JPH09152507A - 多色液晶表示装置の製造方法 - Google Patents
多色液晶表示装置の製造方法Info
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- JPH09152507A JPH09152507A JP31938095A JP31938095A JPH09152507A JP H09152507 A JPH09152507 A JP H09152507A JP 31938095 A JP31938095 A JP 31938095A JP 31938095 A JP31938095 A JP 31938095A JP H09152507 A JPH09152507 A JP H09152507A
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- display device
- light
- forming
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- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
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- G—PHYSICS
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 高画質の多色液晶表示装置を簡便に製造す
る。 【解決手段】 カラ−フィルタ−を応用した多色液晶表
示装置の製造方法において、基板のカラ−フィルタ−上
に無電界メッキにより、遮光性物質を高分子から成るカ
ラーフィルターもしくは遮光膜上に成膜、パタ−ニング
して遮光膜とする事により、簡便な方法で遮光性の良
い、外光の反射による写り込みのない高画質の多色液晶
表示装置を製造することができる。
る。 【解決手段】 カラ−フィルタ−を応用した多色液晶表
示装置の製造方法において、基板のカラ−フィルタ−上
に無電界メッキにより、遮光性物質を高分子から成るカ
ラーフィルターもしくは遮光膜上に成膜、パタ−ニング
して遮光膜とする事により、簡便な方法で遮光性の良
い、外光の反射による写り込みのない高画質の多色液晶
表示装置を製造することができる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明はカラーフィルターを
応用した多色液晶表示装置の製造方法に関し、詳しくは
単純マトリクス型多色表示装置にも高画質のアクティブ
マトリクス型多色液晶表示装置にも適した簡便なカラー
フィルター基板の製造方法に関する。
応用した多色液晶表示装置の製造方法に関し、詳しくは
単純マトリクス型多色表示装置にも高画質のアクティブ
マトリクス型多色液晶表示装置にも適した簡便なカラー
フィルター基板の製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】図３（ａ），（ｂ）に従来の多色液晶表
示装置の断面図及び正面図を示す。図中３１はガラス基
板、３２はＣｒ等より成る遮光膜でスパッタによりガラ
ス基板上に成膜され、格子状にパタ−ニング形成され
る。３３はカラ−フィルタ−で感光性樹脂に顔料等を混
合した膜をパタ−ニングして形成される。他にカラ−フ
ィルタ−製造方法として染色法や電着法、転写法等が知
られている。３４は有機高分子より成る保護膜でカラ−
フィルタ−３３上に塗布される。３５は液晶駆動用のＩ
ＴＯから成る透明電極で保護膜上にスパッタ，イオンプ
レ−テイング等で形成される。３６は第二のガラス基板
で透明電極３７と薄膜トランジスタ３８が形成される。
このように形成されたカラ−フィルタ−基板３１と薄膜
トランジスタ基板３６とをシ−ル剤３９で一定の間隙に
保つように張り合わせ、その間隙に液晶４０を充填して
多色液晶表示装置を形成する。
示装置の断面図及び正面図を示す。図中３１はガラス基
板、３２はＣｒ等より成る遮光膜でスパッタによりガラ
ス基板上に成膜され、格子状にパタ−ニング形成され
る。３３はカラ−フィルタ−で感光性樹脂に顔料等を混
合した膜をパタ−ニングして形成される。他にカラ−フ
ィルタ−製造方法として染色法や電着法、転写法等が知
られている。３４は有機高分子より成る保護膜でカラ−
フィルタ−３３上に塗布される。３５は液晶駆動用のＩ
ＴＯから成る透明電極で保護膜上にスパッタ，イオンプ
レ−テイング等で形成される。３６は第二のガラス基板
で透明電極３７と薄膜トランジスタ３８が形成される。
このように形成されたカラ−フィルタ−基板３１と薄膜
トランジスタ基板３６とをシ−ル剤３９で一定の間隙に
保つように張り合わせ、その間隙に液晶４０を充填して
多色液晶表示装置を形成する。
【０００３】このようにして形成された多色液晶表示装
置は、薄膜トランジスタのスイッチング特性によりコン
トラストが良く、且つカラ−フィルタ−画素間隙部分が
金属Ｃｒで遮光されているため不用な光の漏れがなく、
高品質の多色表示装置が得られるものである。
置は、薄膜トランジスタのスイッチング特性によりコン
トラストが良く、且つカラ−フィルタ−画素間隙部分が
金属Ｃｒで遮光されているため不用な光の漏れがなく、
高品質の多色表示装置が得られるものである。
【０００４】図４（ａ），（ｂ）に他の従来の多色液晶
表示装置の断面図及び正面図を示す。図中４１はガラス
基板、４２はＩＴＯ等より成る透明電極でストライプ状
にパターニング形成される。４３はカラーフィルターで
高分子と色素を含む溶液中に基板を浸漬し、透明電極に
選択的に電圧を印加することによって透明電極４２上に
電着によりストライプ状のパターンに一致して析出形成
される。４４は遮光膜で黒色色素を添加したフォトレジ
ストをカラーフィルター上に塗布し、カラーフィルター
をフォトマスクとして基板背面より露光することによ
り、カラーフィルター間隙のみにセルフアラインメント
形成させる。４５は有機高分子より成る保護膜でカラー
フィルター４３上に塗布される。４６は液晶駆動用のＩ
ＴＯから成る透明電極で保護膜上にスパッタ，イオンプ
レーテイング等で成膜、パターニング形成される。４７
は第二のガラス基板で透明電極４８がストライプ状に形
成される。このように形成されたカラーフィルター基板
４１と対向基板４７とをシール剤４９で一定の間隙に保
つように貼り合わせ、その間隙に液晶５０を充填して多
色液晶表示装置を形成する。
表示装置の断面図及び正面図を示す。図中４１はガラス
基板、４２はＩＴＯ等より成る透明電極でストライプ状
にパターニング形成される。４３はカラーフィルターで
高分子と色素を含む溶液中に基板を浸漬し、透明電極に
選択的に電圧を印加することによって透明電極４２上に
電着によりストライプ状のパターンに一致して析出形成
される。４４は遮光膜で黒色色素を添加したフォトレジ
ストをカラーフィルター上に塗布し、カラーフィルター
をフォトマスクとして基板背面より露光することによ
り、カラーフィルター間隙のみにセルフアラインメント
形成させる。４５は有機高分子より成る保護膜でカラー
フィルター４３上に塗布される。４６は液晶駆動用のＩ
ＴＯから成る透明電極で保護膜上にスパッタ，イオンプ
レーテイング等で成膜、パターニング形成される。４７
は第二のガラス基板で透明電極４８がストライプ状に形
成される。このように形成されたカラーフィルター基板
４１と対向基板４７とをシール剤４９で一定の間隙に保
つように貼り合わせ、その間隙に液晶５０を充填して多
色液晶表示装置を形成する。
【０００５】このようにして形成された多色液晶表示装
置は、簡便なセルフアラインメント工程によりカラーフ
ィルター間隙が遮光された多色表示装置が得られるもの
である。
置は、簡便なセルフアラインメント工程によりカラーフ
ィルター間隙が遮光された多色表示装置が得られるもの
である。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】上記、図３のような多
色液晶表示装置では遮光膜の形成がＣｒの真空スパッタ
という方法で形成しており、簡便ではなく工業的にコス
トを下げるのが困難である。
色液晶表示装置では遮光膜の形成がＣｒの真空スパッタ
という方法で形成しており、簡便ではなく工業的にコス
トを下げるのが困難である。
【０００７】また、遮光膜が金属なので光を遮断する作
用は完ぺきであるが、逆に外からの光を反射してしま
う。これにより、表示装置として使用するとき画面がぎ
らついてしまうという欠点が生じる。この欠点の克服の
ためには遮光膜を図４のようにカ−ボン等の黒色色素入
りの感光性物質で形成しようという試みがあるが、金属
並の遮光率は得られない。また、酸化クロムとクロムの
２層遮光膜とする方法もあるが２回真空スパッタが必要
となり、工程が非常に複雑になる。
用は完ぺきであるが、逆に外からの光を反射してしま
う。これにより、表示装置として使用するとき画面がぎ
らついてしまうという欠点が生じる。この欠点の克服の
ためには遮光膜を図４のようにカ−ボン等の黒色色素入
りの感光性物質で形成しようという試みがあるが、金属
並の遮光率は得られない。また、酸化クロムとクロムの
２層遮光膜とする方法もあるが２回真空スパッタが必要
となり、工程が非常に複雑になる。
【０００８】一方、図４に示した電着というカラーフィ
ルター形成方法は簡便なカラーフィルター製造方法であ
るが、電着によるカラーフィルターは同色の画素を電気
的に導通しなければならないため、基本的に四角形のよ
うな独立した画素は形成できず、図４（ｂ）のようなス
トライプ状のカラーフィルターとなってしまう。この場
合、電圧が印加されるのは、対向基板の横ストライプ電
極との交点である独立した矩形部分の画素であるため、
画素の横方向のカラーフィルター間隙部分は遮光膜が形
成されているが、ストライプに沿った画素の縦方向の並
びの間隙はカラーフィルターがあるだけで完全な遮光は
されていない。このことは迷光を無くし、高コントラス
トを得るためには大きな障害となっていた。
ルター形成方法は簡便なカラーフィルター製造方法であ
るが、電着によるカラーフィルターは同色の画素を電気
的に導通しなければならないため、基本的に四角形のよ
うな独立した画素は形成できず、図４（ｂ）のようなス
トライプ状のカラーフィルターとなってしまう。この場
合、電圧が印加されるのは、対向基板の横ストライプ電
極との交点である独立した矩形部分の画素であるため、
画素の横方向のカラーフィルター間隙部分は遮光膜が形
成されているが、ストライプに沿った画素の縦方向の並
びの間隙はカラーフィルターがあるだけで完全な遮光は
されていない。このことは迷光を無くし、高コントラス
トを得るためには大きな障害となっていた。
【０００９】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
本発明では、 基板上に有機高分子より成るカラ−フィルタ−を形
成する工程。 カラ−フィルタ−が形成された基板上に無電界メッ
キにより金属を主成分とする薄膜を形成する工程。
本発明では、 基板上に有機高分子より成るカラ−フィルタ−を形
成する工程。 カラ−フィルタ−が形成された基板上に無電界メッ
キにより金属を主成分とする薄膜を形成する工程。
【００１０】 金属を主成分とする薄膜をパタ−ニン
グして遮光膜とする工程。 によりカラ−フィルタ−基板を作製することにより、非
常に簡便な方法ながら多色表示装置の画素周囲を完全に
遮光し、画素周囲からの光のもれをなくすことができ
る。また、無電界メッキの組成や後処理を調整すること
により光沢を無くし、外光による表示のぎらつきを防ぐ
ことができる。これにより、迷光が無くなり、表示品質
及びコントラストがさらに向上した多色液晶表示装置を
提供するものである。
グして遮光膜とする工程。 によりカラ−フィルタ−基板を作製することにより、非
常に簡便な方法ながら多色表示装置の画素周囲を完全に
遮光し、画素周囲からの光のもれをなくすことができ
る。また、無電界メッキの組成や後処理を調整すること
により光沢を無くし、外光による表示のぎらつきを防ぐ
ことができる。これにより、迷光が無くなり、表示品質
及びコントラストがさらに向上した多色液晶表示装置を
提供するものである。
【００１１】さらに本発明では、簡便且つ高品質のカラ
ーフィルターを提供する方法として、 基板上に複数の透明電極を形成する工程。 透明電極上に電着により高分子から成るカラーフィ
ルターを形成する工程。
ーフィルターを提供する方法として、 基板上に複数の透明電極を形成する工程。 透明電極上に電着により高分子から成るカラーフィ
ルターを形成する工程。
【００１２】 カラーフィルター間隙に高分子から成
る遮光膜を形成する工程。 カラーフィルターもしくは遮光膜上に無電界メッキ
により金属を主成分とする薄膜を形成する工程。 金属を主成分とする薄膜をパターニングして第二の
遮光膜とする工程。 によりカラーフィルター基板を作製することにより、非
常に簡便な方法ながら多色表示装置の画素周囲を完全に
遮光し、画素周囲からの光のもれをなくすことができ
る。また、表示装置外面には無電界メッキの金属光沢は
カラーフィルターもしくは高分子遮光膜により表示面に
は現れず、光沢を無くし、外光による表示のぎらつきを
防ぐことができる。これにより、迷光が無くなり、表示
品質及びコントラストがさらに向上した多色液晶表示装
置を提供するものである。
る遮光膜を形成する工程。 カラーフィルターもしくは遮光膜上に無電界メッキ
により金属を主成分とする薄膜を形成する工程。 金属を主成分とする薄膜をパターニングして第二の
遮光膜とする工程。 によりカラーフィルター基板を作製することにより、非
常に簡便な方法ながら多色表示装置の画素周囲を完全に
遮光し、画素周囲からの光のもれをなくすことができ
る。また、表示装置外面には無電界メッキの金属光沢は
カラーフィルターもしくは高分子遮光膜により表示面に
は現れず、光沢を無くし、外光による表示のぎらつきを
防ぐことができる。これにより、迷光が無くなり、表示
品質及びコントラストがさらに向上した多色液晶表示装
置を提供するものである。
【００１３】本発明のポイントは、カラ−フィルタ−上
に無電界メッキで薄膜を形成する所にある。遮光膜をカ
ラ−フィルタ−上に形成できればガラスから入った外光
はカラ−フィルタ−や保護膜を通って遮光膜に入射する
ため、遮光膜が金属光沢があっても全体の反射率を抑え
られる。また、無電界メッキは溶液に浸漬するだけで成
膜ができ、スパッタのように真空装置を必要としない簡
便な方法である。
に無電界メッキで薄膜を形成する所にある。遮光膜をカ
ラ−フィルタ−上に形成できればガラスから入った外光
はカラ−フィルタ−や保護膜を通って遮光膜に入射する
ため、遮光膜が金属光沢があっても全体の反射率を抑え
られる。また、無電界メッキは溶液に浸漬するだけで成
膜ができ、スパッタのように真空装置を必要としない簡
便な方法である。
【００１４】さらに、金属遮光膜を電着カラーフィルタ
ーや高分子遮光膜上のような樹脂上に形成できればガラ
スから入った外光はカラーフィルターや高分子遮光膜で
吸収され、反射率をかなり抑えられる。無電界メッキは
溶液中の金属イオンを還元析出させ基板表面へ成膜する
方法で、通常は化学還元剤を用いる方法を無電界メッキ
と呼ぶ。無電界メッキが形成されるために必要な条件は （１）溶液中で金属イオンを還元する還元剤の酸化還元
電位がその金属の平衡電位よりも十分卑であること。
（金属析出が進行する。） （２）メッキ液は各成分を配合したままの状態では反応
が起こらないで、触媒性表面に接触したときに初めて起
こるものであること。（メッキ液は安定。） （３）溶液のｐＨ，温度の調節によって還元反応の速度
がコントロールできること。（メッキ速度の調節。） （４）還元析出される金属自体も触媒性を持っているこ
と。（メッキ膜厚の成長。） （５）還元剤の酸化成生物がメッキ反応の進行を妨害し
ないこと。（メッキ液の長寿命化。）などがある。
ーや高分子遮光膜上のような樹脂上に形成できればガラ
スから入った外光はカラーフィルターや高分子遮光膜で
吸収され、反射率をかなり抑えられる。無電界メッキは
溶液中の金属イオンを還元析出させ基板表面へ成膜する
方法で、通常は化学還元剤を用いる方法を無電界メッキ
と呼ぶ。無電界メッキが形成されるために必要な条件は （１）溶液中で金属イオンを還元する還元剤の酸化還元
電位がその金属の平衡電位よりも十分卑であること。
（金属析出が進行する。） （２）メッキ液は各成分を配合したままの状態では反応
が起こらないで、触媒性表面に接触したときに初めて起
こるものであること。（メッキ液は安定。） （３）溶液のｐＨ，温度の調節によって還元反応の速度
がコントロールできること。（メッキ速度の調節。） （４）還元析出される金属自体も触媒性を持っているこ
と。（メッキ膜厚の成長。） （５）還元剤の酸化成生物がメッキ反応の進行を妨害し
ないこと。（メッキ液の長寿命化。）などがある。
【００１５】これらの条件から、適用できる金属は、触
媒性の強い周期律 族金属（例えばニッケル，コバル
ト，パラジウムなど）と、それらの合金、触媒性は弱い
が比較的貴の電位を持つ ｂ亜族金属（銅，銀，金）な
どである。一方、使用される還元剤はメッキ金属の種類
とメッキ膜の性質で選択される。すなわち、ニッケル，
コバルトのメッキでは還元力の強い次亜リン酸塩類，水
素化ホウ素化合物またはヒドラジン化合物などが用いら
れ、銅，銀，金のメッキではホルムアルデヒド，ロッシ
ェル塩，ブドウ糖その他還元力の弱い有機薬品が使われ
ている。
媒性の強い周期律 族金属（例えばニッケル，コバル
ト，パラジウムなど）と、それらの合金、触媒性は弱い
が比較的貴の電位を持つ ｂ亜族金属（銅，銀，金）な
どである。一方、使用される還元剤はメッキ金属の種類
とメッキ膜の性質で選択される。すなわち、ニッケル，
コバルトのメッキでは還元力の強い次亜リン酸塩類，水
素化ホウ素化合物またはヒドラジン化合物などが用いら
れ、銅，銀，金のメッキではホルムアルデヒド，ロッシ
ェル塩，ブドウ糖その他還元力の弱い有機薬品が使われ
ている。
【００１６】基本的な無電界メッキ浴の構成は、金属
塩，還元剤，ｐＨ調節剤，緩衝剤，錯化剤，安定剤，改
良剤から成っている。ニッケルメッキを例に採って具体
的に挙げると、金属塩としては、硫酸ニッケル，硝酸ニ
ッケル，炭酸ニッケル，シアン化ニッケル，硫酸ニッケ
ルアンモンなどがあり、還元剤としては、次亜リン酸ソ
ーダ，次亜硫酸ソーダ，無水亜硫酸ソーダ，塩化ヒドラ
ジン，ハイドロキノン，ホルマリンなどである。緩衝剤
としては酢酸，酪酸，酒石酸などのアルカリ塩類が用い
られる。
塩，還元剤，ｐＨ調節剤，緩衝剤，錯化剤，安定剤，改
良剤から成っている。ニッケルメッキを例に採って具体
的に挙げると、金属塩としては、硫酸ニッケル，硝酸ニ
ッケル，炭酸ニッケル，シアン化ニッケル，硫酸ニッケ
ルアンモンなどがあり、還元剤としては、次亜リン酸ソ
ーダ，次亜硫酸ソーダ，無水亜硫酸ソーダ，塩化ヒドラ
ジン，ハイドロキノン，ホルマリンなどである。緩衝剤
としては酢酸，酪酸，酒石酸などのアルカリ塩類が用い
られる。
【００１７】有機高分子のような不導体が基体のとき
は、表面を触媒により活性化させる前処理が必要とな
る。ニッケルメッキの場合は１％程度の塩化第一スズ溶
液と０．１％程度の塩化パラジウム溶液に浸漬すること
により行われる。このような無電界メッキの工程をニッ
ケルメッキを例に取って述べると以下のようになる。 洗浄 表面へスズ，パラジウム触媒付着 （ 不用部の触媒除去） ニッケルメッキ アニール メッキをするときの金属正イオンと還元剤の負イオンの
比は膜の性質を決める。ニッケルメッキの場合では、メ
ッキ膜は純粋なニッケルとはならず還元剤として用いた
リンや触媒として用いたスズ，パラジウムが膜中に採り
込まれる。また、Ｎｉ2＋／Ｈ2ＰＯ2−の値によって金
属光沢が出たり、黒色化合物になったりする。
は、表面を触媒により活性化させる前処理が必要とな
る。ニッケルメッキの場合は１％程度の塩化第一スズ溶
液と０．１％程度の塩化パラジウム溶液に浸漬すること
により行われる。このような無電界メッキの工程をニッ
ケルメッキを例に取って述べると以下のようになる。 洗浄 表面へスズ，パラジウム触媒付着 （ 不用部の触媒除去） ニッケルメッキ アニール メッキをするときの金属正イオンと還元剤の負イオンの
比は膜の性質を決める。ニッケルメッキの場合では、メ
ッキ膜は純粋なニッケルとはならず還元剤として用いた
リンや触媒として用いたスズ，パラジウムが膜中に採り
込まれる。また、Ｎｉ2＋／Ｈ2ＰＯ2−の値によって金
属光沢が出たり、黒色化合物になったりする。
【００１８】本発明ではこのような無電界メッキ膜を多
色表示装置用の遮光膜に応用することにより、簡便でし
かも光学的にバラエティ−に富み、表示装置に最適な遮
光膜を得ることができる。また、このような無電界メッ
キ膜を電着カラーフィルター及び高分子遮光膜上の遮光
膜に応用することにより、簡便でしかも低反射率の表示
装置に最適な遮光膜を得ることができる。
色表示装置用の遮光膜に応用することにより、簡便でし
かも光学的にバラエティ−に富み、表示装置に最適な遮
光膜を得ることができる。また、このような無電界メッ
キ膜を電着カラーフィルター及び高分子遮光膜上の遮光
膜に応用することにより、簡便でしかも低反射率の表示
装置に最適な遮光膜を得ることができる。
【００１９】
【発明の実施の形態】以下、実施例に基づいて本発明の
効果を具体的に説明する。 （実施例１）図１は本発明による多色液晶表示装置の断
面図を示す。図中１はガラス基板、２はＩＴＯ等より成
る透明電極でストライプ状にパタ−ニング形成される。
３は高分子と色素とから成るカラ−フィルタ−で電着に
より透明電極２上に画素に形状を一致させて作成され
る。４は有機高分子から成る保護膜でカラ−フィルタ−
３上に塗布し形成する。５がニッケルを主成分とする無
電界メッキ膜から成る遮光膜であり、これらでカラ−フ
ィルタ−基板を形成する。６はカラ−フィルタ−基板上
に低温スパッタ，イオンプレ−ティング等の方法により
形成される液晶駆動用のＩＴＯから成る透明電極であ
る。
効果を具体的に説明する。 （実施例１）図１は本発明による多色液晶表示装置の断
面図を示す。図中１はガラス基板、２はＩＴＯ等より成
る透明電極でストライプ状にパタ−ニング形成される。
３は高分子と色素とから成るカラ−フィルタ−で電着に
より透明電極２上に画素に形状を一致させて作成され
る。４は有機高分子から成る保護膜でカラ−フィルタ−
３上に塗布し形成する。５がニッケルを主成分とする無
電界メッキ膜から成る遮光膜であり、これらでカラ−フ
ィルタ−基板を形成する。６はカラ−フィルタ−基板上
に低温スパッタ，イオンプレ−ティング等の方法により
形成される液晶駆動用のＩＴＯから成る透明電極であ
る。
【００２０】図５に上記のカラ−フィルタ−基板の作成
方法を断面図（１ａ）〜（１ｅ）及び正面図（２ａ）〜
（２ｅ）で示す。図５（１ａ）と（２ａ）において５１
はガラス基板でＩＴＯがスパッタリング等で形成され、
その後パタ−ニングすることにより透明電極５２がスト
ライプ状に形成される。図５（１ｂ）と（２ｂ）におい
て透明電極５２上にポリエステル樹脂もしくはアクリル
樹脂と顔料から成る溶液中で透明電極５２に選択的通電
を赤，緑，青の色の溶液で繰り返すことにより、カラ−
フィルタ−５３が電着によって形成される。図５（１
ｃ）と（２ｃ）においてカラ−フィルタ−５３上にスピ
ンナ−等でアクリル樹脂からなる保護膜５４を形成す
る。図５（１ｄ）と（２ｄ）においてカラ−フィルタ−
基板上に表１に示す工程によりニッケルを主成分とする
無電界メッキ膜５５を形成させる。
方法を断面図（１ａ）〜（１ｅ）及び正面図（２ａ）〜
（２ｅ）で示す。図５（１ａ）と（２ａ）において５１
はガラス基板でＩＴＯがスパッタリング等で形成され、
その後パタ−ニングすることにより透明電極５２がスト
ライプ状に形成される。図５（１ｂ）と（２ｂ）におい
て透明電極５２上にポリエステル樹脂もしくはアクリル
樹脂と顔料から成る溶液中で透明電極５２に選択的通電
を赤，緑，青の色の溶液で繰り返すことにより、カラ−
フィルタ−５３が電着によって形成される。図５（１
ｃ）と（２ｃ）においてカラ−フィルタ−５３上にスピ
ンナ−等でアクリル樹脂からなる保護膜５４を形成す
る。図５（１ｄ）と（２ｄ）においてカラ−フィルタ−
基板上に表１に示す工程によりニッケルを主成分とする
無電界メッキ膜５５を形成させる。
【００２１】
【表１】
【００２２】図５（１ｅ）と（２ｅ）において、このよ
うに作成した無電界メッキ膜上にフォトレジストを塗布
し、露光，現像して塩化第二鉄溶液中でエッチングする
ことにより、遮光膜５６を作成した。この場合の遮光膜
はニッケルにリン，パラジウム，スズ等が混入したもの
となっている。
うに作成した無電界メッキ膜上にフォトレジストを塗布
し、露光，現像して塩化第二鉄溶液中でエッチングする
ことにより、遮光膜５６を作成した。この場合の遮光膜
はニッケルにリン，パラジウム，スズ等が混入したもの
となっている。
【００２３】図１に戻り多色表示装置の製造方法を説明
すると、このように作成したカラ−フィルタ−基板と画
素透明電極８と薄膜トランジスタ９が形成された第二の
ガラス基板７とをシ−ル剤１０で一定の間隙に保つよう
に張り合わせ、その間隙に液晶１１を充填して多色液晶
表示装置を形成する。
すると、このように作成したカラ−フィルタ−基板と画
素透明電極８と薄膜トランジスタ９が形成された第二の
ガラス基板７とをシ−ル剤１０で一定の間隙に保つよう
に張り合わせ、その間隙に液晶１１を充填して多色液晶
表示装置を形成する。
【００２４】このように作製された多色液晶表示装置は
簡便な方法で製造されたにもかかわらず、画素周囲は全
て完全に遮光されており、光による薄膜トランジスタの
特性劣化もなく高い表示品質を示した。また、金属膜が
直接ガラスに接していないため、反射も抑えられ、写り
込みの少ないものであった。
簡便な方法で製造されたにもかかわらず、画素周囲は全
て完全に遮光されており、光による薄膜トランジスタの
特性劣化もなく高い表示品質を示した。また、金属膜が
直接ガラスに接していないため、反射も抑えられ、写り
込みの少ないものであった。
【００２５】（実施例２）実施例１における保護膜４を
塗布せず、直接カラ−フィルタ−基板に無電界メッキを
行った。この場合、カラ−フィルタ−間隙はガラスとな
るので、無電界メッキ工程における不用部触媒除去工程
は行わず、基板の表裏全面に無電界メッキを施した。加
えて、使用する次亜リン酸ソ−ダの量を２％に増やし
て、あとは実施例１と同様に多色液晶表示装置を作製し
た。
塗布せず、直接カラ−フィルタ−基板に無電界メッキを
行った。この場合、カラ−フィルタ−間隙はガラスとな
るので、無電界メッキ工程における不用部触媒除去工程
は行わず、基板の表裏全面に無電界メッキを施した。加
えて、使用する次亜リン酸ソ−ダの量を２％に増やし
て、あとは実施例１と同様に多色液晶表示装置を作製し
た。
【００２６】本実施例では基板の表裏とも膜が付き、エ
ッチングを両面行わなければならないが、無電界メッキ
により析出した膜が金属光沢がなく、黒色物質であった
ため、実施例１の効果に加え、遮光膜は反射率が低く、
外光の写り込みの無い表示品質の優れたものであった。
ッチングを両面行わなければならないが、無電界メッキ
により析出した膜が金属光沢がなく、黒色物質であった
ため、実施例１の効果に加え、遮光膜は反射率が低く、
外光の写り込みの無い表示品質の優れたものであった。
【００２７】（実施例３）実施例１における無電界メッ
キ工程の無電界メッキ工程に使用する薬剤を下記の溶液
とし、コバルトを主成分とした無電界メッキ膜から遮光
膜を作成した。 ・硫酸コバルト ・次亜リン酸ソ−ダ ・酒石酸ソ−ダ 以下、実施例１と同様に多色表示装置を作成したとこ
ろ、実施例１と同様の効果が得られた。
キ工程の無電界メッキ工程に使用する薬剤を下記の溶液
とし、コバルトを主成分とした無電界メッキ膜から遮光
膜を作成した。 ・硫酸コバルト ・次亜リン酸ソ−ダ ・酒石酸ソ−ダ 以下、実施例１と同様に多色表示装置を作成したとこ
ろ、実施例１と同様の効果が得られた。
【００２８】（実施例４）実施例１における無電界メッ
キ工程の無電界メッキ工程に使用する薬剤を下記の溶液
とし、銅を主成分とした無電界メッキ膜から遮光膜を作
成した。 ［硫酸銅］ ・ロッシェル塩 ・水酸化ナトリウム ・ホルマリン 以下、実施例１と同様に多色表示装置を作成したとこ
ろ、実施例１と同様の効果が得られた。
キ工程の無電界メッキ工程に使用する薬剤を下記の溶液
とし、銅を主成分とした無電界メッキ膜から遮光膜を作
成した。 ［硫酸銅］ ・ロッシェル塩 ・水酸化ナトリウム ・ホルマリン 以下、実施例１と同様に多色表示装置を作成したとこ
ろ、実施例１と同様の効果が得られた。
【００２９】（実施例５）実施例１における無電界メッ
キ工程の無電界メッキ工程に使用する薬剤を下記の銀液
と還元液とし、順次、浸漬した後、酸素雰囲気中でアニ
−ルし、酸化銀を主成分とした無電界メッキ膜から遮光
膜を作成した。
キ工程の無電界メッキ工程に使用する薬剤を下記の銀液
と還元液とし、順次、浸漬した後、酸素雰囲気中でアニ
−ルし、酸化銀を主成分とした無電界メッキ膜から遮光
膜を作成した。
【００３０】 ・硝酸銀 ・アンモニア水───銀液 ・ホルムアルデヒド水 ───還元液 以下、実施例１と同様に多色表示装置を作成したとこ
ろ、本実施例では無電界メッキにより析出した膜が酸化
銀を主成分とした金属光沢のない黒色物質であったた
め、実施例１の効果に加え、遮光膜は反射率が低く、外
光の写り込みの無い表示品質の優れたものであった。
ろ、本実施例では無電界メッキにより析出した膜が酸化
銀を主成分とした金属光沢のない黒色物質であったた
め、実施例１の効果に加え、遮光膜は反射率が低く、外
光の写り込みの無い表示品質の優れたものであった。
【００３１】（実施例６）図２は本発明による多色液晶
表示装置の断面図を示す。図中２１はガラス基板、２２
はＩＴＯ等より成る透明電極でストライプ状にパターニ
ング形成される。２３は高分子と色素とから成るカラー
フィルターで電着により透明電極２２上に画素に形状を
一致させて作成される。２４は黒色色素と有機高分子か
ら成る遮光膜で黒色色素を添加したフォトレジストをカ
ラーフィルター２３上に塗布し、カラーフィルターをフ
ォトマスクとして基板背面から露光することによりセル
フアラインメントでカラーフィルター間隙のみに形成す
る。２５がニッケルを主成分とする無電界メッキ膜から
成る第２の遮光膜であり、パターニング形成された後、
その上に有機樹脂からなる絶縁保護膜２６を形成する。
２７はカラーフィルター基板上に低温スパッタ，イオン
プレーティング等の方法により形成される液晶駆動用の
ＩＴＯから成る透明電極であり絶縁保護膜２６上にパタ
ーニング形成される。
表示装置の断面図を示す。図中２１はガラス基板、２２
はＩＴＯ等より成る透明電極でストライプ状にパターニ
ング形成される。２３は高分子と色素とから成るカラー
フィルターで電着により透明電極２２上に画素に形状を
一致させて作成される。２４は黒色色素と有機高分子か
ら成る遮光膜で黒色色素を添加したフォトレジストをカ
ラーフィルター２３上に塗布し、カラーフィルターをフ
ォトマスクとして基板背面から露光することによりセル
フアラインメントでカラーフィルター間隙のみに形成す
る。２５がニッケルを主成分とする無電界メッキ膜から
成る第２の遮光膜であり、パターニング形成された後、
その上に有機樹脂からなる絶縁保護膜２６を形成する。
２７はカラーフィルター基板上に低温スパッタ，イオン
プレーティング等の方法により形成される液晶駆動用の
ＩＴＯから成る透明電極であり絶縁保護膜２６上にパタ
ーニング形成される。
【００３２】図６に上記のカラーフィルター基板の作成
方法を断面図及び正面図で示す。図６（ａ）、（ａ’）
において６１はガラス基板でＩＴＯがスパッタリング等
で形成され、その後パターニングすることにより透明電
極６２がストライプ状に形成される。図６（ｂ）、
（ｂ’）において透明電極６２上にポリエステル樹脂も
しくはアクリル樹脂と顔料から成る溶液中で透明電極６
２に選択的通電を赤，緑，青の色の溶液で繰り返すこと
により、カラーフィルター６３が電着によって形成され
る。図６（ｃ）、（ｃ’）においてカラーフィルター６
３上にスピンナー等で黒色顔料とネガレジストの混合膜
を形成し、カラーフィルターをフォトマスクとして基板
背面より露光することにより高分子より成る遮光膜６４
を形成する。図６（ｄ）、（ｄ’）においてカラーフィ
ルター基板上に表２に示す工程により
方法を断面図及び正面図で示す。図６（ａ）、（ａ’）
において６１はガラス基板でＩＴＯがスパッタリング等
で形成され、その後パターニングすることにより透明電
極６２がストライプ状に形成される。図６（ｂ）、
（ｂ’）において透明電極６２上にポリエステル樹脂も
しくはアクリル樹脂と顔料から成る溶液中で透明電極６
２に選択的通電を赤，緑，青の色の溶液で繰り返すこと
により、カラーフィルター６３が電着によって形成され
る。図６（ｃ）、（ｃ’）においてカラーフィルター６
３上にスピンナー等で黒色顔料とネガレジストの混合膜
を形成し、カラーフィルターをフォトマスクとして基板
背面より露光することにより高分子より成る遮光膜６４
を形成する。図６（ｄ）、（ｄ’）においてカラーフィ
ルター基板上に表２に示す工程により
【００３３】
【表２】
【００３４】図６（ｅ）において、このように作成した
無電界メッキ膜上にフォトレジストを塗布し、露光，現
像して塩化第二鉄溶液中でエッチングすることにより、
第二の遮光膜６６を作成した。この場合の遮光膜はニッ
ケルにリン，パラジウム，スズ等が混入したものとなっ
ている。
無電界メッキ膜上にフォトレジストを塗布し、露光，現
像して塩化第二鉄溶液中でエッチングすることにより、
第二の遮光膜６６を作成した。この場合の遮光膜はニッ
ケルにリン，パラジウム，スズ等が混入したものとなっ
ている。
【００３５】図２に戻り多色表示装置の製造方法を説明
すると、このように作成したカラーフィルター基板と透
明電極２９が形成された第二のガラス基板２８とをシー
ル剤２１０で一定の間隙に保つように張り合わせ、その
間隙に液晶２１１を充填して多色液晶表示装置を形成す
る。
すると、このように作成したカラーフィルター基板と透
明電極２９が形成された第二のガラス基板２８とをシー
ル剤２１０で一定の間隙に保つように張り合わせ、その
間隙に液晶２１１を充填して多色液晶表示装置を形成す
る。
【００３６】このように作製された多色液晶表示装置は
簡便な方法で製造されたにもかかわらず、画素周囲は全
て完全に遮光されており、高コントラストが得られ、高
い表示品質を示した。また、金属膜とガラスの間にカラ
ーフィルターや高分子遮光膜が存在するため、反射が無
く、写り込みしないものであった。
簡便な方法で製造されたにもかかわらず、画素周囲は全
て完全に遮光されており、高コントラストが得られ、高
い表示品質を示した。また、金属膜とガラスの間にカラ
ーフィルターや高分子遮光膜が存在するため、反射が無
く、写り込みしないものであった。
【００３７】（実施例７）実施例６における無電界メッ
キ工程の無電界メッキ工程に使用する薬剤を下記の溶液
とし、コバルトを主成分とした無電界メッキ膜から遮光
膜を作成した。 ・硫酸コバルト ・次亜リン酸ソーダ ・酒石酸ソーダ 以下、実施例６と同様に多色表示装置を作成したとこ
ろ、実施例６と同様の効果が得られた。
キ工程の無電界メッキ工程に使用する薬剤を下記の溶液
とし、コバルトを主成分とした無電界メッキ膜から遮光
膜を作成した。 ・硫酸コバルト ・次亜リン酸ソーダ ・酒石酸ソーダ 以下、実施例６と同様に多色表示装置を作成したとこ
ろ、実施例６と同様の効果が得られた。
【００３８】（実施例８）実施例６における無電界メッ
キ工程の無電界メッキ工程に使用する薬剤を下記の溶液
とし、銅を主成分とした無電界メッキ膜から遮光膜を作
成した。 ［硫酸銅］ ・ロッシェル塩 ・水酸化ナトリウム ・ホルマリン 以下、実施例６と同様に多色表示装置を作成したとこ
ろ、実施例６と同様の効果が得られた。
キ工程の無電界メッキ工程に使用する薬剤を下記の溶液
とし、銅を主成分とした無電界メッキ膜から遮光膜を作
成した。 ［硫酸銅］ ・ロッシェル塩 ・水酸化ナトリウム ・ホルマリン 以下、実施例６と同様に多色表示装置を作成したとこ
ろ、実施例６と同様の効果が得られた。
【００３９】（実施例９）実施例６における無電界メッ
キ工程の無電界メッキ工程に使用する薬剤を下記の銀液
と還元液とし、順次、浸漬した後、酸素雰囲気中でアニ
ールし、酸化銀を主成分とした無電界メッキ膜から遮光
膜を作成した。
キ工程の無電界メッキ工程に使用する薬剤を下記の銀液
と還元液とし、順次、浸漬した後、酸素雰囲気中でアニ
ールし、酸化銀を主成分とした無電界メッキ膜から遮光
膜を作成した。
【００４０】 ・硝酸銀 ・アンモニア水───銀液 ・ホルムアルデヒド水 ───還元液 以下、実施例６と同様に多色表示装置を作成したとこ
ろ、実施例６と同様の効果が得られた。
ろ、実施例６と同様の効果が得られた。
【００４１】
【発明の効果】実施例にて詳しく説明したように、本発
明による多色液晶表示装置の製造方法は、 基板上に有機高分子より成るカラ−フィルタ−を形
成する工程。 カラ−フィルタ−が形成された基板上に無電界メッ
キにより金属を主成分とする薄膜を形成する工程。 金属を主成分とする薄膜をパタ−ニングして遮光膜
とする工程。 によりカラ−フィルタ−基板を作製することにより、非
常に簡便な方法で、多色表示装置の画素周囲を完全に遮
光し、画素周囲からの光のもれをなくすことができる。
これにより、表示装置の視感コントラストを向上するこ
とができる。
明による多色液晶表示装置の製造方法は、 基板上に有機高分子より成るカラ−フィルタ−を形
成する工程。 カラ−フィルタ−が形成された基板上に無電界メッ
キにより金属を主成分とする薄膜を形成する工程。 金属を主成分とする薄膜をパタ−ニングして遮光膜
とする工程。 によりカラ−フィルタ−基板を作製することにより、非
常に簡便な方法で、多色表示装置の画素周囲を完全に遮
光し、画素周囲からの光のもれをなくすことができる。
これにより、表示装置の視感コントラストを向上するこ
とができる。
【００４２】さらに、 基板上に複数の透明電極を形成する工程。 透明電極上に電着により高分子から成るカラーフィ
ルターを形成する工程。 カラーフィルター間隙に高分子から成る遮光膜を形
成する工程。 カラーフィルターもしくは遮光膜上に無電界メッキ
により金属を主成分とす る薄膜を形成する工程。 金属を主成分とする薄膜をパターニングして第二の
遮光膜とする工程。 によりカラーフィルター基板を作製することにより、非
常に簡便な方法で、多色表示装置の画素周囲を完全に遮
光し、画素周囲からの光のもれをなくすことができ、さ
らにまた、表示面側には高分子遮光膜とカラーフィルタ
ーが存在するため、金属光沢による反射は全く無く、外
光による表示のぎらつきを防ぐことができる。これによ
り、迷光，写り込みが無くなり、表示品質がさらに向上
した多色液晶表示装置を提供するものである。
ルターを形成する工程。 カラーフィルター間隙に高分子から成る遮光膜を形
成する工程。 カラーフィルターもしくは遮光膜上に無電界メッキ
により金属を主成分とす る薄膜を形成する工程。 金属を主成分とする薄膜をパターニングして第二の
遮光膜とする工程。 によりカラーフィルター基板を作製することにより、非
常に簡便な方法で、多色表示装置の画素周囲を完全に遮
光し、画素周囲からの光のもれをなくすことができ、さ
らにまた、表示面側には高分子遮光膜とカラーフィルタ
ーが存在するため、金属光沢による反射は全く無く、外
光による表示のぎらつきを防ぐことができる。これによ
り、迷光，写り込みが無くなり、表示品質がさらに向上
した多色液晶表示装置を提供するものである。
【図１】本発明による多色液晶表示装置の断面図であ
る。
る。
【図２】本発明による多色液晶表示装置の断面図及び正
面図である。
面図である。
【図３】従来の多色液晶表示装置の断面図及び正面図で
ある。
ある。
【図４】従来の多色液晶表示装置の断面図及び正面図で
ある。
ある。
【図５】本発明によるカラ−フィルタ−基板の製造工程
図である。
図である。
【図６】本発明によるカラーフィルター基板の製造工程
図である。
図である。
１，７，２１，２８，３１，３６，４１，４７，５１，
６１ 基板 ２，６，８，２２，２７，２９，３５，３７，４２，４
６，４８，５２，６２ 透明電極 ３，２３，３３，４３，５３，６３カラ−フィルタ− ４，２６，３４，４５，５４ 保護膜 ５，２４，２５，３２，４４，５６，６４，６６ 遮光
膜 ９，３８ 薄膜トランジスタ １０，２１０，３９，４９ シ−ル剤 １１，２１１，４０，５０ 液晶 ５５，６５ 無電界メッキ膜
６１ 基板 ２，６，８，２２，２７，２９，３５，３７，４２，４
６，４８，５２，６２ 透明電極 ３，２３，３３，４３，５３，６３カラ−フィルタ− ４，２６，３４，４５，５４ 保護膜 ５，２４，２５，３２，４４，５６，６４，６６ 遮光
膜 ９，３８ 薄膜トランジスタ １０，２１０，３９，４９ シ−ル剤 １１，２１１，４０，５０ 液晶 ５５，６５ 無電界メッキ膜
Claims (8)
- 【請求項１】 カラ−フィルタ−を応用した多色液晶表
示装置の製造方法において、 基板上に有機高分子より成るカラ−フィルタ−を形成す
る工程と、 該カラ−フィルタ−が形成された基板上に無電界メッキ
により金属を主成分とする薄膜を形成する工程と、 該金属を主成分とする薄膜をパタ−ニングして遮光膜と
する工程と、を含むことを特徴とする多色液晶表示装置
の製造方法。 - 【請求項２】 前記カラ−フィルタ−を応用した多色液
晶表示装置の製造方法において、 基板上に有機高分子より成るカラ−フィルタ−を形成す
る工程と、 該カラ−フィルタ−が形成された基板上に有機高分子よ
り成る保護膜を形成する工程と、 該保護膜上に無電界メッキにより金属を主成分とする薄
膜を形成する工程と、 該金属を主成分とする薄膜をパタ−ニングして遮光膜と
する工程と、を含むことを特徴とする請求項１記載の多
色液晶表示装置の製造方法。 - 【請求項３】 前記無電界メッキにより形成される金属
を主成分とする薄膜が光を反射せず、吸収する特性を有
することを特徴とする請求項１記載の多色液晶表示装置
の製造方法。 - 【請求項４】 カラーフィルターを応用した多色液晶表
示装置の製造方法において、 基板上に複数の透明電極を形成する工程と、 該透明電極上に電着により高分子から成るカラーフィル
ターを形成する工程と、 該カラーフィルター間隙に高分子から成る遮光膜を形成
する工程と、 少なくとも該カラーフィルターもしくは遮光膜上に無電
界メッキにより金属を主成分とする薄膜を形成する工程
と、 該金属を主成分とする薄膜をパターニングして第二の遮
光膜とする工程と、を含むことを特徴とする請求項１記
載の多色液晶表示装置の製造方法。 - 【請求項５】 カラーフィルターを応用した多色液晶表
示装置の製造方法において、 基板上に複数の透明電極を形成する工程と、 該透明電極上に電着により高分子から成るカラーフィル
ターを形成する工程と、 該カラーフィルター間隙に高分子から成る遮光膜を形成
する工程と、 少なくとも該カラーフィルターもしくは遮光膜上に無電
界メッキにより金属を主成分とする薄膜を形成する工程
と、 該金属を主成分とする薄膜をパターニングして第二の遮
光膜とする工程と、 該第二の遮光膜上に絶縁層、第二の透明電極を形成する
工程と、を含むことを特徴とする請求項４記載の多色液
晶表示装置の製造方法。 - 【請求項６】 前記金属を主成分とする薄膜の金属が少
なくともニッケル，コバルト，銅，銀を含むことを特徴
とする請求項１，４記載の多色液晶表示装置の製造方
法。 - 【請求項７】 前記基板上にカラ−フィルタ−を形成す
る工程が、基板上に複数の電極を形成し、その電極を順
次、選択通電することにより、電極上に高分子と色素を
電着させて形成することを特徴とする請求項４記載の多
色液晶表示装置の製造方法。 - 【請求項８】 前記高分子から成る遮光膜が光を反射せ
ず、吸収する特性を有することを特徴とする請求項４記
載の多色液晶表示装置の製造方法。
Priority Applications (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP31938095A JPH09152507A (ja) | 1995-03-29 | 1995-12-07 | 多色液晶表示装置の製造方法 |
| US08/623,911 US6061109A (en) | 1995-03-29 | 1996-03-28 | Method of manufacturing a multicolor liquid -- crystal display unit |
| EP96302208A EP0735402A1 (en) | 1995-03-29 | 1996-03-29 | Method of manufacturing a multicolor liquid-crystal display unit |
| KR1019960009266A KR100411570B1 (ko) | 1995-03-29 | 1996-03-29 | 다색액정표시장치의제조방법 |
| TW085104618A TW475082B (en) | 1995-03-29 | 1996-04-18 | Method of manufacturing a multicolor liquid-crystal display unit |
Applications Claiming Priority (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7212795 | 1995-03-29 | ||
| JP7-72127 | 1995-03-29 | ||
| JP7-251529 | 1995-03-29 | ||
| JP25152995 | 1995-09-28 | ||
| JP31938095A JPH09152507A (ja) | 1995-03-29 | 1995-12-07 | 多色液晶表示装置の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09152507A true JPH09152507A (ja) | 1997-06-10 |
Family
ID=27300869
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP31938095A Pending JPH09152507A (ja) | 1995-03-29 | 1995-12-07 | 多色液晶表示装置の製造方法 |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6061109A (ja) |
| EP (1) | EP0735402A1 (ja) |
| JP (1) | JPH09152507A (ja) |
| KR (1) | KR100411570B1 (ja) |
| TW (1) | TW475082B (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2011085625A (ja) * | 2009-10-13 | 2011-04-28 | Toppan Printing Co Ltd | カメラモジュール及びその製造方法 |
Families Citing this family (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6208404B1 (en) * | 1996-05-16 | 2001-03-27 | Tryonics Corporation | Black matrix |
| US6387801B1 (en) * | 2000-11-07 | 2002-05-14 | Megic Corporation | Method and an apparatus to electroless plate a metal layer while eliminating the photoelectric effect |
| DE10125673A1 (de) * | 2001-05-25 | 2002-12-05 | Aeg Ges Moderne Inf Sys Mbh | LCD-Zelle |
| US7382238B2 (en) * | 2004-03-01 | 2008-06-03 | Sensys Networks, Inc. | Method and apparatus for operating and using wireless vehicular sensor node reporting vehicular sensor data and/or ambient conditions |
| JP2006323150A (ja) * | 2005-05-19 | 2006-11-30 | Mitsubishi Electric Corp | 液晶表示装置及びその製造方法 |
| US7508084B2 (en) * | 2005-10-19 | 2009-03-24 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. | CMOS image sensor |
| KR200447737Y1 (ko) * | 2008-02-15 | 2010-02-16 | 신기화 | 천정용 조명등 투광판 |
| JP5720887B2 (ja) * | 2011-03-30 | 2015-05-20 | ソニー株式会社 | 表示装置および電子機器 |
| CN103941462A (zh) * | 2013-12-31 | 2014-07-23 | 厦门天马微电子有限公司 | 一种彩膜基板及其制造方法、显示装置 |
| US9869026B2 (en) * | 2014-07-15 | 2018-01-16 | Rohm And Haas Electronic Materials Llc | Electroless copper plating compositions |
Family Cites Families (12)
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- 1996-03-29 EP EP96302208A patent/EP0735402A1/en not_active Withdrawn
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|---|---|
| TW475082B (en) | 2002-02-01 |
| EP0735402A1 (en) | 1996-10-02 |
| US6061109A (en) | 2000-05-09 |
| KR960035105A (ko) | 1996-10-24 |
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