JPH0897352A - 電子部品内蔵のマルチチップモジュール - Google Patents

電子部品内蔵のマルチチップモジュール

Info

Publication number
JPH0897352A
JPH0897352A JP6235149A JP23514994A JPH0897352A JP H0897352 A JPH0897352 A JP H0897352A JP 6235149 A JP6235149 A JP 6235149A JP 23514994 A JP23514994 A JP 23514994A JP H0897352 A JPH0897352 A JP H0897352A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
ceramic
cap
multilayer wiring
wiring
opening
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP6235149A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2573809B2 (ja
Inventor
Takeshi Yamamoto
武 山本
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
NEC Kyushu Ltd
Original Assignee
NEC Kyushu Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by NEC Kyushu Ltd filed Critical NEC Kyushu Ltd
Priority to JP6235149A priority Critical patent/JP2573809B2/ja
Priority to KR1019950033153A priority patent/KR0158783B1/ko
Priority to US08/537,248 priority patent/US5633783A/en
Publication of JPH0897352A publication Critical patent/JPH0897352A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP2573809B2 publication Critical patent/JP2573809B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00—Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/52—Arrangements for conducting electric current within the device in operation from one component to another, i.e. interconnections, e.g. wires, lead frames
    • H01L23/538—Arrangements for conducting electric current within the device in operation from one component to another, i.e. interconnections, e.g. wires, lead frames the interconnection structure between a plurality of semiconductor chips being formed on, or in, insulating substrates
    • H01L23/5385—Assembly of a plurality of insulating substrates
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00—Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/52—Arrangements for conducting electric current within the device in operation from one component to another, i.e. interconnections, e.g. wires, lead frames
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L25/00—Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof
    • H01L25/03—Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof all the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/00, or in a single subclass of H10K, H10N, e.g. assemblies of rectifier diodes
    • H01L25/04—Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof all the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/00, or in a single subclass of H10K, H10N, e.g. assemblies of rectifier diodes the devices not having separate containers
    • H01L25/065—Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof all the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/00, or in a single subclass of H10K, H10N, e.g. assemblies of rectifier diodes the devices not having separate containers the devices being of a type provided for in group H01L27/00
    • H01L25/0655—Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof all the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/00, or in a single subclass of H10K, H10N, e.g. assemblies of rectifier diodes the devices not having separate containers the devices being of a type provided for in group H01L27/00 the devices being arranged next to each other
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/48—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/4805—Shape
    • H01L2224/4809—Loop shape
    • H01L2224/48091—Arched
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/48—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/481—Disposition
    • H01L2224/48151—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
    • H01L2224/48221—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
    • H01L2224/48225—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation
    • H01L2224/48227—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation connecting the wire to a bond pad of the item
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/49—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of a plurality of wire connectors
    • H01L2224/491—Disposition
    • H01L2224/49105—Connecting at different heights
    • H01L2224/49109—Connecting at different heights outside the semiconductor or solid-state body
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L24/00—Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
    • H01L24/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L24/48—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L24/00—Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
    • H01L24/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L24/49—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of a plurality of wire connectors
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/0001—Technical content checked by a classifier
    • H01L2924/00014—Technical content checked by a classifier the subject-matter covered by the group, the symbol of which is combined with the symbol of this group, being disclosed without further technical details
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/10—Details of semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/11—Device type
    • H01L2924/14—Integrated circuits
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/15—Details of package parts other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/151—Die mounting substrate
    • H01L2924/153—Connection portion
    • H01L2924/1531—Connection portion the connection portion being formed only on the surface of the substrate opposite to the die mounting surface
    • H01L2924/15312—Connection portion the connection portion being formed only on the surface of the substrate opposite to the die mounting surface being a pin array, e.g. PGA
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/15—Details of package parts other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/151—Die mounting substrate
    • H01L2924/153—Connection portion
    • H01L2924/1532—Connection portion the connection portion being formed on the die mounting surface of the substrate
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/15—Details of package parts other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/161—Cap
    • H01L2924/1615—Shape
    • H01L2924/16195—Flat cap [not enclosing an internal cavity]
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/30—Technical effects
    • H01L2924/301—Electrical effects
    • H01L2924/30107—Inductance

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Cooling Or The Like Of Semiconductors Or Solid State Devices (AREA)
  • Production Of Multi-Layered Print Wiring Board (AREA)
  • Combinations Of Printed Boards (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】パッケージのキャップに多層配線による内部配
線を有し、かつ周辺電子部品を搭載することにより半導
体チップの放熱効果を向上できる。 【構成】基板１は一方の面に所定の開口部を有し、この
開口部がキャップ２に接合する。開口部底面には放熱金
属板４が外側から接着され、放熱金属板４上に半導体チ
ップ３が搭載され、開口部の周端面には入出力ピン７が
固着されて多層配線を介して開口部内のパッド５に接続
されている。キャップ２は基板１の開口部と接合する周
縁部に入出力ピン７が挿入されるピン孔が穿孔され、ピ
ン孔の底部に接続パッドが配設される。基板１と対向す
るキャップ面には周辺電子部品９が配置され、これらの
各端子はキャップ面に配設された接続パッドを介して内
部の多層配線に接続される。反対面には入出力バンプ８
が接続されバンプ８と所定の接続パッドとがそれぞれ接
続されている。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は電子部品内蔵のマルチチ
ップモジュールに係わり、特にセラミック多層配線キャ
ップに複数の電子部品を搭載したマルチチップモジュー
ルに関する。
【０００２】
【従来の技術】従来のこの種の電子部品内蔵のマルチチ
ップモジュールは、例えばマルチチップモジュールの断
面図を示した図４を参照すると、セラミック多層配線基
板１と、この基板に半導体チップ３の裏面をロー付けで
接着して搭載した放熱用金属板４と、半導体チップ３の
入出力配線接続用パッドと基板内の配線とを接続するボ
ンディングパッド５と、このボンディングパッド５と基
板内の配線を介して接続される周辺回路の電子部品（以
下、周辺電子部品と称す）９を搭載するための接続パッ
ド１２と、半導体チップ３および周辺電子部品の入出力
信号をボンディングパッド５およびボンディングパッド
５を介して外部に入出力するための入出力ピン７とを有
し、基板１には半導体チップ３を搭載するための開孔部
が設けられ、この開孔部には金属キャップ１４が装着さ
れるとともに、放熱用金属板４の半導体チップ３搭載面
の反対面には放熱用金属板４の放熱効果を高めるために
接着されたヒートシンク１１を備えて構成されている。
【０００３】放熱用金属板４は基板１とヒートシンク１
１とで挟まれた状態にあり、放熱用金属板４の厚みによ
て生じた間隙部の基板上面に周辺電子部品９が搭載され
るようになっている。
【０００４】また開口部の大きさは、金属キャップ１４
取り付け面から放熱用金属板４取り付け面の方向に所定
の所定の深さで段階的に小さくなり、その階段部分にボ
ンディングパッド５が配置されている。
【０００５】従来のこの種の電子部品内蔵のマルチチッ
プモジュールの他の一例が、特開平１−３０８０５７号
公報に記載されている。同公報記載のマルチチップモジ
ュールを断面図で示した図５（ａ）およびハンダバンプ
による接続パッド部分の断面図を示した図５（ｂ）を参
照すると、第１のセラミック基板１５と第２のセラミッ
ク多層基板（前述した従来例のセラミック多層配線キャ
ップに相当する）１６を重ね合せた構造を有し、第１の
セラミック基板１５は第２のセラミック多層基板１６と
対向する面に複数の開口部を設け、これら開口部の大き
さは所定の深さで２段階になり、その階段部分にボンデ
ィングパッド５が配置され底部に半導体チップ３が搭載
されるとともに、ボンディングパッド５と半導体チップ
３のパッドとはワイヤボンディングされている。
【０００６】ボンディングパッド５はスルーホール１７
により第１のセラミック基板１５の開口部周縁部に導出
され、接続パッド１８により第２のセラミック多層基板
１６の内部に配設された多層配線の所定の配線端部の接
続パッド１９にハンダバンプにより接続される。第２の
セラミック多層基板１６の反対面には入出力ピン７が副
数個配設され、多層配線の端部に接続することによって
接続パッド１９に電気的に接続されている。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】上述した従来の一例の
マルチチップモジュールは、基板１とヒートシンク１１
とで挟まれ、放熱用金属板４の厚みによて生じた間隙部
の基板上面に周辺電子部品９が搭載されるため、パッケ
ージの製作工程が長くなる。すなわち従来の工程では、
ダイボンディング→ワイヤボンディング→キャップ封止
→周辺電子部品の取り付け→ヒートシンク付け、のよう
に少なくとも順次に処理する６工程を必要とし、ケース
側の製作工程が完了しなければ周辺電子部品の取り付け
工程に進めない。
【０００８】また、これらの電子部品による発熱のため
放熱に対する設計上の自由度が小さくなる。すなわち放
熱用金属板４とヒートシンク１１取り付け側に電子部品
を搭載するが、そのスペースを確保するために、放熱用
金属板４とヒートシンク１１の大きさの設計に対して制
約を受ける。
【０００９】さらに、基板１の開口部円周部分だけにし
か入出力ピン７が配置できず、したがって全面に碁盤目
のように入出力ピン７を配設して多ピン化に対応できる
ようにするフルグリッドアレイが実現できないため、ピ
ン数が多い場合は適さないという欠点がある。
【００１０】一方、従来の他の一例のマルチチップモジ
ュールは、フルグリッドアレイを実現することは可能で
あるが、第１のセラミック基板１５と第２のセラミック
多層基板１６との間を電気的に接続するのはハンダバン
プ２０を介して行なわれるために、これらの基板の反り
が大きい場合、あるいはハンダバンプ２０の直径が大き
過ぎるか逆に小さ過ぎるときは、電気的接続が確実に行
なわれない場合がある。
【００１１】本発明の目的は、上述した欠点に鑑みなさ
れたものであり、パッケージのキャップに多層配線によ
る内部配線を有し、さらに周辺電子部品を搭載すること
により半導体チップの放熱効果低減できるマルチチップ
モジュールを提供することにある。
【００１２】
【課題を解決するための手段】本発明の電子部品内蔵の
マルチチップモジュールの特徴は、多層構造でかつ一方
面に設けられた入出力端子に所定の多層配線が接続され
たセラミック多層配線キャップと、このセラミック多層
配線キャップの他方面に対向した一方面の周縁部内側に
所定の深さで開けた第１の開口部およびこの開口部より
も深くかつ狭い矩形の第２の開口部からなる少なくとも
２段の段差をもつ凹部が設けられ前記多層配線の端部と
接続するパッド部が前記第２の開口部周縁部に配設され
るとともに、前記第２の開口部底面に搭載された半導体
チップの入出力ピンおよび前記パッドをワイヤボンディ
ングで接続するセラミック多層配線基板とを有し、対向
するそれぞれの前記周縁部が互に接着されることによっ
て前記セラミック多層配線キャップの配線と前記セラミ
ック多層配線基板の配線とが接続される電子部品内蔵の
マルチチップモジュールにおいて；前記セラミック多層
配線キャップの前記他方面は、前記第１の開口部に対向
する面内に前記半導体チップの周辺回路の電子部品が搭
載され、これら電子部品が導電性の接続ピンを用いた接
続手段により前記セラミック多層配線基板の配線と接続
されるとともにこれらのピンおよび前記周辺回路の電子
部品の入出力配線のうち所定の配線が前記入出力端子に
接続されることにある。
【００１３】また、前記接続手段は、前記セラミック多
層配線基板の前記多層配線が前記導電性の接続ピンに接
続され、これらのピンが接する前記セラミック多層配線
キャップの前記他方面にこれらのピンと嵌合するように
ピン孔が穿孔され、これらピン孔の底部には前記電子部
品および前記入出力端子に接続される前記多層配線が接
続された導電性の接続パッドが配設されてもよい。
【００１４】さらに、前記ピン孔は、前記底部および孔
内面が導電性のパッドを形成すること、および前記孔内
面が導電性でかつ前記一方面まで貫通したスルーホール
を形成することの少なくとも一方を備えるように形成さ
れてもよい。
【００１５】さらにまた、前記セラミック多層配線キャ
ップの前記他方面に前記周辺回路の電子部品全体を囲む
ように配置されるとともに前記第１の開口部の深さより
も浅くかつ内面の複数個所に接して嵌合するようにセラ
ミックで形成した枠を接着してもよい。
【００１６】
【実施例】次に、本発明の実施例について図面を参照し
ながら説明する。
【００１７】図１は本発明の第１の実施例を示すマルチ
チップモジュールの断面図であり、図２（ａ）はセラミ
ック多層配線キャップに搭載される周辺電子部品の端子
接続用の接続パッド部分の断面図である。図２（ｂ）は
半導体チップ搭載用の基板の配線とセラミック多層配線
キャップの多層配線を電気的に接続する入出力ピン部分
の断面図である。
【００１８】図１を参照すると、公知の技術でアルミナ
等のグリーンシートを積層して焼成されたセラミック多
層配線基板１と、セラミック多層配線キャップ２と、半
導体チップ３を搭載する放熱用金属板４とを備え、セラ
ミック多層配線基板１は一方面に所定の大きさの第１の
開口部とこの開口部よりも小さい第２の開口部とこの開
口部よりも小さい第３の開口部とこの開口部よりも小さ
い第４の開口部とを有し、これらの開口部の深さはアル
ミナシートの積層数により決まる。
【００１９】第１の開口部がセラミック多層配線キャッ
プ２に接合し、第２および第３の開口部は半導体チップ
３の入出力パッドとセラミック多層配線基板１の配線と
をワイヤボンディングするためのボンディングパッド５
が配設される。
【００２０】第４の開口部は放熱金属板４が外側から公
知のロー付け技術を用いて接着され、開口部側の放熱金
属板４上に半導体チップ３が搭載されている。さらに、
第１の開口部の周縁部には入出力ピン７が所定の個数だ
け公知のロー付け技術を用いて固着され、その固着部は
基板内部の多層配線を介して第２および第３の開口部の
ボンディングパッド５に電気的に接続されている。
【００２１】セラミック多層配線キャップ２は、セラミ
ック多層配線基板１と同様な技術により製作される多層
セラミックキャップであり、セラミック多層配線基板１
の第１の開口部の周縁部と接合する周縁部に入出力ピン
７が挿入されて電気的に接続するためのピン孔が所定の
ピン数穿孔されており、このピン孔の底部に接続パッド
１３が配設されている。これらの接続パッド１３はセラ
ミック多層配線キャップ内の多層配線に電気的に接続さ
れている。このピン孔の深さはストッパーの付いたピン
の長さにより決る。このピンは例えば、ピン全長が３．
８ｍｍで、一方のピン先端から２．８ｍｍの位置に直径
１．２ｍｍの鍔状のストッパーを有し、ピンの他方の一
端がこのストッパーの位置までセラミック多層配線板１
に生め込まれ、他のピン先端との高さが揃えられる。
【００２２】セラミック多層配線基板１の第１の開口部
と対向するセラミック多層配線キャップの一方面には周
辺電子部品９が配置され、これらの周辺電子部品９の各
端子はキャップの同一面に配設された接続パッド１２を
介して内部の多層配線に電気的に接続される。電子部品
搭載面の反対面には入出力バンプ８が公知の技術で接続
されており、これらのバンプ８と所定の接続パッド１２
および接続パッド１３とがそれぞれ電気的に接続されて
いる。これらバンプ８は従来のようにピンを用いること
も可能である。
【００２３】放熱用金属板４の他方面にはヒートシンク
１１が接着されており、セラミック多層配線基板１の開
口部周縁部とセラミック多層配線キャップ２の周縁部と
はハンダ等の封止材を用して機密封止されている。
【００２４】この封止材は、セラミック多層配線基板１
およびセラミック多層配線キャップ２の交換をそれぞれ
容易にするためにも、低温で封止可能で、かつそれぞれ
の熱膨張係数の違いによる応力を緩和できる封止用ハン
ダ材料を選択することが望ましい。
【００２５】上述した構造を有する本実施例のマルチチ
ップモヂュールは、セラミック多層配線キャップ２のア
ルミナシートの積層数および内部配線パターン変更する
ことにより、電気的特性に対する設計の自由度を向上さ
せることができる。すなわち、アルミナシートの表面に
はタングステン（Ｗ）が印刷されて電気回路が形成され
る。この電気回路パターンおよびアルミナシートの積層
数を変えることにより、パッケージの電気的特性（例え
ばインダクタンス、キャパシタンス、抵抗）を自由に変
化させることができるのである。
【００２６】なお、上述の説明では半導体チップ３を搭
載する開口部が１つの場合を説明したが、これらの組み
合せを同一基板上において複数組設けてもよい。
【００２７】また、ピン孔は底面に配設された接続パッ
ド１３だけでなくピン孔の内部全面をパッドとなるよう
にしてもよい。
【００２８】さらに、入出力ピン７をセラミック多層配
線キャップ２側に配設し、この入出力ピンと嵌合するピ
ン孔はセラミック多層配線基板１に配設してもよい。
【００２９】さらにまた、ピン孔はその内面が導電性で
あれば反対面まで貫通したスルーホールの形状でもよ
い。このスルーホールのとき以外は入出力バンプ８はセ
ラミック多層配線キャップ２の電子部品搭載面の反体面
全体に渡って碁盤目状に配設できる。
【００３０】本発明の第２の実施例を断面図で示した図
３を参照すると、このマルチチップモヂュールの第１の
実施例との相違点は、セラミック多層配線キャップ２の
電子部品搭載面にセラミック枠２１を配設したことであ
る。その他の構造は第１の実施例同様であるのでここで
の説明は省略する。
【００３１】このセラミック枠２１は第１の開口部の形
状に合せて周辺電子部品９を囲むような形状を有し、そ
の接着は公知のロー付け技術を用いている。
【００３２】このセラミック枠２１を配設することによ
り、セラミック多層配線基板１およびセラミック多層配
線キャップ２を接合する際に、このセラミック枠２１を
位置決めの治具として利用できるので、接続ピン７群が
多数配設されている場合はこれらのピン群をピン孔に挿
入することが容易である。
【００３３】また、セラミック多層配線キャップ２側に
搭載した周辺電子部品等を、セラミック多層配線基板１
と接合するときに破損等と不具合から保護することがで
きる。
【００３４】なお、上述の説明ではセラミック枠２１を
第１の開口部の形状に合せた形状としたが、位置決めの
治具として利用できる形状であれば、例えばＬ字型、コ
の字型（図中点線で示す）等のどのような形状でもよ
い。
【００３５】
【発明の効果】以上説明したように、本発明の電子部品
内蔵のマルチチップモジュールは、セラミック多層配線
キャップの周縁部に穿孔され導電性のパッドを内面に有
するピン孔にセラミック多層配線基板の入出力ピンを挿
入するので、セラミック多層配線キャップおよびセラミ
ック多層配線基板間の電気的接合が確実に行なわれ、か
つ挿入を確実に行なうセラミック枠を備えることができ
るので、セラミック多層配線キャップのピン孔にセラミ
ック多層基板側の入出力ピンを挿入して熱を加えるだけ
で封止ができ、かつセラミック多層基板上面のスペース
に周辺電子部品を搭載しないのでヒートシンクの取り付
けが容易であるから、パッケージの組み立て時の作業性
の向上に寄与する。
【００３６】さらに、セラミック多層配線キャップに半
導体チップの周辺電子部品を搭載するので、セラミック
多層配線基板上面のスペースを有効利用することがで
き、放熱金属板およびヒートシンクの選択自由度が大き
くなる。
【００３７】また、セラミック多層配線キャップの周辺
電子部品搭載面の反対面には、入出力端子を全面に設け
ることができるので、多ピン型のパッケージにも対応で
きる。
【００３８】さらに、セラミック多層配線基板とセラミ
ック多層配線キャップとをそれぞれ独立に組み立てるこ
とができるので、パッケージ製作工程の短縮に寄与す
る。
【００３９】さらにまた、セラミック多層配線基板とセ
ラミック多層配線キャップとを接着するために低温封止
ハンダを用いるので、セラミック多層配線キャップ側に
搭載した周辺電子部品と、セラミック多層配線基板側に
搭載した半導体チップが故障した場合の交換が容易であ
る。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の第１の実施例を示すマルチチップモジ
ュールの断面図である。
【図２】（ａ）図１に示したマルチチップモジュールの
接続パッド１２の部分の断面図である。 （ｂ）図１に示したマルチチップモジュールの接続パッ
ド１１部分の断面図である。
【図３】本発明の第２の実施例を示すマルチチップモジ
ュールの断面図である。
【図４】従来のマルチチップモジュールの一例の断面図
である。
【図５】（ａ）従来のマルチチップモジュールの他の例
の断面図である。 （ｂ）図５（ａ）に示したマルチチップモジュールの接
続パッド１１部分の断面図である。
【符号の説明】
１ セラミック多層配線基板 ２ セラミック多層配線キャップ ３ 半導体チップ ４ 放熱用金属板 ５ ボンディングパッド ６ ボンディングワイヤ ７ 入出力ピン ８ 入出力バンプ ９ 周辺電子部品 １０ 封止ハンダ １１ ヒートシンク １２，１３ 接続パッド ２１ セラミック枠

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 多層構造でかつ一方面に設けられた入出
    力端子に所定の多層配線が接続されたセラミック多層配
    線キャップと、このセラミック多層配線キャップの他方
    面に対向した一方面の周縁部内側に所定の深さで開けた
    第１の開口部およびこの開口部よりも深くかつ狭い矩形
    の第２の開口部からなる少なくとも２段の段差をもつ凹
    部が設けられ前記多層配線の端部と接続するパッド部が
    前記第２の開口部周縁部に配設されるとともに、前記第
    ２の開口部底面に搭載された半導体チップの入出力ピン
    および前記パッドをワイヤボンディングで接続するセラ
    ミック多層配線基板とを有し、対向するそれぞれの前記
    周縁部が互に接着されることによって前記セラミック多
    層配線キャップの配線と前記セラミック多層配線基板の
    配線とが接続される電子部品内蔵のマルチチップモジュ
    ールにおいて；前記セラミック多層配線キャップの前記
    他方面は、前記第１の開口部に対向する面内に前記半導
    体チップの周辺回路の電子部品が搭載され、これら電子
    部品が導電性の接続ピンを用いた接続手段により前記セ
    ラミック多層配線基板の配線と接続されるとともにこれ
    らのピンおよび前記周辺回路の電子部品の入出力配線の
    うち所定の配線が前記入出力端子に接続されることを特
    徴とする電子部品内蔵のマルチチップモジュール。
  2. 【請求項２】 前記接続手段は、前記セラミック多層配
    線基板の前記多層配線が前記導電性の接続ピンに接続さ
    れ、これらのピンが接する前記セラミック多層配線キャ
    ップの前記他方面にこれらのピンと嵌合するようにピン
    孔が穿孔され、これらピン孔の底部には前記電子部品お
    よび前記入出力端子に接続される前記多層配線が接続さ
    れた導電性の接続パッドが配設されることを特徴とする
    請求項１記載の電子部品内蔵のマルチチップモジュー
    ル。
  3. 【請求項３】 前記ピン孔は、前記底部および孔内面が
    導電性のパッドを形成すること、および前記孔内面が導
    電性でかつ前記一方面まで貫通したスルーホールを形成
    することの少なくとも一方を備えるように形成されるこ
    とを特徴とする請求項２記載の電子部品内蔵のマルチチ
    ップモジュール。
  4. 【請求項４】 前記セラミック多層配線キャップの前記
    他方面に前記周辺回路の電子部品全体を囲むように配置
    されるとともに前記第１の開口部の深さよりも浅くかつ
    内面の複数個所に接して嵌合するようにセラミックで形
    成した枠を接着したことを特徴とする請求項１記載の電
    子部品内蔵のマルチチップモジュール。
JP6235149A 1994-09-29 1994-09-29 電子部品内蔵のマルチチップモジュール Expired - Fee Related JP2573809B2 (ja)

Priority Applications (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP6235149A JP2573809B2 (ja) 1994-09-29 1994-09-29 電子部品内蔵のマルチチップモジュール
KR1019950033153A KR0158783B1 (ko) 1994-09-29 1995-09-29 접속 핀을 통해 기판과 캡에 접속된 전자 부품을 탑재하는 멀티 칩 세라믹 모듈
US08/537,248 US5633783A (en) 1994-09-29 1995-09-29 Multi-chip ceramic module for mounting electric parts on both substrate and cap connected through interconnecting pins

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP6235149A JP2573809B2 (ja) 1994-09-29 1994-09-29 電子部品内蔵のマルチチップモジュール

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH0897352A true JPH0897352A (ja) 1996-04-12
JP2573809B2 JP2573809B2 (ja) 1997-01-22

Family

ID=16981782

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP6235149A Expired - Fee Related JP2573809B2 (ja) 1994-09-29 1994-09-29 電子部品内蔵のマルチチップモジュール

Country Status (3)

Country Link
US (1) US5633783A (ja)
JP (1) JP2573809B2 (ja)
KR (1) KR0158783B1 (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7394665B2 (en) 2003-02-18 2008-07-01 Kabushiki Kaisha Toshiba LSI package provided with interface module and method of mounting the same

Families Citing this family (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2914242B2 (ja) * 1995-09-18 1999-06-28 日本電気株式会社 マルチチップモジュール及びその製造方法
US5748452A (en) * 1996-07-23 1998-05-05 International Business Machines Corporation Multi-electronic device package
US6303879B1 (en) * 1997-04-01 2001-10-16 Applied Materials, Inc. Laminated ceramic with multilayer electrodes and method of fabrication
JP2964983B2 (ja) * 1997-04-02 1999-10-18 日本電気株式会社 三次元メモリモジュール及びそれを用いた半導体装置
US6586829B1 (en) * 1997-12-18 2003-07-01 Si Diamond Technology, Inc. Ball grid array package
US5903052A (en) * 1998-05-12 1999-05-11 Industrial Technology Research Institute Structure for semiconductor package for improving the efficiency of spreading heat
JP2002170739A (ja) * 2000-11-29 2002-06-14 Murata Mfg Co Ltd 積層セラミックコンデンサモジュール
US6495912B1 (en) * 2001-09-17 2002-12-17 Megic Corporation Structure of ceramic package with integrated passive devices
KR20050074961A (ko) * 2002-10-08 2005-07-19 치팩, 인코포레이티드 역전된 제 2 패키지를 구비한 반도체 적층형 멀티-패키지모듈
US7034387B2 (en) * 2003-04-04 2006-04-25 Chippac, Inc. Semiconductor multipackage module including processor and memory package assemblies
US7015570B2 (en) * 2002-12-09 2006-03-21 International Business Machines Corp. Electronic substrate with inboard terminal array, perimeter terminal array and exterior terminal array on a second surface and module and system including the substrate
JP4054269B2 (ja) * 2003-03-20 2008-02-27 Ｔｄｋ株式会社 電子部品の製造方法および電子部品
US7365980B2 (en) 2003-11-13 2008-04-29 Intel Corporation Micropin heat exchanger
JP4948613B2 (ja) * 2010-02-25 2012-06-06 三菱電機株式会社 樹脂封止形電子制御装置、及びその製造方法
JP6274058B2 (ja) * 2014-09-22 2018-02-07 株式会社デンソー 電子装置、及び電子装置を備えた電子構造体
KR102265243B1 (ko) 2015-01-08 2021-06-17 삼성전자주식회사 반도체 패키지 및 그 제조 방법

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS59151443A (ja) * 1983-02-17 1984-08-29 Fujitsu Ltd 半導体装置
JPH01308057A (ja) * 1988-06-07 1989-12-12 Matsushita Electric Ind Co Ltd マルチチップ・パッケージ
US5043794A (en) * 1990-09-24 1991-08-27 At&T Bell Laboratories Integrated circuit package and compact assemblies thereof
JP2841841B2 (ja) * 1990-11-13 1998-12-24 日本電気株式会社 Ｐｇａパッケージ
US5199164A (en) * 1991-03-30 1993-04-06 Samsung Electronics Co., Ltd. Method of manufacturing semiconductor package
US5444296A (en) * 1993-11-22 1995-08-22 Sun Microsystems, Inc. Ball grid array packages for high speed applications

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7394665B2 (en) 2003-02-18 2008-07-01 Kabushiki Kaisha Toshiba LSI package provided with interface module and method of mounting the same

Also Published As

Publication number Publication date
JP2573809B2 (ja) 1997-01-22
US5633783A (en) 1997-05-27
KR960012455A (ko) 1996-04-20
KR0158783B1 (ko) 1998-12-01

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2914242B2 (ja) マルチチップモジュール及びその製造方法
US6002168A (en) Microelectronic component with rigid interposer
US5521435A (en) Semiconductor device and a fabrication process thereof
KR100899314B1 (ko) 반도체 장치 및 그 제조 방법
JP2573809B2 (ja) 電子部品内蔵のマルチチップモジュール
US5644163A (en) Semiconductor device
US20010048591A1 (en) Microelectronics component with rigid interposer
JPH0846085A (ja) 半導体装置及びその製造方法
US20080254574A1 (en) Semiconductor device and a manufacturing method of the same
JP2002076252A (ja) 半導体装置
KR960015868A (ko) 적층형 패키지 및 그 제조방법
CN110622300B (zh) 电子部件搭载用基板、电子装置以及电子模块
JP2008504711A (ja) 発光ダイオードモジュール
JP2863155B2 (ja) 半導体パッケージ及びその組み立て方法
EP0272390A2 (en) Packages for a semiconductor device
US20070035006A1 (en) Stackable single package and stacked multi-chip assembly
JPH09298252A (ja) 半導体パッケージ及びこれを用いた半導体装置
JP3450477B2 (ja) 半導体装置及びその製造方法
JPH07321160A (ja) 半導体装置
JP2001148457A (ja) 高周波用半導体装置
JPH04287952A (ja) 複合絶縁基板およびそれを用いた半導体装置
JPH04359462A (ja) 混成集積回路装置
US6084298A (en) Manufacturing of semiconductor device
JP3210503B2 (ja) マルチチップモジュールおよびその製造方法
JP2853695B2 (ja) チップキャリア及び半導体集積回路装置

Legal Events

Date Code Title Description
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 19960903

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

S533 Written request for registration of change of name

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees