JP3420799B2 - カラーフィルタ - Google Patents
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Description
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明はカラーフィルタに係り、
特に構成層間の密着性が高く耐久性に優れたカラーフィ
ルタに関する。 【０００２】 【従来の技術】近年、フラットディスプレーとして、モ
ノクロあるいはカラーの液晶ディスプレイが注目されて
いる。液晶ディスプレイには、３原色の制御を行うため
にアクティブマトリックス方式および単純マトリックス
方式とがあり、いずれの方式においてもカラーフィルタ
が用いられている。そして、カラーの液晶ディスプレイ
は構成画素部を３原色（Ｒ，Ｇ，Ｂ）とし、液晶の電気
的スイッチングにより３原色の各光の透過を制御してカ
ラー表示を行うものである。 【０００３】このカラーフィルタは、透明基板上に各着
色層と保護層と透明電極（ＩＴＯ）を形成して構成され
ている。これらの各層の中で保護層は、前記着色層をセ
ル組み工程中での各種溶媒処理等から保護し、またセル
組み後液晶中に着色層から不純物が溶出するのを防ぐ役
割を担っている。加えて、透明電極（ＩＴＯ）をスパッ
タにより形成中に、高温とＩＴＯの応力歪みに耐えて、
クラックやしわが発生しないことが必要である。さら
に、保護層は、着色層表面の凹凸（±０．３〜１．０μ
ｍ）を覆い、カラーフィルタ表面を±０．１μｍ以下の
平滑面にする機能が必要である。 【０００４】保護層は、通常光硬化性あるいは、熱硬化
性の樹脂を溶媒等で希釈してスピンコート法で塗布、形
成する。このとき、着色層及びその周囲のガラス表面が
露出している部分の表面が、清浄な状態になっていなけ
ればならない。仮に、保護層塗布前に着色層及びその周
辺部のガラス表面露出部分が汚染されていると、スピン
コート時に溶媒で希釈された保護膜樹脂をはじき、保護
層にピンホールを生じ、保護層としての機能の喪失や、
保護層表面の平滑性が劣化の原因となる。また、比較的
軽度の汚染であって、保護層の下地（着色層及びその周
囲のガラス露出部分）に対する密着性の低下が生じ、透
明電極膜（ＩＴＯ）形成後に、ＩＴＯの応力歪みに保護
層が耐えられず、ＩＴＯのしわ、クラックを生じたり、
セル組み工程中に保護層が剥離したりする。 【０００５】このような理由により、保護層塗布前に、
着色層及びその周囲のガラス露出部は、完璧に汚染が取
り除かれている必要があり、従って、保護層塗布前の着
色層が形成済みのガラス基板の洗浄状態の良否は、極め
て大きな意味を持つ。 【０００６】従来においては、トリクレン等の溶媒を使
い、保護層形成前に、着色層を形成したガラス基板の溶
媒超音波洗浄等を行ない、ガラス基板の汚染を取り除い
ていて、カラーフィルタを形成した。 【０００７】 【発明が解決しようとする課題】トリクレン等の溶媒に
よる超音波洗浄法の洗浄力はきわめて強力であり、保護
層のピンホール欠陥、密着性不良の原因となるガラス基
板の汚染をほとんど除去することが可能であった。 【０００８】しかし、近年、地球環境に対する影響の問
題がクローズアップされつつあり、多量の溶媒を使用し
揮発した溶媒が大気中に放出される恐れの強い上記溶媒
による超音波洗浄法は問題視されている。従って、将来
の環境基準をクリアーし、地球環境に対するダメージを
最小限に抑えるため、現在においては、各種溶媒洗浄は
逐次より環境への影響の少ない水系の界面活性剤洗浄に
きりかわりつつある。 【０００９】ところが、水系の界面活性剤洗浄法は、洗
浄力において、溶媒洗浄法に大きく劣り、非水溶性の油
性系の汚れや高分子樹脂系の汚れがおとしきれず、シリ
コーン系の汚染に至ってはまったく洗浄不能となってし
まい、保護層のピンホール欠陥、密着性不良の原因とな
るという問題があった。 【００１０】本発明は、上述のような事情を考慮してな
されたものであり、溶媒洗浄以上の洗浄力を持ち、しか
も溶媒を使用しないことにより、地球環境への影響の少
ない洗浄が可能で、かつ、層構成間の密着性が高く耐久
性に優れたカラーフィルタを提供することを目的とす
る。 【００１１】 【課題を解決するための手段】このような目的を達成す
るために、本発明は、基板と、該基板上に形成された着
色層およびブラックマトリックスと、前記着色層と前記
ブラックマトリックスとを覆うように設けられた保護層
とを備え、前記保護層は、前記着色層と前記ブラックマ
トリックスとを熱処理し、さらに前記熱処理後の着色層
とブラックマトリックスにおいて前記保護層が形成され
るべき保護層形成領域の２−エトキシエタノールに対す
る接触角が７°以下となるようにＵＶオゾン処理を行っ
た後に形成されたものであるような構成とした。 【００１２】 【作用】ガラス基板上に形成されたブラックマトリック
ス層および着色層を覆うようにして設けられた保護層
は、予めＵＶオゾン処理を行った後に形成する。上記の
ＵＶオゾン処理は、水系の界面活性剤洗浄では、除去不
可能なシリコーン系の汚染も除去することができる。こ
の処理により、保護層形成時のピンホール欠陥発生率を
大幅に減少することが可能であり、また保護層とブラッ
クマトリックス層、着色層およびその周囲のガラス表面
露出部との密着性も大きく向上し、ＩＴＯのしわやクラ
ック欠陥の発生を防止し、セル組み工程中の保護層の剥
離も防ぐことが可能となる。また、溶媒洗浄工程を無く
すことが出来るので、地球環境への影響も最小限に抑え
ることが出来る。 【００１３】 【実施例】以下、本発明の実施例について図面を参照し
て説明する。図１は、本発明のカラーフィルタを使用し
たアクティブマトリックス方式による液晶ディスプレイ
（ＬＣＤ）の一例を示す斜視図であり、図２は同じく概
略断面図である。図１および図２において、ＬＣＤ１は
カラーフィルタ１０と透明ガラス基板２０とをシール材
３０を介して対向させ、その間に捩れネマティック（Ｔ
Ｎ）液晶からなる厚さ約５〜１０μｍ程度の液晶層４０
を形成し、さらに、カラーフィルタ１０と透明ガラス基
板２０の外側に偏光板５０，５１が配設されて構成され
ている。 【００１４】図３はカラーフィルタ１０の拡大部分断面
図である。図３においてカラーフィルタ１０は、透明基
板１３上にブラックマトリックス１４を形成したブラッ
クマトリックス基板１２と、このブラックマトリックス
基板１２のブラックマトリックス１４間に形成された着
色層１６と、このブラックマトリックス１４と着色層１
６を覆うように設けられた保護層１８および透明電極１
９を備えている。このカラーフィルタ１０は透明電極１
９が液晶層４０側に位置するように配設されている。そ
して、着色層１６は赤色パターン１６Ｒ、緑色パターン
１６Ｇ、青色パターン１６Ｂからなり、各着色パターン
の配列は図１に示されるようにモザイク配列となってい
る。尚、着色パターンの配列はこれに限定されるもので
はなく、三角配列、ストライプ配列等としてもよい。 【００１５】また、透明ガラス基板２０上には表示電極
２２が各着色パターン１６Ｒ、１６Ｇ、１６Ｂに対応す
るように設けられ、各表示電極２２は薄膜トランジスタ
（ＴＦＴ）２４を有している。また、各表示電極２２間
にはブラックマトリックス１４に対応するように走査線
（ゲート電極母線）２６ａとデータ線２６ｂが配設され
ている。 【００１６】このようなＬＣＤ１では、各着色パターン
１６Ｒ、１６Ｇ、１６Ｂが画素を構成し、偏光板５１側
から照明光を照射した状態で各画素に対応する表示電極
をオン、オフさせることで液晶層４０がシャッタとして
作動し、着色パターン１６Ｒ、１６Ｇ、１６Ｂのそれぞ
れの画素を光が透過してカラー表示が行われる。 【００１７】カラーフィルタ１０を構成するブラックマ
トリックス基板１２の透明基板１３としては、石英ガラ
ス、低膨張ガラス、ソーダライムガラス等の可撓性のな
いリジット材、あるいは透明樹脂フィルム、光学用樹脂
板等の可撓性を有するフレキシブル材等を用いることが
できる。このなかで、特にコーニング社製７０５９ガラ
スは、熱膨脹率の小さい素材であり寸法安定性および高
温加熱処理における作業性に優れ、また、ガラス中にア
ルカリ成分を含まない無アルカリガラスであるため、ア
クティブマトリックス方式によるＬＣＤ用のカラーフィ
ルタに適している。 【００１８】ここで、本発明のカラーフィルタ１０の製
造例を図４を参照して説明する。図４に示される例にお
いて、先ず透明基板１３上にブラックマトリックス１４
を形成したブラックマトリックス基板１２の赤色パター
ン１６Ｒを形成すべき位置に赤色インキＲを印刷する
（図４（Ａ））。この印刷は、例えば、赤色の着色層に
対応した凹部を備えた凹版とブランケットとを用いて凹
版オフセット印刷により行うことができる。 【００１９】同様にして、ブラックマトリックス基板１
２の緑色パターン１６Ｇを形成すべき位置に緑色インキ
Ｇを印刷し、青色パターン１６Ｂを形成すべき位置に青
色インキＢを印刷する（図４（Ｂ））。 【００２０】次に、赤色インキＲ、緑色インキＧ、青色
インキＢを硬化させて、各着色パターン１６Ｒ、１６
Ｇ、１６Ｂからなる着色層１６を基板上に形成する（図
４（Ｃ）。 【００２１】上記のようにして着色層１６を形成した
後、ブラックマトリックス１４と着色層１６を覆うよう
に保護層１８を形成する。本発明のカラーフィルタの保
護層は、保護層形成領域にＵＶオゾン処理を施した後に
形成されたものであることを特徴とする。 【００２２】ＵＶオゾン処理の原理は、以下の通りであ
る。 【００２３】 【数１】 上記の反応によって発生した酸素ラジカルが、ガラス基
板上の不純物と反応し、洗浄効果を発現する。また、短
波長紫外線をガラス基板に照射することにより、不純物
が励起、分解され、酸素ラジカルとの反応を促進させ
る。 【００２４】ここで、好適なＵＶオゾン処理の条件を以
下に示す。 照射光分光特性：184.9nm 、253.7nm の輝線を持つ短波
長紫外線 照射光強度 ： 5〜30mW／cm2 照射時間 ： 5〜20min 使用ガス ：酸素、窒素（不活性ガス）混合気体 酸素含有率 ：20〜 100% ガス流量 ： 0〜10ml/min 温 度 ：15〜50℃ このようなオゾン処理により、溶媒で希釈された保護層
樹脂に対するぬれが向上し、スピンコート時の保護層樹
脂塗布性が大きく改善される。ＵＶオゾン処理時間に対
するガラスの洗浄効果を図５に示す。そのときの各条件
を以下に示す。 【００２５】１）ＵＶオゾン処理条件 照射光分光特性：184.9nm 、253.7nm の輝線を持つ短波
長紫外線 照射光強度 ：14mW／cm2 照射時間 ：0,1,3,5,10,20min 使用ガス ：酸素、窒素混合気体 酸素含有率 ：20% ガス流量 ：0ml/min 温 度 ：30℃ ２）試料ガラス作製条件 試料ガラスは、ＵＶオゾン処理前に、最も洗浄除去も困
難な物質の一つである低分子量シロキサ（シリコーン）
皮膜を、下記の方法で形成したものを使用した。 【００２６】（シリコーン皮膜形成条件）溶剤超音波洗
浄したガラスに、重合度４〜２０の低分子量シロキサン
８０００ｐｐｍ含むシリコーンゴムを１０kg／cm2 の圧
力で１秒圧着してシリコーン皮膜形成。 【００２７】３）ＵＶオゾン処理による洗浄度測定方法 保護層樹脂塗布溶媒（スピンコート時の希釈溶媒）であ
る、２−エトキシエタノールを使い、上記試料ガラスの
接触角を測定し、試料表面の洗浄度を調べた。通常試料
ガラスの表面が清浄であるほど、２−エトキシエタノー
ルに対する接触角が小さくなる。接触角は、液滴下１ｍ
ｉｎ後に測定した。ちなみに、上記試料の低分子量シロ
キサン皮膜形成前の溶剤洗浄したガラス表面の接触角
は、７°であった。 【００２８】図５に示されるように、上記条件で５ｍｉ
ｎ以上ＵＶオゾン処理を行うことにより、低分子量シロ
キサン皮膜形成前の溶媒洗浄を行ったガラスと同様な２
−エトキシエタノールに対する塗れ性（洗浄度）が得ら
れていることがわかる。ただし、グラフからは分からな
いが２０ｍｉｎより長くＵＶオゾン処理を行うと、着色
層がＵＶ光によりダメージを受け、ＩＴＯ形成後に欠陥
を生じる原因となる。これらの具体的な実施例は、後に
示す。 【００２９】以上のようなＵＶオゾン処理により、保護
層形成領域の保護層樹脂の塗布溶媒に対する接触角が７
°以下となり、スピンコート時の保護膜樹脂の塗れ性が
向上し、ピンホール欠陥が減少し、また、保護層樹脂硬
化後の保護層と下地のブラックマトリックス層、着色層
及びその周囲の基板ガラス露出部との密着性が向上す
る。 【００３０】保護層１８は、アクリル樹脂、エポキシ樹
脂、ポリイミド樹脂等の透明樹脂を用いて形成する（図
４（Ｅ））。保護層１８の厚さは０．５〜５０μｍ程度
が望ましい。このような保護層１８により、カラーフィ
ルタ１０の表面平滑化、信頼性の向上、および液晶層４
０への汚染防止等が可能となる。 【００３１】次に、上記保護層１８上に透明電極（ＩＴ
Ｏ）１９を形成する（図４（Ｆ））。この透明電極１９
は、酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）膜を、蒸着法、スパ
ッタ法等の公知の方法により形成することができ、厚さ
は、２００〜２０００Å程度が望ましい。 【００３２】次に、具体的な実施例を示して本発明を更
に詳細に説明する。 （実施例）透明基板としてコーニング社製７０５９ガラ
ス（厚さ＝１．１ｍｍ）を用い、スピンコート法（回転
数＝１６００r.p.m.）により下記組成の感光性レジスト
を透明基板上に塗布し、その後、７０℃、１０分間の条
件で乾燥（プレベーク）して感光性レジスト層（厚さ＝
０．６μｍ）を形成した。 【００３３】 （感光性レジストの組成） ・ポリビニルアルコール４．４７重量％水溶液 （日本合成化学工業製ゴーセナールＴ−３３０） …1000重量部 ・ジアゾ樹脂５重量％水溶液 （シンコー技研製Ｄ−０１１） …57.1重量部 次に、感光性レジスト層に対してブラックマトリックス
用のフォトマスク（線幅＝４５μｍ）を介して露光を行
った。露光装置は大日本スクリーン（株）製のプロキシ
ミティー露光装置を使用し、露光量は５０ｍＪ／ｃｍ2
とした。その後、常温の水を用いてシャワー現像（現像
時間＝４５秒間）を行い、その後、１００℃、３０分間
の熱処理（ポストベーク）を施してブラックマトリック
ス用の線幅４５μｍのレリーフ画像を形成した。 【００３４】次に、この透明基板を塩化パラジウム水溶
液（日本カニゼン製レッドシューマー、５倍希釈液）に
４分間浸漬し、上記のレリーフ画像を触媒含有レリーフ
とした。 【００３５】その後、この基板をホウ素系還元剤を含む
常温のニッケルメッキ液（奥野製薬製ニッケルメッキ液
トップケミアロイＢ−１）に４分間浸漬して黒色レリー
フを形成した後、２００℃、１時間の熱処理を施してブ
ラックマトリックス基板とした。 【００３６】次に、上記のブラックマトリックス基板に
下記のように着色層を形成した。すなわち、版深６μ
ｍ、幅１１０μｍのストライプ状の凹部を有する版、及
びシリコーンブランケットを用い、凹版オフセット印刷
法により、ブラックマトリックス基板上のブラックマト
リックス間に、下記インキ組成物Ｓ−１，Ｓ−２，Ｓ−
３をこの順序で印刷し、それぞれブルー、グリーン、レ
ッドの１１０μｍ幅のストライプパターンを印刷形成し
た。その後、前記基板を２００℃で３０分間加熱するこ
とにより、インキ組成物を熱硬化させて膜厚２〜３μｍ
の着色層を得た。 【００３７】 インキ組成物（Ｓ−１） 顔 料 ・リオノールブルーＥＳ （東洋インキ製造（株）C.I.Pigment Blue 15:6)…14.2重量部 ・リオノゲンバイオレットＲＬ （東洋インキ製造（株）C.I.Pigment Violet 23)… 0.8重量部 ワニス ・ポリエステルアクリレート樹脂 （東亜合成化学工業（株）アロニックス M7100）…52.5重量部 ・ジアリルフタレートプレポリマー （ダイソー（株）ダップＡ） …22.5重量部 モノマー ・トリメチロールプロパントリアクリレートモノマー …10.0重量部 インキ組成物（Ｓ−２） 顔 料 ・リオノールグリーン２ＹＳ （東洋インキ製造（株）C.I.Pigment Green 36）…15.0重量部 ・セイカファーストイエロー２７００ （大日精化（株）C.I.Pigment Yellow 83) … 5.0重量部 ワニス ・ポリエステルアクリレート樹脂 （東亜合成化学工業（株）アロニックス M7100）…47.6重量部 ・ジアリルフタレートプレポリマー （ダイソー（株）ダップＡ） …20.4重量部 モノマー ・トリメチロールプロパントリアクリレートモノマー …12.0重量部 インキ組成物（Ｓ−３） 顔 料 ・クロモフタルレッドＡ３Ｂ （チバ・ガイギー製 C.I.Pigment Red 177) …16.0重量部 ・セイカファストイエロー２７００ （大日精化工業（株）C.I.Pigment Yellow 83) … 4.0重量部 ワニス ・ポリエステルアクリレート樹脂 （東亜合成化学工業（株）アロニックス M7100）…46.2重量部 ・ジアリルフタレートポリマー （ダイソー（株）ダップＡ） …19.8重量部 モノマー ・トリメチロールプロパントリアクリレートモノマー …14.0重量部 次に、着色層とブラックマトリックス層を覆うように保
護層を形成した。 【００３８】保護層の形成は、まず、下記の条件で処理
時間を０，１，３，５，１０，２０ｍｉｎと６種類変え
たサンプルを作った。 （ＵＶオゾン処理条件） ＵＶランプ ：KYOKKO製 SGL-900HU オゾン 照射光分光特性：184.9nm 、253.7nm の輝線を持つ短波
長紫外線 照射光強度 ：14mW／cm2 照射時間 ：0,1,3,5,10,20min 使用ガス ：酸素、窒素混合系 酸素含有率 ：20% ガス流量 ：0ml/min 温 度 ：30℃ 次に、下記に示される組成の塗布液をスピンコート法
（回転数＝１５００rpm）により上記のオゾン処理を施
した６種類のサンプルに塗布した。 【００３９】 （保護層形成用の塗布液組成） ・光硬化性アクリレートオリゴマー（ｏ−クレゾールノボラックエポキシ アクリレート（分子量1500〜2000） … ３５重量部 ・クレゾールノボラック型エポキシ樹脂 … １５重量部 ・多官能重合性モノマー（ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート （日本化薬（株） DPHA） … ５０重量部 ・重合開始剤（チバガイギー製 イルガキュアー） … ２重量部 ・エポキシ硬化剤（ゼネラルエレクリトック製 UVE1014)… ２重量部 ・２−エトキシエタノール …２００重量部 そして、この塗布膜に対して大日本スクリーン（株）製
のブロキシミティ露光装置を使用し、露光量１５mJ／cm
2 で全面露光を行った。その後、１８０℃、６０min の
プリベークを行った。上記の条件で塗布した保護層の硬
化後の厚さは、通常（汚染のない状態）で２．０μｍと
なる。 【００４０】さらに、保護層を形成した６種類のサンプ
ルの保護層上にスパッタリング法により０．４μｍのＩ
ＴＯ層を形成し、試料１〜６を得た。次に、上記サンプ
ルを温度２５０℃で、１時間加熱し、カラーフィルタと
しての信頼性テストを行った。その結果を表１に示す。 【００４１】 【表１】 【００４２】（信頼性試験結果）表１に、信頼性試験結
果を示す。ＵＶオゾン処理０ｍｉｎ（試料１）のサンプ
ルは、保護層形成時のスピンコート法で保護層樹脂を塗
布した段階で、塗布液を完全にはじいてしまい、保護層
を形成することが出来なかった。これは、着色層形成時
にシリコーン製のブランケットで、印刷を行った時、ブ
ランケットの低分子シロキサンがガラス、及び着色層表
面に転写したためシロキサンの汚染膜が形成され塗布液
に対するぬれ性が極端に低下したことに起因すると推測
される。 【００４３】ＵＶオゾン処理１ｍｉｎ、３ｍｉｎ（試料
２、３）のサンプルも、程度の差はあるが、基板上の汚
染が取り除き切れずに、保護層の塗布性が不良で、欠陥
が多く発生している。また、保護層が塗布可能であった
部分でも保護層と下地の着色層の密着性が不良で、その
ためＩＴＯ膜形成後の信頼性試験の結果ＩＴＯ表面にし
わが発生している。 【００４４】ＵＶオゾン処理５ｍｉｎ、１０ｍｉｎ（試
料４、５）では、処理により、基板上の汚染がほぼ取り
除かれたために、保護層の塗布性も良好で、また、保護
層と下地のブラックマトリックス層、着色層及びその周
囲のガラス露出部分との密着性も良好でカラーフィルタ
としての信頼性も充分で実用に供するものであった。 【００４５】ＵＶオゾン処理２０ｍｉｎ（試料６）で
は、汚染は充分に取り除かれているため、保護層の塗布
性という観点からは、欠陥は生じなかった。しかし、処
理時間が長過ぎ、有機物（アクリル系ポリマー）である
着色層がＵＶ光によりダメージを受け脆くなったため、
その結果ＩＴＯ形成後の信頼性試験で、ＩＴＯのしわが
発生してしまった。 【００４６】以上の結果より、本実験の条件において
は、保護層形成前の５ｍｉｎ以上２０ｍｉｎ未満のＵＶ
オゾン処理を行うことにより、必要にして充分な信頼性
を有するカラーフィルタが得られることが分かった。 【００４７】 【発明の効果】以上詳述したように、本発明によれば基
板上に形成された着色層及びブラックマトリックス層を
覆うように設けられた保護層は、予めＵＶオゾン処理を
行った後に形成したものであり、上記ＵＶオゾン処理に
より、保護層形成領域と保護層樹脂の塗布液とのぬれ性
が良好となり、保護層と他の層との密着性が高くなり、
カラーフィルタの信頼性が向上する。また、溶剤洗浄に
より保護層形成前の処理を行っていた従来の方法に比
べ、ＵＶオゾン処理法は、地球環境に対する影響も極め
て小さく、将来の環境基準にも充分対応可能と思われ
る。
特に構成層間の密着性が高く耐久性に優れたカラーフィ
ルタに関する。 【０００２】 【従来の技術】近年、フラットディスプレーとして、モ
ノクロあるいはカラーの液晶ディスプレイが注目されて
いる。液晶ディスプレイには、３原色の制御を行うため
にアクティブマトリックス方式および単純マトリックス
方式とがあり、いずれの方式においてもカラーフィルタ
が用いられている。そして、カラーの液晶ディスプレイ
は構成画素部を３原色（Ｒ，Ｇ，Ｂ）とし、液晶の電気
的スイッチングにより３原色の各光の透過を制御してカ
ラー表示を行うものである。 【０００３】このカラーフィルタは、透明基板上に各着
色層と保護層と透明電極（ＩＴＯ）を形成して構成され
ている。これらの各層の中で保護層は、前記着色層をセ
ル組み工程中での各種溶媒処理等から保護し、またセル
組み後液晶中に着色層から不純物が溶出するのを防ぐ役
割を担っている。加えて、透明電極（ＩＴＯ）をスパッ
タにより形成中に、高温とＩＴＯの応力歪みに耐えて、
クラックやしわが発生しないことが必要である。さら
に、保護層は、着色層表面の凹凸（±０．３〜１．０μ
ｍ）を覆い、カラーフィルタ表面を±０．１μｍ以下の
平滑面にする機能が必要である。 【０００４】保護層は、通常光硬化性あるいは、熱硬化
性の樹脂を溶媒等で希釈してスピンコート法で塗布、形
成する。このとき、着色層及びその周囲のガラス表面が
露出している部分の表面が、清浄な状態になっていなけ
ればならない。仮に、保護層塗布前に着色層及びその周
辺部のガラス表面露出部分が汚染されていると、スピン
コート時に溶媒で希釈された保護膜樹脂をはじき、保護
層にピンホールを生じ、保護層としての機能の喪失や、
保護層表面の平滑性が劣化の原因となる。また、比較的
軽度の汚染であって、保護層の下地（着色層及びその周
囲のガラス露出部分）に対する密着性の低下が生じ、透
明電極膜（ＩＴＯ）形成後に、ＩＴＯの応力歪みに保護
層が耐えられず、ＩＴＯのしわ、クラックを生じたり、
セル組み工程中に保護層が剥離したりする。 【０００５】このような理由により、保護層塗布前に、
着色層及びその周囲のガラス露出部は、完璧に汚染が取
り除かれている必要があり、従って、保護層塗布前の着
色層が形成済みのガラス基板の洗浄状態の良否は、極め
て大きな意味を持つ。 【０００６】従来においては、トリクレン等の溶媒を使
い、保護層形成前に、着色層を形成したガラス基板の溶
媒超音波洗浄等を行ない、ガラス基板の汚染を取り除い
ていて、カラーフィルタを形成した。 【０００７】 【発明が解決しようとする課題】トリクレン等の溶媒に
よる超音波洗浄法の洗浄力はきわめて強力であり、保護
層のピンホール欠陥、密着性不良の原因となるガラス基
板の汚染をほとんど除去することが可能であった。 【０００８】しかし、近年、地球環境に対する影響の問
題がクローズアップされつつあり、多量の溶媒を使用し
揮発した溶媒が大気中に放出される恐れの強い上記溶媒
による超音波洗浄法は問題視されている。従って、将来
の環境基準をクリアーし、地球環境に対するダメージを
最小限に抑えるため、現在においては、各種溶媒洗浄は
逐次より環境への影響の少ない水系の界面活性剤洗浄に
きりかわりつつある。 【０００９】ところが、水系の界面活性剤洗浄法は、洗
浄力において、溶媒洗浄法に大きく劣り、非水溶性の油
性系の汚れや高分子樹脂系の汚れがおとしきれず、シリ
コーン系の汚染に至ってはまったく洗浄不能となってし
まい、保護層のピンホール欠陥、密着性不良の原因とな
るという問題があった。 【００１０】本発明は、上述のような事情を考慮してな
されたものであり、溶媒洗浄以上の洗浄力を持ち、しか
も溶媒を使用しないことにより、地球環境への影響の少
ない洗浄が可能で、かつ、層構成間の密着性が高く耐久
性に優れたカラーフィルタを提供することを目的とす
る。 【００１１】 【課題を解決するための手段】このような目的を達成す
るために、本発明は、基板と、該基板上に形成された着
色層およびブラックマトリックスと、前記着色層と前記
ブラックマトリックスとを覆うように設けられた保護層
とを備え、前記保護層は、前記着色層と前記ブラックマ
トリックスとを熱処理し、さらに前記熱処理後の着色層
とブラックマトリックスにおいて前記保護層が形成され
るべき保護層形成領域の２−エトキシエタノールに対す
る接触角が７°以下となるようにＵＶオゾン処理を行っ
た後に形成されたものであるような構成とした。 【００１２】 【作用】ガラス基板上に形成されたブラックマトリック
ス層および着色層を覆うようにして設けられた保護層
は、予めＵＶオゾン処理を行った後に形成する。上記の
ＵＶオゾン処理は、水系の界面活性剤洗浄では、除去不
可能なシリコーン系の汚染も除去することができる。こ
の処理により、保護層形成時のピンホール欠陥発生率を
大幅に減少することが可能であり、また保護層とブラッ
クマトリックス層、着色層およびその周囲のガラス表面
露出部との密着性も大きく向上し、ＩＴＯのしわやクラ
ック欠陥の発生を防止し、セル組み工程中の保護層の剥
離も防ぐことが可能となる。また、溶媒洗浄工程を無く
すことが出来るので、地球環境への影響も最小限に抑え
ることが出来る。 【００１３】 【実施例】以下、本発明の実施例について図面を参照し
て説明する。図１は、本発明のカラーフィルタを使用し
たアクティブマトリックス方式による液晶ディスプレイ
（ＬＣＤ）の一例を示す斜視図であり、図２は同じく概
略断面図である。図１および図２において、ＬＣＤ１は
カラーフィルタ１０と透明ガラス基板２０とをシール材
３０を介して対向させ、その間に捩れネマティック（Ｔ
Ｎ）液晶からなる厚さ約５〜１０μｍ程度の液晶層４０
を形成し、さらに、カラーフィルタ１０と透明ガラス基
板２０の外側に偏光板５０，５１が配設されて構成され
ている。 【００１４】図３はカラーフィルタ１０の拡大部分断面
図である。図３においてカラーフィルタ１０は、透明基
板１３上にブラックマトリックス１４を形成したブラッ
クマトリックス基板１２と、このブラックマトリックス
基板１２のブラックマトリックス１４間に形成された着
色層１６と、このブラックマトリックス１４と着色層１
６を覆うように設けられた保護層１８および透明電極１
９を備えている。このカラーフィルタ１０は透明電極１
９が液晶層４０側に位置するように配設されている。そ
して、着色層１６は赤色パターン１６Ｒ、緑色パターン
１６Ｇ、青色パターン１６Ｂからなり、各着色パターン
の配列は図１に示されるようにモザイク配列となってい
る。尚、着色パターンの配列はこれに限定されるもので
はなく、三角配列、ストライプ配列等としてもよい。 【００１５】また、透明ガラス基板２０上には表示電極
２２が各着色パターン１６Ｒ、１６Ｇ、１６Ｂに対応す
るように設けられ、各表示電極２２は薄膜トランジスタ
（ＴＦＴ）２４を有している。また、各表示電極２２間
にはブラックマトリックス１４に対応するように走査線
（ゲート電極母線）２６ａとデータ線２６ｂが配設され
ている。 【００１６】このようなＬＣＤ１では、各着色パターン
１６Ｒ、１６Ｇ、１６Ｂが画素を構成し、偏光板５１側
から照明光を照射した状態で各画素に対応する表示電極
をオン、オフさせることで液晶層４０がシャッタとして
作動し、着色パターン１６Ｒ、１６Ｇ、１６Ｂのそれぞ
れの画素を光が透過してカラー表示が行われる。 【００１７】カラーフィルタ１０を構成するブラックマ
トリックス基板１２の透明基板１３としては、石英ガラ
ス、低膨張ガラス、ソーダライムガラス等の可撓性のな
いリジット材、あるいは透明樹脂フィルム、光学用樹脂
板等の可撓性を有するフレキシブル材等を用いることが
できる。このなかで、特にコーニング社製７０５９ガラ
スは、熱膨脹率の小さい素材であり寸法安定性および高
温加熱処理における作業性に優れ、また、ガラス中にア
ルカリ成分を含まない無アルカリガラスであるため、ア
クティブマトリックス方式によるＬＣＤ用のカラーフィ
ルタに適している。 【００１８】ここで、本発明のカラーフィルタ１０の製
造例を図４を参照して説明する。図４に示される例にお
いて、先ず透明基板１３上にブラックマトリックス１４
を形成したブラックマトリックス基板１２の赤色パター
ン１６Ｒを形成すべき位置に赤色インキＲを印刷する
（図４（Ａ））。この印刷は、例えば、赤色の着色層に
対応した凹部を備えた凹版とブランケットとを用いて凹
版オフセット印刷により行うことができる。 【００１９】同様にして、ブラックマトリックス基板１
２の緑色パターン１６Ｇを形成すべき位置に緑色インキ
Ｇを印刷し、青色パターン１６Ｂを形成すべき位置に青
色インキＢを印刷する（図４（Ｂ））。 【００２０】次に、赤色インキＲ、緑色インキＧ、青色
インキＢを硬化させて、各着色パターン１６Ｒ、１６
Ｇ、１６Ｂからなる着色層１６を基板上に形成する（図
４（Ｃ）。 【００２１】上記のようにして着色層１６を形成した
後、ブラックマトリックス１４と着色層１６を覆うよう
に保護層１８を形成する。本発明のカラーフィルタの保
護層は、保護層形成領域にＵＶオゾン処理を施した後に
形成されたものであることを特徴とする。 【００２２】ＵＶオゾン処理の原理は、以下の通りであ
る。 【００２３】 【数１】 上記の反応によって発生した酸素ラジカルが、ガラス基
板上の不純物と反応し、洗浄効果を発現する。また、短
波長紫外線をガラス基板に照射することにより、不純物
が励起、分解され、酸素ラジカルとの反応を促進させ
る。 【００２４】ここで、好適なＵＶオゾン処理の条件を以
下に示す。 照射光分光特性：184.9nm 、253.7nm の輝線を持つ短波
長紫外線 照射光強度 ： 5〜30mW／cm2 照射時間 ： 5〜20min 使用ガス ：酸素、窒素（不活性ガス）混合気体 酸素含有率 ：20〜 100% ガス流量 ： 0〜10ml/min 温 度 ：15〜50℃ このようなオゾン処理により、溶媒で希釈された保護層
樹脂に対するぬれが向上し、スピンコート時の保護層樹
脂塗布性が大きく改善される。ＵＶオゾン処理時間に対
するガラスの洗浄効果を図５に示す。そのときの各条件
を以下に示す。 【００２５】１）ＵＶオゾン処理条件 照射光分光特性：184.9nm 、253.7nm の輝線を持つ短波
長紫外線 照射光強度 ：14mW／cm2 照射時間 ：0,1,3,5,10,20min 使用ガス ：酸素、窒素混合気体 酸素含有率 ：20% ガス流量 ：0ml/min 温 度 ：30℃ ２）試料ガラス作製条件 試料ガラスは、ＵＶオゾン処理前に、最も洗浄除去も困
難な物質の一つである低分子量シロキサ（シリコーン）
皮膜を、下記の方法で形成したものを使用した。 【００２６】（シリコーン皮膜形成条件）溶剤超音波洗
浄したガラスに、重合度４〜２０の低分子量シロキサン
８０００ｐｐｍ含むシリコーンゴムを１０kg／cm2 の圧
力で１秒圧着してシリコーン皮膜形成。 【００２７】３）ＵＶオゾン処理による洗浄度測定方法 保護層樹脂塗布溶媒（スピンコート時の希釈溶媒）であ
る、２−エトキシエタノールを使い、上記試料ガラスの
接触角を測定し、試料表面の洗浄度を調べた。通常試料
ガラスの表面が清浄であるほど、２−エトキシエタノー
ルに対する接触角が小さくなる。接触角は、液滴下１ｍ
ｉｎ後に測定した。ちなみに、上記試料の低分子量シロ
キサン皮膜形成前の溶剤洗浄したガラス表面の接触角
は、７°であった。 【００２８】図５に示されるように、上記条件で５ｍｉ
ｎ以上ＵＶオゾン処理を行うことにより、低分子量シロ
キサン皮膜形成前の溶媒洗浄を行ったガラスと同様な２
−エトキシエタノールに対する塗れ性（洗浄度）が得ら
れていることがわかる。ただし、グラフからは分からな
いが２０ｍｉｎより長くＵＶオゾン処理を行うと、着色
層がＵＶ光によりダメージを受け、ＩＴＯ形成後に欠陥
を生じる原因となる。これらの具体的な実施例は、後に
示す。 【００２９】以上のようなＵＶオゾン処理により、保護
層形成領域の保護層樹脂の塗布溶媒に対する接触角が７
°以下となり、スピンコート時の保護膜樹脂の塗れ性が
向上し、ピンホール欠陥が減少し、また、保護層樹脂硬
化後の保護層と下地のブラックマトリックス層、着色層
及びその周囲の基板ガラス露出部との密着性が向上す
る。 【００３０】保護層１８は、アクリル樹脂、エポキシ樹
脂、ポリイミド樹脂等の透明樹脂を用いて形成する（図
４（Ｅ））。保護層１８の厚さは０．５〜５０μｍ程度
が望ましい。このような保護層１８により、カラーフィ
ルタ１０の表面平滑化、信頼性の向上、および液晶層４
０への汚染防止等が可能となる。 【００３１】次に、上記保護層１８上に透明電極（ＩＴ
Ｏ）１９を形成する（図４（Ｆ））。この透明電極１９
は、酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）膜を、蒸着法、スパ
ッタ法等の公知の方法により形成することができ、厚さ
は、２００〜２０００Å程度が望ましい。 【００３２】次に、具体的な実施例を示して本発明を更
に詳細に説明する。 （実施例）透明基板としてコーニング社製７０５９ガラ
ス（厚さ＝１．１ｍｍ）を用い、スピンコート法（回転
数＝１６００r.p.m.）により下記組成の感光性レジスト
を透明基板上に塗布し、その後、７０℃、１０分間の条
件で乾燥（プレベーク）して感光性レジスト層（厚さ＝
０．６μｍ）を形成した。 【００３３】 （感光性レジストの組成） ・ポリビニルアルコール４．４７重量％水溶液 （日本合成化学工業製ゴーセナールＴ−３３０） …1000重量部 ・ジアゾ樹脂５重量％水溶液 （シンコー技研製Ｄ−０１１） …57.1重量部 次に、感光性レジスト層に対してブラックマトリックス
用のフォトマスク（線幅＝４５μｍ）を介して露光を行
った。露光装置は大日本スクリーン（株）製のプロキシ
ミティー露光装置を使用し、露光量は５０ｍＪ／ｃｍ2
とした。その後、常温の水を用いてシャワー現像（現像
時間＝４５秒間）を行い、その後、１００℃、３０分間
の熱処理（ポストベーク）を施してブラックマトリック
ス用の線幅４５μｍのレリーフ画像を形成した。 【００３４】次に、この透明基板を塩化パラジウム水溶
液（日本カニゼン製レッドシューマー、５倍希釈液）に
４分間浸漬し、上記のレリーフ画像を触媒含有レリーフ
とした。 【００３５】その後、この基板をホウ素系還元剤を含む
常温のニッケルメッキ液（奥野製薬製ニッケルメッキ液
トップケミアロイＢ−１）に４分間浸漬して黒色レリー
フを形成した後、２００℃、１時間の熱処理を施してブ
ラックマトリックス基板とした。 【００３６】次に、上記のブラックマトリックス基板に
下記のように着色層を形成した。すなわち、版深６μ
ｍ、幅１１０μｍのストライプ状の凹部を有する版、及
びシリコーンブランケットを用い、凹版オフセット印刷
法により、ブラックマトリックス基板上のブラックマト
リックス間に、下記インキ組成物Ｓ−１，Ｓ−２，Ｓ−
３をこの順序で印刷し、それぞれブルー、グリーン、レ
ッドの１１０μｍ幅のストライプパターンを印刷形成し
た。その後、前記基板を２００℃で３０分間加熱するこ
とにより、インキ組成物を熱硬化させて膜厚２〜３μｍ
の着色層を得た。 【００３７】 インキ組成物（Ｓ−１） 顔 料 ・リオノールブルーＥＳ （東洋インキ製造（株）C.I.Pigment Blue 15:6)…14.2重量部 ・リオノゲンバイオレットＲＬ （東洋インキ製造（株）C.I.Pigment Violet 23)… 0.8重量部 ワニス ・ポリエステルアクリレート樹脂 （東亜合成化学工業（株）アロニックス M7100）…52.5重量部 ・ジアリルフタレートプレポリマー （ダイソー（株）ダップＡ） …22.5重量部 モノマー ・トリメチロールプロパントリアクリレートモノマー …10.0重量部 インキ組成物（Ｓ−２） 顔 料 ・リオノールグリーン２ＹＳ （東洋インキ製造（株）C.I.Pigment Green 36）…15.0重量部 ・セイカファーストイエロー２７００ （大日精化（株）C.I.Pigment Yellow 83) … 5.0重量部 ワニス ・ポリエステルアクリレート樹脂 （東亜合成化学工業（株）アロニックス M7100）…47.6重量部 ・ジアリルフタレートプレポリマー （ダイソー（株）ダップＡ） …20.4重量部 モノマー ・トリメチロールプロパントリアクリレートモノマー …12.0重量部 インキ組成物（Ｓ−３） 顔 料 ・クロモフタルレッドＡ３Ｂ （チバ・ガイギー製 C.I.Pigment Red 177) …16.0重量部 ・セイカファストイエロー２７００ （大日精化工業（株）C.I.Pigment Yellow 83) … 4.0重量部 ワニス ・ポリエステルアクリレート樹脂 （東亜合成化学工業（株）アロニックス M7100）…46.2重量部 ・ジアリルフタレートポリマー （ダイソー（株）ダップＡ） …19.8重量部 モノマー ・トリメチロールプロパントリアクリレートモノマー …14.0重量部 次に、着色層とブラックマトリックス層を覆うように保
護層を形成した。 【００３８】保護層の形成は、まず、下記の条件で処理
時間を０，１，３，５，１０，２０ｍｉｎと６種類変え
たサンプルを作った。 （ＵＶオゾン処理条件） ＵＶランプ ：KYOKKO製 SGL-900HU オゾン 照射光分光特性：184.9nm 、253.7nm の輝線を持つ短波
長紫外線 照射光強度 ：14mW／cm2 照射時間 ：0,1,3,5,10,20min 使用ガス ：酸素、窒素混合系 酸素含有率 ：20% ガス流量 ：0ml/min 温 度 ：30℃ 次に、下記に示される組成の塗布液をスピンコート法
（回転数＝１５００rpm）により上記のオゾン処理を施
した６種類のサンプルに塗布した。 【００３９】 （保護層形成用の塗布液組成） ・光硬化性アクリレートオリゴマー（ｏ−クレゾールノボラックエポキシ アクリレート（分子量1500〜2000） … ３５重量部 ・クレゾールノボラック型エポキシ樹脂 … １５重量部 ・多官能重合性モノマー（ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート （日本化薬（株） DPHA） … ５０重量部 ・重合開始剤（チバガイギー製 イルガキュアー） … ２重量部 ・エポキシ硬化剤（ゼネラルエレクリトック製 UVE1014)… ２重量部 ・２−エトキシエタノール …２００重量部 そして、この塗布膜に対して大日本スクリーン（株）製
のブロキシミティ露光装置を使用し、露光量１５mJ／cm
2 で全面露光を行った。その後、１８０℃、６０min の
プリベークを行った。上記の条件で塗布した保護層の硬
化後の厚さは、通常（汚染のない状態）で２．０μｍと
なる。 【００４０】さらに、保護層を形成した６種類のサンプ
ルの保護層上にスパッタリング法により０．４μｍのＩ
ＴＯ層を形成し、試料１〜６を得た。次に、上記サンプ
ルを温度２５０℃で、１時間加熱し、カラーフィルタと
しての信頼性テストを行った。その結果を表１に示す。 【００４１】 【表１】 【００４２】（信頼性試験結果）表１に、信頼性試験結
果を示す。ＵＶオゾン処理０ｍｉｎ（試料１）のサンプ
ルは、保護層形成時のスピンコート法で保護層樹脂を塗
布した段階で、塗布液を完全にはじいてしまい、保護層
を形成することが出来なかった。これは、着色層形成時
にシリコーン製のブランケットで、印刷を行った時、ブ
ランケットの低分子シロキサンがガラス、及び着色層表
面に転写したためシロキサンの汚染膜が形成され塗布液
に対するぬれ性が極端に低下したことに起因すると推測
される。 【００４３】ＵＶオゾン処理１ｍｉｎ、３ｍｉｎ（試料
２、３）のサンプルも、程度の差はあるが、基板上の汚
染が取り除き切れずに、保護層の塗布性が不良で、欠陥
が多く発生している。また、保護層が塗布可能であった
部分でも保護層と下地の着色層の密着性が不良で、その
ためＩＴＯ膜形成後の信頼性試験の結果ＩＴＯ表面にし
わが発生している。 【００４４】ＵＶオゾン処理５ｍｉｎ、１０ｍｉｎ（試
料４、５）では、処理により、基板上の汚染がほぼ取り
除かれたために、保護層の塗布性も良好で、また、保護
層と下地のブラックマトリックス層、着色層及びその周
囲のガラス露出部分との密着性も良好でカラーフィルタ
としての信頼性も充分で実用に供するものであった。 【００４５】ＵＶオゾン処理２０ｍｉｎ（試料６）で
は、汚染は充分に取り除かれているため、保護層の塗布
性という観点からは、欠陥は生じなかった。しかし、処
理時間が長過ぎ、有機物（アクリル系ポリマー）である
着色層がＵＶ光によりダメージを受け脆くなったため、
その結果ＩＴＯ形成後の信頼性試験で、ＩＴＯのしわが
発生してしまった。 【００４６】以上の結果より、本実験の条件において
は、保護層形成前の５ｍｉｎ以上２０ｍｉｎ未満のＵＶ
オゾン処理を行うことにより、必要にして充分な信頼性
を有するカラーフィルタが得られることが分かった。 【００４７】 【発明の効果】以上詳述したように、本発明によれば基
板上に形成された着色層及びブラックマトリックス層を
覆うように設けられた保護層は、予めＵＶオゾン処理を
行った後に形成したものであり、上記ＵＶオゾン処理に
より、保護層形成領域と保護層樹脂の塗布液とのぬれ性
が良好となり、保護層と他の層との密着性が高くなり、
カラーフィルタの信頼性が向上する。また、溶剤洗浄に
より保護層形成前の処理を行っていた従来の方法に比
べ、ＵＶオゾン処理法は、地球環境に対する影響も極め
て小さく、将来の環境基準にも充分対応可能と思われ
る。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明のカラーフィルタを使用したアクティブ
マトリックス方式による液晶ディスプレイの一例を示す
斜視図である。 【図２】図１に示される液晶ディスプレイの概略断面図
である。 【図３】図１に示される液晶ディスプレイに用いられて
いるカラーフィルタの拡大部分断面図である。 【図４】本発明のカラーフィルタの製造の一例を説明す
るための工程図である。 【図５】ＵＶオゾン処理時間に対するガラス洗浄効果を
示す図である。 【符号の説明】 １０…カラーフィルタ １２…ブラックマトリックス基板 １３…透明基板 １４…ブラックマトリックス １６…着色層 １６Ｒ，１６Ｇ，１６Ｂ…着色パターン １８…保護層 １９…透明電極
マトリックス方式による液晶ディスプレイの一例を示す
斜視図である。 【図２】図１に示される液晶ディスプレイの概略断面図
である。 【図３】図１に示される液晶ディスプレイに用いられて
いるカラーフィルタの拡大部分断面図である。 【図４】本発明のカラーフィルタの製造の一例を説明す
るための工程図である。 【図５】ＵＶオゾン処理時間に対するガラス洗浄効果を
示す図である。 【符号の説明】 １０…カラーフィルタ １２…ブラックマトリックス基板 １３…透明基板 １４…ブラックマトリックス １６…着色層 １６Ｒ，１６Ｇ，１６Ｂ…着色パターン １８…保護層 １９…透明電極
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名)
G02B 5/20 101
G02F 1/1335 505
Claims (1)
- (57)【特許請求の範囲】 【請求項１】 基板と、該基板上に形成された着色層お
よびブラックマトリックスと、前記着色層と前記ブラッ
クマトリックスとを覆うように設けられた保護層とを備
え、 前記保護層は、前記着色層と前記ブラックマトリックスとを熱処理し、
さらに前記熱処理後の着色層とブラックマトリックスに
おいて前記保護層が形成されるべき 保護層形成領域の２
−エトキシエタノールに対する接触角が７°以下となる
ようにＵＶオゾン処理を行った後に形成されたものであ
ることを特徴とするカラーフィルタ。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20050593A JP3420799B2 (ja) | 1993-08-12 | 1993-08-12 | カラーフィルタ |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20050593A JP3420799B2 (ja) | 1993-08-12 | 1993-08-12 | カラーフィルタ |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0756014A JPH0756014A (ja) | 1995-03-03 |
| JP3420799B2 true JP3420799B2 (ja) | 2003-06-30 |
Family
ID=16425434
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP20050593A Expired - Lifetime JP3420799B2 (ja) | 1993-08-12 | 1993-08-12 | カラーフィルタ |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3420799B2 (ja) |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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| US7588795B2 (en) | 2000-08-24 | 2009-09-15 | Samsung Mobile Display Co., Ltd. | Manufacturing method of OLED display and apparatus for manufacturing the OLED display |
-
1993
- 1993-08-12 JP JP20050593A patent/JP3420799B2/ja not_active Expired - Lifetime
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|---|---|
| JPH0756014A (ja) | 1995-03-03 |
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