JP3283610B2 - ブラックマトリックス基板用のレリーフ画像 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明はブラックマトリックス基
板用のレリーフ画像に係り、特に無電解メッキにより寸
法精度が高く遮光性に優れたブラックマトリックス基板
を製造することを可能としたレリーフ画像に関する。

【０００２】

【従来の技術】近年、フラットディスプレーとして、モ
ノクロあるいはカラーの液晶ディスプレイが注目されて
いる。液晶ディスプレイには、３原色の制御を行うため
にアクティブマトリックス方式および単純マトリックス
方式とがあり、いずれの方式においてもカラーフィルタ
が用いられている。そして、カラーの液晶ディスプレイ
は構成画素部を３原色（Ｒ，Ｇ，Ｂ）とし、液晶の電気
的スイッチングにより３原色の各光の透過を制御してカ
ラー表示を行うものである。

【０００３】このカラーフィルタは、透明基板上に各着
色層と保護層と透明電極層を形成して構成されている。
そして、発色効果や表示コントラストを上げるために、
着色層のＲ，Ｇ，Ｂの各画素の境界部分に遮光性を有す
るパターン（ブラックマトリックス）が形成される。ま
た、アクティブマトリックス方式の液晶ディスプレイで
は、薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）をスイッチング素子と
して用いているため、光リーク電流を抑制する必要があ
る。このため、ブラックマトリックスに対して高い遮光
性が要求される。

【０００４】従来、ブラックマトリックスとしては、蒸
着クロム薄膜をフォトエッチングしてレリーフ形成した
もの、親水性樹脂レリーフを染色したもの、黒色顔料を
分散した感光液を用いてレリーフ形成したもの、黒色電
着塗料を電着して形成したもの、印刷により形成したも
の等があった。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述の
蒸着クロム薄膜をフォトエッチングしてレリーフ形成し
たものは寸法精度が高いものの、蒸着やスパッタ等の真
空成膜工程が必要であることや、製造工程が複雑である
ために、製造コストが高く、また、強い外光の下での表
示コントラストを高めるためにクロムの反射率を抑える
必要が生じ、このため、製造コストが更にかかる低反射
クロムのスパッタ等を行う必要があった。また、上述の
黒色染料や顔料を分散した感光性レジストを用いる方法
は、製造コストは安価となるが、感光性レジストが黒色
のためフォトプロセスが不充分となり易いことや、充分
な遮光性を得難い等、高品質なブラックマトリックスが
得られないという問題があった。さらに、上述の印刷方
法によるブラックマトリックス形成では、製造コストの
低減は可能であるものの、寸法精度が低いという問題が
あった。

【０００６】本発明は上述のような事情に鑑みてなされ
たものであり、液晶ディスプレイ等のフラットディスプ
レイ、ＣＣＤ等のイメージャー、あるいはカラーセンサ
等のカラーフィルタに用いることのできる寸法精度が高
く遮光性に優れたブラックマトリックス基板を無電解メ
ッキにより低コストで製造することのできるブラックマ
トリックス基板用のレリーフ画像を提供することを目的
とする。

【０００７】

【課題を解決するための手段】このような目的を達成す
るために、本発明はＸ線回折法により求められるＸ線散
乱強度が２００〜５８０cps/μｍであるポリビニルアル
コールを含有し、ブラックマトリックス用パターンを有
するような構成とした。

【０００８】

【作用】ブラックマトリックス用パターンを有するレリ
ーフ画像に含有されるポリビニルアルコールは、Ｘ線散
乱強度が２００〜５８０cps/μｍであるため、レリーフ
画像に無電解メッキ液が接触した際に、無電解メッキ液
がレリーフ画像内に均一かつ速やかに浸透することにな
り、これにより、レリーフ全体に略均一かつ速やかに金
属微粒子を析出することが可能となる。

【０００９】

【実施例】以下、本発明の実施例について図面を参照し
て説明する。図１は、本発明のレリーフ画像を用いて製
造されたブラックマトリックス基板を使用したアクティ
ブマトリックス方式による液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）
の一例を示す斜視図であり、図２は同じく概略断面図で
ある。図１および図２において、ＬＣＤ１はカラーフィ
ルタ１０と透明ガラス基板２０とをシール材３０を介し
て対向させ、その間に捩れネマティック（ＴＮ）液晶か
らなる厚さ約５〜１０μｍ程度の液晶層４０を形成し、
さらに、カラーフィルタ１０と透明ガラス基板２０の外
側に偏光板５０，５１が配設されて構成されている。

【００１０】図３はカラーフィルタ１０の拡大部分断面
図である。図３においてカラーフィルタ１０は、透明基
板１３上にブラックマトリックス１４を形成したブラッ
クマトリックス基板１２と、このブラックマトリックス
基板１２のブラックマトリックス１４間に形成された着
色層１６と、このブラックマトリックス１４と着色層１
６を覆うように設けられた保護層１８および透明電極１
９を備えている。このカラーフィルタ１０は透明電極１
９が液晶層４０側に位置するように配設されている。そ
して、着色層１６は赤色パターン１６Ｒ、緑色パターン
１６Ｇ、青色パターン１６Ｂからなり、各着色パターン
の配列は図１に示されるようにモザイク配列となってい
る。尚、着色パターンの配列はこれに限定されるもので
はなく、三角配列、ストライプ配列等としてもよい。

【００１１】また、透明ガラス基板２０上には表示電極
２２が各着色パターン１６Ｒ、１６Ｇ、１６Ｂに対応す
るように設けられ、各表示電極２２は薄膜トランジスタ
（ＴＦＴ）２４を有している。また、各表示電極２２間
にはブラックマトリックス１４に対応するように走査線
（ゲート電極母線）２６ａとデータ線２６ｂが配設され
ている。

【００１２】このようなＬＣＤ１では、各着色パターン
１６Ｒ、１６Ｇ、１６Ｂが画素を構成し、偏光板５１側
から照明光を照射した状態で各画素に対応する表示電極
をオン、オフさせることで液晶層４０がシャッタとして
作動し、着色パターン１６Ｒ、１６Ｇ、１６Ｂのそれぞ
れの画素を光が透過してカラー表示が行われる。

【００１３】カラーフィルタ１０を構成するブラックマ
トリックス基板１２の透明基板１３としては、石英ガラ
ス、低膨張ガラス、ソーダライムガラス等の可撓性のな
いリジット材、あるいは透明樹脂フィルム、光学用樹脂
板等の可撓性を有するフレキシブル材等を用いることが
できる。このなかで、特にコーニング社製７０５９ガラ
スは、熱膨脹率の小さい素材であり寸法安定性および高
温加熱処理における作業性に優れ、また、ガラス中にア
ルカリ成分を含まない無アルカリガラスであるため、ア
クティブマトリックス方式によるＬＣＤ用のカラーフィ
ルタに適している。

【００１４】ここで、本発明のブラックマトリックス基
板用のレリーフ画像および、このレリーフ画像を用いた
ブラックマトリックス基板１２の製造例を図４乃至図６
を参照して説明する。

【００１５】図４に示される例において、先ず透明基板
１３上に親水性樹脂を含有する感光性レジストを塗布
し、その後、５０〜８０℃、１０〜３０分間の条件で乾
燥して厚さ０．１〜５．０μｍ程度の感光性レジスト層
３を形成する（図４（Ａ））。次に、ブラックマトリッ
クス用のフォトマクス９を介して感光性レジスト層３を
露光する（図４（Ｂ））。そして、露光後の感光性レジ
スト層３を現像してブラックマトリックス用のパターン
を有する本発明のレリーフ画像４を形成する（図４
（Ｃ））。

【００１６】上記のようにして作成したレリーフ画像を
用いてブラックマトリックス１４を形成するには、ま
ず、このレリーフ画像に熱処理（７０〜２００℃、５〜
３０分間）を施す。次に、無電解メッキの触媒となる金
属化合物の水溶液をレリーフ画像４にスプレーし水洗し
て触媒含有レリーフ５とする（図４（Ｄ））。そして、
透明基板１３上の触媒含有レリーフ５を無電解メッキ液
に接触させることにより、触媒含有レリーフ５内に金属
粒子を析出させて黒化せしめ、ブラックマトリックス１
４を形成する（図４（Ｅ））。尚、熱処理は触媒含有レ
リーフを形成した後に行ってもよい。また、形成したブ
ラックマトリックスに加熱あるいは硬膜剤塗布による硬
膜処理を施してもよい。

【００１７】図５に示される例では、先ず透明基板１３
上に親水性樹脂および無電解メッキの触媒となる金属化
合物の水溶液を含有する感光性レジストを塗布し、その
後、５０〜８０℃、１０〜３０分間の条件て乾燥して厚
さ０．１〜５．０μｍ程度の感光性レジスト層６を形成
する（図５（Ａ））。次に、ブラックマトリックス用の
フォトマクス９を介して感光性レジスト層６を露光する
（図５（Ｂ））。そして、露光後の感光性レジスト層３
を現像して乾燥することによりブラックマトリックス用
のパターンを有する本発明のレリーフ画像７を形成する
（図５（Ｃ））。この場合のレリーフ画像７は、図４に
示されるレリーフ画像４とは異なり、無電解メッキの触
媒となる金属化合物を含んだ触媒含有レリーフである。

【００１８】上記のようにして作成したレリーフ画像７
を用いてブラックマトリックス１４を形成するには、ま
ず、このレリーフ画像７に熱処理（７０〜２００℃、５
〜３０分間）を施し、次に、透明基板１３上のレリーフ
画像（触媒含有レリーフ）７を無電解メッキ液に接触さ
せることにより、レリーフ内に金属粒子を析出させて黒
化せしめ、ブラックマトリックス１４を形成する（図５
（Ｄ））。この場合も、ブラックマトリックスに加熱あ
るいは硬膜剤塗布による硬膜処理を施してもよいことは
勿論である。

【００１９】さらに、図６に示される例においては、先
ず透明基板１３上に親水性樹脂、ジアゾ基又はアジド基
を有する化合物、及び無電解メッキの触媒となる金属化
合物を含有した感光性レジストを塗布乾燥して厚さ０．
１〜５．０μｍ、好ましくは０．１〜２．０μｍ程度の
感光性レジスト層８を形成する（図６（Ａ））。ここ
で、ジアゾ基、アジド基を有する化合物は無電解メッキ
時にメッキの抑制効果があり、これらと親水性樹脂、無
電解メッキの触媒となる化合物を含有するレジストを用
い、パターン露光し無電解メッキ液と接触することによ
り無電解メッキの金属粒子がレジスト層中に形成され遮
光層となることは知られている（特開昭５７−１０４９
２８号、同５７−１０４９２９号）。次にブラックマト
リックス用のフォトマスク９を介して感光性レジスト層
８を露光することにより、本発明のレリーフ画像８′と
する（図６（Ｂ））。すなわち、このレリーフ画像８′
は、無電解メッキの触媒となる金属化合物を含んだ触媒
含有レリーフであるとともに、ジアゾ基又はアジド基を
有する化合物によるメッキ抑制効果が上記の露光によっ
てブラックマトリックスのパターン形状に解除されたも
のとなっている。

【００２０】上記のようにして作成したレリーフ画像
８′を用いてブラックマトリックス１４を形成するに
は、この透明基板１３を無電解メッキ液に接触させるこ
とにより露光部分に無電解メッキの金属粒子を析出させ
て黒化せしめ、ブラックマトリックス１４を形成する
（図６（Ｃ））。

【００２１】尚、図６（Ｄ）に示すように、透明基板１
３を現像して未露光部分を除去してもよい。次に、本発
明のブラックマトリックス基板用のレリーフ画像を構成
する材料について説明する。本発明のレリーフ画像の主
たる構成材料である感光性レジストは、親水性のポリビ
ニルアルコール樹脂および光硬化型の感光性基を含有す
るものである。

【００２２】親水性ポリビニルアルコール樹脂として
は、スルホン基変性物、アセトアセチル基変性物、カチ
オン基変性物、アクリルアミド基変性物、カルボキシル
基変性物等の変性ポリビニルアルコール、未変性ポリビ
ニルアルコールである。そして、上記のポリビニルアル
コール樹脂は、けん化度が８６〜９９、平均重合度が５
００〜１７００であることが好ましい。

【００２３】ここで、ブラックマトリックスの要求特性
である高光学濃度、低反射率等を満足させるには、触媒
含有レリーフ内に金属微粒子を析出させる上記のプロセ
スにおける金属微粒子の析出性が重要である。そして、
この金属微粒子の析出性は、触媒含有レリーフ内におけ
る無電解メッキ液の浸透性と強い相関があると考えら
れ、感光性レジスト内に含有されるポリビニルアルコー
ル樹脂の構造物性が重要となる。一般的には、ポリビニ
ルアルコール被膜の水溶液中での膨潤性が、その結晶性
に依存することが知られており、このことから、上記の
プロセスにおける無電解メッキ液の浸透性が、感光性レ
ジスト中のポリビニルアルコールの結晶性に依存すると
考えられる。

【００２４】本発明では、上記の観点からレリーフ画像
中のポリビニルアルコールの結晶性をＸ線回折法による
散乱強度値で評価し、Ｘ線散乱強度を２００〜５８０cp
s/μｍの範囲、好ましくは３００〜４００cps/μｍの範
囲に設定したことを特徴とする。この散乱強度値が５８
０cps/μｍを越えると、金属微粒子の析出性が悪くな
り、実質的に光学濃度が高い（約３以上）のブラックマ
トリックスが得られないこととなる。また、散乱強度値
が２００cps/μｍ未満になると、レリーフ画像が無電解
メッキ液に溶解するという不都合が生じる。

【００２５】尚、本発明ではレリーフ画像に含有される
ポリビニルアルコールのＸ線散乱強度値が上記の範囲内
にあることが重要である。したがって、例えば、感光性
レジスト中におけるポリビニルアルコールのＸ線散乱強
度値を上記の範囲内に設定してもよく、あるいは、例え
ば図４に示したようなプロセスにおいて、レリーフの熱
処理の条件を制御することによりレリーフを構成するポ
リビニルアルコールのＸ線散乱強度を上記の範囲に設定
してもよい。

【００２６】このように、本発明では感光性レジスト中
のポリビニルアルコールのＸ線散乱強度値を所定の範囲
に設定したことにより、レリーフ画像（触媒含有レリー
フ）が無電解メッキ液と接触した際に、無電解メッキ液
が触媒含有レリーフ内に浸透し易くなり、触媒含有レリ
ーフ中に均一に金属微粒子が析出することになる。これ
により、形成されたブラックマトリックス１４は充分な
黒さと低反射率を有することになり、従来のクロム薄膜
からなるブラックマトリックスにおける金属層による反
射という問題が解消される。

【００２７】また、感光性基としては、ジアゾ基を有す
るジアゾニウム化合物およびパラホルムアルデヒドの反
応生成物であるジアゾ樹脂、アジド基を有するアジド化
合物、ポリビニルアルコールにケイ皮酸を縮合したケイ
皮酸縮合樹脂、スチルバゾリウム塩を用いた樹脂、重ク
ロム酸アンモニウム等が挙げられる。

【００２８】さらに、感光性レジストには、セラミック
スや多孔質アルミナ等の無機物質が添加されていてもよ
い。この無機物質は、感光性レジスト中に０．１〜１０
重量％の範囲で含有させることができる。

【００２９】本発明において用いる無電解メッキの触媒
となる金属化合物は、例えばパラジウム、金、銀、白
金、銅等の塩化物、硝酸塩等の水溶性塩、および錯化合
物が用いられ、水溶液として市販されている無電解メッ
キ用のアクチベータ溶液をそのまま、あるいは希釈して
用いることができる。尚、このような金属化合物を本発
明のレリーフ画像に含有させる場合、含有量は０．０５
〜１．０重量％程度が好ましい。

【００３０】無電解メッキ液は、水素化ホウ素化合物、
次亜リン酸および次亜リン酸塩の中から少なくとも１つ
選ばれた還元剤と、有機カルボン酸およびその塩の中か
ら少なくとも１つ選ばれた錯化剤と、コバルト塩および
ニッケル塩の中から少なくとも１つ選ばれた金属塩とを
含有するものである。

【００３１】上記の水素化ホウ素化合物としては、水素
化ホウ素ナトリウム、Ｎ−ジメチルアミンボラジン、ボ
ラジン誘導体、ジメチルアミンボラン等が挙げられ、次
亜リン酸塩としては次亜リン酸ナトリウム等が挙げら
れ、錯化剤としての有機カルボン酸およびその塩として
は、クエン酸、クエン酸三ナトリウム、クエン酸水素二
アンモニウム、酒石酸、酒石酸ナトリウム、グリコール
酸、コハク酸ナトリウム、マロン酸ナトリウム、グリシ
ン、ロッシェル塩、リンゴ酸、エチレンジアミン、ジエ
チルトリアミン、トリエチレンテトラミン等が挙げられ
る。また、無電解メッキ液における還元剤の濃度は０．
０３〜０．０７ mol／ｌ、錯化剤の濃度は０．１〜１．
０ mol／ｌ、金属塩の濃度は０．１〜０．３ mol／ｌで
あることが好ましい。

【００３２】さらに、無電解メッキ液には、カセイソー
ダ、水酸化アンモニウム等の塩基性化合物、無機酸、有
機酸等のｐＨ調整剤や、クエン酸ナトリウム、酢酸ナト
リウム等のオキシカルボン酸、ホウ酸、炭酸、有機酸、
無機酸のアルカリ塩に代表される緩衝剤や、反応促進
剤、安定剤、界面活性剤等を含有させてもよい。

【００３３】上記のような無電解メッキ液のｐＨ値は７
〜９、メッキ液温度は２０〜４０℃程度が好ましい。ま
た、２種以上の無電解メッキ液を併用してもよい。例え
ば、まず、核（例えば無電解メッキの触媒となる金属化
合物としてパラジウムを使用した場合はパラジウムの
核）を作り易い水素化ホウ素ナトリウムのようなホウ素
系還元剤を含む無電解メッキ液を用い、次に、酸化還元
電位の卑な次亜リン酸系還元剤を含む無電解メッキ液を
用いることができる。

【００３４】上述のようなブラックマトリックス基板１
２のブラックマトリックス１４間における赤色パターン
１６Ｒ、緑色パターン１６Ｇ、青色パターン１６Ｂから
なる着色層１６の形成は、染色法、分散法、印刷法、電
着法等の公知の種々の方法に従って行うことができる。

【００３５】カラーフィルタ１０のブラックマトリック
ス１４と着色層１６を覆うように設けられる保護層１８
は、カラーフィルタ１０の表面平滑化、信頼性の向上、
および液晶層４０への汚染防止等を目的とするものであ
り、アクリル系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリイミド系樹
脂等の透明樹脂、あるいは二酸化ケイ素等の透明無機化
合物等を用いて形成することができる。保護層の厚さは
０．５〜５０μｍ程度が好ましい。

【００３６】透明共通電極１９としては、例えば酸化イ
ンジウムスズ（ＩＴＯ）膜を用いることができる。ＩＴ
Ｏ膜は蒸着法、スパッタ法等の公知の方法により形成す
ることができ、厚さは２００〜２０００Å程度が好まし
い。

【００３７】次に、実験例を示して本発明を更に詳細に
説明する。 （実験例）透明基板としてコーニング社製７０５９ガラ
ス（厚さ＝１．１ｍｍ）を用い、スピンコート法（回転
数＝１５００r.p.m.）により下記組成の感光性レジスト
を透明基板上に塗布し、その後、７０℃、１０分間の条
件で乾燥して感光性レジスト層（厚さ＝０．６μｍ）を
形成した。

【００３８】 感光性レジストの組成 ・ポリビニルアルコール４．４７％水溶液 （日本合成化学製ゴーセナールＴ−３３０） …１０００重量部 ・ジアゾ樹脂５％水溶液（シンコー技研製Ｄ−０１１） … ５７重量部 次に、感光性レジスト層に対してブラックマトリックス
用のフォトマスク（線幅＝２０μｍ）を介して露光を行
った。露光用の光源は超高圧水銀灯２ｋｗを用い、１０
秒間照射した。その後、常温の水を用いてスプレー現像
を行い、エアー乾燥してブラックマトリックス用の線幅
２０μｍのレリーフ画像を形成した。

【００３９】次に、この透明基板に、７０，９０，１２
０，１５０，１７０，１９０℃の各温度にて３０分間の
熱処理を施し、さらにその後、透明基板を塩化パラジウ
ム水溶液（日本カニゼン製レッドシューマー）に３０秒
間浸漬し、水洗い、水切りして上記のレリーフ画像を触
媒含有レリーフとした。この時の透明基板のレリーフ部
の膜厚は、すべて０．５μｍであった。

【００４０】その後、透明基板をホウ素系還元剤を含む
２５℃のニッケルメッキ液（奥野製薬製ニッケルメッキ
液トップケミアロイＢ−１）に４分間浸漬させ、水洗乾
燥して黒色レリーフ（ブラックマトリックス）を形成し
た（試料１〜６）。

【００４１】次に、上記のようにして作成した各試料
（１〜６）について、無電解メッキ前の触媒含有レリー
フにおけるポリビニルアルコールのＸ線散乱強度、ブラ
ックマトリックスの光学濃度について、下記のようにし
て測定を行った。測定結果を表１に示した。

【００４２】・Ｘ線散乱強度 測定方法：Ｘ線回折法 装 置：ＲＡＤII−Ｃ（（株）リガク製） 仕 様：アタッチメント…薄膜アタッチメント、走査
軸…２θ、Ｘ線入射角…０．５°、計数法…連続測定，
サンプリング角度…０．０２°、走査速度…１．０°／
min 、積算回数…３回、ターゲット…Ｃｕ、管電圧：６
０kV、管電流…３００mA、スリット…ＤＳ０．２０mm
ＲＳ_M ０．８０mm、モノクロメルータ…使用、カウンタ
ー…ＳＣ ・光学濃度 測定方法：分光透過率測定（波長：４００〜７００ｎ
ｍ） 装 置：顕微鏡分光測光装置 （オリンパス光学工業（株）製 ＡＨ２−ＳＴＫ） 仕 様：分光波長４００〜７００ｎｍ、波長分解能
５．０ｎｍ

【００４３】

【表１】 表１に示されるように、触媒含有レリーフにおけるポリ
ビニルアルコールのＸ線散乱強度値が２００〜５８０cp
s/μｍの範囲にある試料１，２，３は、ほぼ３以上の高
い光学濃度を示している。しかし、Ｘ線散乱強度値が上
記の範囲外にある試料４，５，６は充分な光学濃度が得
られていない。但し、ここでいうcps/μｍという単位
は、レリーフ画像部の単位膜厚当りのＸ線散乱強度を意
味する。

【００４４】また、全体的な傾向として、熱処理温度増
大に伴い、散乱強度値は増大傾向にあるが、それと同時
に、Ｘ線回折ピーク角が高角度側にシフトし、半値幅は
減少傾向にある。すなわち、定性的な知見ではあるが、
熱処理温度が増大するに伴って、レリーフ画像内のポリ
ビニルアルコールのポリマーチェインが形成する格子の
規則性がより短周期になり、結晶化度が大きくなり、さ
らに配向分散度が小さくなることが示唆される。

【００４５】

【発明の効果】以上詳述したように、本発明によればブ
ラックマトリックス用パターンを有するレリーフ画像が
Ｘ線散乱強度が２００〜５８０cps/μｍのポリビニルア
ルコールを含有していることにより、レリーフ画像内に
無電解メッキの触媒となる金属化合物が均一に存在可能
となり、さらに無電解メッキ液がレリーフ画像内に均一
に浸透し得るため、レリーフ全体に略均一かつ速やかに
金属粒子が析出され、光学濃度が高いとともに反射率の
低い寸法精度の良好なブラックマトリックスが可能とな
り、また、真空プロセス等が不要であるため、ブラック
マトリックス基板の製造コストの低減にもつながる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明のレリーフ画像を用いて製造されたブラ
ックマトリックス基板を使用したアクティブマトリック
ス方式による液晶ディスプレイの一例を示す斜視図であ
る。

【図２】図１に示される液晶ディスプレイの概略断面図
である。

【図３】図１に示される液晶ディスプレイに用いられて
いるカラーフィルタの拡大部分断面図である。

【図４】本発明のレリーフ画像の製造の一例を説明する
ための工程図である。

【図５】本発明のレリーフ画像の製造の他の例を説明す
るための工程図である。

【図６】本発明のレリーフ画像の製造の他の例を説明す
るための工程図である。

【符号の説明】

３…感光性レジスト層 ４…レリーフ画像 ５…触媒含有レリーフ ６…感光性レジスト層 ７…レリーフ画像 ８…感光性レジスト層 ８′…レリーフ画像 ９…ブラックマトリックス用のフォトマスク １０…カラーフィルタ １２…ブラックマトリックス基板 １３…透明基板 １４…ブラックマトリックス（黒色レリーフ） １６…着色層 １６Ｒ，１６Ｇ，１６Ｂ…着色パターン

Claims (1)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 無電解メッキの触媒となる金属化合物を
   ０．０１〜５重量％の範囲で含有する、Ｘ線回折法によ
   り求められるＸ線散乱強度が２００〜５８０ｃｐｓ／μ
   ｍであるポリビニルアルコールを含有し、ブラックマト
   リックス用パターンを有することを特徴とするブラック
   マトリックス基板用のレリーフ画像。