JP3673400B2 - 基板処理装置 - Google Patents

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、半導体ウエハ、プラズマディスプレイ用ガラス基板、液晶用ガラス基板、プリント基板等の薬液処理された基板の表面をリンス処理する基板処理装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
近年、半導体ウエハ、プラズマディスプレイ用ガラス基板、液晶用ガラス基板、プリント基板等の各種基板の製造プロセスにおいて、基板を薬液に浸漬して表面に種々の処理を施す基板処理装置が汎用されている。このような基板処理装置は、薬液の供給される基板処理槽を有する薬液処理部と、リンス液である純水の供給される基板処理槽を有するリンス処理部とを備えており、基板を薬液の供給された基板処理槽に浸漬して表面に薬液処理を施した後、リンス液の供給された基板処理槽に浸漬する一方、そのリンス液の供給された基板処理槽内にリンス液を供給し続けることにより表面に付着している薬液を洗い流すリンス処理を施すようになっている。
【０００３】
また、上記のような薬液とリンス液とが個別に供給される複数の基板処理槽を備えた多槽式の基板処理装置の他に、単槽式の基板処理装置も汎用されている。この単槽式の基板処理装置は、１つの基板処理槽に薬液及びリンス液が順に供給されるように構成されたもので、基板を収納した基板処理槽内に薬液を供給することにより基板の表面に薬液処理を施す一方、薬液処理が終了すると基板処理槽内にリンス液である純水を供給することにより薬液を基板処理槽外に流し出してリンス液と置換した後、さらにリンス液を供給し続けることにより基板の表面に付着している薬液を洗い流すリンス処理を施すようにしたものである。
【０００４】
ところで、上記のような基板処理装置では、多槽式であれ単槽式であれ、基板の表面に薬液が残留していると必要以上に薬液処理が進行したり、パーティクルの発生原因となったりするため、リンス処理が十分に行われたかどうかを確認してからリンス処理を終了させる必要がある。このため、基板処理槽から排出されるリンス液の排液経路に、リンス液中の薬液の混入度合を検出する検出手段としての比抵抗測定器の計測部を配設しておき、リンス処理後のリンス液の比抵抗が所定値以上になったときにリンス処理が終了したと判断するようになっている。
【０００５】
すなわち、リンス処理が十分に行われていないときにはリンス液中に混入している薬液によりその比抵抗が低くなるが、リンス処理が十分に行われてリンス液中に薬液がほとんど混入しなくなるとその比抵抗が高くなるので、比抵抗が所定値に達した段階でリンス処理が終了したと判断する。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
ところが、上記のような基板処理装置においては、検出手段である比抵抗測定器の計測部が常に排液経路に配設された状態となっているので、多槽式の場合にはその計測部が薬液の混ざったリンス液に浸漬されることになり、単槽式の場合にはその計測部が薬液及び薬液の混ざったリンス液に浸漬されることになる。そのため、時間の経過と共に計測部を構成している電極等が薬液により腐食されて測定誤差が生じ易くなるという虞があった。
【０００７】
従って、本発明は、リンス液中の薬液の混入度合を検出する検出手段の薬液による腐食を可及的に抑制することのできる基板処理装置を提供することを目的とするものである。
【０００８】
【課題を解決するための手段】
上記の目的を達成するため、請求項１に係る基板処理装置は、基板の表面に対し薬液処理すると共に、この薬液処理した基板の表面に対しリンス処理するものであって、薬液又は薬液を洗い流すリンス液を順次貯留して基板に薬液処理又はリンス処理を施すもので、上端にリンス処理後のリンス液を排出する排出孔が形成された基板処理槽と、この基板処理槽に薬液又はリンス液を順次供給する液供給手段と、基板処理槽のリンス液中への薬液の混入度合いを検出する検出手段と、リンス処理時にのみ基板処理槽のリンス液を検出手段に導くもので、基板処理槽の排出孔から排出されるリンス液が通過し、かつ検出手段が配設される導入通路を有し、この導入通路は排出孔から排出されるリンス液が排出孔と対向する位置において流れ込む流入口及び検出手段により薬液の混入度合いが検出されたリンス液を外部に流出し、排出孔よりも高い位置で開口する流出口を有する導入手段とを備えたことを特徴としている。
【０００９】
上記構成によれば、リンス処理時にのみ、基板処理槽の排出孔から排出されるリンス液が排出孔と対向する位置にある導入手段の流入口から導入通路に流れ込み、この導入通路を通って検出手段に導かれる。この検出手段に導かれ、薬液の混入度合いが検出されたリンス液は、流出口から外部に流出される。このため、薬液処理時には薬液が検出手段にまで流れ込まないことから検出手段が薬液に接触しないことになり、検出手段の薬液による腐食を抑制することができる。また、流出口が排出孔よりも高い位置で開口していることから、基板処理槽内のリンス液の液位が不必要に低下することを阻止することができ、基板の表面に対して確実にリンス処理を施すことができる。
【００１０】
また、請求項２に係る基板処理装置は、請求項１に係るものにおいて、導入通路を検出手段の上流側において開閉する開閉部材と、導入通路が開閉部材により閉じられている場合、開閉部材の上流側で流入口から流れ込んだ薬液又はリンス液を外部に排出するものであり、排出孔よりも高い位置で開口するドレン孔とを備えたことを特徴としている。
【００１１】
上記構成によれば、導入通路は検出手段の上流側において開閉部材により開閉される。そして、導入通路が開閉部材により閉じられている場合、流入口から流れ込んだ薬液又はリンス液は、ドレン孔から外部に排出される。このため、リンス処理が開始された後に導入通路を開くようにすることで、薬液処理時には薬液が検出手段にまで流れ込まないことから検出手段が薬液に接触しないことになり、検出手段の薬液による腐食を抑制することができる。また、リンス処理開始時においても、導入通路を開閉部材により閉じておくと、リンス液がドレン孔から外部に流れ出ることで、導入通路内には常に最新のリンス処理後のリンス液が存在することになり、開閉部材が開かれて導入通路が開放された直後においても古いリンス液の薬液の混入度合いを検出するようなことがなくなる。
【００１２】
また、請求項３に係る基板処理装置は、請求項１に係るものにおいて、導入手段が、導入通路を有する通路形成部材と、この通路形成部材の導入通路を検出手段の上流側において開閉する開閉部材と、この開閉部材を駆動し、薬液処理時には導入通路を閉じ、リンス処理時には導入通路を開く駆動手段とを備えたことを特徴としている。
【００１３】
上記構成によれば、通路形成部材の導入通路が薬液処理時には開閉部材により閉じられ、リンス処理時には開かれる。このため、リンス処理時にのみリンス液が検出手段に導かれ、薬液処理時には検出手段が薬液に接触しないことになり、検出手段の薬液による腐食を抑制することができる。
【００１４】
また、請求項４に係る基板処理装置は、請求項３に係るものにおいて、基板処理槽の上部外周に配設され、基板処理槽の上部開口からオーバーフローする薬液又はリンス液を受け入れる排液槽を備え、排出孔は排液槽内に位置する個所に形成されたものであり、通路形成部材は排液槽内の排出孔に対応する位置に取り付けられたものであることを特徴としている。
【００１５】
上記構成によれば、基板処理槽の上部開口からオーバーフローする薬液又はリンス液を受け入れる排液槽内に位置する個所に形成された排出孔に対応する位置に通路形成部材が 取り付けられる。このため、リンス処理時において、基板処理槽の排出孔から排出されたリンス液は、通路形成部材の流入口から導入通路に流れ込み、薬液の混入度合いが検出されて流出口から外部に排出される。
【００１６】
また、請求項５に係る基板処理装置は、薬液処理された基板の表面をリンス処理する基板処理装置であって、リンス液により基板の表面をリンス処理するもので、上端にリンス処理後のリンス液を排出する排出孔が形成された基板処理槽と、基板処理槽のリンス液中への薬液の混入度合いを検出する検出手段と、リンス処理開始後、所定時間が経過した後、基板処理槽のリンス液を検出手段に導くもので、基板処理槽の排出孔から排出されるリンス液が通過し、かつ検出手段が配設される導入通路を有し、この導入通路は排出孔から排出されるリンス液が排出孔と対向する位置において流れ込む流入口及び検出手段により薬液の混入度合いが検出されたリンス液を外部に流出し、排出孔よりも高い位置で開口する流出口を有する導入手段とを備えたことを特徴としている。
【００１７】
上記構成によれば、リンス処理開始後、所定時間が経過した後、基板処理槽の排出孔から排出されるリンス液が排出孔と対向する位置にある導入手段の流入口から導入通路に流れ込み、この導入通路を通って検出手段に導かれる。この検出手段に導かれ、薬液の混入度合いが検出されたリンス液は、流出口から外部に流出される。このため、薬液混入度合いの高いリンス液が検出手段にまで流れ込まないことから検出手段が薬液混入度合の高いリンス液に接触することが防止され、検出手段の薬液による腐食を抑制することができる。また、流出口が排出孔よりも高い位置で開口していることから、基板処理槽内のリンス液の液位が不必要に低下することを阻止することができ、基板の表面に対して確実にリンス処理を施すことができる。
【００１８】
また、請求項６に係る基板処理装置は、請求項５に係るものにおいて、導入通路を検出手段の上流側において開閉する開閉部材と、導入通路が開閉部材により閉じられている場合、開閉部材の上流側で流入口から流れ込んだリンス液を外部に排出するものであり、排出孔よりも高い位置で開口するドレン孔とを備えたことを特徴としている。
【００１９】
上記構成によれば、導入通路は検出手段の上流側において開閉部材により開閉される。そして、導入通路が開閉部材により閉じられている場合、流入口から流れ込んだリンス液は、ドレン孔から外部に排出される。このため、導入通路を開閉部材により閉じておくと、リンス液がドレン孔から外部に流れ出ることで、導入通路内には常に最新のリンス処理後のリンス液が存在することになり、開閉部材が開かれて導入通路が開放された直後においても古いリンス液の薬液の混入度合いを検出するようなことがなくなる。
【００２０】
また、請求項７に係る基板処理装置は、請求項５に係るものにおいて、導入手段が、導入通路を有する通路形成部材と、通路形成部材の導入通路を検出手段の上流側において開閉する開閉部材と、リンス処理開始後、所定時間が経過した後、開閉部材を駆動して導入通路を開く駆動手段とを備えたことを特徴としている。
【００２１】
上記構成によれば、リンス処理開始後、所定時間が経過した後、開閉部材が駆動されて通路形成部材の導入通路が開かれる。このため、薬液混入度合いの高いリンス液が検出手段にまで流れ込まないことから検出手段が薬液混入度合いの高いリンス液に接触することが防止され、検出手段の薬液による腐食を抑制することができる。
【００２２】
また、請求項８に係る基板処理装置は、請求項７に係るものにおいて、基板処理槽の上部外周に配設され、基板処理槽の上部開口からオーバーフローするリンス液を受け入れる排液槽を備え、排出孔は排液槽内に位置する個所に形成されたものであり、通路形成部材は排液槽内の排出孔に対応する位置に取り付けられたものであることを特徴としている。
【００２３】
上記構成によれば、基板処理槽の上部開口からオーバーフローするリンス液を受け入れる排液槽内に位置する個所に形成された排出孔に対応する位置に通路形成部材が取り付けられる。このため、リンス処理時において、基板処理槽の排出孔から排出されたリンス液は、通路形成部材の流入口から導入通路に流れ込み、薬液の混入度合いが検出されて流出口から外部に排出される。
【００２４】
また、請求項９に係る基板処理装置は、請求項３、４、７又は８に係るものにおいて、通路形成部材が、導入通路の開閉部材よりも下流側に形成された、流出口よりも小さな口径を有するドレン孔を備えたことを特徴としている。
【００２５】
上記構成によれば、通路形成部材の導入通路が開閉部材により閉じられた後、該開閉部材よりも下流側の導入通路内のリンス液がドレン孔を介して通路形成部材の外部に排出されるので、検出手段が不必要にリンス液に浸漬されないようになり、検出手段の腐食が効率的に抑制される。
【００２６】
また、請求項１０に係る基板処理装置は、請求項３、４、７、８又は９に係るものにおいて、通路形成部材が、流出口から排出されるリンス液が基板処理槽内に流入するのを阻止する衝立板を備えたことを特徴としている。
【００２７】
上記構成によれば、通路形成部材の流出口から排出されたリンス液が衝立板に遮られて基板処理槽側に流入するのが阻止され、基板処理槽内のリンス液が一旦外部に排出されたリンス液により汚染されるのが防止される。
【００２８】
また、請求項１１に係る基板処理装置は、請求項１に係るものにおいて、導入手段が、その一方の端部が基板処理槽に接続され、その他方の端部が検出手段に導かれた導入通路と、導入通路を開閉する開閉部材と、開閉部材を駆動し、薬液処理時には導入通路を閉じ、リンス処理時には導入通路を開く駆動手段とを備えたことを特徴としている。
【００２９】
上記構成によれば、薬液処理時には導入通路が開閉部材により閉じられ、リンス処理時には開かれる。このため、リンス処理時にのみリンス液が検出手段に導かれ、薬液処理時には検出手段が薬液に接触しないことになり、検出手段の薬液による腐食を抑制することができる。
【００３０】
また、請求項１２に係る基板処理装置は、請求項５に係るものにおいて、導入手段が、その一方の端部が基板処理槽に接続され、その他方の端部が検出手段に導かれた導入通路と、導入通路を開閉する開閉部材と、開閉部材を駆動し、リンス処理開始後、所定時間が経過した後、導入通路を開く駆動手段とを備えたことを特徴としている。
【００３１】
上記構成によれば、リンス処理開始後、所定時間が経過した後、開閉部材が駆動されて導入通路が開かれる。このため、薬液混入度合いの高いリンス液が検出手段にまで流れ込まないことから検出手段が薬液混入度合の高いリンス液に接触することが防止され、検出手段の薬液による腐食を抑制することができる。
【００３２】
また、請求項１３に係る基板処理装置は、基板の表面に対し薬液処理すると共に、この薬液処理した基板の表面に対しリンス処理する基板処理装置であって、薬液又は薬液を洗い流すリンス液を順次貯留して基板に薬液処理又はリンス処理を施す基板処理槽と、基板処理槽に薬液又はリンス液を順次供給する液供給手段と、基板処理槽のリンス液中への薬液の混入度合いを検出する検出手段と、リンス処理時にのみ基板処理槽のリンス液を検出手段に導くもので、基板処理槽から排出されたリンス液が傾斜板上に流されることでリン ス液を受け入れる排液ボックス及び排液ボックスに受け入れたリンス液を検出手段に導く導入管を有する導入手段とを備えたことを特徴としている。
【００３３】
上記構成によれば、リンス処理時にのみ、基板処理槽から排出され、傾斜板上に流されることで排液ボックス内に排出されたリンス液は、導入管を通って検出手段に導かれる。このため、薬液処理時に薬液が検出手段にまで導かれることがないことから検出手段が薬液に接触しないことになり、検出手段の薬液による腐食を抑制することができる。また、リンス液が傾斜板を経由して排液ボックス内に排出されることにより、排液ボックスへの排出時におけるリンス液への気泡の巻き込みが抑制され、リンス液中の気泡の混在による薬液の混入度合いの検出誤差を小さくすることができる。
【００３４】
また、請求項１４に係る基板処理装置は、請求項１３に係るものにおいて、基板処理槽の上部外周に配設され、基板処理槽の上部開口からオーバーフローする薬液又はリンス液を受け入れる排液槽を備え、傾斜板が、排液槽の一部に形成された開放部に傾斜して配設された排出傾斜板であることを特徴としている。
【００３５】
上記構成によれば、基板処理槽から排出された薬液又はリンス液は、排液槽の一部に形成された開放部に傾斜して配設された排出傾斜板を経由して排液ボックス内に排出される。これにより、排液ボックスへの排出時におけるリンス液への気泡の巻き込みが抑制され、リンス液中の気泡の混在による薬液の混入度合いの検出誤差を小さくすることができる。
【００３６】
また、請求項１５に係る基板処理装置は、請求項１３に係るものにおいて、傾斜板が、排液ボックス内に傾斜して配設された受入傾斜板であることを特徴としている。
【００３７】
上記構成によれば、基板処理槽から排出された薬液又はリンス液は、排液ボックス内に傾斜して配設された受入傾斜板を経由して排液ボックス内に排出される。これにより、排液ボックスへの排出時におけるリンス液への気泡の巻き込みが抑制され、リンス液中の気泡の混在による薬液の混入度合いの検出誤差を小さくすることができる。
【００３８】
また、請求項１６に係る基板処理装置は、薬液処理された基板の表面をリンス処理する基板処理装置であって、リンス液により基板の表面をリンス処理する基板処理槽と、基板処理槽のリンス液中への薬液の混入度合いを検出する検出手段と、リンス処理開始後、所定時間が経過した後、基板処理槽のリンス液を検出手段に導くもので、基板処理槽から排出されたリンス液が傾斜板上に流されることでリンス液を受け入れる排液ボックス及び排液ボックスに受け入れたリンス液を検出手段に導く導入管を有する導入手段とを備えたことを特徴としている。
【００３９】
上記構成によれば、リンス処理開始後、所定時間が経過した後、基板処理槽から排出され、傾斜板上に流されることで排液ボックス内に排出されたリンス液は、導入管を通って検出手段に導かれる。このため、検出手段が薬液混入度合いの高いリンス液に接触することが防止され、検出手段の薬液による腐食を抑制することができる。また、リンス液が傾斜板を経由して排液ボックス内に排出されることにより、排液ボックスへの排出時におけるリンス液への気泡の巻き込みが抑制され、リンス液中の気泡の混在による薬液の混入度合いの検出誤差を小さくすることができる。
【００４０】
また、請求項１７に係る基板処理装置は、請求項１６に係るものにおいて、基板処理槽の上部外周に配設され、基板処理槽の上部開口からオーバーフローするリンス液を受け入れる排液槽を備え、傾斜板が、排液槽の一部に形成された開放部に傾斜して配設された排出傾斜板であることを特徴としている。
【００４１】
上記構成によれば、基板処理槽から排出されたリンス液は、排液槽の一部に形成された開放部に傾斜して配設された排出傾斜板を経由して排液ボックス内に排出される。これにより、排液ボックスへの排出時におけるリンス液への気泡の巻き込みが抑制され、リンス液中の気泡の混在による薬液の混入度合いの検出誤差を小さくすることができる。
【００４２】
また、請求項１８に係る基板処理装置は、請求項１６に係るものにおいて、傾斜板が、排液ボックス内に傾斜して配設された受入傾斜板であることを特徴としている。
【００４３】
上記構成によれば、基板処理槽から排出されたリンス液は、排液ボックス内に傾斜して配設された受入傾斜板を経由して排液ボックス内に排出される。これにより、排液ボックスへの排出時におけるリンス液への気泡の巻き込みが抑制され、リンス液中の気泡の混在による薬液の混入度合いの検出誤差を小さくすることができる。
【００４４】
【発明の実施の形態】
図１は、本発明の第１の実施形態に係る基板処理装置の概略構成を示す図である。この図において、基板処理装置は、薬液中又はリンス液中に半導体ウエハ等の基板Ｂを浸漬し、基板Ｂに対して薬液処理又はリンス処理を施す基板処理槽１０と、この基板処理槽１０内に複数種類の薬液を選択的に供給する薬液供給部１２と、基板処理槽１０内にリンス液である純水を供給する純水供給部１４と、これらの薬液供給部１２からの薬液又は純水供給部１４からの純水の供給によって基板処理槽１０の上部開口からオーバーフローした薬液又は純水を排出する処理液排出部１６と、装置全体の動作を制御する制御部１８とを備えている。
【００４５】
基板処理槽１０は、石英ガラス等により側面視略Ｖ字状で平面視略矩形状に構成される一方、その内部に基板Ｂを収容した図略のキャリアが搬送用ロボットにより挟持されて搬入されるようになっており、その底部には薬液と純水の供給路を兼ねた処理液供給管２０が連結されている。この処理液供給管２０には、導入弁連結管２２、スタティックミキサ２４及び給排液切替弁２６が上流側から下流側に向けて順に配設されている。また、導入弁連結管２２には、薬液供給部１２からの薬液を導入する薬液導入弁２８，３０，３２，３４，３６が連結されている。
【００４６】
なお、導入弁連結管２２は、各薬液導入弁２８，３０，３２，３４，３６を介して薬液供給部１２からの各薬液を個別に導入するものである。また、スタティックミキサ２４は、薬液供給部１２からの薬液と純水供給部１４からの純水を混合して所定濃度の薬液を生成するものである。また、給排液切替弁２６は、薬液又は純水を基板処理槽１０内に供給するか又は、基板処理槽１０内の薬液又は純水を後述する排液管７４及び排液ドレン７６を介して装置外部に排出するものである。
【００４７】
薬液供給部１２は、複数種類の薬液ＱA，ＱB，ＱC，ＱD，ＱEを貯留する薬液容器３８，４０，４２，４４，４６と、各薬液導入弁２８，３０，３２，３４，３６及び各薬液容器３８，４０，４２，４４，４６の間をそれぞれ連通する薬液供給管４８，５０，５２，５４，５６と、各薬液供給管４８，５０，５２，５４，５６をそれぞれ開閉する薬液切替弁４８１，５０１，５２１，５４１，５６１と、薬液ＱA，ＱB，ＱC，ＱD，ＱEをそれぞれ処理液供給管２０側にそれぞれ圧送する圧送ポンプ４８２，５０２，５２２，５４２，５６２と、各圧送ポンプ４８２，５０２，５２２，５４２，５６２の上流側にそれぞれ配設された薬液供給量測定器４８３，５０３，５２３，５４３，５６３と、各圧送ポンプ４８２，５０２，５２２，５４２，５６２の下流側にそれぞれ配設された薬液フィルタ４８４，５０４，５２４，５４４，５６４とを備えている。
【００４８】
純水供給部１４は、純水Ｗを図略の純水供給源から処理液供給管２０側に圧送する純水供給管５８と、この純水供給管５８に上流側から下流側にかけて順に配設された純水加熱部６０、純水開閉弁６２、圧力調整レギュレータ６４、純水圧力測定器６６及び純水フィルタ６８とを備えている。なお、圧力調整レギュレータ６４は、空気圧制御によって純水供給管５８内を圧送される純水流量を制御するものである。
【００４９】
処理液排出部１６は、基板処理槽１０の上部外周に配設され、基板処理槽１０の上部開口からオーバーフローする薬液又は純水を受け入れる排液槽７０と、この排液槽７０の底部に形成された排出口７２に一端が連結された排液管７４と、この排液管７４の他端に連結された排液ドレン７６とを備えている。これらの排液槽７０、排液管７４及び排液ドレン７６により排液経路が構成される。
【００５０】
また、排液槽７０内における基板処理槽１０の上端外周には、その基板処理槽１０の上端に形成された排出孔１１に対応する位置に、その排出孔１１から排出されたリンス処理後の純水が流れ込む通路部材７８がゴムパッキング８０を介して取り付けられている。この通路部材７８は、耐薬品性に優れた樹脂等で形成され、基板処理槽１０内のリンス処理後の純水が内部を流れる直方体形状の通路形成部材７８１と、この通路形成部材７８１内の純水の流れを制御するアクチュエータ部７８２とから構成されており、通路形成部材７８１には純水中への薬液の混入度合を検出する検出手段である純水の比抵抗を測定する比抵抗測定器８２が取り付けられ、アクチュエータ部７８２にはソレノイド等からなる後述する駆動手段７８２ａが配設されている。
【００５１】
図２乃至図５は、通路部材７８の構成を説明するための図で、図２は通路部材７８の外観斜視図、図３は図２に示す通路部材７８の一部を切り欠いて示す要部斜視図、図４は図２に示す通路部材７８のＡ−Ａ線断面図、図５は図２に示す通路部材７８のＢ−Ｂ線断面図である。なお、これらの図には、方向を明確にするためのＸＹＺ直角座標系を併せて図示している。
【００５２】
すなわち、通路形成部材７８１には、その内部に、前後方向（Ｘ方向）に形成された第１の通路７８３ａと、左右方向（Ｙ方向）に形成された第２の通路７８３ｂと、上下方向（Ｚ方向）に形成された第３の通路７８３ｃとからなる導入通路７８３が形成されている。
【００５３】
第１の通路７８３ａは、一端が通路形成部材７８１の前面（＋Ｘ方向）に開口しており、この開口部分が基板処理槽１０の排出孔１１と対向する純水の流入口７８３ｄを構成する。なお、通路部材７８は、この流入口７８３ｄが基板処理槽１０の排出孔１１に対向するように基板処理槽１０に取り付けられる。また、この第１の通路７８３ａには、この第１の通路７８３ａよりも小径のドレン孔７８３ｅが通路形成部材７８１の上面（＋Ｚ方向）に通じるように形成されている。
【００５４】
また、第２の通路７８３ｂは、一端が第１の通路７８３ａの他端に連通される一方、他端が通路形成部材７８１の左側面（＋Ｙ方向）に開口しており、この開口部分が比抵抗測定器８２の挿入口７８３ｆを構成する。なお、比抵抗測定器８２は、この挿入口７８３ｆに挿入されて通路部材７８に取り付けられ、その先端の計測部８２１が第２の通路７８３ｂ内に露出するようになっている。
【００５５】
また、第３の通路７８３ｃは、一端が第２の通路７８３ｂに連通され、他端が上面（＋Ｚ方向）に開口しており、この開口部分が純水の流出口７８３ｇを構成する。従って、通路部材７８の前面の流入口７８３ｄから流入されたリンス処理後の純水は第１，第２及び第３の通路７８３ａ，７８３ｂ及び７８３ｃからなる導入通路７８３を通過して上面の流出口７８３ｇから流出されることになり、比抵抗測定器８２の計測部８２１はこの導入通路７８３内を流れる純水の比抵抗を測定する。
【００５６】
また、第１の通路７８３ａと第２の通路７８３ｂとの接合部分には、アクチュエータ部７８２内に配設されている駆動手段７８２ａにより通路部材７８の軸挿入孔７８３ｉに挿入された軸体７８２ｂを介して前後方向（Ｘ方向）に進退する弁体等からなる開閉部材７８２ｃが配設されている。そして、この開閉部材７８２ｃが前側（＋Ｘ方向）に移動したときに第１の通路７８３ａと第２の通路７８３ｂとの間が遮断され、流入口７８３ｄから流入したリンス処理後の純水が流出口７８３ｇ側に流れるのが阻止される一方、後側（−Ｘ方向）に移動したときに第１の通路７８３ａと第２の通路７８３ｂとの間が開放され、流入口７８３ｄから流入したリンス処理後の純水が流出口７８３ｇ側に流れるようになっている。
【００５７】
また、通路形成部材７８１の上面（＋Ｚ方向）には、ドレン孔７８３ｅ及び流出口７８３ｇよりも前側（＋Ｘ方向）の位置に左右方向（Ｙ方向）の両端に亘る衝立板７８４が上方に突設されており、ドレン孔７８３ｅ及び流出口７８３ｇから外部に流出した純水が衝立板７８４に遮られることによって基板処理槽１０内に流れ込まないようになっている。
【００５８】
なお、通路形成部材７８１と、この通路形成部材７８１の導入通路７８３を比抵抗測定器８２の計測部８２１の上流側において開閉する開閉部材７８２ｃと、この開閉部材７８２ｃを駆動し、薬液処理時には開閉部材７８２ｃで導入通路７８３を閉じ、リンス処理時には開閉部材７８２ｃで導入通路７８３を開く駆動手段７８２ａとで基板処理槽１０のリンス液を比抵抗測定器８２の計測部８２１に導く導入手段を構成する。
【００５９】
図１に戻り、制御部１８は、図示を省略するが、所定の演算処理を行うＣＰＵ、所定の処理プログラムが記憶されているＲＯＭ及び処理データを一時的に記憶するＲＡＭから構成されており、上記所定の処理プログラムに従って基板処理装置の動作を制御する。
【００６０】
すなわち、制御部１８には、薬液供給量測定器４８３，５０３，５２３，５４３，５６３、純水圧力測定器６６、及び比抵抗測定器８２が接続され、所定の出力信号が入力されるようになっている。また、制御部１８には、給排液切替弁２６、薬液導入弁２８，３０，３２，３４，３６、薬液切替弁４８１，５０１，５２１，５４１，５６１、圧送ポンプ４８２，５０２，５２２，５４２，５６２、純水加熱部６０、純水開閉弁６２、圧力調整レギュレータ６４、及びアクチュエータ７８２の駆動手段７８２ａが接続され、上記出力信号に基づきそれぞれの動作が制御されるようになっている。
【００６１】
次に、上記のように構成された基板処理装置の動作について説明する。まず、図略のスタートスイッチがＯＮされると、純水開閉弁６２が開かれる一方、図略の純水供給源から供給された純水Ｗが純水加熱部６０で所定温度に加熱され、処理液供給管２０を介して基板処理槽１０内に供給される。このとき、薬液導入弁２８，３０，３２，３４，３６は閉じられており、純水だけが基板処理槽１０内に継続して供給される。そして、基板処理槽１０の上部開口からオーバーフローした純水は排液槽７０内に排出され、その排出口７２から排液管７４、排液ドレン７６を介して装置外部に排出される。
【００６２】
このように、純水が基板処理槽１０からオーバーフローするようになると、基板Ｂが基板処理槽１０内に搬入される。その後、基板処理槽１０内に給送される１の薬液ＱA，ＱB，ＱC，ＱD，ＱEに対応した薬液導入弁２８，３０，３２，３４，３６が開かれる一方、その１の薬液ＱA，ＱB，ＱC，ＱD，ＱEに対応する１の圧送ポンプ４８２，５０２，５２２，５４２，５６２が駆動されて所定の薬液（原液）が導入弁連結管２２を介してスタティックミキサ２４に給送される。このスタティックミキサ２４に給送されてきた薬液はスタティックミキサ２４内で純水供給部１４から給送されてきた純水と混合され、所定濃度の薬液とされた上で基板処理槽１０内に供給される。
【００６３】
そして、この動作が継続されることで基板処理槽１０内の純水が薬液に置換され、これにより基板Ｂの表面に対して薬液処理が施される。なお、このとき、１の薬液導入弁２８，３０，３２，３４，３６が開かれていることから薬液処理であると判断され、純水供給源から給送される純水Ｗは圧力調整レギュレータ６４によりリンス処理の場合よりも少ない流量となるように制御されてスタティックミキサ２４に給送される。また、この薬液処理であると判断されたときには、通路部材７８の開閉部材７８２ｃは駆動手段７８２ａにより前側に移動して導入通路７８３を遮断するようになっており、基板処理槽１０内の薬液が導入通路７８３の開閉部材７８２ｃよりも下流側には流れ込まないようになっている。
【００６４】
この結果、比抵抗測定器８２の計測部８２１は薬液に浸漬されることがないので、計測部８２１の電極等の薬液による腐食が抑制される。なお、薬液は排出通路７８３の開閉部材７８２ｃの手前までは流入することになるが、ドレン孔７８３ｅを介して通路部材７８の外部に排出されることになる。
【００６５】
そして、一定時間が経過して基板Ｂに対する薬液処理が終了すると、開いていた１の薬液導入弁２８，３０，３２，３４，３６が閉じられ、対応する１の圧送ポンプ４８２，５０２，５２２，５４２，５６２の駆動が停止される。なお、このとき、薬液導入弁２８，３０，３２，３４，３６がすべて閉じられていることからリンス処理であると判断され、純水供給源から給送される純水Ｗは圧力調整レギュレータ６４により薬液処理の場合よりも多い流量となるように制御されて基板処理槽１０内に給送される。
【００６６】
そして、純水のみが基板処理槽１０内に供給されると、基板処理槽１０内の薬液が上部開口からオーバーフローして排液槽７０内に排出されることにより基板処理槽１０内の薬液が純水と置換される。排液槽７０内に排出された薬液は、排出口７２から排液管７４及び排液ドレン７６を介して装置外部に排出される。このように、基板処理槽１０内が純水で置換されることにより、基板Ｂの表面に対して薬液を洗い流すリンス処理が施されることになる。
【００６７】
このとき、通路部材７８の開閉部材７８２ｃが駆動手段７８２ａにより後側に移動して導入通路７８３が開放されるようになっており、基板処理槽１０内のリンス処理後の純水が排出孔１１を介して通路部材７８の流入口７８３ｄから導入通路７８３内に流れ込んで流出口７８３ｇから通路部材７８の外部に流出される一方、比抵抗測定器８２の計測部８２１により導入通路７８３内を流れる純水の比抵抗が継続して測定される。
【００６８】
なお、開閉部材７８２ｃを移動して導入通路７８３を開放する動作は、例えば、薬液導入弁２８，３０，３２，３４，３６がすべて閉じられてから一定時間を経過した後に行われる。また、導入通路７８３が開閉部材７８２ｃにより閉じられているときでも、基板処理槽１０内のリンス処理後の純水が流入口７８３ｄに流れ込んでドレン孔７８３ｅから通路部材７８の外部に流れ出る流路が形成され、第１の通路７８３ａ内には常に最新のリンス処理後の純水が存在するようになっているので、導入通路７８３が開放された直後においても古い純水の比抵抗を測定するようなことがなくなり、常に正確な比抵抗を測定することが可能となる。
【００６９】
このように、基板Ｂの表面に対するリンス処理が開始された後に導入通路７８３の流出口７８３ｇ側にリンス処理後の純水が流れ込むようになっているので、比抵抗測定器８２の計測部８２１が高濃度の薬液に浸漬されることがなくなり、計測部の電極等の薬液による腐食が抑制される。そして、比抵抗測定器８２からの出力が所定値（例えば、１８ＭΩｃｍ）を越えたとき、リンス処理が終了したと判断して純水Ｗの供給が停止され、基板Ｂが基板処理槽１０から搬出されて次工程へと搬送される。
【００７０】
この実施形態に係る基板処理装置は、上記のように通路部材７８の導入通路７８３を通過するリンス処理後の純水中への薬液の混入度合を比抵抗測定器８２により検出する一方、導入通路７８３を比抵抗測定器８２の上流側において開閉することにより比抵抗測定器８２の計測部８２１が薬液に浸漬されないようにしているので、比抵抗測定器８２の計測部８２１の薬液による腐食を可及的に抑制することができ、長期に亘って純水の比抵抗を正確に測定することが可能となる。
【００７１】
なお、導入通路７８３を開放するタイミングはリンス処理開始後であればいつでも良いが、経験的にリンス処理が概ね終了する時間を所定時間とし、該所定時間を制御部１８に記憶させておき、リンス処理開始後、該所定時間が経過したときに導入通路７８３を開放させればより好ましい。このようにしてリンス処理が概ね終了する時間まで比抵抗測定器８２が薬液の混入した純水に接触することを防止することにより、比抵抗測定器８２の計測部８２１の腐食をより効果的に抑制することができる。
【００７２】
また、この実施形態では、通路部材７８の流出口７８３ｇが通路形成部材７８１の上面に形成されており、これにより基板処理槽１０内の純水の液位を不必要に低下させることがないようになっているが、液位が多少低下してもリンス処理に支障が生じなければ、流出口７８３ｇを通路形成部材７８１の側面や下面に形成することも可能である。
【００７３】
また、この実施形態では、通路部材７８の第１の通路７８３ａにドレン孔７８３ｅを設けて導入通路７８３が閉じられているときでも第１の通路７８３ａ内には常に最新のリンス処理後の純水が存在するようになっているが、導入通路７８３が開放された直後の測定値を無視するようにすればドレン孔７８３ｅをなくすことも可能である。このように、ドレン孔７８３ｅをなくし、かつ、流出口７８３ｇを側面や下面に形成するようにした場合は、ドレン孔７８３ｅや流出口７８３ｇから流出した純水が基板処理槽１０内に流れ込む虞がなくなるので、衝立板７８４を除去するようにしてもよい。
【００７４】
また、この実施形態では、第２の通路７８３ｂにはドレン孔を設けていないが、図６に示すように、第２の通路７８３ｂの第３の通路７８３ｃに対向する位置に、この第３の通路７８３ｃよりも小径のドレン孔７８３ｈを通路形成部材７８１の下面（−Ｚ方向）に通じるように形成するようにしてもよい。このようにした場合は、導入通路７８３が開閉部材７８２ｃにより閉じられた後には、開閉部材７８２ｃよりも下流側の導入通路７８３内の純水がドレン孔７８３ｈを介して通路部材７８の外部に排出されることになるので、比抵抗測定器８２の計測部８２１が不必要に純水に浸漬されないようになり、計測部８２１の腐食がさらに抑制されることになる。なお、外気が汚染されている場合等では、ドレン孔７８３ｈを形成せずに導入通路７８３が閉じられた後も計測部８２１が積極的に純水に浸漬されるようにすることにより計測部８２１を外気から保護することができる。
【００７５】
また、上記実施形態では、通路部材７８は基板処理槽１０の外周に取り付けられているので、基板処理槽１０内から排出される純水に不純物等が混入される虞がなくなって比抵抗測定器８２による精度の高い測定が可能となるが、通路部材７８を排液槽７０の外周に取り付けるようにすることも可能である。この場合には、通路部材７８の流出口にそこから流出される純水を所定箇所に排出するための配管を施しておけばよい。
【００７６】
また、この実施形態では、基板処理装置として単槽式のものについて説明しているが、薬液処理部およびリンス処理部を有し、薬液処理が施された基板をリンス処理部の基板処理槽内に搬入してリンス処理を行う多槽式の基板処理装置においても該リンス処理部の基板処理槽に上記のような構成を適用することができる。このような構成では、初期状態で開閉部材７８２ｃを移動させて第１の通路７８３ａと第２の通路７８３ｂとを遮断しておき、薬液処理部で処理された基板がリンス処理部の基板処理槽内に搬入されてから所定時間後、開閉部材を７８２ｃを移動させて第１の通路７８３ａと第２の通路７８３ｂとを開通させることにより比抵抗測定器８２の計測部８２１に純水を接触させればよい。このときの所定時間はリンス処理開始後であればいつでもよいが、経験的にリンス処理が概ね終了する時間を求めておき、これを所定時間とすればより好ましい。こうすることによって、薬液の混入度合いの比較的高い純水が計測部８２１に接触することを防止でき、その結果、比抵抗測定器の腐食を抑制することができる。
【００７７】
図７は、本発明の第２の実施形態に係る基板処理装置の要部を示す図である。この第２の実施形態では第１の実施形態に係るものとの相違点を中心に説明し、同一の構成になるものは同一の符号を付してその詳細な説明を省略する。すなわち、第１の実施形態では、基板処理槽１０の純水の比抵抗を測定する比抵抗測定手段が基板処理槽１０の上部外周に取り付けられた通路部材７８と、通路部材７８の導入通路７８３に計測部８２１が配設された比抵抗測定器８２とで構成されているが、図７に示すものでは、排液槽７０から排出される処理液を受け入れる排液ボックス８６と、排液ボックス８６内に排出された純水を比抵抗測定器８２の計測部８２１側に流し込む導入管８７と、制御部１８により制御され、導入管８７の通路を開閉するエアーバルブ等の開閉手段８８と、導入管８７の排出口８７１が装着されると共に、比抵抗測定器８２の計測部８２１が装着される通路ブロック８９とから構成されている。なお、開閉手段８８は、弁体等の開閉部材と、この開閉部材を駆動する駆動手段とを有している。
【００７８】
排液ボックス８６は、一端が排液ボックス８６の一方の壁面上端に取り付けられ、他端が対向壁面（図中の手前側）に向けて下方向に緩やかに傾斜して配設された受入傾斜板８６１と、底壁に取り付けられ、内部に排出された処理液を外部に排出する排出管８６２とを備えている。
【００７９】
基板処理槽１０の上部外周に配設された排液槽７０は、その一部が開放され、その開放部に下方向に傾斜して配設された排出傾斜板７０１を備えており、基板処理槽１０から排液槽７０に流れ出た処理液が排出傾斜板７０１を介して排液ボックス８６の受入傾斜板８６１上に排出されるようになっている。この受入傾斜板８６１上に排出された処理液は受入傾斜板８６１上を流れて他端から排液ボックス８６の底部に流れ込む。
【００８０】
このように、排液槽７０の処理液が排出傾斜板７０１及び受入傾斜板８６１を経由して排液ボックス８６に排出されることにより、排液ボックス８６に排出される処理液への気泡の巻き込みが抑制され、純水中の気泡の混在による比抵抗の測定誤差を小さくすることができる。
【００８１】
通路ブロック８９は、ブロック体８９１を縦方向に貫通する縦通路８９２と、縦通路８９２と交差してブロック体８９１を横方向に貫通する横通路８９３とを有しており、比抵抗測定器８２の計測部８２１が横通路８９３の一方側から挿入されてその先端が縦通路８９２内に位置するようにされる一方、導入管８７の排出口８７１が横通路８９３の他方側から挿入されるようになっている。
【００８２】
このように構成された比抵抗測定手段を有する基板処理装置では、基板処理槽１０から薬液が排出されるときには、開閉手段８８により導入管８７が閉じられて薬液が比抵抗測定器８２の計測部８２１に流れ込まないようにされる一方、基板処理装置１０から純水が排出されるときには、開閉手段８８により導入管８７が開放されて純水が通路ブロック８９の横通路８９３から内部に流れ込み、比抵抗測定器８２の計測部８２１に導かれる。このとき、計測部８２１により純水の比抵抗が測定される。比抵抗測定器８２の計測部８２１に達した純水は縦通路８９２から上下方向に分流されて外部に排出され、排出ドレンに導かれる。
【００８３】
この導入管８７を開放するタイミングはリンス処理開始後であればいつでも良いが、経験的にリンス処理が概ね終了する時間を所定時間とし、該所定時間を制御部１８に記憶させておき、リンス処理開始後、該所定時間が経過したときに導入管８７を開放させるようにすればより好ましい。このようにしてリンス処理が概ね終了する時間まで比抵抗測定器８２の計測部８２１が薬液の混入した純水に接触することを防止することにより、計測部８２１の電極等の腐食をより効果的に抑制することができる。
【００８４】
なお、排液ボックス８６に排出された処理液は、処理液が純水の場合には一部が導入管８７により比抵抗測定器８２に導かれる他は大半が排出管８６２から外部に排出され、排液ドレンに導かれる。また、処理液が薬液の場合はそのすべてが排出管８６２から外部に排出され、排液ドレンに導かれる。
【００８５】
この第２の実施形態に係る基板処理装置は、上記のように排液ボックス８６に排出された純水中への薬液の混入度合を比抵抗測定器８２により検出する一方、導入管８７を比抵抗測定器８２の上流側において開閉することにより比抵抗測定器８２の計測部８２１が薬液に浸漬されないようにしているので、比抵抗測定器８２の計測部８２１の薬液による腐食を可及的に抑制することができ、長期に亘って純水の比抵抗を正確に測定することが可能となる。
【００８６】
また、この第２の実施形態に係る基板処理装置では、比抵抗測定手段を基板処理槽１０と分離して配設しているので、計測部８２１等で解離した金属イオン等の影響を受けることなく基板処理槽１０において基板を処理することができる。また、比抵抗測定器８２を基板処理槽１０から離反して配設しているので、比抵抗測定器８２の交換等のメンテナンス作業が容易となる。
【００８７】
なお、この実施形態では、排出傾斜板７０１及び受入傾斜板８６１を設けることにより、排液ボックス８６に排出される処理液への気泡の巻き込みを抑制するようにしているが、必ずしも排出傾斜板７０１及び受入傾斜板８６１の両方を設ける必要はなく、いずれか一方が設けられておれば気泡の巻き込みを効果的に抑制することができる。
【００８８】
また、排液槽７０の一部を開放せずに、排液槽７０の底部に取り付けた配管（排出手段）を介して排液槽７０に排出された処理液を排液ボックス８６に流し込むようにしてもよい。この場合、排液槽７０の配管から排液ボックス８６の受入傾斜板８６１に流し込むようにしてもよいし、受入傾斜板８６１を除去して排液ボックス８６の底部等に直接流し込むようにしてもよい。また、この実施形態に係る比抵抗測定手段は、第１の実施形態の場合と同様に単槽式に限らず多槽式のものにも適用できることはいうまでもない。
【００８９】
この実施形態では、排液槽７０の処理液を排液ボックス８６内に排出する排出傾斜板７０１や配管等の排出手段と、排液ボックス８６と通路ブロック８９間に接続された導入管８７と、この導入管８７の通路を比抵抗測定器８２の計測部８２１の上流側において開閉する開閉手段８８とで基板処理槽１０の純水を比抵抗測定器８２の計測部８２１に導く導入手段を構成する。また、排液槽７０の処理液を排液ボックス８６内に排出する排出傾斜板７０１や配管等の排出手段と、排液ボックス８６と通路ブロック８９間に接続された導入管８７と、通路ブロック８９とは、基板処理槽１０から排出された純水を計測部８２１に導くための導入通路を構成する。
【００９０】
図８は、本発明の第３の実施形態に係る基板処理装置の要部を示す図である。この第３の実施形態では、第１の実施形態に係るものとの相違点を中心に説明し、第１の実施形態と同一の構成になるものは同一の符号を付してその詳細な説明を省略する。すなわち、この実施形態では、基板処理槽１０の排液槽７０の下方に位置する中間部に排出孔１１を形成し、この排出孔１１に比抵抗測定器８２の取り付けられた第１の実施形態と同様の構成になる通路部材７８をゴムパッキング８０を介して取り付けたものである。
【００９１】
このように構成された比抵抗測定手段を有する基板処理装置では、第１の実施形態に係るものと同様に、基板処理槽１０から薬液が排出されるときには、開閉部材７８２ｃにより導入通路７８３が閉じられて薬液が比抵抗測定器８２の計測部８２１に流れ込まないようにされる一方、基板処理装置１０から純水が排出されるときには、開閉部材７８２ｃにより導入通路７８３が開放されて純水が導入通路７８３内に流れ込み、比抵抗測定器８２の計測部８２１に導かれる。このとき、計測部８２１により純水の比抵抗が測定される。比抵抗測定器８２の計測部８２１に達した純水は流出口７８３ｇから外部に排出され、排出ドレンに導かれる。
【００９２】
この実施形態では、通路形成部材７８１に形成され、一方の端部が基板処理槽１０に接続されると共に、他方の端部が比抵抗測定器８２の計測部８２１に導かれる導入通路７８１と、この導入通路７８３を比抵抗測定器８２の計測部８２１の上流側において開閉する開閉部材７８２ｃと、この開閉部材７８２ｃを駆動し、薬液処理時には開閉部材７８２ｃで導入通路７８３を閉じ、リンス処理時には開閉部材７８２ｃで導入通路７８３を開く駆動手段７８２ａとで基板処理槽１０の純水を比抵抗測定器８２の計測部８２１に導く導入手段を構成する。
【００９３】
この第３の実施形態に係る基板処理装置は、通路部材７８の導入通路７８３を通過するリンス処理後の純水中への薬液の混入度合を比抵抗測定器８２により検出する一方、導入通路７８３を比抵抗測定器８２の上流側において開閉することにより比抵抗測定器８２の計測部８２１が薬液に浸漬されないようにしているので、比抵抗測定器８２の計測部８２１の薬液による腐食を可及的に抑制することができ、長期に亘って純水の比抵抗を正確に測定することが可能となる。
【００９４】
なお、導入通路７８３を開放するタイミングはリンス処理開始後であればいつでも良いが、経験的にリンス処理が概ね終了する時間を所定時間とし、該所定時間を制御部１８に記憶させておき、リンス処理開始後、該所定時間が経過したときに導入通路７８３を開放させればより好ましい。このようにしてリンス処理が概ね終了する時間まで比抵抗測定器８２が薬液の混入した純水に接触することを防止することにより、比抵抗測定器８２の計測部８２１の腐食をより効果的に抑制することができる。また、この実施形態に係る比抵抗測定手段は、第１の実施形態の場合と同様に単槽式に限らず多槽式のものにも適用できることはいうまでもない。
【００９５】
この実施形態では、通路部材７８は基板処理槽１０の中間部に設けているので、通路部材７８から排出された純水が基板処理槽１０に還流する虞はないので、衝立板７８４は不要となる。
【００９６】
図９は、本発明の第４の実施形態に係る基板処理装置の要部を示す図である。この第４の実施形態では、第１の実施形態に係るものとの相違点を中心に説明し、第１の実施形態と同一の構成になるものは同一の符号を付してその詳細な説明を省略する。すなわち、この実施形態では、比抵抗測定手段が、基板処理槽１０の排液槽７０の下方に位置する中間部に形成された排出孔１１の周囲にゴムパッキング等を介して取り付けられた排液受部９０と、排液受部９０内に排出される純水を比抵抗測定器８２の計測部８２１に流し込む導入管９１と、制御部１８により制御され、排液受部９０内において排出孔１１を開閉する弁体等の開閉部材９２と、開閉部材９２を開閉駆動するエアシリンダ等の駆動手段９３と、導入管９１の流出口９１が装着されると共に、比抵抗測定器８２の計測部８２１が装着される通路ブロック９４とから構成されている。なお、この実施形態では、排液受部９０は導入管９１の一部を構成するものであり、開閉部材９２は導入管９１の通路を開閉するものとなる。
【００９７】
通路ブロック９４は、ブロック体９４１を縦方向に貫通する縦通路９４２と、縦通路９４２と交差してブロック体９４１を横方向に貫通する横通路９４３とを有しており、比抵抗測定器８２の計測部８２１が横通路９４３の一方側から挿入されてその先端が縦通路９４２内に位置するようにされる一方、導入管９１の排出口９１１が横通路９４３の他方側から挿入されるようになっている。
【００９８】
このように構成された比抵抗測定手段を有する基板処理装置では、基板処理槽１０の排出孔１１から薬液が排出されるときには、開閉部材９２により排出孔１１が閉じられて薬液が比抵抗測定器８２の計測部８２１に流れ込まないようにされる一方、純水が排出されるときには、開閉部材９２により排出孔１１が開放されて純水が導入管９１を介して通路ブロック９４の横通路９４３から内部に流れ込み、比抵抗測定器８２の計測部８２１に導かれる。このとき、計測部８２１により純水の比抵抗が測定される。比抵抗測定器８２の計測部８２１に達した純水は縦通路９４２から上下方向に分流されて外部に排出され、排出ドレンに導かれる。
【００９９】
この排出孔１１を開放するタイミングはリンス処理開始後であればいつでも良いが、経験的にリンス処理が概ね終了する時間を所定時間とし、該所定時間を制御部１８に記憶させておき、リンス処理開始後、該所定時間が経過したときに排出孔１１を開放させるようにすればより好ましい。このようにしてリンス処理が概ね終了する時間まで比抵抗測定器８２の計測部８２１が薬液の混入した純水に接触することを防止することにより、計測部８２１の電極等の腐食をより効果的に抑制することができる。この実施形態に係る比抵抗測定手段は、第１の実施形態の場合と同様に単槽式に限らず多槽式のものにも適用できることはいうまでもない。
【０１００】
この実施形態では、一方の端部が基板処理槽１０に接続されると共に、他方の端部が比抵抗測定器８２の計測部８２１に導かれる排液受部９０を含む導入管９１と、この導入管９１を比抵抗測定器８２の計測部８２１の上流側において開閉する開閉部材９２と、この開閉部材９２を駆動し、薬液処理時には開閉部材９２で導入管９１を閉じ、リンス処理時には開閉部材９２で導入管９１を開く駆動手段９３とで基板処理槽１０の純水を比抵抗測定器８２の計測部８２１に導く導入手段を構成する。
【０１０１】
この第４の実施形態に係る基板処理装置は、導入管９１の通路を通過するリンス処理後の純水中への薬液の混入度合を比抵抗測定器８２により検出する一方、導入管９１の通路を比抵抗測定器８２の上流側において開閉することにより比抵抗測定器８２の計測部８２１が薬液に浸漬されないようにしているので、比抵抗測定器８２の計測部８２１の薬液による腐食を可及的に抑制することができ、長期に亘って純水の比抵抗を正確に測定することが可能となる。
【０１０２】
なお、この実施形態において、排液受部９０を設けずに導入管９１を直接排出孔１１に取り付け、導入管９１の中間部に導入管９１の通路を開閉するエアバルブ等の開閉手段を取り付けて構成することも可能である。この開閉手段は、弁体等の開閉部材と、この開閉部材を駆動する駆動手段とを有するものである。
【０１０３】
また、いずれの実施形態ともにリンス液は純水に限るものではなく、純水中にオゾンを含むようにしたもの等であってもよい。さらには、リンス液中への薬液の混入度合を検出する検出手段として比抵抗測定器を使用しているが、比抵抗以外の物性を測定する他の測定器を使用することも可能である。
【０１０４】
また、いずれの実施形態ともに計測部８２１の電極等の材料として、使用されるすべての薬液に対して耐蝕性を有するもの（例えば、白金やカーボン等）を用いるようにすると、電極等の劣化による誤動作や基板処理槽１０の処理液への不純物の溶出を防止することが可能となる。
【０１０５】
【発明の効果】
以上のように請求項１乃至４及び１１の発明によれば、薬液又は薬液を洗い流すリンス液を順次貯留して基板に薬液処理又はリンス処理を施すもので、上端にリンス処理後のリンス液を排出する排出孔が形成された基板処理槽と、基板処理槽に薬液又はリンス液を順次供給する液供給手段と、基板処理槽のリンス液中への薬液の混入度合いを検出する検出手段と、リンス処理時にのみ基板処理槽のリンス液を検出手段に導くもので、基板処理槽の排出孔から排出されるリンス液が通過し、かつ検出手段が配設される導入通路を有し、この導入通路は排出孔から排出されるリンス液が排出孔と対向する位置において流れ込む流入口及び検出手段により薬液の混入度合いが検出されたリンス液を外部に流出し、排出孔よりも高い位置で開口する流出口を有する導入手段とを備えているので、検出手段の薬液による腐食を可及的に抑制することができる。
【０１０６】
また、請求項５乃至８及び１２の発明によれば、リンス液により基板の表面をリンス処理するもので、上端にリンス処理後のリンス液を排出する排出孔が形成された基板処理槽と、基板処理槽のリンス液中への薬液の混入度合いを検出する検出手段と、リンス処理開始後、所定時間が経過した後、基板処理槽のリンス液を検出手段に導くもので、基板処理槽の排出孔から排出されるリンス液が通過し、かつ検出手段が配設される導入通路を有し、この導入通路は排出孔から排出されるリンス液が排出孔と対向する位置において流れ込む流入口及び検出手段により薬液の混入度合いが検出されたリンス液を外部に流出し、排出孔よりも高い位置で開口する流出口を有する導入手段とを備えているので、検出手段の薬液による腐食を可及的に抑制することができる。
【０１０７】
また、請求項９の発明によれば、通路形成部材が、導入通路の開閉部材よりも下流側に流出口よりも小さな口径を有するドレン孔を備えているので、導入通路が開閉部材により閉じられた後に検出手段が不必要にリンス液に浸漬されないようになる結果、検出手段の腐食を効率的に抑制することができる。
【０１０８】
また、請求項１０の発明によれば、通路形成部材が、流出口から排出されるリンス液が基板処理槽内に流入するのを阻止する衝立板を備えているので、通路形成部材の流出口から排出されたリンス液が衝立板に遮られて基板処理槽側に流入するのが阻止され、基板処理槽内のリンス液が一旦外部に排出されたリンス液により汚染されるのを防止することができる。
【０１０９】
また、請求項１３乃至１５の発明によれば、薬液又は薬液を洗い流すリンス液を順次貯留して基板に薬液処理又はリンス処理を施す基板処理槽と、基板処理槽に薬液又はリンス液を順次供給する液供給手段と、基板処理槽のリンス液中への薬液の混入度合いを検出する検出手段と、リンス処理時にのみ基板処理槽のリンス液を検出手段に導くもので、基板処理槽から排出されたリンス液が傾斜板上に流されることでリンス液を受け入れる排液ボックス及び排液ボックスに受け入れたリンス液を検出手段に導く導入管を有する導入手段 とを備えているので、検出手段の薬液による腐食を可及的に抑制することができる。
【０１１０】
また、請求項１６乃至１８の発明によれば、リンス液により基板の表面をリンス処理する基板処理槽と、基板処理槽のリンス液中への薬液の混入度合いを検出する検出手段と、リンス処理開始後、所定時間が経過した後、基板処理槽のリンス液を検出手段に導くもので、基板処理槽から排出されたリンス液が傾斜板上に流されることでリンス液を受け入れる排液ボックス及び排液ボックスに受け入れたリンス液を検出手段に導く導入管を有する導入手段とを備えているので、検出手段の薬液による腐食を可及的に抑制することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】 本発明の第１の実施形態に係る基板処理装置の概略構成を示す図である。
【図２】 図１に示す基板処理装置の基板処理槽に適用される通路部材の外観斜視図である。
【図３】 図２に示す通路部材の一部を切り欠いて示す要部斜視図である。
【図４】 図２に示す通路部材のＡ−Ａ線断面図である。
【図５】 図２に示す通路部材のＢ−Ｂ線断面図である。
【図６】 図２に示す通路部材の別の構成例を示す図で、図４に対応する断面図である。
【図７】 本発明の第２の実施形態に係る基板処理装置の要部を示す図である。
【図８】 本発明の第３の実施形態に係る基板処理装置の要部を示す図である。
【図９】 本発明の第４の実施形態に係る基板処理装置の要部を示す図である。
【符号の説明】
１０ 基板処理槽
１２ 薬液供給部（液供給手段）
１４ 純水供給部（液供給手段）
１６ 処理液排出部
１８ 制御部
７８ 通路部材
８２ 比抵抗測定器
８６ 排液ボックス
８７，９１ 導入管
８８ 開閉手段
８９，９４ 通路ブロック
９０ 排液受部
９２ 開閉部材
９３ 駆動手段
７８１ ブロック部（通路形成部）
７８２ アクチュエータ部
７８３ 導入通路
７８４ 衝立板
８２１ 計測部
７８２ａ 駆動手段
７８２ｃ 開閉部材
７８３ｄ 流入口
７８３ｇ 流出口
７８３ｈ ドレン孔
Ｂ 基板
Ｗ 純水

Claims (18)

1. 基板の表面に対し薬液処理すると共に、この薬液処理した基板の表面に対しリンス処理する基板処理装置であって、
   薬液又は薬液を洗い流すリンス液を順次貯留して基板に薬液処理又はリンス処理を施すもので、上端にリンス処理後のリンス液を排出する排出孔が形成された基板処理槽と、
   前記基板処理槽に薬液又はリンス液を順次供給する液供給手段と、
   前記基板処理槽のリンス液中への薬液の混入度合いを検出する検出手段と、
   リンス処理時にのみ前記基板処理槽のリンス液を前記検出手段に導くもので、前記基板処理槽の前記排出孔から排出されるリンス液が通過し、かつ前記検出手段が配設される導入通路を有し、該導入通路は前記排出孔から排出されるリンス液が前記排出孔と対向する位置において流れ込む流入口及び前記検出手段により薬液の混入度合いが検出されたリンス液を外部に流出し、前記排出孔よりも高い位置で開口する流出口を有する導入手段と、
   を備えたことを特徴とする基板処理装置。
2. 前記導入通路を前記検出手段の上流側において開閉する開閉部材と、前記導入通路が前記開閉部材により閉じられている場合、該開閉部材の上流側で前記流入口から流れ込んだ薬液又はリンス液を外部に排出するものであり、前記排出孔よりも高い位置で開口するドレン孔とを備えたことを特徴とする請求項１記載の基板処理装置。
3. 前記導入手段は、前記導入通路を有する通路形成部材と、該通路形成部材の導入通路を前記検出手段の上流側において開閉する開閉部材と、該開閉部材を駆動し、薬液処理時には前記導入通路を閉じ、リンス処理時には前記導入通路を開く駆動手段とを備えたことを特徴とする請求項１記載の基板処理装置。
4. 前記基板処理槽の上部外周に配設され、該基板処理槽の上部開口からオーバーフローする薬液又はリンス液を受け入れる排液槽を備え、前記排出孔は前記排液槽内に位置する個所に形成されたものであり、前記通路形成部材は前記排液槽内の前記排出孔に対応する位置に取り付けられたものであることを特徴とする請求項３記載の基板処理装置。
5. 薬液処理された基板の表面をリンス処理する基板処理装置であって、
   リンス液により基板の表面をリンス処理するもので、上端にリンス処理後のリンス液を排出する排出孔が形成された基板処理槽と、
   前記基板処理槽のリンス液中への薬液の混入度合いを検出する検出手段と、
   リンス処理開始後、所定時間が経過した後、前記基板処理槽のリンス液を前記検出手段に導くもので、前記基板処理槽の前記排出孔から排出されるリンス液が通過し、かつ前記検出手段が配設される導入通路を有し、該導入通路は前記排出孔から排出されるリンス液が前記排出孔と対向する位置において流れ込む流入口及び前記検出手段により薬液の混入度合いが検出されたリンス液を外部に流出し、前記排出孔よりも高い位置で開口する流出口を有する導入手段と、
   を備えたことを特徴とする基板処理装置。
6. 前記導入通路を前記検出手段の上流側において開閉する開閉部材と、前記導入通路が前記開閉部材により閉じられている場合、該開閉部材の上流側で前記流入口から流れ込んだリンス液を外部に排出するものであり、前記排出孔よりも高い位置で開口するドレン孔とを備えたことを特徴とする請求項５記載の基板処理装置。
7. 前記導入手段は、前記導入通路を有する通路形成部材と、該通路形成部材の導入通路を前記検出手段の上流側において開閉する開閉部材と、リンス処理開始後、所定時間が経過した後、前記開閉部材を駆動して前記導入通路を開く駆動手段とを備えたことを特徴とする請求項５記載の基板処理装置。
8. 前記基板処理槽の上部外周に配設され、該基板処理槽の上部開口からオーバーフローするリンス液を受け入れる排液槽を備え、前記排出孔は前記排液槽内に位置する個所に形成されたものであり、前記通路形成部材は前記排液槽内の前記排出孔に対 応する位置に取り付けられたものであることを特徴とする請求項７記載の基板処理装置。
9. 前記通路形成部材は、前記導入通路の前記開閉部材よりも下流側に形成された、前記流出口よりも小さな口径を有するドレン孔を備えたことを特徴とする請求項３、４、７又は８記載の基板処理装置。
10. 前記通路形成部材は、前記流出口から排出されるリンス液が前記基板処理槽内に流入するのを阻止する衝立板を備えたことを特徴とする請求項３、４、７、８又は９記載の基板処理装置。
11. 前記導入手段は、その一方の端部が前記基板処理槽に接続され、その他方の端部が前記検出手段に導かれた導入通路と、該導入通路を開閉する開閉部材と、前記開閉部材を駆動し、薬液処理時には前記導入通路を閉じ、リンス処理時には前記導入通路を開く駆動手段とを備えたことを特徴とする請求項１記載の基板処理装置。
12. 前記導入手段は、その一方の端部が前記基板処理槽に接続され、その他方の端部が前記検出手段に導かれた導入通路と、該導入通路を開閉する開閉部材と、該開閉部材を駆動し、リンス処理開始後、所定時間が経過した後、前記導入通路を開く駆動手段とを備えたことを特徴とする請求項５記載の基板処理装置。
13. 基板の表面に対し薬液処理すると共に、この薬液処理した基板の表面に対しリンス処理する基板処理装置であって、
    薬液又は薬液を洗い流すリンス液を順次貯留して基板に薬液処理又はリンス処理を施す基板処理槽と、
    前記基板処理槽に薬液又はリンス液を順次供給する液供給手段と、
    前記基板処理槽のリンス液中への薬液の混入度合いを検出する検出手段と、
    リンス処理時にのみ前記基板処理槽のリンス液を前記検出手段に導くもので、前記基板処理槽から排出されたリンス液が傾斜板上に流されることで該リンス液を受け入れる排液ボックス及び該排液ボックスに受け入れたリンス液を前記検出手段に導く導入管を有する導入手段と、
    を備えたことを特徴とする基板処理装置。
14. 前記基板処理槽の上部外周に配設され、該基板処理槽の上部開口からオーバーフローする薬液又はリンス液を受け入れる排液槽を備え、前記傾斜板は、前記排液槽の一部に形成された開放部に傾斜して配設された排出傾斜板であることを特徴とする請求項１３記載の基板処理装置。
15. 前記傾斜板は、前記排液ボックス内に傾斜して配設された受入傾斜板であることを特徴とする請求項１３記載の基板処理装置。
16. 薬液処理された基板の表面をリンス処理する基板処理装置であって、
    リンス液により基板の表面をリンス処理する基板処理槽と、
    前記基板処理槽のリンス液中への薬液の混入度合いを検出する検出手段と、
    リンス処理開始後、所定時間が経過した後、前記基板処理槽のリンス液を前記検出手段に導くもので、前記基板処理槽から排出されたリンス液が傾斜板上に流されることで該リンス液を受け入れる排液ボックス及び該排液ボックスに受け入れたリンス液を前記検出手段に導く導入管を有する導入手段と、
    を備えたことを特徴とする基板処理装置。
17. 前記基板処理槽の上部外周に配設され、該基板処理槽の上部開口からオーバーフローするリンス液を受け入れる排液槽を備え、前記傾斜板は、前記排液槽の一部に形成された開放部に傾斜して配設された排出傾斜板であることを特徴とする請求項１６記載の基板処理装置。
18. 前記傾斜板は、前記排液ボックス内に傾斜して配設された受入傾斜板であることを特徴とする請求項１６記載の基板処理装置。

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