JPH08320466A - アクティブマトリクス基板及びその欠陥修正方法 - Google Patents

アクティブマトリクス基板及びその欠陥修正方法

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JPH08320466A
JPH08320466A JP20485995A JP20485995A JPH08320466A JP H08320466 A JPH08320466 A JP H08320466A JP 20485995 A JP20485995 A JP 20485995A JP 20485995 A JP20485995 A JP 20485995A JP H08320466 A JPH08320466 A JP H08320466A
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active matrix
matrix substrate
common
pixel electrode
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Katsumi Irie
勝美 入江
Yuichiro Mochizuki
雄一郎 望月
Takafumi Hayama
貴文 端山
Takeshi Nagai
剛 長井
Hiroshi Shibuya
洋 渋谷
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Sharp Corp
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    • G02F1/136259Repairing; Defects
    • G02F1/136263Line defects

Abstract

(57)【要約】 【課題】 共通線とソース線あるいは絵素電極との短絡
欠陥を修正して、良品率の向上を図ることができるアク
ティブマトリクス基板及びその欠陥修正方法を提供する
ことにある。 【解決手段】 共通線3は、各ゲート線4に平行に形
成され、それら平行線を結ぶ線をゲート線端子1a側の
基板端部にソース線2に平行に形成する。ゲート線端子
1aの反対側の基板端部にもソース線2と平行で各平行
線を結ぶ線を形成し、端子3bも形成する。これら両端
子3a,3bより、対向電極6に印加されているコモン
信号と同様の信号を印加する。ソース線2と共通線3の
交差部では、また、ソース線2の両側近傍に位置する絵
素電極5にくびれ部9を設ける。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、複数の絵素電極と
該絵素電極を駆動するためのスイッチング素子とがマト
リクス状に配置されているアクティブマトリクス基板及
びその欠陥修正方法に関する。
【0002】
【従来の技術】近年、液晶等のフラット型の表示パネル
が普及し、特にテレビジョン画像等の高解像度が要求さ
れ、電極数が膨大な数となるものには、アクティブマト
リクス型の表示パネルが用いられている。
【0003】例えば、アクティブマトリクス型液晶表示
パネルは、絵素電極を形成したアクティブマトリクス基
板と対向電極を形成した対向基板の間に液晶を封入して
なる構造である。図6は、従来のアクティブマトリクス
基板を示す等価回路図であり、図7は、このアクティブ
マトリクス基板を示す拡大構成図である。アクティブマ
トリクス基板は、その表面に、ゲート線1、ゲート線端
子1a、ソース線2、ソース線端子2a、共通線3、共
通線端子3a、薄膜トランジスタ4及び絵素電極5が形
成されている。ゲート線1とソース線2は絶縁膜を介し
てマトリクス状に配置され、その交差部にスイッチング
素子として薄膜トランジスタ4が配置され、そのゲート
電極41にゲート線1が、ソース電極42にソース線2
が、ドレイン電極43に絵素電極5が接続されている。
共通線3は、各ゲート線1に平行に形成され、その各平
行線を結ぶ線を、ゲート線端子1a側の基板端部にソー
ス線2に平行に形成したものである。共通線3は、各ゲ
ート線1、ソース線2及び絵素電極5と絶縁膜を介して
交差している。
【0004】高精細方式の液晶表示パネルでは、絵素電
極5の面積が小さくて、液晶容量7が小さく安定した表
示を得ることができない。そのため、図6に示すよう
に、補助容量8を形成して、一方の端子を共通線3に接
続し、他方の端子を薄膜トランジスタ4のドレイン電極
43に接続することにより、液晶容量7の数倍の容量を
得て、安定した表示を得ている。実際には、図7に示す
ように、共通線3を絶縁膜を介して絵素電極上を交差さ
せ、その交差部を補助容量として、そこに対向電極に印
加するコモン信号と同じ信号を印加する。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】しかし、上記共通線を
設けることにより、次のような問題が発生する。図7に
示すように、ソース線2と共通線3の交差部において、
成膜不良による短絡が生じて、欠陥箇所10ができる場
合がある。この短絡によってソース線2に印加されてい
る電位は、共通線3に印加されている電位による影響を
受けるため、表示パネルにおいてソース線2の方向に線
欠陥を生じる。また共通線3に印加されている電位はソ
ース線2に印加されている電位に影響を受けるため、共
通線3の方向に線欠陥を生ずる。そのため表示パネルに
おいて、欠陥箇所10を交点として十字に線欠陥を生じ
ていた。
【0006】このような欠陥を修正する方法として、予
備配線等の冗長配線を用いるものがある。アクティブマ
トリクス基板において、例えばソース線端子2aの反対
側の端部にゲート線1に平行に、且つ絶縁膜を介してソ
ース線2にマトリクス状に冗長配線を形成する。レーザ
により欠陥箇所10のソース線2の両側を切断し、ソー
ス線2と冗長配線の交差部にレーザを照射することによ
りソース線2と冗長配線を接続する。冗長配線を通じ
て、切断されたソース線2の両側から信号を流すことに
より、表示欠陥を修正する。
【0007】ところが、通常、このような冗長配線を形
成できるスペースは限られており、その使用本数が制限
される。従って、欠陥箇所が数箇所に及ぶ場合には、こ
の方法での修正は困難となってしまう。
【0008】また、図7に示したように、絵素電極5と
共通線3の交差部において、成膜不良による短絡が生じ
て、欠陥箇所12ができる場合がある。この短絡によっ
て絵素電極5に印加されている電位は、共通線3に印加
されている電位と同じ電位となり、共通線3と対向電極
には同じコモン信号が印加されているので、絵素電極5
と対向電極6は同じ電位となってしまう。このことによ
り、アクティブマトリクス型表示パネルでは、絵素電極
5の部分は光を透過するモード(以下ノーマリーホワイ
トモードと称する)で輝点となり、光を遮断するモード
(以下ノーマリーブラックモードと称する)では黒点と
なる。
【0009】一般に薄膜トランジスタ4の動作不良や各
種短絡による点欠陥においては、実際にドライバを実装
して表示したときに、この点欠陥が目立たないようにす
る方法をとる。この方法は、レーザ等により薄膜トラン
ジスタ4のゲート電極を切断し、薄膜トランジスタ4の
ソース電極とドレイン電極を接続するという方法である
(以下ソース−ドレイン接続修正と称する)。
【0010】しかし、絵素電極5と共通線3とが短絡し
た場合、ソース−ドレイン接続修正を行えば、ソース線
と絵素電極5とが短絡しているため、ソース線2と共通
線3が短絡し、前述のように、表示に線欠陥が発生して
しまう。従って、共通線3と絵素電極5が短絡したと
き、ソース−ドレイン接続修正を行うことはできなかっ
た。
【0011】また、薄膜トランジスタ4の動作不良によ
る点欠陥の場合、ソース−ドレイン接続修正を行うた
め、図7に示すように、薄膜トランジスタ4において、
ゲート電極41とゲート線1の間に修正用切断部分であ
るくびれ部44を設ける。これにより点欠陥の修正を容
易に行うことが可能となるが、ゲート電極のくびれ部4
4の分だけ絵素電極5が小さくなり、アクティブマトリ
クス基板の開口率が小さくなってしまう欠点があった。
【0012】本発明の目的は、上記課題を考慮しつつ、
共通線とソース線あるいは絵素電極との短絡欠陥を修正
して、良品率の向上を図ることができるアクティブマト
リクス基板及びその欠陥修正方法を提供することにあ
る。また、本発明の他の目的は、点欠陥を修正するとと
もに、開口率の向上を図ることのできるアクティブマト
リクス基板及びその欠陥修正方法を提供することにあ
る。
【0013】
【課題を解決するための手段】請求項1の発明は、複数
の絵素電極と該絵素電極を駆動するスイッチング素子と
がマトリクス状に配置され、該スイッチング素子のゲー
ト電極とソース電極にマトリクス状に配置したゲート線
とソース線が接続され、共通線が前記ゲート線、ソース
線あるいは絵素電極と交差して形成され、絵素電極とと
もに配置された補助容量に接続されてコモン信号が入力
される構造のアクティブマトリクス基板において、前記
共通線の両端部にコモン信号を入力する端子を設けるこ
とを特徴とする。
【0014】請求項2の発明は、請求項1記載のアクテ
ィブマトリクス基板に対し、ゲート線あるいはソース線
と共通線との短絡による欠陥箇所の両側の共通線を切断
することを特徴とするアクティブマトリクス基板の欠陥
修正方法である。
【0015】請求項3の発明は、請求項1記載のアクテ
ィブマトリクス基板に対し、絵素電極と共通線との短絡
による欠陥箇所の両側の共通線を切断し、スイッチング
素子のゲート電極を切断し、ソース電極とドレイン電極
を接続することを特徴とするアクティブマトリクス基板
の欠陥修正方法である。
【0016】請求項4の発明は、共通線と交差する部分
の絵素電極の両側にくびれ部を設けたことを特徴とする
請求項1記載のアクティブマトリクス基板である。
【0017】請求項5の発明は、請求項4記載のアクテ
ィブマトリクス基板に対し、ゲート線あるいはソース線
と共通線との短絡による欠陥箇所の両側で且つ絵素電極
のくびれ部の外側に位置する共通線を切断することを特
徴とするアクティブマトリクス基板の欠陥修正方法であ
る。
【0018】請求項6の発明は、請求項4記載のアクテ
ィブマトリクス基板に対し、絵素電極と共通線との短絡
による欠陥箇所の両側で且つ絵素電極のくびれ部の外側
に位置する共通線を切断し、スイッチング素子のゲート
電極を切断し、ソース電極とドレイン電極を接続するこ
とを特徴とするアクティブマトリクス基板の欠陥修正方
法である。
【0019】請求項7の発明は、ゲート電極とゲート線
の間に修正用切断部分を設けないで、スイッチング素子
のゲート電極に直接にゲート線を接続し、スイッチング
素子の占める範囲を縮小して、その分だけ絵素電極を拡
大したことを特徴とする請求項1記載のアクティブマト
リクス基板である。
【0020】請求項8の発明は、請求項7記載のアクテ
ィブマトリクス基板に対し、点欠陥をなす絵素電極の両
側の共通線を切断し、その切断された共通線上でソース
線と絵素電極を接続することにより点欠陥を修正するこ
とを特徴とするアクティブマトリクス基板の修正方法で
ある。
【0021】上記のアクティブマトリクス基板及びその
欠陥修正方法について、その作用を次に説明する。まず
請求項1のアクティブマトリクス基板において、共通線
の両端部に端子を設けることにより、共通線のどちらの
端部からもコモン信号を入力できる。従って、請求項2
の欠陥修正方法において、ゲート線あるいはソース線と
短絡する共通線を切断しても、その切断部分の両側から
コモン信号を入力することになるので、切断の影響はな
く、各補助容量に信号を印加できる。共通線がソース線
の両側で切断されているので、ソース線には共通線の影
響はない。従って、欠陥のない安定した表示品質を維持
できる。
【0022】また、請求項3の欠陥修正方法において、
共通線の切断部分の両側から信号が印加されるので、絵
素電極以外の補助容量に影響を与えることはない。スイ
ッチング素子のソース電極とドレイン電極が接続されて
いるので、絵素電極にはソース線の信号が直接入力され
る。補助容量やスイッチング素子の増幅作用がないた
め、絵素電極を正常な絵素電極のようには駆動できな
い。しかし、ノーマリーホワイトの輝点や、ノーマリー
ブラックの黒点といった点欠陥を目立たなくする程度に
は、絵素電極51を駆動することができる。
【0023】請求項4のアクティブマトリクス基板にお
いて、共通線と交差する部分の絵素電極の両側にくびれ
部を設けて、レーザ等によって切断する場合に絵素電極
を傷つけないようにしている。従って、請求項5及び6
の欠陥修正方法において、絵素電極のくびれ部の外側に
位置する共通線を切断するから、切断部分の共通線と絵
素電極間で短絡等の新たな欠陥が生ずることはない。
【0024】また、請求項7のアクティブマトリクス基
板において、薄膜トランジスタのゲート電極とゲート線
との間に修正用切断部分を設ける必要がなく、その分絵
素電極を大きくでき、アクティブマトリクス基板の開口
率を向上できる。請求項8の欠陥修正方法において、こ
のアクティブマトリクス基板に対し、点欠陥箇所の両側
の共通線を切断し、切り離された共通線上においてソー
ス線と絵素電極を接続する。その切断部分の両側から信
号を入力することになるので、切断の影響はなく、各補
助容量には信号を印加できる。また、点欠陥上の切り離
された共通線において、ソース線と絵素電極を接続して
いるので、ソース−ドレイン接続修正と同様の作用にな
り、絵素電極にはソース線の信号が直接印加される。補
助容量や薄膜トランジスタの増幅作用がないため、絵素
電極を正常な絵素のように駆動できないが点欠陥を目立
たなくする程度には駆動することができる。
【0025】
【発明の実施の形態】以下、図面を参照しつつ本発明の
実施形態を説明する。図1は、本発明に係るアクティブ
マトリクス基板を示す等価回路図であり、図2は、この
アクティブマトリクス基板の一実施形態を示す拡大構成
図である。この等価回路図と拡大構成図の基本構成は、
それぞれ従来技術で示した図6と図7にほぼ同じである
ので、対応する部分には同一符号を付し、それらの詳し
い説明は省略する。
【0026】本実施形態は、共通線と絵素電極に特長が
あり、以下に詳述する。共通線3は、図5と同様に、各
ゲート線1に平行に形成され、それら平行線を結ぶ線を
ゲート線端子1a側の基板端部にソース線2に平行に形
成する。さらに、本実施形態では、ゲート線端子1aの
反対側の基板端部にもソース線2と平行で各平行線を結
ぶ線を形成し、端子3bも形成する。これら両端子3
a,3bより、対向電極6に印加されているコモン信号
と同様の信号を印加する。共通線3は、ゲート線1、ソ
ース線2及び絵素電極5と絶縁膜を介して交差してい
る。共通線3と絵素電極5の交差部では、絵素電極5の
両側にくびれ部9を設ける。
【0027】次に、ソース線2と共通線3の交差部にお
いて、成膜不良による短絡が生じて、欠陥箇所ができる
場合の修正方法について説明する。図3に、本発明に係
るアクティブマトリクス基板の欠陥修正方法の説明図を
示す。この欠陥箇所10は、ソース線2と共通線3との
交差部で絶縁膜が十分に成膜されず、短絡したものであ
る。まず、この欠陥箇所10におけるソース線2の両側
の共通線3を、レーザにより切断する。この切断部分1
1は絵素電極5のくびれ部9の外側に位置するようにす
る。こうして、レーザにより絵素電極5がダメージを受
けたり、共通線3と絵素電極5が接続されたりすること
を防いでいる。
【0028】共通線3には、両端子3a,3bから信号
を入力する。共通線3の切断部分11の両側から信号が
印加されるので、共通線3の切断によっても補助容量8
に影響を与えることはない。また、共通線3がソース線
2の両側で切断されているので、ソース線2には共通線
3の影響はない。こうして、ソース線2と共通線3との
短絡による欠陥を修正することができる。更に、共通線
3は各ゲート線1に平行に形成されているので、その各
平行線における欠陥に対応できる。「発明が解決しよう
とする課題」で述べた冗長配線のように、新たに配線を
設ける訳ではないので、スペース上の制限もない。
【0029】ソース線と共通線の短絡欠陥の修正方法に
ついて述べたが、ゲート線と共通線の短絡欠陥について
も同様の修正が可能である。
【0030】絵素電極と共通線の交差部において、成膜
不良により短絡を生じた欠陥箇所ができる場合の修正方
法について説明する。図4に、このアクティブマトリク
ス基板の欠陥修正方法の説明図を示す。この欠陥箇所1
2は、共通線3と絵素電極5の交差部で絶縁膜が十分に
成膜されず、短絡したものである。この欠陥箇所12に
おける絵素電極5の両側の共通線3をレーザにより切断
する。この切断部分13は絵素電極5のくびれ部9の外
側に位置するようにする。こうして、レーザにより絵素
電極5がダメージを受けたり、共通線3と絵素電極5が
接続されたりすることを防いでいる。次に、レーザによ
り薄膜トランジスタ4のゲート電極を切断部分14で切
断し、ソース電極とドレイン電極にレーザを照射して
(照射箇所15,16)、ソース−ドレイン接続修正を
行う。
【0031】前述したように、共通線3には、端子3
a,3bから信号を入力する。共通線3の切断部分13
の両側から信号が印加されるので、絵素電極5上に形成
された共通線3、すなわち補助容量8以外のものに影響
を与えることはない。薄膜トランジスタ4のソース電極
42とドレイン電極43が接続されているので、絵素電
極5にはソース線2の信号が直接入力される。補助容量
8や薄膜トランジスタ4の増幅作用がないため、絵素電
極5を正常な絵素電極のようには駆動できない。しか
し、表示パネルの実装状態におけるドライバ駆動におい
て、ノーマリーホワイトの輝点や、ノーマリーブラック
の黒点といった点欠陥を目立たなくする程度には、絵素
電極5を駆動することができる。
【0032】また、図5は、本発明に係るアクティブマ
トリクス基板の他の実施形態を示す拡大構成図である。
同図は、基本構成は図1とほぼ同じであるので、対応す
る部分には同一符号を付し、それらの詳しい説明は省略
する。このアクティブマトリクス基板の特徴は、薄膜ト
ランジスタ4のゲート電極41とゲート線1の間に修正
用切断部分のくびれ部44がないことである。
【0033】次に、このアクティブマトリクス基板にお
いて、薄膜トランジスタ4の動作不良が原因で点欠陥が
生じた場合の修正方法について説明する。点欠陥を生じ
た絵素電極5の両側の共通線をレーザにより切断する
(切断箇所17)。次に、共通線3上のソース線2(接
続箇所18)と絵素電極5上の共通線3(接続箇所1
9)にレーザを照射して、共通線3とソース線2を接続
し、絵素電極5と共通線3を接続する。こうして、共通
線3を介してソース線2と絵素電極5を接続する。
【0034】前述したように、共通線3には、端子3
a,3bから信号が入力されている。共通線3の切断箇
所17の両側から信号が印加されているので絵素電極5
上に形成された共通線3、すなわち補助容量8以外のも
のに影響を与えることはない。絵素電極5にはソース線
2の信号が印加されている。補助容量8や薄膜トランジ
スタ4の増幅作用がないため、絵素電極5を正常な絵素
のようには駆動できない。しかし表示パネルの実装状態
におけるドライバ駆動において、輝点や黒点などの点欠
陥を目立たなくする程度には絵素電極5を駆動すること
はできる。このようにソース−ドライバ接続修正を用い
ないで、点欠陥修正を共通線3上で行うので、薄膜トラ
ンジスタ4のゲート電極には修正用切断部分であるくび
れ部が不要である。
【0035】アクティブマトリクス基板における共通線
はゲート線に平行に形成されているが、ソース線に平行
に形成されていてもよい。この場合のゲート線と共通線
の短絡欠陥や共通線と絵素電極の短絡欠陥の修正は、前
述した方法と同様の方法で可能である。
【0036】
【発明の効果】請求項1のアクティブマトリクス基板に
よれば、共通線の両端部にコモン信号を入力する端子を
設けてあるから、ゲート線あるいはソース線と短絡する
共通線を切断しても、その切断部分の両側から信号を入
力することができる。従って請求項2のアクティブマト
リクス基板の欠陥修正方法によれば、請求項1のアクテ
ィブマトリクス基板に対し、ゲート線あるいはソース線
と短絡する共通線を切断しても、その切断部分の両側か
ら信号を入力することになるので、切断の影響はなく、
各補助容量に信号を印加でき、共通線がソース線の両側
で切断されているので、ソース線にも共通線の影響はな
い。従って、アクティブマトリクス基板の生産において
良品率を向上できる。
【0037】また、請求項3のアクティブマトリクス基
板の欠陥修正方法によれば、請求項1のアクティブマト
リクス基板に対し、絵素電極と共通線の短絡欠陥の両側
で共通線を切断しても、共通線の切断部分の両側から信
号が印加されるので、絵素電極以外の補助容量に影響を
与えることはない。スイッチング素子のソース電極とド
レイン電極が接続されているので、絵素電極にはソース
線の信号が直接入力され、ノーマリーホワイトの輝点
や、ノーマリーブラックの黒点といった点欠陥を目立た
なくすることができ、良品率を向上できる。
【0038】また、請求項4のアクティブマトリクス基
板によれば、共通線と交差する部分の絵素電極の両側に
くびれ部を設けているから、そのくびれ部の外側で共通
線を切断すれば、絵素電極にダメージを与えるのを抑え
ることができる。従って、請求項5及び6のアクティブ
マトリクス基板の欠陥修正方法によれば、絵素電極のく
びれ部の外側に位置する共通線を切断するから、切断部
分の共通線と絵素電極間で短絡等の新たなを欠陥を生ず
ることがなく、更に良品率を向上できる。
【0039】また、請求項7のアクティブマトリクス基
板によれば、スイッチング素子のゲート電極とゲート線
との間に修正用切断部分を設ける必要がなく、その分絵
素電極を大きくでき、アクティブマトリクス基板の開口
率を向上できる。従って、請求項8のアクティブマトリ
クス基板の欠陥修正方法によれば、請求項7のアクティ
ブマトリクス基板に対し、点欠陥箇所の両側の共通線を
切断し、切り離された共通線上においてソース線と絵素
電極を接続し、その切断部分の両側から信号を入力する
ことになるので、切断の影響はなく、各補助容量には信
号を印加できる。また、点欠陥上の切り離された共通線
において、ソース線と絵素電極を接続しているので、ソ
ース−ドレイン接続修正と同様の作用になり、絵素電極
にはソース線の信号が直接印加され、補助容量や薄膜ト
ランジスタの増幅作用がないため、絵素電極を正常な絵
素のように駆動できないが点欠陥を目立たなくする程度
には駆動することができ、良品率を向上できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に係るアクティブマトリクス基板を示す
等価回路図である。
【図2】図1のアクティブマトリクス基板の一実施形態
を示す拡大構成図である。
【図3】そのアクティブマトリクス基板の欠陥修正方法
を示す説明図である。
【図4】そのアクティブマトリクス基板の他の欠陥修正
方法を示す説明図である。
【図5】図1のアクティブマトリクス基板の他の実施形
態を示す拡大構成図である。
【図6】従来のアクティブマトリクス基板を示す等価回
路図である。
【図7】そのアクティブマトリクス基板の拡大構成図で
ある。
【符号の説明】
1 ゲート線 1a ゲート線端子 2 ソース線 2a ソース線端子 3 共通線 3a,3b 共通線端子 4 薄膜トランジスタ 5 絵素電極 6 対向電極 7 液晶容量 8 補助容量 9 くびれ部 10,12 欠陥個所 11,13,14,17 切断箇所 15,16,18,19 接続箇所 41 ゲート電極 42 ソース電極 43 ドレイン電極 44 ゲート電極のくびれ部
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 長井 剛 大阪府大阪市阿倍野区長池町22番22号 シ ャープ株式会社内 (72)発明者 渋谷 洋 大阪府大阪市阿倍野区長池町22番22号 シ ャープ株式会社内

Claims (8)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 複数の絵素電極と該絵素電極を駆動する
    スイッチング素子とがマトリクス状に配置され、該スイ
    ッチング素子のゲート電極とソース電極にマトリクス状
    に配置したゲート線とソース線が接続され、共通線が前
    記ゲート線、ソース線あるいは絵素電極と交差して形成
    され、絵素電極とともに配置された補助容量に接続され
    てコモン信号が入力される構造のアクティブマトリクス
    基板において、 前記共通線の両端部にコモン信号を入力する端子を設け
    ることを特徴とするアクティブマトリクス基板。
  2. 【請求項2】 請求項1記載のアクティブマトリクス基
    板に対し、ゲート線あるいはソース線と共通線との短絡
    による欠陥箇所の両側の共通線を切断することを特徴と
    するアクティブマトリクス基板の欠陥修正方法。
  3. 【請求項3】 請求項1記載のアクティブマトリクス基
    板に対し、絵素電極と共通線との短絡による欠陥箇所の
    両側の共通線を切断し、スイッチング素子のゲート電極
    を切断し、ソース電極とドレイン電極を接続することを
    特徴とするアクティブマトリクス基板の欠陥修正方法。
  4. 【請求項4】 共通線と交差する部分の絵素電極の両側
    にくびれ部を設けたことを特徴とする請求項1記載のア
    クティブマトリクス基板。
  5. 【請求項5】 請求項4記載のアクティブマトリクス基
    板に対し、ゲート線あるいはソース線と共通線との短絡
    による欠陥箇所の両側で且つ絵素電極のくびれ部の外側
    に位置する共通線を切断することを特徴とするアクティ
    ブマトリクス基板の欠陥修正方法。
  6. 【請求項6】 請求項4記載のアクティブマトリクス基
    板に対し、絵素電極と共通線との短絡による欠陥箇所の
    両側で且つ絵素電極のくびれ部の外側に位置する共通線
    を切断し、スイッチング素子のゲート電極を切断し、ソ
    ース電極とドレイン電極を接続することを特徴とするア
    クティブマトリクス基板の欠陥修正方法。
  7. 【請求項7】 ゲート電極とゲート線の間に修正用切断
    部分を設けないで、スイッチング素子のゲート電極に直
    接にゲート線を接続し、スイッチング素子の占める範囲
    を縮小して、その分だけ絵素電極を拡大したことを特徴
    とする請求項1記載のアクティブマトリクス基板。
  8. 【請求項8】 請求項7記載のアクティブマトリクス基
    板に対し、点欠陥をなす絵素電極の両側の共通線を切断
    し、その切断された共通線上でソース線と絵素電極を接
    続することにより点欠陥を修正することを特徴とするア
    クティブマトリクス基板の修正方法。
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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5929958A (en) * 1995-03-17 1999-07-27 Hitachi, Ltd. Liquid crystal display device with wide viewing angle characteristics
JP2000148037A (ja) * 1998-09-01 2000-05-26 Canon Inc 半導体装置及びその製造方法
WO2007020784A1 (ja) * 2005-08-12 2007-02-22 Sharp Kabushiki Kaisha 表示装置、液晶表示装置および表示装置の製造方法
JP2008116912A (ja) * 2006-11-03 2008-05-22 Samsung Electronics Co Ltd 液晶表示装置及びその不良画素修復方法

Families Citing this family (21)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3097829B2 (ja) * 1996-07-11 2000-10-10 日本電気株式会社 液晶表示パネルおよびその補修方法
JPH1039333A (ja) * 1996-07-19 1998-02-13 Sharp Corp アクティブマトリクス型表示装置およびその欠陥修正方法
KR100280874B1 (ko) * 1997-09-12 2001-02-01 구본준 액정패널
KR100295309B1 (ko) * 1997-09-30 2001-09-17 구본준, 론 위라하디락사 박막트랜지스터기판
US6191770B1 (en) * 1997-12-11 2001-02-20 Lg. Philips Lcd Co., Ltd. Apparatus and method for testing driving circuit in liquid crystal display
JP4070896B2 (ja) * 1998-10-07 2008-04-02 三菱電機株式会社 電気光学素子および該電気光学素子の製造方法
JP4498489B2 (ja) * 1999-03-19 2010-07-07 シャープ株式会社 液晶表示装置とその製造方法
KR100318539B1 (ko) * 1999-03-24 2001-12-22 윤종용 액정 표시 장치용 박막 트랜지스터 기판
KR100351439B1 (ko) * 1999-10-04 2002-09-09 엘지.필립스 엘시디 주식회사 액정표시장치
JP3992984B2 (ja) * 2002-01-04 2007-10-17 シャープ株式会社 液晶表示パネル
TW550531B (en) * 2002-02-07 2003-09-01 Chi Mei Optoelectronics Corp Pixel driving device of liquid crystal display
GB0228269D0 (en) * 2002-12-04 2003-01-08 Koninkl Philips Electronics Nv Active matrix display devices
US7271784B2 (en) * 2002-12-18 2007-09-18 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Display device and driving method thereof
US7053645B2 (en) * 2003-06-06 2006-05-30 Yieldboost Tech, Inc. System and method for detecting defects in a thin-film-transistor array
JP4108078B2 (ja) * 2004-01-28 2008-06-25 シャープ株式会社 アクティブマトリクス基板及び表示装置
TWI284758B (en) * 2004-11-11 2007-08-01 Au Optronics Corp Pixel structure having storage capacitor and thin film transistor array and repairing method thereof
KR101147101B1 (ko) * 2005-08-30 2012-07-02 엘지디스플레이 주식회사 검사를 위한 박막 트랜지스터 기판 및 이를 이용한 검사방법
TW200746022A (en) * 2006-04-19 2007-12-16 Ignis Innovation Inc Stable driving scheme for active matrix displays
WO2008136153A1 (ja) * 2007-04-25 2008-11-13 Sharp Kabushiki Kaisha 液晶表示パネル及びその検査方法
CN102081245A (zh) * 2009-11-30 2011-06-01 群康科技(深圳)有限公司 液晶显示装置
JP2012047807A (ja) * 2010-08-24 2012-03-08 Sony Corp 表示装置および電子機器

Family Cites Families (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2698357B2 (ja) * 1987-08-17 1998-01-19 キヤノン株式会社 電極間の短絡部分離法及び液晶パネルの製造法
US4840459A (en) * 1987-11-03 1989-06-20 General Electric Co. Matrix addressed flat panel liquid crystal display device with dual ended auxiliary repair lines for address line repair
JPH03163529A (ja) * 1989-11-22 1991-07-15 Sharp Corp アクティブマトリクス表示装置
JPH03212620A (ja) * 1990-01-17 1991-09-18 Toshiba Corp アクティブマトリクス型液晶表示装置
DE69133246T2 (de) * 1990-05-11 2004-04-01 Sharp K.K. Anzeigevorrichtung mit aktiver Matrix , Verfahren zu ihrer Herstellung und Verfahren zur Behandlung defekter Pixel
FR2662290B1 (fr) * 1990-05-15 1992-07-24 France Telecom Procede de realisation d'un ecran d'affichage a matrice active et a condensateurs de stockage et ecran obtenu par ce procede.
JPH052176A (ja) * 1991-06-25 1993-01-08 Sanyo Electric Co Ltd 液晶表示装置
JPH052180A (ja) * 1991-06-25 1993-01-08 Sanyo Electric Co Ltd 液晶表示装置
JPH052175A (ja) * 1991-06-25 1993-01-08 Sanyo Electric Co Ltd 液晶表示装置
JP2792634B2 (ja) * 1991-06-28 1998-09-03 シャープ株式会社 アクティブマトリクス基板の検査方法
JP2758103B2 (ja) * 1992-04-08 1998-05-28 シャープ株式会社 アクティブマトリクス基板及びその製造方法
EP0599623B1 (en) * 1992-11-25 2001-08-29 Sharp Kabushiki Kaisha Inspecting method and apparatus for an active matrix substrate
JP3213472B2 (ja) * 1994-04-26 2001-10-02 シャープ株式会社 アクティブマトリクス基板又はアクティブマトリクス液晶パネルの欠陥検出検査方法、欠陥検出検査装置

Cited By (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5956111A (en) * 1995-03-17 1999-09-21 Hitachi, Ltd. Liquid crystal display device with parallel field having particular spacing and width
US5978059A (en) * 1995-03-17 1999-11-02 Hitachi, Ltd. Liquid crystal display device with wide viewing angle characteristics
US6064460A (en) * 1995-03-17 2000-05-16 Hitachi, Ltd. LCD with parallel field having counter electrode(s) at least equal to 1/2 width of video signal line
US6201590B1 (en) 1995-03-17 2001-03-13 Hitachi, Ltd. Liquid crystal display device with double-layered structure for gate line and/or data line
US6417906B2 (en) 1995-03-17 2002-07-09 Hitachi, Ltd. Liquid crystal display device with wide viewing angle characteristics
US5929958A (en) * 1995-03-17 1999-07-27 Hitachi, Ltd. Liquid crystal display device with wide viewing angle characteristics
JP2000148037A (ja) * 1998-09-01 2000-05-26 Canon Inc 半導体装置及びその製造方法
JP4567058B2 (ja) * 2005-08-12 2010-10-20 シャープ株式会社 表示装置、液晶表示装置および表示装置の製造方法
WO2007020784A1 (ja) * 2005-08-12 2007-02-22 Sharp Kabushiki Kaisha 表示装置、液晶表示装置および表示装置の製造方法
JPWO2007020784A1 (ja) * 2005-08-12 2009-02-19 シャープ株式会社 表示装置、液晶表示装置および表示装置の製造方法
JP2008116912A (ja) * 2006-11-03 2008-05-22 Samsung Electronics Co Ltd 液晶表示装置及びその不良画素修復方法
JP2013020261A (ja) * 2006-11-03 2013-01-31 Samsung Electronics Co Ltd 液晶表示装置及びその不良画素修復方法
US8400609B2 (en) 2006-11-03 2013-03-19 Samsung Display Co., Ltd. Liquid crystal display device and method of repairing bad pixels therein
JP2013080260A (ja) * 2006-11-03 2013-05-02 Samsung Display Co Ltd 液晶表示装置及びその不良画素修復方法
KR101306239B1 (ko) * 2006-11-03 2013-09-17 삼성디스플레이 주식회사 액정 표시 장치 및 그의 불량 화소 복구 방법
US8976331B2 (en) 2006-11-03 2015-03-10 Samsung Display Co., Ltd. Liquid crystal display device and method of repairing bad pixels therein
US9164344B2 (en) 2006-11-03 2015-10-20 Samsung Display Co., Ltd. Liquid crystal display device and method of repairing bad pixels therein
US9268187B2 (en) 2006-11-03 2016-02-23 Samsung Display Co., Ltd. Liquid crystal display device and method of repairing bad pixels therein

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