JPH0883824A - プローブ装置 - Google Patents

プローブ装置

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JPH0883824A
JPH0883824A JP6215869A JP21586994A JPH0883824A JP H0883824 A JPH0883824 A JP H0883824A JP 6215869 A JP6215869 A JP 6215869A JP 21586994 A JP21586994 A JP 21586994A JP H0883824 A JPH0883824 A JP H0883824A
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Tokyo Electron Yamanashi Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【目的】電極パッドに対してプローブ装置の接触子を確
実に接触させる。 【構成】プローブ装置は半導体ウェハWの載置台13を
有し、その上方に支持ブロック50が取付けられたプリ
ント配線板42が配設される。支持ブロック50の凹部
55を覆うように可撓性の膜状プローブカード21が取
付けられる。プローブカード21は、ウェハWの電極パ
ッドEPに接触する接触子28が配置された主領域27
を有する。プローブカード21の裏面には平面性を付与
するための硬質の矩形フレーム29が接合される。支持
ブロック50の凹部55内にプッシャ71が配設され、
プローブカード21の主領域27の裏側に接触する。プ
ッシャ71は垂直に支持されたシャフト74の下端に揺
動自在に配置される。シャフト74は2枚の皿ばね7
7、78を介して支持ブロック50に支持される。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、半導体デバイスのよう
な被検査体の電気的特性を検査するプローブ装置に関す
る。
【0002】
【従来の技術】周知の如く、半導体デバイスは、半導体
ウェハ上に精密写真転写技術等を用いて多数形成され、
この後、各半導体デバイス毎にウェハは切断される。こ
のような半導体デバイスの製造工程では、従来からプロ
ーブ装置を用いて、半完成品の半導体デバイスの電気的
な特性の検査を、半導体ウェハの状態で行い、この試験
測定の結果、良品と判定されたもののみをパッケージン
グ等の後工程に送り、生産性の向上を図ることが行われ
ている。
【0003】この種のプローブ装置は、X−Y−Z−θ
方向に移動可能に構成された、被検査体を載置するため
の載置台を備える。載置台の上方には、被検査体として
の半導体ウェハの電極パッドに対応した多数のプローブ
針を備えたプローブカードが固定される。そして、載置
台上に半導体ウェハを設置し、載置台を駆動して半導体
ウェハの電極パッドにプローブ針を接触させ、このプロ
ーブ針を介してテスタにより試験測定を行う。
【0004】ところが、近年、半導体デバイスが益々微
細化し、回路の集積度が高くなってきており、電極パッ
ドのサイズが微細化し、その間隔も極狭くなってきてい
る。例えば、半導体デバイスの各電極パッドは、一辺が
60μm〜100μm角であり、各電極パッド列の相互
間ピッチ距離は100μm〜200μmである。従っ
て、前述のように、プローブカードの限られたスペース
に、例えば数百本と多数本のプローブ針を配置すること
が技術的に困難で、限界に近付きつつある。
【0005】そこで、特開平2−126159号及び特
開平2−163664号等の公報にし示されるように、
所定のパターン配線を有する膜部材に複数の電極バンプ
を設けた、いわゆるメンブレンタイプのプローブカード
が提案されている。
【0006】特開平2−126159号に記載のプロー
ブ装置は、多数の電極バンプを有し且つ環状移動枠に張
付けられた膜部材を有する。膜部材の周縁部は支持体で
支持されると共に、支持体と環状移動枠との間に板バネ
が架設される。また、膜部材の裏面にはクッションが張
付けられ、クッションによりウェハの電極パッドの高低
差が吸収される。検査時には、板バネの弾力に抗して、
膜部材が環状移動枠と一体的に垂直方向に移動し、その
電極バンプがウェハの電極パッドに弾力的に接触する。
【0007】特開平2−163664号に記載のプロー
ブ装置は、揺動可能な回転板が膜の裏面に設けられる以
外は特開平2−126159号と概ね同様に構成され
る。この装置では、検査時にウェハと膜部材とが平行状
態にない場合、回転板が回転することにより膜部材がウ
ェハと徐々に平行になり、弾力的に接触する。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、集積
度の高い半導体デバイスの検査に適し、デバイスの電極
パッドに対して接触子を確実に接触させて測定を行うこ
とができるプローブ装置を提供することにある。
【0009】
【課題を解決するための手段】本発明の第1の視点に係
る、複数の電極パッドを具備する被検査体の電気的特性
を検査するためのプローブ装置は、前記被検査体を載置
するための載置面を具備する載置台と、前記載置台の上
方に配設された配線板と、前記配線板は、装置筐体に支
持された高い剛性を有する基板と前記基板上に配設され
且つテスタに電気的に接続されたボード配線とを具備す
ることと、前記配線板に支持されたプローブカードと、
前記プローブカードは可撓性で且つ絶縁性の膜と前記膜
上に形成され且つ前記配線板の前記ボード配線に電気的
に接続された可撓性のカード配線とを具備することと、
前記プローブカードは、前記被検査体の前記電極パッド
の夫々に接触するための複数の接触子が配置された主領
域を前記載置面に対向する表側に具備することと、前記
接触子はカード配線に電気的に接続されることと、前記
プローブカードを前記配線板に取付けるための取付け手
段と、前記プローブカードの前記主領域の裏側に接触す
るプッシャと、前記プッシャはその輪郭内に前記接触子
の全てが位置するように設定された接触面を具備するこ
とと、前記プッシャと係合し、前記プッシャを揺動自在
に前記プローブカードの前記主領域の裏側に配置するた
めのシャフトと、前記シャフトに接続され、前記プロー
ブカードの主領域に対する付勢力を前記プッシャの接触
面に付与するための皿ばねと、前記配線板に取付けられ
た、前記皿ばねを保持するための手段と、を具備する。
【0010】本発明の第2の視点に係る、複数の電極パ
ッドを具備する被検査体の電気的特性を検査するための
プローブ装置は、前記被検査体を載置するための載置面
を具備する載置台と、前記載置台の上方に配設された配
線板と、前記配線板は、装置筐体に支持された高い剛性
を有する基板と前記基板上に配設され且つテスタに電気
的に接続されたボード配線とを具備することと、前記配
線板に支持された支持ブロックと、前記支持ブロックは
前記載置面に対向するように配置された凹部を具備する
ことと、前記支持ブロックを前記配線板に取付けるため
の第1取付け手段と、前記支持ブロックに支持されたプ
ローブカードと、前記プローブカードは可撓性で且つ絶
縁性の膜と前記膜上に形成され且つ前記配線板の前記ボ
ード配線に電気的に接続された可撓性のカード配線とを
具備することと、前記プローブカードは、前記被検査体
の前記電極パッドの夫々に接触するための複数の接触子
が配置された主領域を前記載置面に対向する表側に具備
することと、前記接触子はカード配線に電気的に接続さ
れることと、前記主領域は前記支持ブロックの前記凹部
を覆う位置に配置されることと、前記プローブカードを
前記支持ブロックに取付けるための第2取付け手段と、
前記プローブカードの前記主領域の裏側に接触するよう
に前記支持ブロックの前記凹部内に配設されたプッシャ
と、前記プッシャはその輪郭内に前記接触子の全てが位
置するように設定された接触面を具備することと、前記
プッシャと係合し、前記プッシャを揺動自在に前記プロ
ーブカードの前記主領域の裏側に配置するためのシャフ
トと、前記シャフトに接続され、前記プローブカードの
主領域に対する付勢力を前記プッシャの接触面に付与す
るための皿ばねと、前記支持ブロックに取付けられた、
前記皿ばねを保持するための手段と、を具備する。
【0011】
【作用】本発明においては、被検査体がどの方向へ傾斜
していても、皿ばねにより付勢力を付与されたプッシャ
がプローブカードの主領域の裏側で被検査体の傾きに合
わせて傾斜するため、主領域の接触子が被検査体の電極
パッドに確実に接触するようになる。
【0012】
【実施例】図1において、プローブ装置の装置本体10
のほぼ中央にはメインステージ11が設けられる。メイ
ンステージ11には、被検査体である半導体ウェハWを
載置するための水平な載置面を有する載置台13が配設
される。メインステージ11は水平面内においてX方向
並びにY方向に載置台13と共に移動可能になってい
る。載置台13の上方にはプローブ機構14が設けられ
る。装置本体10の中央手前側にはアラインメントユニ
ット(図示せず)が設けられる。アライメントユニット
には、アラインメント用の画像認識装置としてのカメラ
が設けられる。アラインメントのために、載置台13は
カメラの下方まで移動される。
【0013】装置本体10の右側にはオートローダ15
が配設される。オートローダ15には、多数の半導体ウ
ェハWを互いに垂直方向に所定間隔をおいて収容するウ
ェハカセットCが、カセット載置台18上に交換可能に
配置される。ウェハカセットCと前記載置台13との間
には水平面内で移動可能なローダステージ19と、Y方
向駆動機構とZ方向昇降機構とにより駆動可能なウェハ
ハンドリングアーム12とが設けられる。
【0014】半導体ウェハWをプローブ検査する時は、
ウェハはローダステージ19により載置台13近くに搬
送され、ハンドリングアーム12により載置台13上に
移される。検査後は、ウェハはハンドリングアーム12
によりローダステージ19上に移され、ローダステージ
19によりウェハカセットCに搬送される。
【0015】装置本体10の左側にはプローブカード交
換機16が配設される。プローブカード交換機16には
複数種類のプローブカード21がカードホルダ17に対
して支持され、垂直方向に所定間隔を有して複数個収容
される。
【0016】プローブ機構14の上にはコンタクトリン
グ66及びテストヘッド68が夫々着脱自在に配置され
る。コンタクトリング66は、下方及び上方に突出する
導電性ピン67a、67bを具備する。コンタクトリン
グ66は、ピン67a介して、プローブ機構14のプリ
ント配線板42と電気的に接続され、ピン67bを介し
て、テストヘッド68と電気的に接続される。テストヘ
ッド68はテスタ69に接続される。テスタ69は、所
定の電源電圧や検査パルス信号を半導体ウェハWのチッ
プに印加し、チップ側からの出力信号を取り込んでチッ
プの良否を判定する。
【0017】次に、図2を参照して載置台13を説明す
る。載置台13は、Y方向に延在される2本のレールに
沿ってY方向に移動可能なYステージ31aと、Yステ
ージ31a上をX方向に延在される2本のレールに沿っ
てX方向に移動可能なXステージ31bとを備える。
Y、Xステージ31a、31bは、パルスモータなどを
含む慣用の駆動機構によって水平面内をY方向とX方向
とに駆動される。Xステージ31b上に搭載されたチャ
ック32は、周知の昇降機構によって垂直方向(Z方
向)に駆動されると共に、その中心を通る垂直中心線の
周りを周知の回転機構によって回転されるようになって
いる。
【0018】Xステージ31bの側面には昇降部材34
が固定される。昇降部材34には上下方向に昇降自在な
移動カメラ33が保持される。移動カメラ33は、高倍
率部33aと低倍率部33bとから構成される。
【0019】チャック32の側面には、その径方向に水
平に突出する小片35が固定される。小片35は、導電
性薄膜、例えばITO(indium tin oxide)薄膜或いは
クロムを用いて描かれた十字マークの中心によって定義
されるターゲット35aが表面に形成された短冊状の透
明板からなる。ターゲット35aはカメラ33により
X、Y、Z方向の位置を検出する際の基準点として機能
する。また、十字状の薄膜の周辺には、これを覆うよう
に導電性透明薄膜、例えばITOの薄膜が配設される。
導電性透明薄膜は、静電容量センサによるZ方向の位置
検出を可能とするために配設される。
【0020】ターゲット35aが形成された小片35
は、チャック32の回転により移動カメラ33の高倍率
部の光軸上に移動し、且つここから退避できるようにな
っている。また、小片35はチャック32に着脱自在に
取付けるように構成することも可能である。
【0021】次に、図3乃至図7を参照してプローブ機
構14を説明する。装置本体10の上部にはメインステ
ージ11に対向して開口40が設けられる。開口40は
段部41の内縁により規定され、段部41には開口40
を閉塞するようにプリント配線板42がねじ43によっ
て固定される。
【0022】プリント配線板42は硬質で機械的強度の
高いガラスエポキシ基板44と、その上面及び下面に形
成されたプリント配線45a、45bとを具備する。配
線板42にはその中央を基準として左右対称的に複数の
電極パッド46を配置したコネクタ部47が設けられ
る。更に、これらコネクタ部47には配線板42を貫通
する取付け孔48が形成される。
【0023】プリント配線板42の中央には平面形状が
矩形の開口49が形成される。開口49から下方に突出
するように、配線板42に平面形状が矩形の支持ブロッ
ク50が支持される。支持ブロック50は、ステンレス
鋼或いはアルミニウム等の高い剛性を有する材料からな
る。支持ブロック50は、図4及び図5図示の如く、配
線板42上で左右方向に延びるフランジ51を具備す
る。フランジ51及び配線板42は、これらに形成され
た孔に装着されたねじ52a及びナット52bによって
一体的に固定される。
【0024】支持ブロック50は中央に平面形状が矩形
の凹部55を具備する。凹部55を覆うように、支持ブ
ロック50の下面に、プローブカード21がねじ54に
よって着脱可能に取付けられる。
【0025】プローブカード21は、ポリイミド樹脂、
シリコーン樹脂等の可撓性且つ絶縁性の材料から矩形の
膜22と、この上に形成された、銅、銅合金等からなる
フレキシブルプリント回路(FPC)23とを有する。
膜22の長手方向の両端部には、プリント回路23に接
続された複数の電極パッド25を有するコネクタ部24
が配設される。コネクタ部24には、貫通孔26が形成
された硬質の絶縁樹脂板が接着される。
【0026】膜22の下面中央には、プリント回路23
に接続された金、金合金等からなる多数の接触子28が
配置された主領域27が形成される。主領域27は半導
体ウェハWの1つのデバイス即ちチップと概ね同サイズ
に形成される。接触子28はチップの電極パッドに対応
して配置され且つ膜22の下面から突出する。
【0027】主領域27の周囲に位置する膜22の上面
にはアルミニウム材料等の剛性を有する材料によって形
成された矩形枠状のフレーム29が一体に接着される。
フレーム29は、平坦で均一な厚さを有し、これに包囲
されたプローブカード21の主領域27及びその周囲に
平面性を付与する。フレーム29はねじ54により支持
ブロック50の下面に着脱自在に固定される。これによ
り、プローブカード21は、プリント配線板42に対し
て位置決めされ且つ支持される。フレーム29は、支持
ブロック50に対して真空吸着等によって位置決め固定
されることも可能である。
【0028】支持ブロック50の下面は水平で、従っ
て、フレーム29が支持ブロック50に取付けられた状
態において、フレーム29に包囲されたプローブカード
21の主領域27及びその周囲は、ウェハWを載せる載
置台13の載置面と平行となる。プローブカード21の
膜22は可撓性を有する材料で形成されるため、全体が
フレキシブル性に富んでいるが、フレーム29によって
平面性及び水平性が付与され、また伸び、撓みが規制さ
れることにより接触子28のピッチが維持される。
【0029】図3及び図5図示の如く、プローブカード
21の両端部のコネクタ部24は、支持ブロック50の
フランジ51と直交する方向に配置される。プローブカ
ード21は、主領域27とコネクタ部24との間におい
て、配線板42の開口49内に形成された支持ブロック
50と配線板42との隙間を通過する。プローブカード
21のコネクタ部24と、プリント配線板42のコネク
タ部47とは、夫々の電極パッド25と電極パッド46
とが接触するように位置決めされる。これにより、プリ
ント配線板42とプローブカード21とが電気的に接続
される。更に、コネクタ部24に設けられた貫通孔26
及びプリント配線板42の取付け孔48に下側からねじ
53aが挿入され、プリント配線板42の上面側でねじ
53aにナット53bが締め付けられる。これにより、
プローブカード21のコネクタ部24がプリント配線板
42に固定される。
【0030】従って、プリント配線板42に対してプロ
ーブカード21が電気的及び機械的に接続状態となり、
プローブカード21の中間部は支持ブロック50の存在
によってプリント配線板42より下方へ突出した状態に
なる。ここで、重要なことは、載置台13に載置された
半導体ウェハWに対してプローブカード21の主領域2
7を平行に保つことにある。本実施例の装置では、フレ
ーム29の存在によりプリント配線板42の下面を基準
面としてプローブカード21を取付けることができ、主
領域27と半導体ウェハWとの平行性を簡単に、しかも
正確に保つことができる。
【0031】支持ブロック50の凹部55内で且つプロ
ーブカード21の主領域27の裏側には、剛性の高い材
料、例えば支持ブロック50と同じ金属材料によって形
成されたプッシャ71が配設される。プッシャ71は、
凹部55と相似の矩形の平面形状を有する。凹部55内
において、支持ブロック50の内面とプッシャ71の側
面との間には、プッシャ71が全方向に揺動可能となる
程度の隙間が形成される。
【0032】プッシャ71の下面には、シリコンゴム等
の弾力性があり滑性の高い表面を有する弾性板72が接
着される。弾性板72の下面はプローブカード21のフ
レーム29の下面よりも下に位置し、従って、弾性板7
2はプローブカード21の主領域27を裏面から下方に
突出する状態に押出す。弾性板72の下面は、主領域2
7の全てをカバーする寸法を有する。換言すると、主領
域27に配設された接触子28の全てが弾性板72の平
面輪郭内に位置する。
【0033】プッシャ71の上側即ち裏側中央には凹部
73が形成され、凹部73の中心に微小な球面凹部73
aが形成される。プッシャ71の凹部73の上方には、
剛性の高い材料、例えば支持ブロック50と同じ金属材
料によって形成されたシャフト74が配設される。シャ
フト74の下端には、例えばセラミックやルビーなどの
耐摩耗性に優れた高い硬度の材料によって形成されたボ
ール75が圧入固定される。ボール75の先端は球面凹
部73aに係合し、これによってプッシャ71がシャフ
ト74の先端に揺動自在に配置される。即ち、プッシャ
71は、弾性板72を介してプローブカード21の主領
域27を押出し、これに張力を付与すると共に、ボール
75を中心に全方向に揺動可能となっている。
【0034】支持ブロック50の上側即ち裏側中央には
平面形状が円形の凹部76が形成される。凹部76内に
は、シャフト74を支持ブロック50に対して取付け、
且つプッシャ71に対して弾力性を付与するための2枚
の皿ばね77、78が配設される。皿ばね77、78は
円形で、その中心軸は支持ブロック50、凹部55及び
凹部76の中心軸と一致する。シャフト74は、その中
心軸が垂直で且つ皿ばね77、78の中心軸と整一する
ように配置される。
【0035】皿ばね77、78は実質的に同一で、ステ
ンレス鋼等の耐食性材料からなる薄板から形成される。
皿ばね77、78は図5図示のような平面形状を有する
と共に、中央から周囲に向けて緩く傾斜した傘形状をな
す。皿ばね77、78の外径は支持ブロック50の凹部
76の内径より僅かに小さい。皿ばね77、78は、中
心の孔79と、等角度間隔且つ点対称に形成された円弧
を主体とする3つの透孔80とを有する。皿ばね77、
78のばね力は透孔80の形状によって調整される。
【0036】シャフト74は、支持ブロック50の凹部
76内に配置された2つのリング81、82を介して皿
ばね77、78に接続される。下側のリング81は内側
に雌ねじ部を具備し、シャフト74の下部に形成された
大径の雄ねじ部91に螺合する。上側のリング82は2
つのパート85、86からなる。パート85は、フリー
な状態でシャフト74に嵌合し、雄ねじ部91の上端に
着座する。パート86は内側に雌ねじ部を具備し、シャ
フト74の上部に形成された小径の雄ねじ部92に螺合
する。
【0037】図7図示の如く、皿ばね77を取付けるリ
ング81の上部中央にはハブ87が形成される。ハブ8
7は皿ばね77の孔79に挿入され、ハブ87から放射
方向に広がるリング81の上面が皿ばね77に接触す
る。3本のピン88aが等角度間隔でリング81の上面
に固定され、ここから突出する(図5参照)。また、3
つの孔88bが皿ばね77に形成され、これらはピン8
8aよりも僅かに小さな径を有し且つピン88aと対応
して配置される。皿ばね77とリング81とは、ピン8
8aが孔88bに強制的に押込まれることにより、互い
に固定される。皿ばね78とリング82とは、リング8
2の2つのパーツ85、86により孔79周りの内周縁
が挟持されたることにより、互いに固定される。この様
にして、皿ばね77、78の内周縁が、リング81及び
82により、上下方向に間隔をあけて配置される。
【0038】皿ばね77、78の外周縁は、支持ブロッ
ク50の凹部76に装着された大径のリングスペーサ8
3、84によって上下方向に間隔をあけて固定される。
各皿ばね77、78の外周縁は夫々の内周縁より低くな
っている。
【0039】下側スペーサ83は、底部を有する偏平な
円筒形状をなし、支持ブロック50の凹部76の底面上
に載置されると共に、外周面が凹部76の内周面に密着
する。ここで、下側スペーサ83の上面の高さは、リン
グ81の上面よりやや低くなる。下側スペーサ83の上
面上に皿ばね77の外周縁が載置され、更にその上に、
上側スペーサ84が載置される。
【0040】上側スペーサ84は外径が凹部76の内径
に略等しく、その外周面が支持ブロック50の凹部76
の内周面に密着する。上側スペーサ84の上面の高さ
は、支持ブロック50の上面に一致し、且つリング82
のパート85の上面よりやや低くなる。上側スペーサ8
4の上面上に皿ばね78の外周縁が載置され、更にその
上にリングキャップ89が配置される。キャップ89
は、支持ブロック50の上面にねじ93によって固定さ
れる。この様にして、皿ばね77、78の外周縁が、ス
ペーサ83、84及びキャップ89によって挟持固定さ
れる。
【0041】シャフト74の上端部には調節用の溝94
が形成される。ねじ付きリング81はシャフト74のね
じ部91に螺合しているため、溝94を介してシャフト
74を回転させ、リング81に対してシャフト74を上
下動させることができる。即ち、シャフト74を回転調
節することにより、フレーム29の下面からのプッシャ
71の張出し量を調整することができる。
【0042】次に、プローブ装置の作用について説明す
る。まず、ウェハカセットCの内部の半導体ウェハWを
ハンドリングアーム12によって把持してメインステー
ジ11の載置台13に受け渡す。載置台13にはチャッ
ク32が設けられ、ウェハWをチャッキングした後、公
知の手段によってチャック32をX、Y、θ方向の位置
調整し、プローブカード21とウェハWとの平面方向の
位置合わせを行う。
【0043】1枚のウェハWには例えば64個の半導体
チップが形成されており、プローブカード21には1個
の半導体チップに対応する主領域27が設けられる。こ
のため、チャック32をX、Y、θ方向に位置調整し、
プローブカード21の主領域27と半導体ウェハWの半
導体チップとを位置決めする。
【0044】次に、載置台13をZ方向、つまり上昇さ
せ、半導体チップの電極パッドEPとプローブカード2
1の主領域27に設けられた接触子28とを接触させ
る。この際、半導体ウェハWは皿ばね77、78のバネ
力に抗してプッシャ71を垂直上方へ押し上げながらプ
ローブカード21に接触する。
【0045】通常、ウェハWのチップ即ち被検査部分
は、水平即ちプローブカード21の主領域27に対して
平行な状態で接触する。ウェハWの電極パッドEP間に
高低差があっても弾性板72によってそれら高低差が吸
収され、電極パッドEPはプローブカード21の対応の
接触子28に対して確実に接触する。電極パッドEP間
のピッチが100μm以下の狭いものであっても、接触
子28はプローブ針と違って前後左右に変形したりする
ことがなく安定しているため、安定した検査を行なうこ
とができる。
【0046】これに対して、例えば、何等かの理由で、
ウェハWの被検査部分が左側が高くなるように傾斜して
いる場合、プローブカード21とウェハWとが接触する
際、まず左側の電極パッドEPが主領域27の左側の接
触子28に接触する。更に、ウェハWがそのまま上昇す
ると、プローブカード21を介してプッシャ71の左側
に圧力が加わる。このため、プッシャ71はボール75
を中心に時計方向へ回転し、主領域27をウェハWの傾
斜に一致させようとする。この際、プッシャ71は、そ
の下側に接着された弾性板72が主領域27の裏側を滑
るように回転する。この様に、ウェハWがどの方向へ傾
斜していてもプッシャ71が主領域27の裏面を滑りな
がらウェハWの傾きに合わせて傾斜するため、主領域2
7の接触子28がウェハWの電極パッドEPに確実に接
触する。
【0047】プローブカード21とウェハWとが接触す
る際、載置台13はオーバードライブされ、ウェハWが
皿ばね77、78の付勢力に抗してプッシャ71を押し
上げるようにする。ウェハWの被検査部分が傾斜してい
ると、プッシャ71は傾斜した状態で上昇するが、シャ
フト74は皿ばね77、78によって垂直に支持された
状態のまま上昇する。従って、シャフト74の上下動が
安定し、常に一定方向のバネ力をプッシャ71に付与す
ることができる。
【0048】シャフト74はリング81に螺合している
ため、プッシャ71の張出し量がシャフト74の回転に
より調整される。このため、検査の態様に応じて主領域
27の高さ位置を変更することができる。
【0049】なお、上記両実施例においては、プローブ
カード21の主領域27は、半導体ウェハWに設けられ
た、例えば64個の半導体チップの内、1個の半導体チ
ップに対応するように形成されている。しかし、主領域
27は、複数の半導体チップを一度に測定するか、或い
は、全ての、例えば64個の半導体チップを一度に測定
するように形成することもできる。シャフト74を支持
する皿ばねは1枚でもよく、また3枚以上としてもよ
い。シャフト74の下端にプッシャ71を揺動自在に配
置するため、ポゴピン構造のジョイントを採用すること
もできる。
【0050】
【発明の効果】本発明によれば、集積度の高い半導体デ
バイスの検査に適し、デバイスの電極パッドに対して接
触子を確実に接触させて測定を行うことができるプロー
ブ装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施例に係るプローブ装置の全体を示
す概略図。
【図2】図1図示プローブ装置の載置台を示す斜視図。
【図3】図1図示プローブ装置のプローブ機構を示す断
面図。
【図4】図1図示プローブ装置のプローブ機構を示す図
3図示の断面と直交する方向における断面図。
【図5】図1図示プローブ装置のプローブ機構の平面レ
イアウトを示す概略図。
【図6】図1図示プローブ装置のプローブカードを示す
斜視図。
【図7】皿ばねの取付け態様を示す断面図。
【符号の説明】
13…載置台、14…プローブ機構、21…プローブカ
ード、27…主領域、28…接触子、29…フレーム、
42…プリント配線板、50…支持ブロック、71…プ
ッシャ、74…シャフト、75…ボール、77、78…
皿ばね、81、82…リング、83、84…リングスペ
ーサ、89…キャップ。

Claims (19)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】複数の電極パッドを具備する被検査体の電
    気的特性を検査するためのプローブ装置であって、 前記被検査体を載置するための載置面を具備する載置台
    と、 前記載置台の上方に配設された配線板と、前記配線板
    は、装置筐体に支持された高い剛性を有する基板と前記
    基板上に配設され且つテスタに電気的に接続されたボー
    ド配線とを具備することと、 前記配線板に支持されたプローブカードと、前記プロー
    ブカードは可撓性で且つ絶縁性の膜と前記膜上に形成さ
    れ且つ前記配線板の前記ボード配線に電気的に接続され
    た可撓性のカード配線とを具備することと、前記プロー
    ブカードは、前記被検査体の前記電極パッドの夫々に接
    触するための複数の接触子が配置された主領域を前記載
    置面に対向する表側に具備することと、前記接触子はカ
    ード配線に電気的に接続されることと、 前記プローブカードを前記配線板に取付けるための取付
    け手段と、 前記プローブカードの前記主領域の裏側に接触するプッ
    シャと、前記プッシャはその輪郭内に前記接触子の全て
    が位置するように設定された接触面を具備することと、 前記プッシャと係合し、前記プッシャを揺動自在に前記
    プローブカードの前記主領域の裏側に配置するためのシ
    ャフトと、 前記シャフトに接続され、前記プローブカードの主領域
    に対する付勢力を前記プッシャの接触面に付与するため
    の皿ばねと、 前記配線板に取付けられた、前記皿ばねを保持するため
    の手段と、を具備するプローブ装置。
  2. 【請求項2】前記プッシャが前記シャフト係合する剛性
    の高い本体と、前記本体に接合された弾性材料からなる
    弾性板とを具備し、前記接触面は前記弾性板により形成
    される請求項1記載の装置。
  3. 【請求項3】前記プッシャと前記シャフトとが、夫々に
    形成された凸状球面とこれを受容する凹部との係合を介
    して接触する請求項1記載の装置。
  4. 【請求項4】前記シャフトが、前記載置面に対して実質
    的に直角な中心軸を有するように、前記皿ばねに接続さ
    れ、前記皿ばねは前記載置面に対して実質的に平行に配
    置される請求項1記載の装置。
  5. 【請求項5】前記シャフトが、ねじ機構を介して前記皿
    ばねに支持され、前記ねじ機構の作用により前記シャフ
    トがその軸方向において前記皿ばねに対して相対的に位
    置調整可能である請求項1記載の装置。
  6. 【請求項6】前記シャフトに接続され、前記プローブカ
    ードの主領域に対する付勢力を前記プッシャの接触面に
    付与するための別の皿ばねを更に具備し、両皿ばねは実
    質的に平行に配置される請求項1記載の装置。
  7. 【請求項7】前記プローブカードの前記主領域を包囲す
    るように、前記プローブカードの裏側に接合された高い
    剛性を有するフレームを更に具備し、前記フレームは、
    これに包囲された前記主領域を含む前記プローブカード
    の部分に平面性を付与するための平面を具備し、前記プ
    ッシャは、前記プローブカードの前記主領域を前記フレ
    ームの前記平面よりも前記載置面に向けて押し出す請求
    項1記載の装置。
  8. 【請求項8】前記フレームの前記平面が前記載置面に対
    して実質的に平行となるように、前記配線板に対して前
    記フレームを位置決めするための位置決め面を更に具備
    する請求項7記載の装置。
  9. 【請求項9】前記取付け手段が、前記フレームを前記位
    置決め面に着脱自在に固定する部材を具備する請求項8
    記載の装置。
  10. 【請求項10】複数の電極パッドを具備する被検査体の
    電気的特性を検査するためのプローブ装置であって、 前記被検査体を載置するための載置面を具備する載置台
    と、 前記載置台の上方に配設された配線板と、前記配線板
    は、装置筐体に支持された高い剛性を有する基板と前記
    基板上に配設され且つテスタに電気的に接続されたボー
    ド配線とを具備することと、 前記配線板に支持された支持ブロックと、前記支持ブロ
    ックは前記載置面に対向するように配置された凹部を具
    備することと、 前記支持ブロックを前記配線板に取付けるための第1取
    付け手段と、 前記支持ブロックに支持されたプローブカードと、前記
    プローブカードは可撓性で且つ絶縁性の膜と前記膜上に
    形成され且つ前記配線板の前記ボード配線に電気的に接
    続された可撓性のカード配線とを具備することと、前記
    プローブカードは、前記被検査体の前記電極パッドの夫
    々に接触するための複数の接触子が配置された主領域を
    前記載置面に対向する表側に具備することと、前記接触
    子はカード配線に電気的に接続されることと、前記主領
    域は前記支持ブロックの前記凹部を覆う位置に配置され
    ることと、 前記プローブカードを前記支持ブロックに取付けるため
    の第2取付け手段と、 前記プローブカードの前記主領域の裏側に接触するよう
    に前記支持ブロックの前記凹部内に配設されたプッシャ
    と、前記プッシャはその輪郭内に前記接触子の全てが位
    置するように設定された接触面を具備することと、 前記プッシャと係合し、前記プッシャを揺動自在に前記
    プローブカードの前記主領域の裏側に配置するためのシ
    ャフトと、 前記シャフトに接続され、前記プローブカードの主領域
    に対する付勢力を前記プッシャの接触面に付与するため
    の皿ばねと、 前記支持ブロックに取付けられた、前記皿ばねを保持す
    るための手段と、を具備するプローブ装置。
  11. 【請求項11】前記配線板が開口を具備し、前記支持ブ
    ロックが前記開口を貫通して前記載置面側に突出するよ
    うに配置される請求項10記載の装置。
  12. 【請求項12】前記プッシャが前記シャフト係合する剛
    性の高い本体と、前記本体に接合された弾性材料からな
    る弾性板とを具備し、前記接触面は前記弾性板により形
    成される請求項10記載の装置。
  13. 【請求項13】前記プッシャと前記シャフトとが、夫々
    に形成された凸状球面とこれを受容する凹部との係合を
    介して接触する請求項10記載の装置。
  14. 【請求項14】前記シャフトが、前記載置面に対して実
    質的に直角な中心軸を有するように、前記皿ばねに接続
    され、前記皿ばねは前記載置面に対して実質的に平行に
    配置される請求項10記載の装置。
  15. 【請求項15】前記シャフトが、ねじ機構を介して前記
    皿ばねに支持され、前記ねじ機構の作用により前記シャ
    フトがその軸方向において前記皿ばねに対して相対的に
    位置調整可能である請求項10記載の装置。
  16. 【請求項16】前記シャフトに接続され、前記プローブ
    カードの主領域に対する付勢力を前記プッシャの接触面
    に付与するための別の皿ばねを更に具備し、両皿ばねは
    実質的に平行に配置される請求項10記載の装置。
  17. 【請求項17】前記プローブカードの前記主領域を包囲
    するように、前記プローブカードの裏側に接合された高
    い剛性を有するフレームを更に具備し、前記フレーム
    は、これに包囲された前記主領域を含む前記プローブカ
    ードの部分に平面性を付与するための平面を具備し、前
    記プッシャは、前記プローブカードの前記主領域を前記
    フレームの前記平面よりも前記載置面に向けて押し出す
    請求項10記載の装置。
  18. 【請求項18】前記支持ブロックが、前記フレームの前
    記平面が前記載置面に対して実質的に平行となるよう
    に、前記支持ブロックに対して前記フレームを位置決め
    するための位置決め面を具備する請求項17記載の装
    置。
  19. 【請求項19】前記第2取付け手段が、前記フレームを
    前記位置決め面に着脱自在に固定する部材を具備する請
    求項18記載の装置。
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Cited By (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO1998058266A1 (fr) * 1997-06-17 1998-12-23 Advantest Corporation Carte d'essai
US6181145B1 (en) 1997-10-13 2001-01-30 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Probe card
US6305230B1 (en) 1997-05-09 2001-10-23 Hitachi, Ltd. Connector and probing system
KR100708629B1 (ko) * 1998-06-25 2007-04-17 가부시키가이샤 어드밴티스트 집적회로 시험장치
JP2008082912A (ja) * 2006-09-28 2008-04-10 Micronics Japan Co Ltd 電気的接続装置
US7394265B2 (en) 2002-01-25 2008-07-01 Advantest Corp. Flat portions of a probe card flattened to have same vertical level with one another by compensating the unevenness of a substrate and each identical height needle being mounted on the corresponding flat portion through an adhesive
JP2008268124A (ja) * 2007-04-24 2008-11-06 Yokogawa Electric Corp テストヘッド
JP2009115664A (ja) * 2007-11-07 2009-05-28 Yunikon Kk 電子部品とプローブカードの接触におけるセルフアライメント機構
JP2009257949A (ja) * 2008-04-17 2009-11-05 Japan Electronic Materials Corp プローブカード
JP2010050437A (ja) * 2008-07-25 2010-03-04 Yokogawa Electric Corp Icテスタ
JP2011039048A (ja) * 2009-08-07 2011-02-24 Samsung Electronics Co Ltd テスター、及びこれを具備した半導体デバイス検査装置

Families Citing this family (24)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6025732A (en) * 1993-07-09 2000-02-15 Aehr Test Systems Reusable die carrier for burn-in and burn-in process
US20020053734A1 (en) * 1993-11-16 2002-05-09 Formfactor, Inc. Probe card assembly and kit, and methods of making same
US7064566B2 (en) * 1993-11-16 2006-06-20 Formfactor, Inc. Probe card assembly and kit
TW300954B (en) * 1995-07-14 1997-03-21 Tokyo Electron Co Ltd The probe card used in prober
US5917329A (en) * 1997-04-17 1999-06-29 International Business Machines Corporation Substrate tester having shorting pad actuator method and apparatus
US6504223B1 (en) * 1998-11-30 2003-01-07 Advantest Corp. Contact structure and production method thereof and probe contact assembly using same
JP2000180469A (ja) 1998-12-18 2000-06-30 Fujitsu Ltd 半導体装置用コンタクタ及び半導体装置用コンタクタを用いた試験装置及び半導体装置用コンタクタを用いた試験方法及び半導体装置用コンタクタのクリーニング方法
JP2000258495A (ja) * 1999-03-12 2000-09-22 Oki Electric Ind Co Ltd 半導体デバイス試験装置
AU5156300A (en) * 1999-05-27 2000-12-18 Nanonexus, Inc. Construction structures and manufacturing processes for integrated circuit waferprobe card assemblies
US6417683B1 (en) * 1999-07-09 2002-07-09 Electroglas, Inc. Apparatus for electrical testing of a substrate having a plurality of terminals
US6330744B1 (en) 1999-07-12 2001-12-18 Pjc Technologies, Inc. Customized electrical test probe head using uniform probe assemblies
US6262582B1 (en) 1999-10-15 2001-07-17 International Business Machines Corporation Mechanical fixture for holding electronic devices under test showing adjustments in multiple degrees of freedom
US7262611B2 (en) 2000-03-17 2007-08-28 Formfactor, Inc. Apparatuses and methods for planarizing a semiconductor contactor
KR100392963B1 (ko) * 2000-04-27 2003-07-28 유렉스 프리시젼 인코포레이티드 박막 프로브 카드
US6734690B1 (en) * 2000-04-29 2004-05-11 Hewlett-Packard Development Company, L.P. Back pressure test fixture to allow probing of integrated circuit package signals
US6911835B2 (en) * 2002-05-08 2005-06-28 Formfactor, Inc. High performance probe system
US6965244B2 (en) * 2002-05-08 2005-11-15 Formfactor, Inc. High performance probe system
US7268567B2 (en) * 2005-02-04 2007-09-11 Research In Motion Limited Probe assembly with multi-directional freedom of motion and mounting assembly therefor
US7528617B2 (en) * 2006-03-07 2009-05-05 Testmetrix, Inc. Apparatus having a member to receive a tray(s) that holds semiconductor devices for testing
JP5049694B2 (ja) * 2007-08-07 2012-10-17 ルネサスエレクトロニクス株式会社 プローブカード、半導体検査装置および半導体装置の製造方法
JPWO2010038433A1 (ja) * 2008-09-30 2012-03-01 ローム株式会社 プローブカードの製造方法、プローブカード、半導体装置の製造方法およびプローブの形成方法
KR101583000B1 (ko) * 2009-03-09 2016-01-19 삼성전자주식회사 반도체 디바이스 테스트 장치 및 방법
US9535114B2 (en) * 2012-11-28 2017-01-03 Star Technologies, Inc. Testing device
DE102018124492A1 (de) * 2018-10-04 2020-04-09 Osram Opto Semiconductors Gmbh Vorrichtung und verfahren zur prozessierung einer vielzahl von halbleiterchips

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4912399A (en) * 1987-06-09 1990-03-27 Tektronix, Inc. Multiple lead probe for integrated circuits in wafer form
US4980637A (en) * 1988-03-01 1990-12-25 Hewlett-Packard Company Force delivery system for improved precision membrane probe
US4906920A (en) * 1988-10-11 1990-03-06 Hewlett-Packard Company Self-leveling membrane probe
US5180977A (en) * 1991-12-02 1993-01-19 Hoya Corporation Usa Membrane probe contact bump compliancy system
US5461326A (en) * 1993-02-25 1995-10-24 Hughes Aircraft Company Self leveling and self tensioning membrane test probe
US5416429A (en) * 1994-05-23 1995-05-16 Wentworth Laboratories, Inc. Probe assembly for testing integrated circuits

Cited By (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6305230B1 (en) 1997-05-09 2001-10-23 Hitachi, Ltd. Connector and probing system
US6759258B2 (en) 1997-05-09 2004-07-06 Renesas Technology Corp. Connection device and test system
US7285430B2 (en) 1997-05-09 2007-10-23 Hitachi, Ltd. Connection device and test system
US7541202B2 (en) 1997-05-09 2009-06-02 Renesas Technology Corp. Connection device and test system
WO1998058266A1 (fr) * 1997-06-17 1998-12-23 Advantest Corporation Carte d'essai
GB2331877A (en) * 1997-06-17 1999-06-02 Advantest Corp Probe card
US6181145B1 (en) 1997-10-13 2001-01-30 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Probe card
KR100708629B1 (ko) * 1998-06-25 2007-04-17 가부시키가이샤 어드밴티스트 집적회로 시험장치
US7394265B2 (en) 2002-01-25 2008-07-01 Advantest Corp. Flat portions of a probe card flattened to have same vertical level with one another by compensating the unevenness of a substrate and each identical height needle being mounted on the corresponding flat portion through an adhesive
JP2008082912A (ja) * 2006-09-28 2008-04-10 Micronics Japan Co Ltd 電気的接続装置
JP2008268124A (ja) * 2007-04-24 2008-11-06 Yokogawa Electric Corp テストヘッド
JP2009115664A (ja) * 2007-11-07 2009-05-28 Yunikon Kk 電子部品とプローブカードの接触におけるセルフアライメント機構
JP2009257949A (ja) * 2008-04-17 2009-11-05 Japan Electronic Materials Corp プローブカード
JP2010050437A (ja) * 2008-07-25 2010-03-04 Yokogawa Electric Corp Icテスタ
JP2011039048A (ja) * 2009-08-07 2011-02-24 Samsung Electronics Co Ltd テスター、及びこれを具備した半導体デバイス検査装置
US8779792B2 (en) 2009-08-07 2014-07-15 Samsung Electronics Co., Ltd. Tester and semiconductor device test apparatus having the same

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