JPH0883825A - プローブ装置 - Google Patents

プローブ装置

Info

Publication number
JPH0883825A
JPH0883825A JP6215870A JP21587094A JPH0883825A JP H0883825 A JPH0883825 A JP H0883825A JP 6215870 A JP6215870 A JP 6215870A JP 21587094 A JP21587094 A JP 21587094A JP H0883825 A JPH0883825 A JP H0883825A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
probe card
probe
wiring board
chamber
frame
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP6215870A
Other languages
English (en)
Inventor
Kunio Sano
國夫 佐野
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Tokyo Electron Ltd
Tokyo Electron Yamanashi Ltd
Original Assignee
Tokyo Electron Ltd
Tokyo Electron Yamanashi Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Tokyo Electron Ltd, Tokyo Electron Yamanashi Ltd filed Critical Tokyo Electron Ltd
Priority to JP6215870A priority Critical patent/JPH0883825A/ja
Priority to GB9516355A priority patent/GB2293268B/en
Priority to US08/512,915 priority patent/US5604446A/en
Priority to SG1995001180A priority patent/SG34255A1/en
Publication of JPH0883825A publication Critical patent/JPH0883825A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01RMEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
    • G01R1/00Details of instruments or arrangements of the types included in groups G01R5/00 - G01R13/00 and G01R31/00
    • G01R1/02General constructional details
    • G01R1/06Measuring leads; Measuring probes
    • G01R1/067Measuring probes
    • G01R1/073Multiple probes
    • G01R1/07307Multiple probes with individual probe elements, e.g. needles, cantilever beams or bump contacts, fixed in relation to each other, e.g. bed of nails fixture or probe card
    • G01R1/0735Multiple probes with individual probe elements, e.g. needles, cantilever beams or bump contacts, fixed in relation to each other, e.g. bed of nails fixture or probe card arranged on a flexible frame or film

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Measuring Leads Or Probes (AREA)
  • Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
  • Testing Of Individual Semiconductor Devices (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】電極パッドに対してプローブ装置の接触子を確
実に接触させる。 【構成】プローブ装置は半導体ウェハWの載置台13を
有し、その上方にプリント配線板42が配設される。プ
リント配線板42には可撓性の膜状プローブカード12
が取付けられる。プローブカード12は、ウェハWの電
極パッドEPに接触する接触子28が配置された主領域
27を有する。プローブカード21の裏面には平面性を
付与するための硬質の矩形フレーム29が接合される。
プローブカード21の裏側に、接触子28をウェハWの
電極パッドEPと弾力的に接触させるための伸縮チャン
バ54が配設される。伸縮チャンバ54とプローブカー
ド12との間には硬質なベース56と弾性層57とを有
する押圧板55が配設される。押圧板55により、主領
域27がウェハWに対して平行に押出される。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、半導体デバイスのよう
な被検査体の電気的特性を検査するプローブ装置に関す
る。
【0002】
【従来の技術】周知の如く、半導体デバイスは、半導体
ウェハ上に精密写真転写技術等を用いて多数形成され、
この後、各半導体デバイス毎にウェハは切断される。こ
のような半導体デバイスの製造工程では、従来からプロ
ーブ装置を用いて、半完成品の半導体デバイスの電気的
な特性の検査を、半導体ウェハの状態で行い、この試験
測定の結果、良品と判定されたもののみをパッケージン
グ等の後工程に送り、生産性の向上を図ることが行われ
ている。
【0003】この種のプローブ装置は、X−Y−Z−θ
方向に移動可能に構成された、被検査体を載置するため
の載置台を備える。載置台の上方には、被検査体として
の半導体ウェハの電極パッドに対応した多数のプローブ
針を備えたプローブカードが固定される。そして、載置
台上に半導体ウェハを設置し、載置台を駆動して半導体
ウェハの電極パッドにプローブ針を接触させ、このプロ
ーブ針を介してテスタにより試験測定を行う。
【0004】ところが、近年、半導体デバイスが益々微
細化し、回路の集積度が高くなってきており、電極パッ
ドのサイズが微細化し、その間隔も極狭くなってきてい
る。例えば、半導体デバイスの各電極パッドは、一辺が
60μm〜100μm角であり、各電極パッド列の相互
間ピッチ距離は100μm〜200μmである。従っ
て、前述のように、プローブカードの限られたスペース
に、例えば数百本と多数本のプローブ針を配置すること
が技術的に困難で、限界に近付きつつある。
【0005】そこで、特開平2−126159号及び特
開平2−163664号等の公報にし示されるように、
所定のパターン配線を有する膜部材に複数の電極バンプ
を設けた、いわゆるメンブレンタイプのプローブカード
が提案されている。
【0006】特開平2−126159号に記載のプロー
ブ装置は、多数の電極バンプを有し且つ環状移動枠に張
付けられた膜部材を有する。膜部材の周縁部は支持体で
支持されると共に、支持体と環状移動枠との間に板バネ
が架設される。また、膜部材の裏面にはクッションが張
付けられ、クッションによりウェハの電極パッドの高低
差が吸収される。検査時には、板バネの弾力に抗して、
膜部材が環状移動枠と一体的に垂直方向に移動し、その
電極バンプがウェハの電極パッドに弾力的に接触する。
【0007】特開平2−163664号に記載のプロー
ブ装置は、揺動可能な回転板が膜の裏面に設けられる以
外は特開平2−126159号と概ね同様に構成され
る。この装置では、検査時にウェハと膜部材とが平行状
態にない場合、回転板が回転することにより膜部材がウ
ェハと徐々に平行になり、弾力的に接触する。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、集積
度の高い半導体デバイスの検査に適し、デバイスの電極
パッドに対して接触子を確実に接触させて測定を行うこ
とができるプローブ装置を提供することにある。
【0009】
【課題を解決するための手段】本発明の第1の視点に係
る、複数の電極パッドを具備する被検査体の電気的特性
を検査するためのプローブ装置は、前記被検査体を載置
するための載置面を具備する載置台と、前記載置台の上
方に配設された配線板と、前記配線板は、装置筐体に支
持された高い剛性を有する基板と前記基板上に配設され
且つテスタに電気的に接続されたボード配線とを具備す
ることと、前記配線板に支持されたプローブカードと、
前記プローブカードは可撓性で且つ絶縁性の膜と前記膜
上に形成され且つ前記配線板の前記ボード配線に電気的
に接続された可撓性のカード配線とを具備することと、
前記プローブカードは、前記被検査体の前記電極パッド
の夫々に接触するための複数の接触子が配置された主領
域を前記載置面に対向する表側に具備することと、前記
接触子はカード配線に電気的に接続されることと、前記
プローブカードを前記配線板に取付けるための取付け手
段と、前記プローブカードの前記主領域の裏に配設さ
れ、流体の供給と排出とにより膨脹及び収縮する伸縮チ
ャンバと、前記伸縮チャンバは、その膨脹時に、前記プ
ローブカードの前記主領域を裏側から押し、前記主領域
の前記接触子を、前記被検査体の前記電極パッドに対し
て弾性的に接触させることと、前記伸縮チャンバに前記
流体を供給する供給手段と、前記伸縮チャンバから前記
流体を排出する排出手段と、前記伸縮チャンバと前記プ
ローブカードの前記主領域との間に配設された高い剛性
を有する平坦板と、前記平坦板は、その輪郭内に前記接
触子の全てが位置するように設定されることと、前記平
坦板は、前記伸縮チャンバの膨脹時に、前記プローブカ
ードの前記主領域を、前記載置面に対して実質的に平行
な状態で裏側から押すように配置されることと、を具備
する。
【0010】本発明の第2の視点に係る、複数の電極パ
ッドを具備する被検査体の電気的特性を検査するための
プローブ装置は、前記被検査体を載置するための載置面
を具備する載置台と、前記載置台の上方に配設された配
線板と、前記配線板は、装置筐体に支持された高い剛性
を有する基板と前記基板上に配設され且つテスタに電気
的に接続されたボード配線とを具備することと、前記配
線板に支持されたプローブカードと、前記プローブカー
ドは可撓性で且つ絶縁性の膜と前記膜上に形成され且つ
前記配線板の前記ボード配線に電気的に接続された可撓
性のカード配線とを具備することと、前記プローブカー
ドは、前記被検査体の前記電極パッドの夫々に接触する
ための複数の接触子が配置された主領域を前記載置面に
対向する表側に具備することと、前記接触子はカード配
線に電気的に接続されることと、前記プローブカードを
前記配線板に取付けるための取付け手段と、前記プロー
ブカードの前記主領域を包囲するように、前記プローブ
カードの裏側に接合された高い剛性を有するフレーム
と、前記フレームは、これに包囲された前記主領域を含
む前記プローブカードの部分に平面性を付与するための
平面を具備することと、前記プローブカードの前記主領
域の裏に配設された弾性部材と、前記弾性部材は、前記
プローブカードの前記主領域を裏側から押し、前記主領
域の前記接触子を、前記被検査体の前記電極パッドに対
して弾性的に接触させることと、を具備する。
【0011】
【作用】本発明の第1の視点においては、プローブカー
ドの主領域が、伸縮チャンバの下に配置された平坦板に
より平行に押出されるため、主領域の接触子が被検査体
の電極パッドに確実に接触するようになる。
【0012】本発明の第2の視点においては、プローブ
カードの主領域が、その裏側を包囲するように配設され
たフレームにより平面性を付与されるため、主領域の接
触子が被検査体の電極パッドに確実に接触するようにな
る。
【0013】
【実施例】図1において、プローブ装置の装置本体10
のほぼ中央にはメインステージ11が設けられる。メイ
ンステージ11には、被検査体である半導体ウェハWを
載置するための水平な載置面を有する載置台13が配設
される。メインステージ11は水平面内においてX方向
並びにY方向に載置台13と共に移動可能になってい
る。載置台13の上方にはプローブ機構14が設けられ
る。装置本体10の中央手前側にはアラインメントユニ
ット(図示せず)が設けられる。アライメントユニット
には、アラインメント用の画像認識装置としてのカメラ
が設けられる。アラインメントのために、載置台13は
カメラの下方まで移動される。
【0014】装置本体10の右側にはオートローダ15
が配設される。オートローダ15には、多数の半導体ウ
ェハWを互いに垂直方向に所定間隔をおいて収容するウ
ェハカセットCが、カセット載置台18上に交換可能に
配置される。ウェハカセットCと前記載置台13との間
には水平面内で移動可能なローダステージ19と、Y方
向駆動機構とZ方向昇降機構とにより駆動可能なウェハ
ハンドリングアーム12とが設けられる。
【0015】半導体ウェハWをプローブ検査する時は、
ウェハはローダステージ19により載置台13近くに搬
送され、ハンドリングアーム12により載置台13上に
移される。検査後は、ウェハはハンドリングアーム12
によりローダステージ19上に移され、ローダステージ
19によりウェハカセットCに搬送される。
【0016】装置本体10の左側にはプローブカード交
換機16が配設される。プローブカード交換機16には
複数種類のプローブカード21がカードホルダ17に対
して支持され、垂直方向に所定間隔を有して複数個収容
される。
【0017】プローブ機構14の上にはコンタクトリン
グ66及びテストヘッド68が夫々着脱自在に配置され
る。コンタクトリング66は、下方及び上方に突出する
導電性ピン67a、67bを具備する。コンタクトリン
グ66は、ピン67a介して、プローブ機構14のプリ
ント配線板42と電気的に接続され、ピン67bを介し
て、テストヘッド68と電気的に接続される。テストヘ
ッド68はテスタ69に接続される。テスタ69は、所
定の電源電圧や検査パルス信号を半導体ウェハWのチッ
プに印加し、チップ側からの出力信号を取り込んでチッ
プの良否を判定する。
【0018】次に、図2を参照して載置台13を説明す
る。載置台13は、Y方向に延在される2本のレールに
沿ってY方向に移動可能なYステージ31aと、Yステ
ージ31a上をX方向に延在される2本のレールに沿っ
てX方向に移動可能なXステージ31bとを備える。
Y、Xステージ31a、31bは、パルスモータなどを
含む慣用の駆動機構によって水平面内をY方向とX方向
とに駆動される。Xステージ31b上に搭載されたチャ
ック32は、周知の昇降機構によって垂直方向(Z方
向)に駆動されると共に、その中心を通る垂直中心線の
周りを周知の回転機構によって回転されるようになって
いる。
【0019】Xステージ31bの側面には昇降部材34
が固定される。昇降部材34には上下方向に昇降自在な
移動カメラ33が保持される。移動カメラ33は、高倍
率部33aと低倍率部33bとから構成される。
【0020】チャック32の側面には、その径方向に水
平に突出する小片35が固定される。小片35は、導電
性薄膜、例えばITO(indium tin oxide)薄膜或いは
クロムを用いて描かれた十字マークの中心によって定義
されるターゲット35aが表面に形成された短冊状の透
明板からなる。ターゲット35aはカメラ33により
X、Y、Z方向の位置を検出する際の基準点として機能
する。また、十字状の薄膜の周辺には、これを覆うよう
に導電性透明薄膜、例えばITOの薄膜が配設される。
導電性透明薄膜は、静電容量センサによるZ方向の位置
検出を可能とするために配設される。
【0021】ターゲット35aが形成された小片35
は、チャック32の回転により移動カメラ33の高倍率
部の光軸上に移動し、且つここから退避できるようにな
っている。また、小片35はチャック32に着脱自在に
取付けるように構成することも可能である。
【0022】次に、図3及び図4を参照してプローブ機
構14を説明する。装置本体10の上部にはメインステ
ージ11に対向して開口40が設けられる。開口40は
段部41の内縁により規定され、段部41には開口40
を閉塞するようにプリント配線板42がねじ43によっ
て固定される。
【0023】プリント配線板42は硬質で機械的強度の
高いガラスエポキシ基板44と、その上面及び下面に形
成されたプリント配線45a、45bとを具備する。配
線板42にはその中央を基準として左右対称的に複数の
ソケット46を配置したコネクタ部47が設けられる。
更に、これらコネクタ部47には配線板42を貫通する
取付け孔48が形成される。
【0024】また、左右のコネクタ部47相互間に位置
するプリント配線板42の下面には硬質の合成樹脂材料
または金属材料からなる支持ブロック49がねじまたは
接着剤によって固定される。支持ブロック49は肉厚の
矩形枠状に形成され、中央に平面形状が矩形の開口50
が形成される。支持ブロック49はまた、開口40を包
囲する段部51を具備し、ここにプローブカード21が
ねじ52によって着脱可能に取付けられる。
【0025】プローブカード21は、ポリイミド樹脂、
シリコーン樹脂等の可撓性且つ絶縁性の材料から矩形の
膜22と、この上に形成された、銅、銅合金等からなる
フレキシブルプリント回路(FPC)23とを有する。
膜22の長手方向の両端部には、プリント回路23に接
続された複数のピン25を有するコネクタ部24が配設
される。コネクタ部24には、貫通孔26が形成された
硬質の絶縁樹脂板が接着される。
【0026】膜22の下面中央には、プリント回路23
に接続された金、金合金等からなる多数の接触子28が
配置された主領域27が形成される。主領域27は半導
体ウェハWの1つのデバイス即ちチップと概ね同サイズ
に形成される。接触子28はチップの電極パッドに対応
して配置され且つ膜22の下面から突出する。
【0027】主領域27の周囲に位置する膜22の上面
にはアルミニウム材料等の剛性を有する材料によって形
成された矩形枠状のフレーム29が一体に接着される。
フレーム29は、平坦で均一な厚さを有し、これに包囲
されたプローブカード21の主領域27及びその周囲に
平面性を付与する。プローブカード21は、フレーム2
9が支持ブロック49の下面の係合段部51に嵌合する
ことにより、プリンと配線板42に対して位置決めされ
る。プローブカード21は、フレーム29が支持ブロッ
ク49に対してねじ52により固定されることにより、
プリント配線板42に支持される。フレーム29は、支
持ブロック49に対して真空吸着等によって位置決め固
定されることも可能である。
【0028】支持ブロック49の係合段部51により包
囲される面51aは水平で、従って、フレーム29が支
持ブロック49に取付けられた状態において、フレーム
29に包囲されたプローブカード21の主領域27及び
その周囲は、ウェハWを載せる載置台13の載置面と平
行となる。プローブカード21の膜22は可撓性を有す
る材料で形成されるため、全体がフレキシブル性に富ん
でいるが、フレーム29によって平面性及び水平性が付
与され、また伸び、撓みが規制されることにより接触子
28のピッチが維持される。
【0029】膜22の両端部のコネクタ部24は、プリ
ント配線板42のコネクタ部47に夫々位置決めされ、
ピン25がソケット46に接続される。これにより、プ
リント配線板42とプローブカード21とが電気的に接
続される。更に、コネクタ部24に設けられた貫通孔2
6及びプリント配線板42の取付け孔48に下側からね
じ53aが挿入され、プリント配線板42の上面側でね
じ53aにナット53bが締め付けられる。これによ
り、プローブカード21のコネクタ部24がプリント配
線板42に固定される。
【0030】従って、プリント配線板42に対してプロ
ーブカード21が電気的及び機械的に接続状態となり、
プローブカード21の中間部は支持ブロック49の存在
によってコネクタ部24より僅かに下方へ突出した状態
になる。ここで、重要なことは、載置台13に載置され
た半導体ウェハWに対してプローブカード21の主領域
27を平行に保つことにある。本実施例の装置では、フ
レーム29の存在によりプリント配線板42の下面を基
準面としてプローブカード21を取付けることができ、
主領域27と半導体ウェハWとの平行性を簡単に、しか
も正確に保つことができる。
【0031】支持ブロック49の開口50には伸縮チャ
ンバ54が収納される。伸縮チャンバ54は内部に気体
または液体を収納する可撓性を有する袋体によって形成
される。伸縮チャンバ54の下面には平坦な押圧板55
が接着される。押圧板55は、伸縮チャンバ54の材料
に比べて遥かに硬質な金属または合成樹脂等の材料から
なるベース56を有する。ベース56の下面には、これ
よりも小さな平面輪郭を有する弾性材料からなる2つの
弾性層57が接着される。伸縮チャンバ54の膨脹と収
縮とに応じて弾性層57の下面がプローブカード21に
形成された主領域27の裏面を押圧及び解放する。
【0032】ベース56及び2つの弾性層57は共に均
一な厚さを有し、従って、ベース56の上面と弾性層5
7の下面とは実質的に平行をなす。弾性層57の下面
は、主領域27の全てをカバーする寸法を有する。換言
すると、主領域27に配設された接触子28の全てがベ
ース56の平面輪郭内で且つ弾性層57の平面輪郭内に
位置する。
【0033】押圧板55を含む伸縮チャンバ54の周囲
には横方向の膨張を規制するための円筒形のガイド58
が囲繞して設けられる。ガイド58の下端部には弾性層
57から側方に延在するベース56の周縁部と当接して
伸縮チャンバ54の下降ストロークを規制するストッパ
58aが一体に設けられる。ストッパ58aの下面は平
坦で、支持ブロック49に取付けられた状態のフレーム
29の下面と実質的に同一平面内に位置するように設定
される。
【0034】伸縮チャンバ54は、所定量以上の流体が
供給されて加圧された時、膨張してその上面がプリント
配線板42に、下面が押圧板55を介してプローブカー
ド21の裏面に圧接する。この際、押圧板55は、プロ
ーブカード21の主領域27を載置台13の載置面と平
行に、即ちウェハWと平行に押出す。逆に、流体が排出
されて内部が減圧されると、伸縮チャンバ54は収縮
し、押圧板55がプローブカード21の裏面から離れ
る。
【0035】伸縮チャンバ54には圧力センサ59が接
続されると共に、流体供給源(図示せず)と接続される
流入管60及び流出管61が接続される。流入管60及
び流出管61には夫々電磁バルブ60a、61aが設け
られる。電磁バルブ60a、61aは圧力センサ59の
圧力検出信号に基づいて制御装置62により開閉され、
伸縮チャンバ54の圧力がコントロールされる。例え
ば、制御装置62には圧力センサ59の圧力検出信号を
受信するCPU63及びCPU63からの出力信号によ
って電磁バルブ60a、61aの開閉及び開度調整する
流量コントローラ64、65が設けられる。
【0036】次に、プローブ装置の作用について説明す
る。まず、ウェハカセットCの内部の半導体ウェハWを
ハンドリングアーム12によって把持してメインステー
ジ11の載置台13に受け渡す。載置台13にはチャッ
ク32が設けられ、ウェハWをチャッキングした後、公
知の手段によってチャック32をX、Y、θ方向の位置
調整し、プローブカード21とウェハWとの平面方向の
位置合わせを行う。
【0037】1枚のウェハWには例えば64個の半導体
チップが形成されており、プローブカード21には1個
の半導体チップに対応する主領域27が設けられる。こ
のため、チャック32をX、Y、θ方向に位置調整し、
プローブカード21の主領域27と半導体ウェハWの半
導体チップとを位置決めする。
【0038】次に、載置台13をZ方向、つまり上昇さ
せ、半導体チップの電極パッドEPとプローブカード2
1の主領域27に設けられた接触子28とを、0.1〜
1mmの僅かな隙間を介して対面させる。この時、プロ
ーブカード21の裏面側に設けられた伸縮チャンバ54
は減圧状態にあり、図5図示の如く、押圧板55がプロ
ーブカード21の裏面から離間した状態にある。
【0039】次に、図6図示の如く、所定量の流体を供
給されることにより伸縮チャンバ54が膨張し、プロー
ブカード21を押圧板55を介して裏面側から弾性的に
押圧し、プローブカード21の主領域27を下方へ水平
に突出させる。これにより、半導体チップの電極パッド
EPとプローブカード21の主領域27に設けられた接
触子28とが弾性的に接触する。即ち、半導体チップの
電極パッドEPは接触子28を介してプローブカード2
1に電気的に接続される。
【0040】従って、半導体ウェハWはプローブカード
21からテストヘッド68を介してテスタ69に電気的
に導通状態となり、テストヘッド68は所定の電圧や検
査信号を半導体ウェハWの半導体チップに与え、半導体
チップ側からの出力信号を取り込んでチップの良否を判
定する。
【0041】図示の実施例の如く、プローブカード21
に剛性を有するフレーム29が設けられ、プリント配線
板42を基準面としてプローブカード21が取付けられ
ているため、主領域27とウェハWとの平行性が得やす
い。しかも、プローブカード21の主領域27が、平坦
な押圧板55を介して裏面側から伸縮チャンバ54によ
って押圧されているため、主領域27とウェハWとの平
行性を維持することができる。また、プローブカード2
1が可撓性を有し且つ伸縮チャンバ54によって主領域
27に押圧力が付与されるため、及び押圧板55の下面
に弾性層57が形成されているため、ウェハWの電極パ
ッドに対して接触子28を弾性的に接触させることがで
きる。その結果、ウェハWの電極パッドに多少の凹凸が
存在しても、電極パッドと接触子28とが確実に接触す
る。
【0042】伸縮チャンバ54の内部圧力は圧力センサ
59によって常時検出され、CPU63に検出信号が送
信される。従って、内部圧力が低下した場合、CPU6
3から流量コントローラ64に開弁指令信号が出力さ
れ、流量コントローラ64によって電磁バルブ60aが
開放される。従って、伸縮チャンバ54に流体が供給さ
れ、その内部圧力が上昇する。
【0043】また、周囲温度の上昇等の何等かの影響に
よって伸縮チャンバ54の内部圧力が上昇した場合、C
PU63から流量コントローラ65に開弁指令信号が出
力され、流量コントローラ65によって電磁バルブ61
aが開放される。従って、伸縮チャンバ54から流体が
排出され、その内部圧力が低下する。
【0044】押圧板55を含む伸縮チャンバ54はガイ
ド58によって囲繞され、その下端部にストッパ58a
が設けられるため、押圧板55がストッパ58aに当接
した時点で電磁バルブ60a、61aを閉鎖させること
ができる。これにより、伸縮チャンバ54の内圧を一定
に保つことができる。また、ストッパ58aによって伸
縮チャンバ54の下降ストロークを規制することができ
るため、プローブカード21を過剰に押圧して破損させ
ることを未然に防止できる。
【0045】なお、上記実施例においては、コネクタ部
24が支持ブロック49とは別に形成されているが、コ
ネクタ部24を支持ブロック49の一部として形成する
ことも可能である。
【0046】図7は本発明の別の実施例に係るプローブ
装置のプローブ機構を示す断面図である。図7中、図3
図示のプローブ機構と同じ部分には同じ符号を付し、そ
れらの説明を省略する。本実施例におけるプローブカー
ド71は、可撓性を有する矩形状の絶縁膜72と、その
上に形成されたにフレキシブルプリント回路(FPC)
73とを具備する。膜72の長手方向の両端部には多数
の電極バンプまたはパッド75を有するコネクタ部74
が設けられる。電極パッド75はフレキシブルプリント
回路73と電気的に接続される。コネクタ部74には貫
通孔76が形成される。
【0047】膜72の長手方向の中間部には図3図示の
プローブ機構と同様に主領域27が設けられる。主領域
27には、半導体ウェハWの1つのチップの電極パッド
と同じ配置となるように、多数の接触子28が膜72の
下面から突出した状態に設けられる。
【0048】膜72の両端部に配設された電極パッド7
5は、プリント配線板42に設けられた電極パッド79
に夫々接触し、プリント配線板42とプローブカード7
1とが電気的に接続される。プローブカード71のコネ
クタ部74の貫通孔76及びプリント配線板42の取付
け孔48に下側からねじ53aが挿入され、プリント配
線板42の上側でナット53bによりねじ53aが締め
付けられる。
【0049】プローブカード71によれば、プリント配
線板42とプローブカード71との電気的な接続に、先
の実施例で用いられたソケット46及びピン25のよう
な複雑な構造が不要となる。従って、プリント配線板4
2及びプローブカード71の構造が簡素化される。ま
た、プリント配線板42の下面から大きく突出するソケ
ットがないため、他の部材との干渉を防止できる。
【0050】なお、上記両実施例においては、プローブ
カード21、71の主領域27は、半導体ウェハWに設
けられた、例えば64個の半導体チップの内、1個の半
導体チップに対応するように形成されている。しかし、
主領域27は、複数の半導体チップを一度に測定する
か、或いは、全ての、例えば64個の半導体チップを一
度に測定するように形成することもできる。
【0051】
【発明の効果】本発明によれば、集積度の高い半導体デ
バイスの検査に適し、デバイスの電極パッドに対して接
触子を確実に接触させて測定を行うことができるプロー
ブ装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施例に係るプローブ装置の全体を示
す概略図。
【図2】図1図示プローブ装置の載置台を示す斜視図。
【図3】図1図示プローブ装置のプローブ機構を示す断
面図。
【図4】図1図示プローブ装置のプローブカードを示す
斜視図。
【図5】図1図示プローブ装置の非検査状態におけるプ
ローブ機構を示す断面図。
【図6】図1図示プローブ装置の検査状態におけるプロ
ーブ機構を示す断面図。
【図7】本発明の別の実施例に係るプローブ装置のプロ
ーブ機構を示す断面図。
【符号の説明】
13…載置台、14…プローブ機構、21…プローブカ
ード、27…主領域、28…接触子、29…フレーム、
42…プリント配線板、49…支持ブロック、54…伸
縮チャンバ、55…押圧板、58…ガイド。

Claims (20)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】複数の電極パッドを具備する被検査体の電
    気的特性を検査するためのプローブ装置であって、 前記被検査体を載置するための載置面を具備する載置台
    と、 前記載置台の上方に配設された配線板と、前記配線板
    は、装置筐体に支持された高い剛性を有する基板と前記
    基板上に配設され且つテスタに電気的に接続されたボー
    ド配線とを具備することと、 前記配線板に支持されたプローブカードと、前記プロー
    ブカードは可撓性で且つ絶縁性の膜と前記膜上に形成さ
    れ且つ前記配線板の前記ボード配線に電気的に接続され
    た可撓性のカード配線とを具備することと、前記プロー
    ブカードは、前記被検査体の前記電極パッドの夫々に接
    触するための複数の接触子が配置された主領域を前記載
    置面に対向する表側に具備することと、前記接触子はカ
    ード配線に電気的に接続されることと、 前記プローブカードを前記配線板に取付けるための取付
    け手段と、 前記プローブカードの前記主領域の裏に配設され、流体
    の供給と排出とにより膨脹及び収縮する伸縮チャンバ
    と、前記伸縮チャンバは、その膨脹時に、前記プローブ
    カードの前記主領域を裏側から押し、前記主領域の前記
    接触子を、前記被検査体の前記電極パッドに対して弾性
    的に接触させることと、 前記伸縮チャンバに前記流体を供給する供給手段と、 前記伸縮チャンバから前記流体を排出する排出手段と、 前記伸縮チャンバと前記プローブカードの前記主領域と
    の間に配設された高い剛性を有する平坦板と、前記平坦
    板は、その輪郭内に前記接触子の全てが位置するように
    設定されることと、前記平坦板は、前記伸縮チャンバの
    膨脹時に、前記プローブカードの前記主領域を、前記載
    置面に対して実質的に平行な状態で裏側から押すように
    配置されることと、を具備するプローブ装置。
  2. 【請求項2】前記平坦板が前記伸縮チャンバに接合され
    る請求項1記載の装置。
  3. 【請求項3】前記平坦板上に配設された弾性層を更に具
    備し、前記弾性層は前記平坦板と前記プローブカードの
    前記主領域との間に配設され且つその輪郭内に前記接触
    子の全てが位置するように設定される請求項1記載の装
    置。
  4. 【請求項4】前記伸縮チャンバの周囲に密着して配設さ
    れたガイドを更に具備し、前記ガイド部材は、端部に前
    記伸縮チャンバの膨脹を規制するストッパを具備する請
    求項1記載の装置。
  5. 【請求項5】前記平坦板が、前記ストッパと係合する当
    接部を具備し、前記伸縮チャンバの膨脹が前記ストッパ
    と前記平坦板の当接部との係合により規制される請求項
    4記載の装置。
  6. 【請求項6】前記プローブカードの前記主領域を包囲す
    るように、前記プローブカードの裏側に接合された高い
    剛性を有するフレームを更に具備し、前記フレームは、
    これに包囲された前記主領域を含む前記プローブカード
    の部分に平面性を付与するための平面を具備する請求項
    1記載の装置。
  7. 【請求項7】前記フレームの前記平面が前記載置面に対
    して実質的に平行となるように、前記配線板に対して前
    記フレームを位置決めするための位置決め面を更に具備
    する請求項6記載の装置。
  8. 【請求項8】前記取付け手段が、前記フレームを前記位
    置決め面に着脱自在に固定する部材を具備する請求項7
    記載の装置。
  9. 【請求項9】前記伸縮チャンバ内の圧力を検出すると共
    に、前記流体の供給手段若しくは排出手段を作動させ、
    前記伸縮チャンバ内の圧を制御するための圧力制御部材
    を更に具備する請求項1記載の装置。
  10. 【請求項10】複数の電極パッドを具備する被検査体の
    電気的特性を検査するためのプローブ装置であって、 前記被検査体を載置するための載置面を具備する載置台
    と、 前記載置台の上方に配設された配線板と、前記配線板
    は、装置筐体に支持された高い剛性を有する基板と前記
    基板上に配設され且つテスタに電気的に接続されたボー
    ド配線とを具備することと、 前記配線板に支持されたプローブカードと、前記プロー
    ブカードは可撓性で且つ絶縁性の膜と前記膜上に形成さ
    れ且つ前記配線板の前記ボード配線に電気的に接続され
    た可撓性のカード配線とを具備することと、前記プロー
    ブカードは、前記被検査体の前記電極パッドの夫々に接
    触するための複数の接触子が配置された主領域を前記載
    置面に対向する表側に具備することと、前記接触子はカ
    ード配線に電気的に接続されることと、 前記プローブカードを前記配線板に取付けるための取付
    け手段と、 前記プローブカードの前記主領域を包囲するように、前
    記プローブカードの裏側に接合された高い剛性を有する
    フレームと、前記フレームは、これに包囲された前記主
    領域を含む前記プローブカードの部分に平面性を付与す
    るための平面を具備することと、 前記プローブカードの前記主領域の裏に配設され、流体
    の供給と排出とにより膨脹及び収縮する伸縮チャンバ
    と、前記伸縮チャンバは、その膨脹時に、前記プローブ
    カードの前記主領域を裏側から押し、前記主領域の前記
    接触子を、前記被検査体の前記電極パッドに対して弾性
    的に接触させることと、 前記伸縮チャンバに前記流体を供給する供給手段と、 前記伸縮チャンバから前記流体を排出する排出手段と、
    を具備するプローブ装置。
  11. 【請求項11】前記フレームの前記平面が前記載置面に
    対して実質的に平行となるように、前記配線板に対して
    前記フレームを位置決めするための位置決め面を更に具
    備する請求項10記載の装置。
  12. 【請求項12】前記取付け手段が、前記フレームを前記
    位置決め面に着脱自在に固定する部材を具備する請求項
    11記載の装置。
  13. 【請求項13】前記伸縮チャンバと前記プローブカード
    の前記主領域との間に配設された高い剛性を有する平坦
    板を更に具備し、前記平坦板は、その輪郭内に前記接触
    子の全てが位置するように設定され、且つ前記伸縮チャ
    ンバの膨脹時に、前記プローブカードの前記主領域を、
    前記載置面に対して実質的に平行な状態で裏側から押す
    ように配置される請求項10記載の装置。
  14. 【請求項14】前記平坦板が前記伸縮チャンバに接合さ
    れる請求項13記載の装置。
  15. 【請求項15】前記平坦板上に配設された弾性層を更に
    具備し、前記弾性層は前記平坦板と前記プローブカード
    の前記主領域との間に配設され且つその輪郭内に前記接
    触子の全てが位置するように設定される請求項13記載
    の装置。
  16. 【請求項16】前記伸縮チャンバの周囲に密着して配設
    されたガイドを更に具備し、前記ガイド部材は、端部に
    前記伸縮チャンバの膨脹を規制するストッパを具備する
    請求項13記載の装置。
  17. 【請求項17】前記平坦板が、前記ストッパと係合する
    当接部を具備し、前記伸縮チャンバの膨脹が前記ストッ
    パと前記平坦板の当接部との係合により規制される請求
    項16記載の装置。
  18. 【請求項18】前記伸縮チャンバ内の圧力を検出すると
    共に、前記流体の供給手段若しくは排出手段を作動さ
    せ、前記伸縮チャンバ内の圧を制御するための圧力制御
    部材を更に具備する請求項10記載の装置。
  19. 【請求項19】複数の電極パッドを具備する被検査体の
    電気的特性を検査するためのプローブ装置であって、 前記被検査体を載置するための載置面を具備する載置台
    と、 前記載置台の上方に配設された配線板と、前記配線板
    は、装置筐体に支持された高い剛性を有する基板と前記
    基板上に配設され且つテスタに電気的に接続されたボー
    ド配線とを具備することと、 前記配線板に支持されたプローブカードと、前記プロー
    ブカードは可撓性で且つ絶縁性の膜と前記膜上に形成さ
    れ且つ前記配線板の前記ボード配線に電気的に接続され
    た可撓性のカード配線とを具備することと、前記プロー
    ブカードは、前記被検査体の前記電極パッドの夫々に接
    触するための複数の接触子が配置された主領域を前記載
    置面に対向する表側に具備することと、前記接触子はカ
    ード配線に電気的に接続されることと、 前記プローブカードを前記配線板に取付けるための取付
    け手段と、 前記プローブカードの前記主領域を包囲するように、前
    記プローブカードの裏側に接合された高い剛性を有する
    フレームと、前記フレームは、これに包囲された前記主
    領域を含む前記プローブカードの部分に平面性を付与す
    るための平面を具備することと、 前記プローブカードの前記主領域の裏に配設された弾性
    部材と、前記弾性部材は、前記プローブカードの前記主
    領域を裏側から押し、前記主領域の前記接触子を、前記
    被検査体の前記電極パッドに対して弾性的に接触させる
    ことと、を具備するプローブ装置。
  20. 【請求項20】前記フレームの前記平面が前記載置面に
    対して実質的に平行となるように、前記配線板に対して
    前記フレームを位置決めするための位置決め面を更に具
    備する請求項19記載の装置。
JP6215870A 1994-09-09 1994-09-09 プローブ装置 Pending JPH0883825A (ja)

Priority Applications (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP6215870A JPH0883825A (ja) 1994-09-09 1994-09-09 プローブ装置
GB9516355A GB2293268B (en) 1994-09-09 1995-08-09 Probe apparatus
US08/512,915 US5604446A (en) 1994-09-09 1995-08-09 Probe apparatus
SG1995001180A SG34255A1 (en) 1994-09-09 1995-08-21 Probe apparatus

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP6215870A JPH0883825A (ja) 1994-09-09 1994-09-09 プローブ装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH0883825A true JPH0883825A (ja) 1996-03-26

Family

ID=16679633

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP6215870A Pending JPH0883825A (ja) 1994-09-09 1994-09-09 プローブ装置

Country Status (4)

Country Link
US (1) US5604446A (ja)
JP (1) JPH0883825A (ja)
GB (1) GB2293268B (ja)
SG (1) SG34255A1 (ja)

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001189354A (ja) * 1999-11-03 2001-07-10 Infineon Technologies Ag ニードルカードの調整装置
JP2005045216A (ja) * 2003-06-13 2005-02-17 Solid State Measurements Inc フレキシブルメンブレインプローブおよびその使用方法
JP2009099936A (ja) * 2007-05-15 2009-05-07 Tokyo Electron Ltd プローブ装置
WO2010140642A1 (en) * 2009-06-02 2010-12-09 Tokyo Electron Limited Probe card
WO2011074837A3 (ko) * 2009-12-15 2011-11-10 주식회사 프로이천 웨이퍼 솔더 범프용 프로브 장치
JP2019145584A (ja) * 2018-02-16 2019-08-29 株式会社ディスコ 光デバイスの検査方法及び光デバイス検査装置
KR20200036744A (ko) * 2018-09-28 2020-04-07 가부시키가이샤 니혼 마이크로닉스 프로브 카드 지지장치

Families Citing this family (47)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR0144230B1 (ko) * 1995-04-06 1998-08-17 김주용 웨이퍼 테스트용 프로브 스테이션의 프로브 카드 고정장치
US5825192A (en) * 1995-07-14 1998-10-20 Tokyo Electron Limited Probe card device used in probing apparatus
US5886877A (en) * 1995-10-13 1999-03-23 Meiko Electronics Co., Ltd. Circuit board, manufacturing method therefor, and bump-type contact head and semiconductor component packaging module using the circuit board
US6060891A (en) * 1997-02-11 2000-05-09 Micron Technology, Inc. Probe card for semiconductor wafers and method and system for testing wafers
US6798224B1 (en) 1997-02-11 2004-09-28 Micron Technology, Inc. Method for testing semiconductor wafers
JP3172760B2 (ja) * 1997-03-07 2001-06-04 東京エレクトロン株式会社 バキュームコンタクタ
TW399279B (en) 1997-05-08 2000-07-21 Tokyo Electron Limtied Prober and probe method
US6137299A (en) * 1997-06-27 2000-10-24 International Business Machines Corporation Method and apparatus for testing integrated circuit chips
US5973405A (en) * 1997-07-22 1999-10-26 Dytak Corporation Composite electrical contact structure and method for manufacturing the same
US6426636B1 (en) * 1998-02-11 2002-07-30 International Business Machines Corporation Wafer probe interface arrangement with nonresilient probe elements and support structure
JP3553791B2 (ja) * 1998-04-03 2004-08-11 株式会社ルネサステクノロジ 接続装置およびその製造方法、検査装置並びに半導体素子の製造方法
JP3282796B2 (ja) * 1998-04-13 2002-05-20 東京エレクトロン株式会社 アライナー
US6252414B1 (en) 1998-08-26 2001-06-26 International Business Machines Corporation Method and apparatus for testing circuits having different configurations with a single test fixture
US6137297A (en) * 1999-01-06 2000-10-24 Vertest Systemsn Corp. Electronic test probe interface assembly and method of manufacture
JP2001007165A (ja) * 1999-06-21 2001-01-12 Mitsubishi Electric Corp プローブカード装置
JP4223640B2 (ja) * 1999-09-14 2009-02-12 東京エレクトロン株式会社 プローブ方法及びプローブシステム
US6734690B1 (en) * 2000-04-29 2004-05-11 Hewlett-Packard Development Company, L.P. Back pressure test fixture to allow probing of integrated circuit package signals
US6972578B2 (en) * 2001-11-02 2005-12-06 Formfactor, Inc. Method and system for compensating thermally induced motion of probe cards
US7071714B2 (en) * 2001-11-02 2006-07-04 Formfactor, Inc. Method and system for compensating for thermally induced motion of probe cards
US6705095B2 (en) * 2002-03-08 2004-03-16 Kinetics Thermal Systems, Inc. Semiconductor process tool incorporating heat exchanger
US6753482B1 (en) 2002-05-06 2004-06-22 Micron Technology, Inc. Semiconductor component with adjustment circuitry
US6911835B2 (en) * 2002-05-08 2005-06-28 Formfactor, Inc. High performance probe system
US6965244B2 (en) * 2002-05-08 2005-11-15 Formfactor, Inc. High performance probe system
US6784676B2 (en) * 2002-09-25 2004-08-31 International Business Machines Corporation Pressurized electrical contact system
US6984996B2 (en) * 2003-05-01 2006-01-10 Celerity Research, Inc. Wafer probing that conditions devices for flip-chip bonding
TWI241669B (en) * 2003-05-01 2005-10-11 Celerity Res Inc Planarizing and testing of BGA packages
TWI255520B (en) * 2003-05-01 2006-05-21 Celerity Res Inc Device probing using a matching device
JP2005055330A (ja) * 2003-08-06 2005-03-03 Elpida Memory Inc 半導体装置への加圧装置
JP4521611B2 (ja) * 2004-04-09 2010-08-11 ルネサスエレクトロニクス株式会社 半導体集積回路装置の製造方法
US7068056B1 (en) * 2005-07-18 2006-06-27 Texas Instruments Incorporated System and method for the probing of a wafer
US20080036483A1 (en) * 2006-08-08 2008-02-14 Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. Probe card for flip chip testing
KR100790817B1 (ko) * 2006-12-06 2008-01-03 삼성전자주식회사 반도체 제조관리 시스템
KR100817083B1 (ko) * 2007-01-30 2008-03-26 삼성전자주식회사 프로브 카드
MY152599A (en) * 2007-02-14 2014-10-31 Eles Semiconductor Equipment S P A Test of electronic devices at package level using test boards without sockets
EP1959265A1 (en) * 2007-02-16 2008-08-20 Eles Semiconductor Equipment S.P.A. Testing integrated circuits on a wafer with a cartridge leaving exposed a surface thereof
JP5049694B2 (ja) * 2007-08-07 2012-10-17 ルネサスエレクトロニクス株式会社 プローブカード、半導体検査装置および半導体装置の製造方法
US20110122587A1 (en) * 2008-05-21 2011-05-26 Deming Stephen R Flexible circuit stretching
TWI368743B (en) * 2008-11-04 2012-07-21 King Yuan Electronics Co Ltd Probe card assembly and probes therein
US7987591B2 (en) * 2009-08-13 2011-08-02 International Business Machines Corporation Method of forming silicon chicklet pedestal
JP5448675B2 (ja) * 2009-09-25 2014-03-19 パナソニック株式会社 プローブカード及びそれを用いた半導体ウェーハの検査方法
US8797053B2 (en) * 2011-05-24 2014-08-05 Intel Corporation Positioning and socketing for semiconductor dice
WO2015139754A1 (de) * 2014-03-20 2015-09-24 Siemens Aktiengesellschaft Elektrisches modul mit spanneinrichtung
US9805891B2 (en) 2014-10-25 2017-10-31 ComponentZee, LLC Multiplexing, switching and testing devices and methods using fluid pressure
US9577358B2 (en) * 2014-10-25 2017-02-21 ComponentZee, LLC Fluid pressure activated electrical contact devices and methods
US10003149B2 (en) 2014-10-25 2018-06-19 ComponentZee, LLC Fluid pressure activated electrical contact devices and methods
US10295566B2 (en) * 2016-02-19 2019-05-21 Dpix, Llc Method of providing a high density test contact solution
US10772215B2 (en) * 2017-07-14 2020-09-08 International Business Machines Corporation Conductive polymers within drilled holes of printed circuit boards

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3970934A (en) * 1974-08-12 1976-07-20 Akin Aksu Printed circuit board testing means
US4636722A (en) * 1984-05-21 1987-01-13 Probe-Rite, Inc. High density probe-head with isolated and shielded transmission lines
US4820976A (en) * 1987-11-24 1989-04-11 Advanced Micro Devices, Inc. Test fixture capable of electrically testing an integrated circuit die having a planar array of contacts
US4912400A (en) * 1988-09-13 1990-03-27 Design And Manufacturing Specialties, Inc. Apparatus for testing circuit boards
JPH07109840B2 (ja) * 1989-03-10 1995-11-22 松下電器産業株式会社 半導体icの試験装置及び試験方法
US5225037A (en) * 1991-06-04 1993-07-06 Texas Instruments Incorporated Method for fabrication of probe card for testing of semiconductor devices
US5461326A (en) * 1993-02-25 1995-10-24 Hughes Aircraft Company Self leveling and self tensioning membrane test probe

Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001189354A (ja) * 1999-11-03 2001-07-10 Infineon Technologies Ag ニードルカードの調整装置
JP2005045216A (ja) * 2003-06-13 2005-02-17 Solid State Measurements Inc フレキシブルメンブレインプローブおよびその使用方法
JP2009099936A (ja) * 2007-05-15 2009-05-07 Tokyo Electron Ltd プローブ装置
WO2010140642A1 (en) * 2009-06-02 2010-12-09 Tokyo Electron Limited Probe card
WO2011074837A3 (ko) * 2009-12-15 2011-11-10 주식회사 프로이천 웨이퍼 솔더 범프용 프로브 장치
KR101108479B1 (ko) * 2009-12-15 2012-01-31 주식회사 프로이천 웨이퍼 솔더 범프용 프로브 장치
JP2019145584A (ja) * 2018-02-16 2019-08-29 株式会社ディスコ 光デバイスの検査方法及び光デバイス検査装置
KR20200036744A (ko) * 2018-09-28 2020-04-07 가부시키가이샤 니혼 마이크로닉스 프로브 카드 지지장치

Also Published As

Publication number Publication date
GB2293268B (en) 1996-08-14
SG34255A1 (en) 1996-12-06
GB9516355D0 (en) 1995-10-11
GB2293268A (en) 1996-03-20
US5604446A (en) 1997-02-18

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPH0883825A (ja) プローブ装置
JP2978720B2 (ja) プローブ装置
US5825192A (en) Probe card device used in probing apparatus
KR100196195B1 (ko) 프로우브 카드
US5550482A (en) Probe device
JP2963603B2 (ja) プローブ装置のアライメント方法
EP3282475B1 (en) Substrate holding method, substrate holding device, processing method and processing device
US5389873A (en) Pressure contact chip and wafer testing device
JPH0792479B2 (ja) プローブ装置の平行度調整方法
KR20020026852A (ko) 반도체 집적 회로 장치의 검사 장치 및 제조 방법
US20110025344A1 (en) Holding member for use in test and method for manufacturing same
WO2008015962A1 (fr) Mécanisme de réglage du parallélisme d'une carte sonde
US6130543A (en) Inspection method and apparatus for semiconductor integrated circuit, and vacuum contactor mechanism
US20080030211A1 (en) Active probe contact array management
JP2995134B2 (ja) プローブ装置
JPH0943276A (ja) プローブ装置に用いられるプローブカードデバイス
JPH05218150A (ja) プローブカード
US7059870B2 (en) IC socket
JPH0936188A (ja) プローブ装置に用いられるプローブカードデバイス
JP2002076073A (ja) ウェハの検査装置及びウェハの検査方法
JP2963828B2 (ja) プローブ装置
KR100283444B1 (ko) 프로우브장치
JPH09153528A (ja) プローブカードデバイス
JP3828299B2 (ja) ウェーハテストシステムでのz軸の高さ設定装置及び方法
JPH07221144A (ja) プローブ装置