JP3247912B2 - ブラックマトリックス基板 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明はブラックマトリックス基
板に係り、特に、寸法精度が高く遮光性に優れることは
もとより、遮光性を有するパターン（ブラックマトリッ
クス）が良好に形成されるブラックマトリックス基板に
関する。

【０００２】

【従来の技術】近年、フラットディスプレーとして、モ
ノクロあるいはカラーの液晶ディスプレイが注目されて
いる。液晶ディスプレイには、３原色の制御を行うため
にアクティブマトリックス方式および単純マトリックス
方式とがあり、いずれの方式においてもカラーフィルタ
ーが用いられている。そして、液晶ディスプレイは構成
画素部を３原色（Ｒ，Ｇ，Ｂ）とし、液晶の電気的スイ
ッチングにより３原色の各光の透過を制御してカラー表
示を行うものである。

【０００３】このカラーフィルターは、透明基板上に各
着色層と保護層と透明電極層を形成して構成されてい
る。そして、発色効果や表示コントラストを上げるため
に、着色層のＲ，Ｇ，Ｂの各画素の境界部分に遮光性を
有するパターン（ブラックマトリックス）が形成され
る。また、アクティブマトリックス方式の液晶ディスプ
レイでは、薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）をスイッチング
素子として用いているため、光リーク電流を抑制する必
要がある。このため、ブラックマトリックスに対して高
い遮光性が要求される。

【０００４】従来、ブラックマトリックスとしては、蒸
着クロム薄膜をフォトエッチングしてレリーフ形成した
もの、親水性樹脂レリーフを染色したもの、黒色顔料を
分散した感光液を用いてレリーフ形成したもの、黒色電
着塗料を電着して形成したもの、印刷により形成したも
の等があった。

【０００５】しかしながら、上述の蒸着クロム薄膜をフ
ォトエッチングしてレリーフ形成したものは寸法精度が
高いものの、蒸着やスパッタ等の真空成膜工程が必要で
あることや、製造工程が複雑である為に製造コストが高
く、また、強い外光の下での表示コントラストを高める
ためにクロムの反射率を抑える必要が生じ、このため、
製造コストが更にかかる低反射クロムのスパッタ等を行
う必要があった。また、上述の黒色染料や顔料を分散し
た感光性レジストを用いる方法は、製造コストは安価と
なるが、感光性レジストが黒色のためフォトプロセスが
不充分となり易いことや、充分な遮光性を得難い等、高
品質なブラックマトリックスが得られないという問題が
あった。さらに、上述の印刷方法によるブラックマトリ
ックス形成では、製造コストの低減は可能であるもの
の、寸法精度が低いという問題があった。

【０００６】このような問題点を解決するために本出願
人らは、すでに寸法精度が高く遮光性に優れたブラック
マトリックス基板およびその製造方法を提案している
（特願平３−１５９０２号、同３−２８３０３９号、同
３−３２５８２１号、同４−１５２０４９号、同４−１
６３０４８号、同４−１６８８１８号、同４−１７０６
８６号、同４−１７６９８９号、同４−１７６９９０号
等）。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このよ
うな製造方法においても、用いる透明基板の選定を誤る
と、本来析出してはいけない基板の部分にメッキが析出
してしまい、遮光性を有するパターン（ブラックマトリ
ックス）が良好に形成されないという不都合が生じるこ
とがあった。

【０００８】本発明は上述のような事情に鑑みてなされ
たものであり、液晶ディスプレイ等のフラットディスプ
レイ、ＣＣＤ等のイメージャー、あるいはカラーセンサ
等のカラーフィルタに用いることのできる寸法精度が高
く遮光性に優れることはもとより、遮光性を有するパタ
ーンが良好に形成されるブラックマトリックス基板を提
供することを目的とする。

【０００９】

【課題を解決するための手段】このような目的を達成す
るために、本発明は、透明基板と、該透明基板上に形成
され、内部に金属粒子を含有する遮光層とを有するブラ
ックマトリックス基板であって、遮光層が形成される側
の透明基板の表面粗度が最大高さ（Rmax）で１０００オ
ングストローム以下であるように構成した。

【００１０】

【作用】遮光層が形成される側の透明基板の表面粗度が
最大高さ（Rmax）で１０００オングストローム以下であ
るので、基板の不必要な箇所にメッキが析出することが
なく、遮光性を有するパターン（ブラックマトリック
ス）が良好に形成される。

【００１１】

【実施例】以下、本発明の実施例について図面を参照し
て説明する。図１は、本発明により製造されたブラック
マトリックス基板を用いたアクティブマトリックス方式
による液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）の一例を示す斜視図
であり、図２は同じく概略断面図である。図１および図
２において、ＬＣＤ１はカラーフィルタ１０と透明ガラ
ス基板２０とをシール材３０を介して対向させ、その間
に捩れネマティック（ＴＮ）液晶からなる厚さ約５〜１
０μｍ程度の液晶層４０を形成し、さらに、カラーフィ
ルタ１０と透明ガラス基板２０の外側に偏光板５０，５
１が配設されて構成されている。

【００１２】図３はカラーフィルタ１０の拡大部分断面
図である。図３においてカラーフィルタ１０は、透明基
板１３上に黒色レリーフ（ブラックマトリックス）１４
を形成したブラックマトリックス基板１２と、このブラ
ックマトリックス基板１２のブラックマトリックス１４
間に形成された着色層１６と、このブラックマトリック
ス１４と着色層１６を覆うように設けられた保護層１８
および透明電極１９を備えている。このカラーフィルタ
１０は透明電極１９が液晶層４０側に位置するように配
設されている。そして、着色層１６は赤色パターン１６
Ｒ、緑色パターン１６Ｇ、青色パターン１６Ｂからな
り、各着色パターンの配列は図１に示されるようにモザ
イク配列となっている。尚、着色パターンの配列はこれ
に限定されるものではなく、三角配列、ストライプ配列
等としてもよい。

【００１３】また、透明ガラス基板２０上には表示電極
２２が各着色パターン１６Ｒ、１６Ｇ、１６Ｂに対応す
るように設けられ、各表示電極２２は薄膜トランジスタ
（ＴＦＴ）２４を有している。また、各表示電極２２間
にはブラックマトリックス１４に対応するように走査線
（ゲート電極母線）２６ａとデータ線２６ｂが配設され
ている。

【００１４】このようなＬＣＤ１では、各着色パターン
１６Ｒ、１６Ｇ、１６Ｂが画素を構成し、偏光板５１側
から照明光を照射した状態で各画素に対応する表示電極
をオン、オフさせることで液晶層４０がシャッタとして
作動し、着色パターン１６Ｒ、１６Ｇ、１６Ｂのそれぞ
れの画素を光が透過してカラー表示が行われる。

【００１５】このようなカラーフィルタ１０を構成する
ブラックマトリックス基板１２は、図５に示されるよう
に、透明基板１３と、該透明基板１３上に形成された内
部に金属粒子を含有する遮光層（黒色レリーフまたはブ
ラックマトリックス）１４とを有する。

【００１６】本発明の透明基板１３の特に遮光層が形成
される側の透明基板の表面粗度は最大高さ（Rmax）で１
０００オングストローム以下、特に５０〜３００オング
ストロームとされる。

【００１７】この値が１０００オングストロームを越え
ると、本来めっきの析出は親水性樹脂を含有するレリー
フ像中だけに限定されるべきところが、レリーフ像のな
い（素ガラス）部分にもめっきが析出するという不都合
が生じる。なお、表面粗度の値は、以下のダイアモンド
触針による表面形状測定方法によって求めた。すなわ
ち、測定の基準長さ０．２５ｍｍとし、装置として触針
式表面形状測定装置（日本真空技術（株）製、Dektak-1
6000）を用いて ＪＩＳ Ｂ０６０１ 表面粗さの定義
と表示の最大高さ（Rmax）の定義に従って測定を行っ
た。透明基板１３としては、石英ガラス、低膨張ガラ
ス、ソーダライムガラス等の可撓性のないリジット材、
あるいは透明樹脂フィルム、光学用樹脂板等の可撓性を
有するフレキシブル材等を用いることができる。このな
かで、特にコーニング社製７０５９ガラスは、熱膨脹率
の小さい素材であり寸法安定性および高温加熱処理にお
ける作業性に優れ、また、ガラス中にアルカリ成分を含
まない無アルカリガラスであるため、アクティブマトリ
ックス方式によるＬＣＤ用のカラーフィルタに適してい
る。

【００１８】遮光層に含有される金属粒子は、無電解メ
ッキの触媒となる金属化合物の存在下で、該金属化合物
および被還元性金属塩を還元し得る還元剤により前記被
還元性金属塩を還元することによって遮光層中に均一に
分散析出させて形成される。

【００１９】このような本発明のブラックマトリックス
基板１２の製造の一例を図４に示し、この図に基づいて
以下、説明する。先ず透明基板１３上に親水性樹脂を含
有する感光性レジストを塗布して厚さ０．１〜５．０μ
ｍ程度の感光性レジスト層３を形成する（図４
（Ａ））。次に、ブラックマトリックス用のフォトマク
ス９を介して感光性レジスト層３を露光する（図４
（Ｂ））。そして、露光後の感光性レジスト層３を現像
してブラックマトリックス用のパターンを有するレリー
フ４を形成する（図４（Ｃ））。次に、この透明基板１
３に熱処理（９０〜１３０℃、５〜６０分間程度）を施
した後、無電解メッキの触媒となる金属化合物の水溶液
をレリーフ４にスプレーし水洗して触媒含有レリーフ５
とする（図４（Ｄ））。なお、熱処理は触媒含有レリー
フを形成した後に行っても良い。そして、透明基板１３
上の触媒含有レリーフ４を無電解メッキ液に接触させる
ことにより黒色レリーフとし、さらに、この黒色レリー
フに加熱あるいは硬膜剤塗布による硬膜処理を施してブ
ラックマトリックス１４を形成する（図４（Ｅ））。
尚、この硬膜処理は省略することもできる。

【００２０】図６に示される例では、先ず透明基板１３
上に親水性樹脂および無電解メッキの触媒となる金属化
合物の水溶液を含有する感光性レジストを塗布して厚さ
０．１〜５．０μｍ程度の感光性レジスト層６を形成す
る（図６（Ａ））。次に、ブラックマトリックス用のフ
ォトマクス９を介して感光性レジスト層６を露光する
（図６（Ｂ））。そして、露光後の感光性レジスト層３
を現像して乾燥することによりブラックマトリックス用
のパターンを有する本発明のレリーフ画像７を形成する
（図６（Ｃ））。この場合のレリーフ画像７は、図４に
示されるレリーフ画像４とは異なり、無電解メッキの触
媒となる金属化合物を含んだ触媒含有レリーフである。

【００２１】上記のようにして作成したレリーフ画像７
を用いてブラックマトリックス１４を形成するには、ま
ず、このレリーフ画像７に熱処理（９０〜１３０℃、５
〜６０分間）を施し、次に、透明基板１３上のレリーフ
画像（触媒含有レリーフ）７を無電解メッキ液に接触さ
せることにより、レリーフ内に金属粒子を析出させて黒
化せしめ、ブラックマトリックス１４を形成する（図６
（Ｄ））。この場合も、ブラックマトリックスに加熱あ
るいは硬膜剤塗布による硬膜処理を施してもよいことは
勿論である。

【００２２】さらに、図７に示される例においては、先
ず透明基板１３上に親水性樹脂、ジアゾ基又はアジド基
を有する化合物、及び無電解メッキの触媒となる金属化
合物を含有した感光性レジストを塗布乾燥して厚さ０．
１〜５．０μｍ、好ましくは０．１〜２．０μｍ程度の
感光性レジスト層８を形成する（図７（Ａ））。ここ
で、ジアゾ基、アジド基を有する化合物は無電解メッキ
時にメッキの抑制効果があり、これらと親水性樹脂、無
電解メッキの触媒となる化合物を含有するレジストを用
い、パターン露光し無電解メッキ液と接触することによ
り無電解メッキの金属粒子がレジスト層中に形成され遮
光層となることは知られている（特開昭５７−１０４９
２８号、同５７−１０４９２９号）。次にブラックマト
リックス用のフォトマスク９を介して感光性レジスト層
８を露光することにより、本発明のレリーフ画像８′と
する（図７（Ｂ））。すなわち、このレリーフ画像８′
は、無電解メッキの触媒となる金属化合物を含んだ触媒
含有レリーフであるとともに、ジアゾ基又はアジド基を
有する化合物によるメッキ抑制効果が上記の露光によっ
てブラックマトリックスのパターン形状に解除されたも
のとなっている。

【００２３】上記のようにして作成したレリーフ画像
８′を用いてブラックマトリックス１４を形成するに
は、この透明基板１３を無電解メッキ液に接触させるこ
とにより露光部分に無電解メッキの金属粒子を析出させ
て黒化せしめ、ブラックマトリックス１４を形成する
（図７（Ｃ））。

【００２４】尚、図７（Ｄ）に示すように、透明基板１
３を現像して未露光部分を除去してもよい。上記のブラ
ックマトリックス基板の製造例において、共通して特徴
的なのは、無電解メッキの触媒となる金属化合物の存在
下で、この金属化合物と無電解めっき液に含有される被
還元性金属塩とを還元し得る還元剤によって上記被還元
性金属塩の還元が行われることにより、金属粒子が遮光
層内に均一に析出されることである。

【００２５】したがって、遮光層は、金属粒子および場
合によっては被還元性金属塩と、無電解めっきとなる金
属化合物および場合によっては、この金属化合物が還元
されて生成された金属と、還元剤とを含有する。

【００２６】本発明において用いる感光性レジストとし
ては、例えば、ゼラチン、カゼイン、グルー、卵白アル
ブミン等の天然タンパク質、カルボキシメチルセルロー
ス、ポリビニルアルコール、ポリアクリル酸、ポリアク
リルアミド、ポリビニルピロリドン、ポリエチレンオキ
サイド、無水マレイン酸共重合体、及び、上記の樹脂の
カルボン酸変性物あるいはスルホン酸変性物等の親水性
樹脂を１種、あるいは複数種を混合したものに対し、例
えば、ジアゾ基を有するジアゾニウム化合物およびパラ
ホルムアルデヒドの反応生成物であるジアゾ樹脂、アジ
ド基を有するアジド化合物、ポリビニルアルコールにケ
イ皮酸を縮合したケイ皮酸縮合樹脂、スチルバゾリウム
塩を用いた樹脂、重クロム酸アンモニウム等の光硬化型
の感光性基を有するものを添加することで感光性を付与
したものを挙げることができる。尚、感光性基は上述の
光硬化型感光性基に限定されないことは勿論である。こ
のように、感光性レジスト中に親水性樹脂が含有されて
いることにより、上述のように触媒含有レリーフ５が無
電解メッキ液と接触した際に、無電解メッキ液が触媒含
有レリーフ５に浸透し易くなり、触媒含有レリーフ５中
に均一に金属粒子が析出・成長し得る。

【００２７】本発明において用いる無電解メッキの触媒
となる金属化合物は、例えばパラジウム、金、銀、白
金、銅等の塩化物、硫酸塩、硝酸塩等の水溶性塩、およ
び錯化合物が用いられる。特に、本発明では、水溶液と
して市販されている無電解メッキ用のアクチベータ溶液
をそのまま、あるいは希釈して用いることができる。こ
のような金属化合物を上述のように感光性レジスト中に
含有させる場合、０．００００１〜０．００１重量％程
度含有されることが好ましい。

【００２８】無電解メッキ液は、例えば次亜リン酸、次
亜リン酸ナトリウム、水素化ホウ素ナトリウム、Ｎ−ジ
メチルアミンボラン、ボラジン誘導体、ヒドラジン、ホ
ルマリン等の還元剤と、例えばニッケル、コバルト、
鉄、銅、クロム等の水溶性の被還元性重金属塩と、メッ
キ速度、還元効率等を向上させるカセイソーダ、水酸化
アンモニウム等の塩基性化合物と、無機酸、有機酸等の
ｐＨ調整剤、クエン酸ナトリウム、酢酸ナトリウム等の
オキシカルボン酸、ホウ酸、炭酸、有機酸、無機酸のア
ルカリ塩に代表される緩衝剤と、重金属イオンの安定性
を目的とした錯化剤の他、反応促進剤、安定剤、界面活
性剤等とを有する無電解メッキ液が使用される。

【００２９】また、２種以上の無電解メッキ液を併用し
てもよい。例えば、まず、核（例えば無電解メッキの触
媒となる金属化合物としてパラジウムを使用した場合は
パラジウムの核）を作り易い水素化ホウ素ナトリウムの
ようなホウ素系還元剤を含む無電解メッキ液を用い、次
に、金属析出速度の速い次亜リン酸系還元剤を含む無電
解メッキ液を用いることができる。

【００３０】上記の種々の還元剤の中でも、特にホウ素
系還元剤は、無電解めっきの触媒となる金属化合物と、
被還元性金属塩とを同時に還元する能力に優れており、
好ましく用いることができる。

【００３１】上述のようなブラックマトリックス基板１
２のブラックマトリックス１４間における赤色パターン
１６Ｒ、緑色パターン１６Ｇ、青色パターン１６Ｂから
なる着色層１６の形成は、染色法、分散法、印刷法、電
着法等の公知の種々の方法に従って行うことができる。

【００３２】カラーフィルタ１０のブラックマトリック
ス１４と着色層１６を覆うように設けられる保護層１８
は、カラーフィルタ１０の表面平滑化、信頼性の向上、
および液晶層４０への汚染防止等を目的とするものであ
り、アクリル系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリイミド系樹
脂等の透明樹脂、あるいは二酸化ケイ素等の透明無機化
合物等を用いて形成することができる。保護層の厚さは
０．５〜５０μｍ程度が好ましい。

【００３３】透明共通電極１９としては、例えば酸化イ
ンジウムスズ（ＩＴＯ）膜を用いることができる。ＩＴ
Ｏ膜は蒸着法、スパッタ法等の公知の方法により形成す
ることができ、厚さは２００〜２０００Å程度が好まし
い。

【００３４】次に、実験例を示して本発明を更に詳細に
説明する。実験例１ 厚さ１．１ｍｍ，表面粗度５０オングストロームの７０
５９ガラス（コーニング社製）を用い、表面にフッ酸処
理を行い表面粗度が５００，８００，１０００，１２０
０，２０００，３０００オングストロームの各基板を作
製した。

【００３５】このような各基板の上に下記組成の感光性
レジストをスピンコート法（1500 r.p.m. ）で塗布し、
その後、７０℃、１０分間乾燥し、厚さ０．６μｍの感
光性レジスト層を形成した。

【００３６】 感光性レジスト組成 ・ポリビニルアルコール（日本合成化学製：ゴーセナールＴ−３３０） ５％水溶液 …１０００重量部 ・ジアゾ樹脂（シンコー技研製Ｄ−０１１）５％水溶液 … ５７重量部 次に、感光性レジスト層に対してブラックマトリックス
形成用のフォトマスク（ネガ、線幅＝２０μｍ）を介し
て露光を行った。露光用光源は超高圧水銀灯２Ｋｗを用
い、２秒間照射した。その後、常温の水を用いて、スプ
レイ現像を行いエアー乾燥した。次いで、この透明基板
に１００℃、３０分間の熱処理を施して、ブラックマト
リックス用の線幅２０μｍのレリーフを形成した。

【００３７】次に、この透明基板を塩化パラジウム水溶
液（日本カニゼン製レッドシューマー）に３０秒浸漬
し、水洗、水切りして上記レリーフを触媒含有レリーフ
とした。

【００３８】その後、上記触媒含有レリーフを有する基
板をホウ素系還元剤を含むニッケルめっき液（奥野製薬
製ニッケルめっき液：トップケミアロイＢ−１）に４分
間浸漬させ、水洗乾燥した後、２００℃で１時間キュア
ーして遮光層（ブラックマトリックス，黒色レリーフ）
を形成し、ブラックマトリックス基板を得た。

【００３９】結果を下記表１に示す。

【００４０】

【表１】 表１の結果より、表面粗度５０，５００，８００および
１０００オングストロームの各基板については、良好な
サンプルが得られた。しかしながら、１２００，２００
０および３０００オングストロームの各基板について
は、触媒含有レリーフ以外の素ガラスの上にもめっきが
析出してしまい良好なサンプルは得られなかった。

【００４１】次に、上記各ブラックマトリックス基板
（表面粗度の異なる上記の各基板）に着色層、保護層お
よび透明電極を形成してカラーフィルタを作成した。着
色層の形成は、まず、ブラックマトリックス層上に、ス
ピンコート法（回転数＝１２００r.p.m ）により赤色感
光性樹脂（ザ・インクテック（株）製 ＭＲ−Ｇ
（Ｒ））を塗布した。その後、７０℃、３０分間の条件
で乾燥（プレベーク）して赤色感光性樹脂層（膜厚＝
１．２μｍ）を形成した。

【００４２】次に、この赤色感光性樹脂層の赤色画素を
形成すべき領域に、赤色画素用のフォトマスク（線幅＝
１００μｍ）の位置合わせを行った後、このフォトマス
クを介して露光を行った。露光装置は大日本スクリーン
（株）製のプロキシミティー露光装置を使用し、露光量
は１５０ｍＪ／cm² とした。その後、常温の水を用いて
シャワー現像（現像時間＝６０秒間）を行い、その後、
１５０℃、３０分間の熱処理（ポストベーク）を施して
赤色画素を形成した。

【００４３】同様の行程を繰り返して、赤色画素、緑色
画素、青色画素からなる着色層を形成した。尚、各画素
の作成条件は下記の表２に示す条件に従った。

【００４４】

【表２】 次に、保護層形成は、下記に示される組成の塗布液をス
ピンコート法（回転数＝１５００r.p.m ）により上記の
着色層上に塗布した（膜厚＝２．０μｍ）。

【００４５】 （保護層形成用の塗工液組成） ・光硬化性アクリレートオリゴマー（ｏ−クレゾールノボラック エポキシアクリレート（分子量１５００〜２０００）） … ３５重量部 ・クレゾールノボラック型エポキシ樹脂 … １５重量部 ・多官能重合性モノマー（ジペンタエリスリトールヘキサ アクリレート（日本化薬製ＤＰＨＡ） … ５０重量部 ・重合開始剤（チバガイギー社製イルガキュアー） … ２重量部 ・エポキシ硬化剤（ゼネラルエレクトリック社製 UVE1014）… ２重量部 ・エチルセロソルブアセテート …２００重量部 そして、この塗布膜に対して大日本スクリーン（株）製
のプロキシティー露光装置を使用し露光量１５０ｍＪ／
cm² で全面露光を行った。そのあと、基板を常温の１，
１，２，２−テトラクロロエタンに１分間浸漬し、塗布
膜の未硬化部分のみを除去し、保護膜を形成した。

【００４６】さらに、この保護膜上にスパッタリング法
により厚さ０．４μｍの酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）
膜を形成して透明電極とし、カラーフィルタを得た。ま
た、着色層の形成を下記のように印刷法により行った。
版深６μｍ、幅１１０μｍのストライプ状の凹部を有す
る版、及びシリコーンブランケットを用い、凹版オフセ
ット印刷法により、ブラックマトリックス基板上のブラ
ックマトリックス間に、下記インキ組成物Ｓ−１，Ｓ−
２，Ｓ−３をこの順序で印刷し、それぞれブルー、グリ
ーン、レッドの１１０μｍ幅のストライプパターンを印
刷形成した。その後、前記基板を２００℃で３０分間加
熱することにより、インキ組成物を熱硬化させて膜厚さ
２〜３μｍの着色層を得た。

【００４７】 ワニスの組成 ・ポリエステルアクリレート系樹脂 （東亜合成化学工業（株）アロニックス M-7100) … ７０重量部 ・ジアリルフタレートプレポリマー … ３０重量部 インキ組成物（Ｓ−１）の組成 ・ワニス …１００重量部 ・顔料（リオノールブルーＥＳ） （東洋インキ製造（株）製、C.I.Pigment Blue 15:6) …１５．５重量部 ・顔料（リオノゲンバイオレット RL） （東洋インキ製造（株）製、C.I.Pigment Violet 23) … ４重量部 インキ組成物（Ｓ−２）の組成 ・ワニス …１００重量部 ・顔料（リオノールグリーン２ＹＳ） （東洋インキ製造（株）製、C.I.Pigment Green 36） … ２２重量部 ・顔料（セイカファーストエロー２７００） （大日精化工業（株）製、C.I.Pigment Yellow 83 ） …７．５重量部 インキ組成物（Ｓ−３）の組成 ・ワニス …１００重量部 ・顔料（クロモフタルレッドＡ３Ｂ） （チバ・ガイギー社製、C.I.Pigment Red 177) … ３２重量部 ・顔料（セイカファーストイエロー２７００） （大日精化工業（株）製、C.I.Pigment Yellow 83 ） … ８重量部 次に、上述のように保護層と透明電極を形成してカラー
フィルタを得た。

【００４８】このように作成したカラーフィルタの内、
本発明の範囲内の表面粗度を備えるブラックマトリック
ス基板を用いて作成されたものは、カラー液晶ディスプ
レイに使用された場合、高い発色硬化や表示コントラス
トを示した。しかし、本発明の範囲外の表面粗度を備え
るブラックマトリックス基板を用いて作成されたもの
は、カラー液晶ディスプレイに使用された場合、発色効
果や表示コントラストは不十分であった。

【００４９】

【発明の効果】以上詳述したように、本発明によれば、
基板の不必要な箇所にメッキが析出することがなく、遮
光性を有するパターン（ブラックマトリックス）が良好
に形成される。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明により製造されたカラーフィルタを用い
たアクティブマトリックス方式による液晶ディスプレイ
の一例を示す斜視図である。

【図２】図１に示される液晶ディスプレイの概略断面図
である。

【図３】図１に示される液晶ディスプレイに用いられて
いるカラーフィルタの拡大部分断面図である。

【図４】本発明によるブラックマトリックス基板の製造
方法を説明するための工程図である。

【図５】本発明のブラックマトリックス基板の概略断面
図である。

【図６】本発明によるブラックマトリックス基板の他の
製造方法を説明するための工程図である。

【図７】本発明によるブラックマトリックス基板の他の
製造方法を説明するための工程図である。

【符号の説明】

３…感光性レジスト層 ４…レリーフ ５…触媒含有レリーフ ９…ブラックマトリックス用のフォトマスク １０…カラーフィルタ １２…ブラックマトリックス基板 １３…透明基板 １４…ブラックマトリックス（黒色レリーフまたは遮光
層） １６…着色層 １６Ｒ，１６Ｇ，１６Ｂ…着色パターン

Claims (2)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 透明基板と、該透明基板上に形成され、
   ブラックマトリックス用のパターンを有するレリーフ内
   部に金属粒子を含有する遮光層とを有するブラックマト
   リックス基板であって、該金属粒子は金属化合物を無電
   解メッキにて還元して析出するものであり、遮光層が形
   成される側の透明基板の表面粗度が最大高さ（Ｒｍａ
   ｘ）で１０００オングストローム以下であることを特徴
   とするブラックマトリックス基板。
2. 【請求項２】 前記透明基板はガラス基板であることを
   特徴とする請求項１に記載のブラックマトリックス基
   板。