JPH08266870A - 脱硝方法 - Google Patents
脱硝方法Info
- Publication number
- JPH08266870A JPH08266870A JP7072776A JP7277695A JPH08266870A JP H08266870 A JPH08266870 A JP H08266870A JP 7072776 A JP7072776 A JP 7072776A JP 7277695 A JP7277695 A JP 7277695A JP H08266870 A JPH08266870 A JP H08266870A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- crystalline silicate
- activated carbon
- nitrogen oxide
- catalyst
- oxide
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 25
- MWUXSHHQAYIFBG-UHFFFAOYSA-N Nitric oxide Chemical compound O=[N] MWUXSHHQAYIFBG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 62
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims abstract description 59
- BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N Orthosilicate Chemical compound [O-][Si]([O-])([O-])[O-] BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 37
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 24
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims abstract description 17
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 12
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims abstract description 7
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims abstract description 6
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 claims abstract description 5
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 4
- 229910001413 alkali metal ion Inorganic materials 0.000 claims abstract description 3
- 229910021472 group 8 element Inorganic materials 0.000 claims abstract description 3
- GPRLSGONYQIRFK-UHFFFAOYSA-N hydron Chemical compound [H+] GPRLSGONYQIRFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 3
- 229910052761 rare earth metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 3
- LEONUFNNVUYDNQ-UHFFFAOYSA-N vanadium atom Chemical compound [V] LEONUFNNVUYDNQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 23
- 229910010413 TiO 2 Inorganic materials 0.000 claims description 14
- 239000013078 crystal Substances 0.000 claims description 12
- 239000011651 chromium Substances 0.000 claims description 9
- 239000002131 composite material Substances 0.000 claims description 8
- 238000002441 X-ray diffraction Methods 0.000 claims description 5
- 229920000049 Carbon (fiber) Polymers 0.000 claims description 3
- 229910052787 antimony Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000010955 niobium Substances 0.000 claims description 3
- 239000010936 titanium Substances 0.000 claims description 3
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N antimony atom Chemical compound [Sb] WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910052733 gallium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 238000002156 mixing Methods 0.000 claims description 2
- GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N niobium atom Chemical compound [Nb] GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 claims description 2
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N Gallium Chemical compound [Ga] GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 6
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 6
- 239000000463 material Substances 0.000 abstract description 5
- VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N methane Chemical class C VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 4
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 abstract description 3
- 229910019830 Cr2 O3 Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 229910000069 nitrogen hydride Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 15
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 12
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 10
- 150000004760 silicates Chemical class 0.000 description 8
- 239000002002 slurry Substances 0.000 description 8
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 5
- BFNBIHQBYMNNAN-UHFFFAOYSA-N ammonium sulfate Chemical compound N.N.OS(O)(=O)=O BFNBIHQBYMNNAN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052921 ammonium sulfate Inorganic materials 0.000 description 4
- 235000011130 ammonium sulphate Nutrition 0.000 description 4
- 229910021578 Iron(III) chloride Inorganic materials 0.000 description 3
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- VSGNNIFQASZAOI-UHFFFAOYSA-L calcium acetate Chemical compound [Ca+2].CC([O-])=O.CC([O-])=O VSGNNIFQASZAOI-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 3
- 239000001639 calcium acetate Substances 0.000 description 3
- 235000011092 calcium acetate Nutrition 0.000 description 3
- 229960005147 calcium acetate Drugs 0.000 description 3
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 3
- 238000001027 hydrothermal synthesis Methods 0.000 description 3
- RBTARNINKXHZNM-UHFFFAOYSA-K iron trichloride Chemical compound Cl[Fe](Cl)Cl RBTARNINKXHZNM-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 3
- 238000007086 side reaction Methods 0.000 description 3
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 3
- NLXLAEXVIDQMFP-UHFFFAOYSA-N Ammonia chloride Chemical compound [NH4+].[Cl-] NLXLAEXVIDQMFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M Sodium chloride Chemical compound [Na+].[Cl-] FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 2
- 229910052878 cordierite Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000006477 desulfuration reaction Methods 0.000 description 2
- 230000023556 desulfurization Effects 0.000 description 2
- JSKIRARMQDRGJZ-UHFFFAOYSA-N dimagnesium dioxido-bis[(1-oxido-3-oxo-2,4,6,8,9-pentaoxa-1,3-disila-5,7-dialuminabicyclo[3.3.1]nonan-7-yl)oxy]silane Chemical compound [Mg++].[Mg++].[O-][Si]([O-])(O[Al]1O[Al]2O[Si](=O)O[Si]([O-])(O1)O2)O[Al]1O[Al]2O[Si](=O)O[Si]([O-])(O1)O2 JSKIRARMQDRGJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 2
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 2
- 238000010304 firing Methods 0.000 description 2
- 238000004898 kneading Methods 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 2
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 2
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 2
- 239000000047 product Substances 0.000 description 2
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 2
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 2
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 2
- 230000002194 synthesizing effect Effects 0.000 description 2
- BGQMOFGZRJUORO-UHFFFAOYSA-M tetrapropylammonium bromide Chemical compound [Br-].CCC[N+](CCC)(CCC)CCC BGQMOFGZRJUORO-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- NQUVCRCCRXRJCK-UHFFFAOYSA-N 4-methylbenzoyl chloride Chemical compound CC1=CC=C(C(Cl)=O)C=C1 NQUVCRCCRXRJCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052684 Cerium Inorganic materials 0.000 description 1
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910021555 Chromium Chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- 241000828585 Gari Species 0.000 description 1
- 241001072332 Monia Species 0.000 description 1
- 229910002651 NO3 Inorganic materials 0.000 description 1
- NHNBFGGVMKEFGY-UHFFFAOYSA-N Nitrate Chemical compound [O-][N+]([O-])=O NHNBFGGVMKEFGY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L Sulfate Chemical compound [O-]S([O-])(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910021550 Vanadium Chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004480 active ingredient Substances 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DIZPMCHEQGEION-UHFFFAOYSA-H aluminium sulfate (anhydrous) Chemical compound [Al+3].[Al+3].[O-]S([O-])(=O)=O.[O-]S([O-])(=O)=O.[O-]S([O-])(=O)=O DIZPMCHEQGEION-UHFFFAOYSA-H 0.000 description 1
- 235000019270 ammonium chloride Nutrition 0.000 description 1
- FAPDDOBMIUGHIN-UHFFFAOYSA-K antimony trichloride Chemical compound Cl[Sb](Cl)Cl FAPDDOBMIUGHIN-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- ITHZDDVSAWDQPZ-UHFFFAOYSA-L barium acetate Chemical compound [Ba+2].CC([O-])=O.CC([O-])=O ITHZDDVSAWDQPZ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000002585 base Substances 0.000 description 1
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 1
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 description 1
- 238000010531 catalytic reduction reaction Methods 0.000 description 1
- VYLVYHXQOHJDJL-UHFFFAOYSA-K cerium trichloride Chemical compound Cl[Ce](Cl)Cl VYLVYHXQOHJDJL-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 239000008119 colloidal silica Substances 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 description 1
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 description 1
- 238000003795 desorption Methods 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 1
- UPWPDUACHOATKO-UHFFFAOYSA-K gallium trichloride Chemical compound Cl[Ga](Cl)Cl UPWPDUACHOATKO-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 230000002209 hydrophobic effect Effects 0.000 description 1
- 238000005470 impregnation Methods 0.000 description 1
- 229910052746 lanthanum Inorganic materials 0.000 description 1
- ICAKDTKJOYSXGC-UHFFFAOYSA-K lanthanum(iii) chloride Chemical compound Cl[La](Cl)Cl ICAKDTKJOYSXGC-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 1
- UEGPKNKPLBYCNK-UHFFFAOYSA-L magnesium acetate Chemical compound [Mg+2].CC([O-])=O.CC([O-])=O UEGPKNKPLBYCNK-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000011654 magnesium acetate Substances 0.000 description 1
- 235000011285 magnesium acetate Nutrition 0.000 description 1
- 229940069446 magnesium acetate Drugs 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- YHBDIEWMOMLKOO-UHFFFAOYSA-I pentachloroniobium Chemical compound Cl[Nb](Cl)(Cl)(Cl)Cl YHBDIEWMOMLKOO-UHFFFAOYSA-I 0.000 description 1
- RPESBQCJGHJMTK-UHFFFAOYSA-I pentachlorovanadium Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Cl-].[Cl-].[Cl-].[V+5] RPESBQCJGHJMTK-UHFFFAOYSA-I 0.000 description 1
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 1
- 235000019353 potassium silicate Nutrition 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 238000006722 reduction reaction Methods 0.000 description 1
- 230000001172 regenerating effect Effects 0.000 description 1
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010948 rhodium Substances 0.000 description 1
- SONJTKJMTWTJCT-UHFFFAOYSA-K rhodium(iii) chloride Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Cl-].[Rh+3] SONJTKJMTWTJCT-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 229910052707 ruthenium Inorganic materials 0.000 description 1
- YBCAZPLXEGKKFM-UHFFFAOYSA-K ruthenium(iii) chloride Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Cl-].[Ru+3] YBCAZPLXEGKKFM-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- -1 salt Chromium chloride Chemical class 0.000 description 1
- RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N silicic acid Chemical compound O[Si](O)(O)O RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011780 sodium chloride Substances 0.000 description 1
- NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N sodium silicate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-][Si]([O-])=O NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 229910052712 strontium Inorganic materials 0.000 description 1
- RXSHXLOMRZJCLB-UHFFFAOYSA-L strontium;diacetate Chemical compound [Sr+2].CC([O-])=O.CC([O-])=O RXSHXLOMRZJCLB-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- XJDNKRIXUMDJCW-UHFFFAOYSA-J titanium tetrachloride Chemical compound Cl[Ti](Cl)(Cl)Cl XJDNKRIXUMDJCW-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- GPPXJZIENCGNKB-UHFFFAOYSA-N vanadium Chemical compound [V]#[V] GPPXJZIENCGNKB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Exhaust Gas Treatment By Means Of Catalyst (AREA)
- Catalysts (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 排ガス中の窒素酸化物を高い効率で除去でき
る脱硝処理方法に関する。 【構成】 窒素酸化物含有ガスに、窒素酸化物に対して
反応当量以上のアンモニアを添加し、脱水された状態
で、(1±0.6)R2 O・〔aM2 O3 ・bAl 2 O
3 〕・cMeO・ySiO2 (式中、R:アルカリ金属
イオン及び/又は水素イオン、M:周期律表のVIII族元
素、希土類元素、チタン、バナジウム、クロム、ニオ
ブ、アンチモン及びガリウムからなる群から選ばれる1
種以上の元素、Me:アルカリ土類元素、a+b=1.
0、a≧0、b≧0、c≧0、y/c>12、y>1
2)の化学組成を有し、かつ発明の詳細な説明の項に記
載の表1に示されるX線回折パターンを有する結晶性シ
リケートに、Cr2 O3 とTiO2を含む酸化物、V2
O5 とTiO2 を含む酸化物、活性炭及び活性炭素繊維
のうち少なくとも1種以上を担持または混合させてなる
触媒と接触させて窒素酸化物含有ガスを脱硝する方法。
る脱硝処理方法に関する。 【構成】 窒素酸化物含有ガスに、窒素酸化物に対して
反応当量以上のアンモニアを添加し、脱水された状態
で、(1±0.6)R2 O・〔aM2 O3 ・bAl 2 O
3 〕・cMeO・ySiO2 (式中、R:アルカリ金属
イオン及び/又は水素イオン、M:周期律表のVIII族元
素、希土類元素、チタン、バナジウム、クロム、ニオ
ブ、アンチモン及びガリウムからなる群から選ばれる1
種以上の元素、Me:アルカリ土類元素、a+b=1.
0、a≧0、b≧0、c≧0、y/c>12、y>1
2)の化学組成を有し、かつ発明の詳細な説明の項に記
載の表1に示されるX線回折パターンを有する結晶性シ
リケートに、Cr2 O3 とTiO2を含む酸化物、V2
O5 とTiO2 を含む酸化物、活性炭及び活性炭素繊維
のうち少なくとも1種以上を担持または混合させてなる
触媒と接触させて窒素酸化物含有ガスを脱硝する方法。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は排ガス中の窒素酸化物
(以下、NOxと略称する)を高い効率にて除去するこ
とのできる脱硝処理方法に関する。
(以下、NOxと略称する)を高い効率にて除去するこ
とのできる脱硝処理方法に関する。
【0002】
【従来の技術】排ガス中の窒素酸化物(NOx)を除去
する方法として、NOxとアンモニア(NH3 )とを接
触的に反応させて窒素と水に分解する接触アンモニア還
元法が広く用いられている。この方法には反応を促進す
るための脱硝触媒が必要であり、これまで多くの面から
触媒開発の研究がなされてきた。
する方法として、NOxとアンモニア(NH3 )とを接
触的に反応させて窒素と水に分解する接触アンモニア還
元法が広く用いられている。この方法には反応を促進す
るための脱硝触媒が必要であり、これまで多くの面から
触媒開発の研究がなされてきた。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】最近、NOx排出規制
が厳しくなっており、とりわけ、大都市部においては煙
突からのNOx排出濃度が大気相当の0.06ppm程
度まで低下させる要望が示されている。NH3 を用いた
接触還元による脱硝方法においては反応は次式に従って
進行し、NOxはN2 に分解される。
が厳しくなっており、とりわけ、大都市部においては煙
突からのNOx排出濃度が大気相当の0.06ppm程
度まで低下させる要望が示されている。NH3 を用いた
接触還元による脱硝方法においては反応は次式に従って
進行し、NOxはN2 に分解される。
【化1】 4NO+4NH3 +O2 → 4N2 +6H2 O 従来の方法では、上式のようにほゞ等量のNH3 を添加
して脱硝を行っていた。しかし、ボイラ排ガスではNO
とNH3 の混合度合やNH3 の分解等の影響のため、上
記反応式通りの100%脱硝はできず、反応率は80〜
90%程度であり、未反応のNOが数ppm〜10数p
pmそのまま排出されていた。
して脱硝を行っていた。しかし、ボイラ排ガスではNO
とNH3 の混合度合やNH3 の分解等の影響のため、上
記反応式通りの100%脱硝はできず、反応率は80〜
90%程度であり、未反応のNOが数ppm〜10数p
pmそのまま排出されていた。
【0004】本発明は前記従来技術の問題点を解決し、
未反応のNH3 を大気中に放出することなく、高効率で
NOxを分解することができる脱硝処理方法を提供する
ことを目的とする。
未反応のNH3 を大気中に放出することなく、高効率で
NOxを分解することができる脱硝処理方法を提供する
ことを目的とする。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明は(1)窒素酸化
物含有ガスに、窒素酸化物に対して反応当量以上のアン
モニアを添加し、脱水された状態で、(1±0.6)R
2 O・〔aM2 O3 ・bAl2 O3 〕・cMeO・yS
iO2 (式中、R:アルカリ金属イオン及び/又は水素
イオン、M:周期律表のVIII族元素、希土類元素、チタ
ン、バナジウム、クロム、ニオブ、アンチモン及びガリ
ウムからなる群から選ばれる1種以上の元素、Me:ア
ルカリ土類元素、a+b=1.0、a≧0、b≧0、c
≧0、y/c>12、y>12)の化学組成を有し、か
つ下記の表1に示されるX線回折パターンを有する結晶
性シリケートに、Cr2 O3 とTiO2 を含む酸化物、
V 2 O5 とTiO2 を含む酸化物、活性炭及び活性炭素
繊維のうち少なくとも1種以上を担持または混合させて
なる触媒と接触させることを特徴とする窒素酸化物含有
ガスの脱硝方法及び(2)上記(1)の結晶性シリケー
トが、その表面に同一結晶構造を有するSiとOよりな
る結晶性シリケートを成長させた層状複合結晶性シリケ
ートであることを特徴とする上記(1)記載の窒素酸化
物含有ガスの脱硝方法である。
物含有ガスに、窒素酸化物に対して反応当量以上のアン
モニアを添加し、脱水された状態で、(1±0.6)R
2 O・〔aM2 O3 ・bAl2 O3 〕・cMeO・yS
iO2 (式中、R:アルカリ金属イオン及び/又は水素
イオン、M:周期律表のVIII族元素、希土類元素、チタ
ン、バナジウム、クロム、ニオブ、アンチモン及びガリ
ウムからなる群から選ばれる1種以上の元素、Me:ア
ルカリ土類元素、a+b=1.0、a≧0、b≧0、c
≧0、y/c>12、y>12)の化学組成を有し、か
つ下記の表1に示されるX線回折パターンを有する結晶
性シリケートに、Cr2 O3 とTiO2 を含む酸化物、
V 2 O5 とTiO2 を含む酸化物、活性炭及び活性炭素
繊維のうち少なくとも1種以上を担持または混合させて
なる触媒と接触させることを特徴とする窒素酸化物含有
ガスの脱硝方法及び(2)上記(1)の結晶性シリケー
トが、その表面に同一結晶構造を有するSiとOよりな
る結晶性シリケートを成長させた層状複合結晶性シリケ
ートであることを特徴とする上記(1)記載の窒素酸化
物含有ガスの脱硝方法である。
【0006】なお、本発明で使用する触媒は後記反応式
(1)を選択的に進行させ、後記反応式(2),(3)
の副反応を抑制することが可能であり、NOxの分解物
はN 2 であり、硫酸アンモニウムの生成も少ないことを
確認している。
(1)を選択的に進行させ、後記反応式(2),(3)
の副反応を抑制することが可能であり、NOxの分解物
はN 2 であり、硫酸アンモニウムの生成も少ないことを
確認している。
【0007】
【表1】 VS:非常に強い S:強い M:中級 W:弱い (X線源:Cu)
【0008】なお、本発明で使用する触媒は後記反応式
(1)を選択的に進行させ、後記反応式(2),(3)
の副反応を抑制することが可能であり、NOxの分解物
はN 2 であり、硫酸アンモニウムの生成も少ないことを
確認している。
(1)を選択的に進行させ、後記反応式(2),(3)
の副反応を抑制することが可能であり、NOxの分解物
はN 2 であり、硫酸アンモニウムの生成も少ないことを
確認している。
【0009】
【作用】本発明の方法においては、本発明で使用する触
媒を用いることによりNH3 の存在下でNOxを分解す
る選択的脱硝作用を有し{下記反応式(1)参照}、さ
らにNH3 も無害なN2 とH2 Oに分解することができ
る{下記反応式(3)参照}。また、Cr2 O3 とTi
O2 を含む酸化物、V2 O5 とTiO2 を含む酸化物、
活性炭及び活性炭素繊維の場合は排ガス中のSO2 が存
在していると少ないながらも硫酸アンモニウムを生成す
る{下記反応式(2)参照}。そのため硫酸アンモニウ
ムによる触媒細孔の閉塞を防止するための再生手段が必
要である。
媒を用いることによりNH3 の存在下でNOxを分解す
る選択的脱硝作用を有し{下記反応式(1)参照}、さ
らにNH3 も無害なN2 とH2 Oに分解することができ
る{下記反応式(3)参照}。また、Cr2 O3 とTi
O2 を含む酸化物、V2 O5 とTiO2 を含む酸化物、
活性炭及び活性炭素繊維の場合は排ガス中のSO2 が存
在していると少ないながらも硫酸アンモニウムを生成す
る{下記反応式(2)参照}。そのため硫酸アンモニウ
ムによる触媒細孔の閉塞を防止するための再生手段が必
要である。
【化2】 4NO+4NH3 +O2 → 4N2 +6H2 O ・・・・(1) SO2 + 1/2O2 +H2 O+2NH3 →(NH4 )2 SO4 ・・・・(2) 2NH3 + 3/2O2 → N2 +3H2 O ・・・・(3) なお、SO2 が無いLNG焚きのような場合には、上記
反応式(2)の反応は起らない。
反応式(2)の反応は起らない。
【0010】本発明は上記反応式(1),(2),
(3)において、反応式(1)の主反応を選択的に進行
させ、反応式(2),(3)の副反応を抑制させる触媒
として、前述した特異な結晶構造を有する結晶性シリケ
ート及び層状複合結晶性シリケートに活性成分であるC
r2 O3 とTiO2 を含む酸化物、V2 O5 とTiO2
を含む酸化物、活性炭及び活性炭素繊維を担持させた触
媒が有望であることの知見を得たものであり、先に本出
願人が提案した特願平6−143155に見られるよう
に湿式脱硫前に脱硝装置を設置する(温度:90℃以
上)か、湿式脱硫後に脱硝触媒層を設置する(温度:2
00〜250℃)方法に特に有利に適用できる触媒であ
る。
(3)において、反応式(1)の主反応を選択的に進行
させ、反応式(2),(3)の副反応を抑制させる触媒
として、前述した特異な結晶構造を有する結晶性シリケ
ート及び層状複合結晶性シリケートに活性成分であるC
r2 O3 とTiO2 を含む酸化物、V2 O5 とTiO2
を含む酸化物、活性炭及び活性炭素繊維を担持させた触
媒が有望であることの知見を得たものであり、先に本出
願人が提案した特願平6−143155に見られるよう
に湿式脱硫前に脱硝装置を設置する(温度:90℃以
上)か、湿式脱硫後に脱硝触媒層を設置する(温度:2
00〜250℃)方法に特に有利に適用できる触媒であ
る。
【0011】本発明の方法で使用する触媒の結晶性シリ
ケートは該シリケートを構成する元素を含む化合物を原
料として、水熱合成法により合成することができる。ま
た、この結晶性シリケートとして予め合成した結晶性シ
リケートを母結晶とし、母結晶の表面にその母結晶と同
一の結晶構造を有するSiとOよりなる結晶性シリケー
トを成長させた層状複合結晶性シリケートを使用しても
よい。この層状複合結晶性シリケートは外表面に成長し
たSiとOよりなる結晶性シリケート(シリカライトと
呼ぶ)の疎水性作用により、H2 Oだけが該結晶性シリ
ケート内部まで浸透しにくくなる。そのためH2 Oの作
用による結晶性シリケート格子中の金属(アルミニウム
等)の脱離が抑制されて、触媒の劣化が抑制される。
ケートは該シリケートを構成する元素を含む化合物を原
料として、水熱合成法により合成することができる。ま
た、この結晶性シリケートとして予め合成した結晶性シ
リケートを母結晶とし、母結晶の表面にその母結晶と同
一の結晶構造を有するSiとOよりなる結晶性シリケー
トを成長させた層状複合結晶性シリケートを使用しても
よい。この層状複合結晶性シリケートは外表面に成長し
たSiとOよりなる結晶性シリケート(シリカライトと
呼ぶ)の疎水性作用により、H2 Oだけが該結晶性シリ
ケート内部まで浸透しにくくなる。そのためH2 Oの作
用による結晶性シリケート格子中の金属(アルミニウム
等)の脱離が抑制されて、触媒の劣化が抑制される。
【0012】前記結晶性シリケートに含有させるCr2
O3 とTiO2 を含む酸化物、V2O5 とTiO2 を含
む酸化物、活性炭及び活性炭素繊維は混練法により、こ
れらの物質を含有させるか、またはCr2 O3 とTiO
2 を含む酸化物、V2 O5 とTiO2 を含む酸化物は塩
化物、硝酸塩、硫酸塩等の金属塩水溶液として含浸させ
る含浸法により含有させることができる。含有させる物
質は結晶性シリケートまたは層状複合結晶性シリケート
に対し、0.1〜50wt%、好ましくは0.3〜30
wt%である。この触媒はウォッシュコート法又はソリ
ッド法にてハニカム化して設置するのが好ましい。特に
好ましい形態としてはハニカム状の成型されたコージェ
ライト等の基材上にコートした形で使用することであ
る。以下、実施例にて本発明の方法をさらに具体的に説
明する。
O3 とTiO2 を含む酸化物、V2O5 とTiO2 を含
む酸化物、活性炭及び活性炭素繊維は混練法により、こ
れらの物質を含有させるか、またはCr2 O3 とTiO
2 を含む酸化物、V2 O5 とTiO2 を含む酸化物は塩
化物、硝酸塩、硫酸塩等の金属塩水溶液として含浸させ
る含浸法により含有させることができる。含有させる物
質は結晶性シリケートまたは層状複合結晶性シリケート
に対し、0.1〜50wt%、好ましくは0.3〜30
wt%である。この触媒はウォッシュコート法又はソリ
ッド法にてハニカム化して設置するのが好ましい。特に
好ましい形態としてはハニカム状の成型されたコージェ
ライト等の基材上にコートした形で使用することであ
る。以下、実施例にて本発明の方法をさらに具体的に説
明する。
【0013】
【実施例】以下、本発明で使用する触媒の製造法及び製
造された触媒を使用しての脱硝方法の具体例をあげる。
造された触媒を使用しての脱硝方法の具体例をあげる。
【0014】(例1) (触媒の調製1)水ガラス1号(SiO2 :30%):
5616gを水:5429gに溶解し、この溶液を溶液
Aとした。一方、水:4175gに硫酸アルミニウム:
718.9g、塩化第二鉄:110g、酢酸カルシウ
ム:47.2g、塩化ナトリウム:262g及び濃塩
酸:2020gを混合して溶解し、この溶液を溶液Bと
した。溶液Aと溶液Bを一定割合で供給し、沈殿を生成
させ、十分攪拌してpH=8.0のスラリを得た。この
スラリを20リットルのオートクレーブに仕込み、さら
にテトラプロピルアンモニウムブロマイドを500g添
加し、160℃にて72時間水熱合成を行い、合成後水
洗して乾燥させ、さらに500℃、3時間焼成させ結晶
性シリケート1を得た。この結晶性シリケート1は酸化
物のモル比で(結晶水を省く)、0.5Na2 O ・
0.5H2 O・〔0.8Al2 O3 ・0.2Fe2 O3
・0.25CaO〕・25SiO2 の組成式で表され、
結晶構造はX線回折で前記表1にて表示されるものであ
った。
5616gを水:5429gに溶解し、この溶液を溶液
Aとした。一方、水:4175gに硫酸アルミニウム:
718.9g、塩化第二鉄:110g、酢酸カルシウ
ム:47.2g、塩化ナトリウム:262g及び濃塩
酸:2020gを混合して溶解し、この溶液を溶液Bと
した。溶液Aと溶液Bを一定割合で供給し、沈殿を生成
させ、十分攪拌してpH=8.0のスラリを得た。この
スラリを20リットルのオートクレーブに仕込み、さら
にテトラプロピルアンモニウムブロマイドを500g添
加し、160℃にて72時間水熱合成を行い、合成後水
洗して乾燥させ、さらに500℃、3時間焼成させ結晶
性シリケート1を得た。この結晶性シリケート1は酸化
物のモル比で(結晶水を省く)、0.5Na2 O ・
0.5H2 O・〔0.8Al2 O3 ・0.2Fe2 O3
・0.25CaO〕・25SiO2 の組成式で表され、
結晶構造はX線回折で前記表1にて表示されるものであ
った。
【0015】この結晶性シリケート1を4N塩化アンモ
ニウム水溶液に80℃、24時間浸漬し、ろ過、水洗、
乾燥後、400℃、3時間焼成してH型の結晶性シリケ
ートを得た。この物質にV2 O5 とTiO2 を担持し、
水洗、乾燥を行い粉末触媒1を得た。この触媒の組成は
1.2V2 O5 ・0.8TiO2 〔0.8Al2 O3・
0.2Fe2 O3 ・0.25CaO〕・25SiO2 で
あった。
ニウム水溶液に80℃、24時間浸漬し、ろ過、水洗、
乾燥後、400℃、3時間焼成してH型の結晶性シリケ
ートを得た。この物質にV2 O5 とTiO2 を担持し、
水洗、乾燥を行い粉末触媒1を得た。この触媒の組成は
1.2V2 O5 ・0.8TiO2 〔0.8Al2 O3・
0.2Fe2 O3 ・0.25CaO〕・25SiO2 で
あった。
【0016】次に、100部の前記粉末触媒1に対し
て、バインダとしてアルミナゾル:3部、シリカゾル:
55部(SiO2 :20%)及び水:200部を加え、
充分攪拌を行いウォッシュコート用スラリとした。次に
コージェライト用モノリス基材(30セル/inch2
の格子目)を上記スラリに浸漬し、取り出した後余分な
スラリを吹きはらい200℃で乾燥させた。コート量は
基材1リットルあたり200gを担持させた。このコー
ト物をハニカム触媒1とする。
て、バインダとしてアルミナゾル:3部、シリカゾル:
55部(SiO2 :20%)及び水:200部を加え、
充分攪拌を行いウォッシュコート用スラリとした。次に
コージェライト用モノリス基材(30セル/inch2
の格子目)を上記スラリに浸漬し、取り出した後余分な
スラリを吹きはらい200℃で乾燥させた。コート量は
基材1リットルあたり200gを担持させた。このコー
ト物をハニカム触媒1とする。
【0017】(触媒の調製2)触媒の調製1の結晶性シ
リケート1の合成法において、塩化第二鉄の代わりに塩
化コバルト、塩化ルテニウム、塩化ロジウム、塩化ラン
タン、塩化セリウム、塩化チタン、塩化バナジウム、塩
化クロム、塩化アンチモン、塩化ガリウム及び塩化ニオ
ブを各々酸化物換算でFe2 O3 と同じモル数だけ添加
した以外は結晶性シリケート1と同様の操作を繰り返し
て結晶性シリケート2〜12を調製した。これらの結晶
性シリケートの結晶構造はX線回折で前記表1に表示さ
れるものであり、その組成は酸化物のモル比(脱水され
た形態)で表わして、0.5Na 2 O ・0.5H2 O
・(0.2M2 O3 ・0.8Al2 O3 ・0.25Ca
O)・25SiO2 であった。ここでMはCo,Ru,
Rh,La,Ce,Ti,V,Cr,Sb,Ga,Nb
である。
リケート1の合成法において、塩化第二鉄の代わりに塩
化コバルト、塩化ルテニウム、塩化ロジウム、塩化ラン
タン、塩化セリウム、塩化チタン、塩化バナジウム、塩
化クロム、塩化アンチモン、塩化ガリウム及び塩化ニオ
ブを各々酸化物換算でFe2 O3 と同じモル数だけ添加
した以外は結晶性シリケート1と同様の操作を繰り返し
て結晶性シリケート2〜12を調製した。これらの結晶
性シリケートの結晶構造はX線回折で前記表1に表示さ
れるものであり、その組成は酸化物のモル比(脱水され
た形態)で表わして、0.5Na 2 O ・0.5H2 O
・(0.2M2 O3 ・0.8Al2 O3 ・0.25Ca
O)・25SiO2 であった。ここでMはCo,Ru,
Rh,La,Ce,Ti,V,Cr,Sb,Ga,Nb
である。
【0018】また、塩化第二鉄または酢酸カルシウムの
代わりに何も添加せず結晶性シリケート1と同様の方法
により、結晶性シリケート13、14を得た。これらの
結晶性シリケート2〜14を実施例1と同様にV2 O5
とTiO2 を同じ比率にて担持し、粉末触媒2〜14を
得た。さらにこの粉末触媒を実施例1と同様にモノリス
基材にコートし、ハニカム触媒2〜14を得た。
代わりに何も添加せず結晶性シリケート1と同様の方法
により、結晶性シリケート13、14を得た。これらの
結晶性シリケート2〜14を実施例1と同様にV2 O5
とTiO2 を同じ比率にて担持し、粉末触媒2〜14を
得た。さらにこの粉末触媒を実施例1と同様にモノリス
基材にコートし、ハニカム触媒2〜14を得た。
【0019】(触媒の調製3)触媒の調製1の結晶性シ
リケート1の合成法において酢酸カルシウムの代わりに
酢酸マグネシウム、酢酸ストロンチウム、酢酸バリウム
を各々酸化物換算でCaOと同じモル数だけ添加した以
外は結晶性シリケート1と同様の操作を繰り返して結晶
性シリケート15〜17を調製した。これらの結晶性シ
リケートの結晶構造はX線回折で前記表1に表示される
ものであり、その組成は酸化物のモル比(脱水された形
態)で表わして0.5Na2 O・0.5H2 O・(0.
2Fe2O3 ・0.8Al2 O3 ・0.25MeO)・
25SiO2 である。ここでMeはMg,Sr,Baで
ある。これらの結晶性シリケート15〜17を触媒の調
製1と同様にV2 O5 とTiO2 を担持し粉末触媒15
〜17を得た。さらにこの粉末触媒を触媒の調製1と同
様にモノリス基材にコートしてハニカム触媒15〜17
を得た。
リケート1の合成法において酢酸カルシウムの代わりに
酢酸マグネシウム、酢酸ストロンチウム、酢酸バリウム
を各々酸化物換算でCaOと同じモル数だけ添加した以
外は結晶性シリケート1と同様の操作を繰り返して結晶
性シリケート15〜17を調製した。これらの結晶性シ
リケートの結晶構造はX線回折で前記表1に表示される
ものであり、その組成は酸化物のモル比(脱水された形
態)で表わして0.5Na2 O・0.5H2 O・(0.
2Fe2O3 ・0.8Al2 O3 ・0.25MeO)・
25SiO2 である。ここでMeはMg,Sr,Baで
ある。これらの結晶性シリケート15〜17を触媒の調
製1と同様にV2 O5 とTiO2 を担持し粉末触媒15
〜17を得た。さらにこの粉末触媒を触媒の調製1と同
様にモノリス基材にコートしてハニカム触媒15〜17
を得た。
【0020】(触媒の調製4)触媒の調製1で得られた
結晶性シリケート1を微粉砕し、この結晶性シリケート
1を母結晶として1000gを水:2160gに添加
し、さらにコロイダルシリカ(SiO2 :20%):4
590gを添加し、十分攪拌を行い、この溶液を溶液a
とした。一方、水:2008gに水酸化ナトリウム:1
05.8gを溶解させ溶液bを得た。溶液aを攪拌しな
がら溶液bを徐々に滴下し、沈殿を生成させてスラリを
得た。このスラリをオートクレーブに入れ、テトラプロ
ピルアンモニウムブロマイド:568gを水:2106
gに溶解させた溶液を添加し、160℃、72時間加熱
して水熱合成を行い(200rpmにて攪拌)、反応
後、液を分離し線状して乾燥後、500℃、3時間焼成
を行い、シリカライトを表層にコートした層状複合結晶
性シリケート1を得た。
結晶性シリケート1を微粉砕し、この結晶性シリケート
1を母結晶として1000gを水:2160gに添加
し、さらにコロイダルシリカ(SiO2 :20%):4
590gを添加し、十分攪拌を行い、この溶液を溶液a
とした。一方、水:2008gに水酸化ナトリウム:1
05.8gを溶解させ溶液bを得た。溶液aを攪拌しな
がら溶液bを徐々に滴下し、沈殿を生成させてスラリを
得た。このスラリをオートクレーブに入れ、テトラプロ
ピルアンモニウムブロマイド:568gを水:2106
gに溶解させた溶液を添加し、160℃、72時間加熱
して水熱合成を行い(200rpmにて攪拌)、反応
後、液を分離し線状して乾燥後、500℃、3時間焼成
を行い、シリカライトを表層にコートした層状複合結晶
性シリケート1を得た。
【0021】この層状複合結晶性シリケート1を触媒の
調製1と同様にしてV2 O5 とTiO2 を担持し粉末触
媒18を得、さらに、この粉末触媒を触媒の調製1と同
様にモノリス基材にコートしてハニカム触媒18を得
た。以上のようにして調製したハニカム触媒1〜18を
表2にまとめて示す。
調製1と同様にしてV2 O5 とTiO2 を担持し粉末触
媒18を得、さらに、この粉末触媒を触媒の調製1と同
様にモノリス基材にコートしてハニカム触媒18を得
た。以上のようにして調製したハニカム触媒1〜18を
表2にまとめて示す。
【0022】
【表2】
【0023】(触媒の調製5)触媒の調製1で得た結晶
性シリケート1に、Cr2 O3 とTiO2 を含む酸化物
を含浸するか、活性炭及び活性炭素繊維を混練にするこ
とにより、触媒の調製1と同様に粉末触媒19〜29を
得た。さらに、この粉末触媒を触媒の調製1と同様にモ
ノリス基材にコートしてハニカム触媒19〜29を得
た。以上のようにして調製したハニカム触媒19〜29
を表3にまとめて示した。
性シリケート1に、Cr2 O3 とTiO2 を含む酸化物
を含浸するか、活性炭及び活性炭素繊維を混練にするこ
とにより、触媒の調製1と同様に粉末触媒19〜29を
得た。さらに、この粉末触媒を触媒の調製1と同様にモ
ノリス基材にコートしてハニカム触媒19〜29を得
た。以上のようにして調製したハニカム触媒19〜29
を表3にまとめて示した。
【0024】
【表3】
【0025】(例2)ハニカム触媒1〜29を用いて脱
硝試験を実施した。反応管は15mm×15mm×60
mmの大きさで、3セル×3セルからなるハニカム触媒
1〜29を入れ、次に下記表4の組成を有する窒素酸化
物含有ガスをSV:200h-1、流量:2.7リットル
/hの条件で流し、反応温度:90℃及び200℃の脱
硝試験を行った。
硝試験を実施した。反応管は15mm×15mm×60
mmの大きさで、3セル×3セルからなるハニカム触媒
1〜29を入れ、次に下記表4の組成を有する窒素酸化
物含有ガスをSV:200h-1、流量:2.7リットル
/hの条件で流し、反応温度:90℃及び200℃の脱
硝試験を行った。
【0026】
【表4】 性能評価は反応初期状態における触媒層後流側のNOx
(・NO+NO2 )の濃度を調べた。
(・NO+NO2 )の濃度を調べた。
【0027】表5の結果から、本発明の方法によりNO
xに対して過剰のNH3 を添加してこれら触媒により9
9%以上の脱硝率が得られ、さらに、リークNH3 はこ
れら触媒によりほとんど完全に分解され高効率脱硝を簡
単に行うことができることを確認した。
xに対して過剰のNH3 を添加してこれら触媒により9
9%以上の脱硝率が得られ、さらに、リークNH3 はこ
れら触媒によりほとんど完全に分解され高効率脱硝を簡
単に行うことができることを確認した。
【0028】
【表5】
【0029】(例3)ハニカム触媒1〜29を使用し実
施例1と同一の条件にて長時間通ガスすることにより耐
久性評価試験を実施した。その結果、前記ガス条件にて
90℃で1000時間供給後においても表5と同様の出
口NOx量を維持しており、耐久性に優れた触媒である
ことが確認された。
施例1と同一の条件にて長時間通ガスすることにより耐
久性評価試験を実施した。その結果、前記ガス条件にて
90℃で1000時間供給後においても表5と同様の出
口NOx量を維持しており、耐久性に優れた触媒である
ことが確認された。
【0030】
【発明の効果】本発明の方法によれば、低温で高い効率
でNOxを分解除去することができる。
でNOxを分解除去することができる。
Claims (2)
- 【請求項1】 窒素酸化物含有ガスに、窒素酸化物に対
して反応当量以上のアンモニアを添加し、脱水された状
態で、(1±0.6)R2 O・〔aM2 O3・bAl2
O3 〕・cMeO・ySiO2 (式中、R:アルカリ金
属イオン及び/又は水素イオン、M:周期律表のVIII族
元素、希土類元素、チタン、バナジウム、クロム、ニオ
ブ、アンチモン及びガリウムからなる群から選ばれる1
種以上の元素、Me:アルカリ土類元素、a+b=1.
0、a≧0、b≧0、c≧0、y/c>12、y>1
2)の化学組成を有し、かつ発明の詳細な説明の項に記
載の表1に示されるX線回折パターンを有する結晶性シ
リケートに、Cr2 O3 とTiO2 を含む酸化物、V2
O5 とTiO2 を含む酸化物、活性炭及び活性炭素繊維
のうち少なくとも1種以上を担持または混合させてなる
触媒と接触させることを特徴とする窒素酸化物含有ガス
の脱硝方法。 - 【請求項2】 請求項1の結晶性シリケートが、その表
面に同一結晶構造を有するSiとOよりなる結晶性シリ
ケートを成長させた層状複合結晶性シリケートであるこ
とを特徴とする請求項1記載の窒素酸化物含有ガスの脱
硝方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP7072776A JPH08266870A (ja) | 1995-03-30 | 1995-03-30 | 脱硝方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP7072776A JPH08266870A (ja) | 1995-03-30 | 1995-03-30 | 脱硝方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH08266870A true JPH08266870A (ja) | 1996-10-15 |
Family
ID=13499131
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP7072776A Withdrawn JPH08266870A (ja) | 1995-03-30 | 1995-03-30 | 脱硝方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH08266870A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2000027524A1 (de) * | 1998-11-09 | 2000-05-18 | Siemens Aktiengesellschaft | Katalysatorkörper und verfahren zur minderung von halogenierten kohlenwasserstoffen |
CN1060686C (zh) * | 1998-01-12 | 2001-01-17 | 南开大学 | 复合活性碳纤维固体催化剂 |
CN103182243A (zh) * | 2013-03-25 | 2013-07-03 | 江苏中材环境工程有限公司 | 烟气脱硝剂的制备及应用方法 |
-
1995
- 1995-03-30 JP JP7072776A patent/JPH08266870A/ja not_active Withdrawn
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN1060686C (zh) * | 1998-01-12 | 2001-01-17 | 南开大学 | 复合活性碳纤维固体催化剂 |
WO2000027524A1 (de) * | 1998-11-09 | 2000-05-18 | Siemens Aktiengesellschaft | Katalysatorkörper und verfahren zur minderung von halogenierten kohlenwasserstoffen |
JP2002529225A (ja) * | 1998-11-09 | 2002-09-10 | シーメンス アクチエンゲゼルシヤフト | ハロゲン化炭化水素を低減するための触媒体及びその方法 |
US6589495B2 (en) | 1998-11-09 | 2003-07-08 | Siemens Aktiengesellschaft | Process for reducing the levels of halogenated hydrocarbons |
CN103182243A (zh) * | 2013-03-25 | 2013-07-03 | 江苏中材环境工程有限公司 | 烟气脱硝剂的制备及应用方法 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US5679313A (en) | Ammonia decomposition catalysts | |
US5728356A (en) | Methods of denitrating exhaust gases | |
JP2007076990A (ja) | β型ゼオライト及びそれを用いた窒素酸化物の浄化方法 | |
JP2000093749A (ja) | 排ガスの脱硝方法 | |
JP3132959B2 (ja) | アンモニア分解触媒 | |
JP3132960B2 (ja) | アンモニア分解用触媒 | |
JP3229136B2 (ja) | アンモニア分解方法 | |
JPH08266870A (ja) | 脱硝方法 | |
JP3332652B2 (ja) | アンモニア分解除去方法 | |
JP3453172B2 (ja) | 脱硝方法 | |
JP3229117B2 (ja) | アンモニア分解方法 | |
JP3241166B2 (ja) | アンモニア分解方法 | |
JP3129346B2 (ja) | 排ガス処理触媒及び排ガス処理方法 | |
JP3495548B2 (ja) | 三酸化硫黄の還元除去方法 | |
JP3462580B2 (ja) | 排ガスの脱硝方法 | |
JP3388941B2 (ja) | 排ガスの浄化方法 | |
JP3241216B2 (ja) | 排ガスの脱硝処理方法 | |
JP3254040B2 (ja) | 脱硝処理方法 | |
JP3495542B2 (ja) | 三酸化硫黄還元処理方法 | |
JP3300721B2 (ja) | 排気ガス浄化触媒 | |
JP3322520B2 (ja) | 排ガスの脱硝触媒 | |
JPH08131832A (ja) | アンモニア分解触媒及びアンモニアの分解除去方法 | |
JPH07275658A (ja) | アンモニア吸着分解方法 | |
JP3015568B2 (ja) | 排ガス処理用触媒 | |
JP3015524B2 (ja) | 排気ガス処理用触媒 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A300 | Application deemed to be withdrawn because no request for examination was validly filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20020604 |