134946A JPS6134946A JP15514384A JP15514384A JPS6134946A JP S6134946 A JPS6134946 A JP S6134946A JP 15514384 A JP15514384 A JP 15514384A JP 15514384 A JP15514384 A JP 15514384A JP S6134946 A JPS6134946 A JP S6134946A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- pure water
- cleaning tank
- gas
- cleaning
- mixing chamber
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この発明はシリコンウェハの純水洗浄装置に関するもの
である。
である。
従来のシリコンウェハの純水洗浄装置は、ビーカ型、カ
スケード型、オートリンス型の３種類が使われており、
この中でオートリンス型が最も洗浄効果が大きい。
スケード型、オートリンス型の３種類が使われており、
この中でオートリンス型が最も洗浄効果が大きい。
乙のオートリンス型純水洗浄装置の構成例を第３図（ａ
ｌ、 （ｂｌに示す。洗浄槽１ば上部に開口面７を有し
、下部に穴付き板１０が敷設されている。前記洗浄槽１
の前記穴付き板１０の上方はウェハ洗浄部９、下方は純
水・ガス混合部８となっている。
ｌ、 （ｂｌに示す。洗浄槽１ば上部に開口面７を有し
、下部に穴付き板１０が敷設されている。前記洗浄槽１
の前記穴付き板１０の上方はウェハ洗浄部９、下方は純
水・ガス混合部８となっている。
該純水・ガス混合部８にて、純水供給管１３及びガス供
給管１４並びに弁６ａを有する排水管６が連結されてい
る。
給管１４並びに弁６ａを有する排水管６が連結されてい
る。
乙の装置の動作を説明する。
まず、ウェハキャリア２にウェハ３を載置して、前記ウ
ェハキャリア２を前記洗浄槽１内の穴付き板１０上に載
置する。そして、前記純水供給管１３及びガス供給管１
４から純水及びガスを前記洗浄槽１の純水・ガス混合部
８内に供給する。なお、このとき前記排水管６の前記弁
６ａは閉じているので、前記純水は前記洗浄槽１内を満
たし、さらには前記洗浄槽１の前記開口面１ａよりオー
バーフローし、この状態で前記純水・ガス混合部８内に
おいて混合された純水・ガス混合流体が前記穴付き板１
０の穴１０ａより前記ウェハ洗浄部９に噴流し、前記ウ
ェハ１の洗浄が行われる。
ェハキャリア２を前記洗浄槽１内の穴付き板１０上に載
置する。そして、前記純水供給管１３及びガス供給管１
４から純水及びガスを前記洗浄槽１の純水・ガス混合部
８内に供給する。なお、このとき前記排水管６の前記弁
６ａは閉じているので、前記純水は前記洗浄槽１内を満
たし、さらには前記洗浄槽１の前記開口面１ａよりオー
バーフローし、この状態で前記純水・ガス混合部８内に
おいて混合された純水・ガス混合流体が前記穴付き板１
０の穴１０ａより前記ウェハ洗浄部９に噴流し、前記ウ
ェハ１の洗浄が行われる。
そして、適宜時間の経過後、前記排水管６の前記弁１を
開いて排水を行う。なお、この排水はすばやく行うこと
が前記ウェハ３の洗浄を効果的におこなうｔこめに重要
である。
開いて排水を行う。なお、この排水はすばやく行うこと
が前記ウェハ３の洗浄を効果的におこなうｔこめに重要
である。
さらに、この洗浄・排水を数回繰り返した後、前記ウェ
ハキャリア２を前記洗浄槽１外に搬出する。
ハキャリア２を前記洗浄槽１外に搬出する。
以上の工程により、ウェハの洗浄は行われる。
しかしながら、上記の構成例においては、純水供給管が
洗浄槽の下部において連結されているため、純水供給シ
ステム（図示せず）のポンプが故障した場合、サイホン
現象等により洗浄槽内の液が前記純水供給管を通って逆
流し、前記純水供給システムが汚染されるという問題が
あった。
洗浄槽の下部において連結されているため、純水供給シ
ステム（図示せず）のポンプが故障した場合、サイホン
現象等により洗浄槽内の液が前記純水供給管を通って逆
流し、前記純水供給システムが汚染されるという問題が
あった。
己れを防ぐには、洗浄効果の悪いビーカ型の洗浄装置を
使用するか、又は前記純水供給システムを純水供給管よ
り十分高い場所に設置して液の逆流を防止することによ
る対策しかなかった。
使用するか、又は前記純水供給システムを純水供給管よ
り十分高い場所に設置して液の逆流を防止することによ
る対策しかなかった。
この発明は、上記の問題点に鑑み、洗浄槽内の液が逆流
することのないオートリンス型の純水洗浄装置を提供す
ることを目的としている。
することのないオートリンス型の純水洗浄装置を提供す
ることを目的としている。
この発明は、この目的を達成するため、上面が開口し内
部下方に穴付き板を有する洗浄槽と、前記穴付き板の下
方にて前記洗浄槽に連結される純水供給管と、前記穴付
き板の下方にて前記洗浄槽に連結されるガス供給管と、
前記穴付き板の下方にて前記洗浄槽に連結される排水管
とからなる純水洗浄装置において、上部が前記洗浄槽の
開口面より高い位置をとるよう形設され、前記上部にて
前記純水供給管及び前記ガス供給管に連結されると共に
下部にて前記洗浄槽の下部と連結されてなる純水・ガス
混合室体を備えたものである。
部下方に穴付き板を有する洗浄槽と、前記穴付き板の下
方にて前記洗浄槽に連結される純水供給管と、前記穴付
き板の下方にて前記洗浄槽に連結されるガス供給管と、
前記穴付き板の下方にて前記洗浄槽に連結される排水管
とからなる純水洗浄装置において、上部が前記洗浄槽の
開口面より高い位置をとるよう形設され、前記上部にて
前記純水供給管及び前記ガス供給管に連結されると共に
下部にて前記洗浄槽の下部と連結されてなる純水・ガス
混合室体を備えたものである。
この発明は、上部が前記洗浄槽の開口面より高い位置を
とるよう形設され、前記上部にて前記純水供給管及び前
記ガス供給管に連結されると共に下部にて前記洗浄槽の
下部と連結されてなる純水・ガス混合室体を備えている
ので、純水供給システムのポンプが故障した場合、前記
純水・ガス混合室体の内部に形成される純水・ガス混合
室の上部の前記洗浄槽の開口面より高い部位にガスが溜
まり、該ガスにより前記純水供給管と前記洗浄槽とは区
切られることとなるので、前記純水供給管内の液が前記
洗浄槽内の液により汚染されることはない。
とるよう形設され、前記上部にて前記純水供給管及び前
記ガス供給管に連結されると共に下部にて前記洗浄槽の
下部と連結されてなる純水・ガス混合室体を備えている
ので、純水供給システムのポンプが故障した場合、前記
純水・ガス混合室体の内部に形成される純水・ガス混合
室の上部の前記洗浄槽の開口面より高い部位にガスが溜
まり、該ガスにより前記純水供給管と前記洗浄槽とは区
切られることとなるので、前記純水供給管内の液が前記
洗浄槽内の液により汚染されることはない。
この発明の一実施例を第１図（ａｌ、 （ｂｌを用いて
説明する。
説明する。
図に示すように、洗浄槽１は上部に開口面７を有し、下
部に穴付き板１０が敷設されている。前記洗浄槽１の前
記穴付き板１０の上方はウニ八洗浄部９、下方は純水・
ガス混合部８となっており、弁６ａを有する排水管６が
連結されている。純水・ガス混合室体１１は、前記洗浄
槽１の開口面７より高く形設された上部１１ａにて純水
供給管４及びガス供給管５が連結され、下部１１ｂにて
前記純水・ガス混合部８と連結している。
部に穴付き板１０が敷設されている。前記洗浄槽１の前
記穴付き板１０の上方はウニ八洗浄部９、下方は純水・
ガス混合部８となっており、弁６ａを有する排水管６が
連結されている。純水・ガス混合室体１１は、前記洗浄
槽１の開口面７より高く形設された上部１１ａにて純水
供給管４及びガス供給管５が連結され、下部１１ｂにて
前記純水・ガス混合部８と連結している。
この装置の動作を説明する。
まず、ウェハキャリア２にウェハ３を載置して、前記ウ
ェハキャリア２を前記洗浄槽１内の穴付き板１０上に載
置する。そして、前記純水供給管４及びガス供給管５か
ら純水及びガスを前記純水・ガス混合室体１１の内部の
純水・ガス混合室１２に供給する。なお、乙のとき前記
排水管６の前記弁６ａは閉じているので、前記純水は前
記純水・ガス混合室１２及び前記洗浄槽１の純水・ガス
混合部８を通って前記洗浄槽１内を満たし、さらには前
記洗浄槽１の前記開口面１ａよりオーバーフローし、こ
の状態で前記純水・ガス混合室１２及び前記純水・ガス
混合部８内において混合された純水・ガス混合流体が前
記穴付き板１０の穴１０ａより前記ウニ八洗浄部９に噴
流し、前記ウェハ１の洗浄が行われる。
ェハキャリア２を前記洗浄槽１内の穴付き板１０上に載
置する。そして、前記純水供給管４及びガス供給管５か
ら純水及びガスを前記純水・ガス混合室体１１の内部の
純水・ガス混合室１２に供給する。なお、乙のとき前記
排水管６の前記弁６ａは閉じているので、前記純水は前
記純水・ガス混合室１２及び前記洗浄槽１の純水・ガス
混合部８を通って前記洗浄槽１内を満たし、さらには前
記洗浄槽１の前記開口面１ａよりオーバーフローし、こ
の状態で前記純水・ガス混合室１２及び前記純水・ガス
混合部８内において混合された純水・ガス混合流体が前
記穴付き板１０の穴１０ａより前記ウニ八洗浄部９に噴
流し、前記ウェハ１の洗浄が行われる。
そして、適宜時間の経過後、前記排水管６の前記弁１を
開いて排水を行う。さらに、この洗浄・排水を数回繰り
返した後、前記ウェハキャリア２を前記洗浄槽１外に搬
出する。以上の工程により、ウェハの洗浄は行われる。
開いて排水を行う。さらに、この洗浄・排水を数回繰り
返した後、前記ウェハキャリア２を前記洗浄槽１外に搬
出する。以上の工程により、ウェハの洗浄は行われる。
もし、純水供給システム（図示せず）のポンプが故障し
た場合、前記洗浄槽１の開口面７より高い前記純水・ガ
ス混合室１２の上部１２ａにガスが溜まり、該ガスによ
り前記純水供給管４と前記洗浄槽１とは区切られること
となるので、前記純水供給管４内の液が前記洗浄槽１内
の液により汚染されることばない。
た場合、前記洗浄槽１の開口面７より高い前記純水・ガ
ス混合室１２の上部１２ａにガスが溜まり、該ガスによ
り前記純水供給管４と前記洗浄槽１とは区切られること
となるので、前記純水供給管４内の液が前記洗浄槽１内
の液により汚染されることばない。
さらに、乙の発明の他の実施例を第２図（ａｌ、（ｂ）
に示す。
に示す。
図に示すように、洗浄槽１の純水・ガス混合部８に連結
される純水供給管４′に、前記洗浄槽１の開口面７より
高い部位４’ａを形設し、該部位４’ ａにてガス供給
管５′と連結している。
される純水供給管４′に、前記洗浄槽１の開口面７より
高い部位４’ａを形設し、該部位４’ ａにてガス供給
管５′と連結している。
このような構成にしても前記の実施例と同様の作用・効
果が得られるものである。
果が得られるものである。
以上説明したように、この発明は、純水・ガス混合室体
を備えているので、純水供給システムのポンプの故障時
に、純水供給管と洗浄槽とがガスにより仕切られること
となるので、前記純水供給管内の液と前記洗浄槽内の液
とが混じり合いサイホン現象等により前記純水供給シス
テムが汚染されるようなことがなくなるという効果があ
る。
を備えているので、純水供給システムのポンプの故障時
に、純水供給管と洗浄槽とがガスにより仕切られること
となるので、前記純水供給管内の液と前記洗浄槽内の液
とが混じり合いサイホン現象等により前記純水供給シス
テムが汚染されるようなことがなくなるという効果があ
る。
第１図（ａｌ、（ｂｌは発明の一実施例を示す正面断面
図及び側面図、第２図（ａｌ、 （ｂ）ば発明の他の実
施例を示す正面ず及び側面図、第３図＋８）、 （ｂ）
は従来の技術を示す正面断面図及び側面図である。 １：洗浄槽、２：ウェハキャリア、３：ウェハ、４．４
’ ：純水供給管、５．５’ ： ガス供給管、６：排
水管、７：洗浄槽１の開口面、８：洗浄槽１の純水・ガ
ス混合部、９：ウニへ洗浄部、１０；穴付き板、１１：
純水・ガス混合室体、ｌｌａ：純水・ガス混合室体の上
部、１２：純水・ガス混合室、１２ａ＝純水・ガス混合
室の上部。
図及び側面図、第２図（ａｌ、 （ｂ）ば発明の他の実
施例を示す正面ず及び側面図、第３図＋８）、 （ｂ）
は従来の技術を示す正面断面図及び側面図である。 １：洗浄槽、２：ウェハキャリア、３：ウェハ、４．４
’ ：純水供給管、５．５’ ： ガス供給管、６：排
水管、７：洗浄槽１の開口面、８：洗浄槽１の純水・ガ
ス混合部、９：ウニへ洗浄部、１０；穴付き板、１１：
純水・ガス混合室体、ｌｌａ：純水・ガス混合室体の上
部、１２：純水・ガス混合室、１２ａ＝純水・ガス混合
室の上部。
Claims (1)
- 上面が開口し内部下方に穴付き板を有する洗浄槽と、
前記穴付き板の下方にて前記洗浄槽に連結される純水供
給管と、前記穴付き板の下方にて前記洗浄槽に連結され
るガス供給管と、前記穴付き板の下方にて前記洗浄槽に
連結される排水管とからなる純水洗浄装置において、上
部が前記洗浄槽の開口面より高い位置をとるよう形設さ
れ、前記上部にて前記純水供給管及び前記ガス供給管に
連結されると共に下部にて前記洗浄槽の下部と連結され
てなる純水・ガス混合室体を備えたことを特徴とする純
水洗浄装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15514384A JPS6134946A (ja) | 1984-07-27 | 1984-07-27 | 純水洗浄装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15514384A JPS6134946A (ja) | 1984-07-27 | 1984-07-27 | 純水洗浄装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6134946A true JPS6134946A (ja) | 1986-02-19 |
Family
ID=15599478
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15514384A Pending JPS6134946A (ja) | 1984-07-27 | 1984-07-27 | 純水洗浄装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6134946A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63203284A (ja) * | 1987-02-18 | 1988-08-23 | Miyachi Electric Co | 抵抗溶接制御又は測定装置 |
| US5327921A (en) * | 1992-03-05 | 1994-07-12 | Tokyo Electron Limited | Processing vessel for a wafer washing system |
-
1984
- 1984-07-27 JP JP15514384A patent/JPS6134946A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63203284A (ja) * | 1987-02-18 | 1988-08-23 | Miyachi Electric Co | 抵抗溶接制御又は測定装置 |
| JPH0257472B2 (ja) * | 1987-02-18 | 1990-12-05 | Miyachi Electronic Co | |
| US5327921A (en) * | 1992-03-05 | 1994-07-12 | Tokyo Electron Limited | Processing vessel for a wafer washing system |
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