JP3495548B2 - 三酸化硫黄の還元除去方法 - Google Patents
三酸化硫黄の還元除去方法Info
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-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02A—TECHNOLOGIES FOR ADAPTATION TO CLIMATE CHANGE
- Y02A50/00—TECHNOLOGIES FOR ADAPTATION TO CLIMATE CHANGE in human health protection, e.g. against extreme weather
- Y02A50/20—Air quality improvement or preservation, e.g. vehicle emission control or emission reduction by using catalytic converters
Landscapes
- Exhaust Gas Treatment By Means Of Catalyst (AREA)
- Catalysts (AREA)
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明はボイラ排ガス等から
排出されるSO3 を還元除去する方法に関する。
排出されるSO3 を還元除去する方法に関する。
【0002】
【従来の技術】大気汚染防止の観点からボイラや各種燃
焼炉から発生するNOx を防止するための方法として脱
硝触媒を用いてNH3 を排ガス中に添加することによっ
て接触的に窒素と水に分解する選択的接触・還元法がガ
ス、油、石炭のいずれの燃焼排ガスにも広く適用されて
いる。本脱硝方法において、重質油やオリマルジョンの
ような粗悪な燃料油を燃料として燃焼させる排ガス中に
は多量のSOx が含有する。SOx の中でもSO3 は腐
食性のガスであり、後流の空気予熱器や電気集塵器へ硫
酸や硫酸アンモニウム(以下、硫安と略称する)あるい
は酸性硫酸アンモニウム(以下、酸性硫安と略称する)
等の形態で凝縮し、腐食や目詰まりの原因となる。更
に、ボイラ等の負荷が増大する場合、多量の硫安等のミ
ストが瞬時において大量に煙突から排出され、白く着色
した排ガスが排出される問題点が生じている。
焼炉から発生するNOx を防止するための方法として脱
硝触媒を用いてNH3 を排ガス中に添加することによっ
て接触的に窒素と水に分解する選択的接触・還元法がガ
ス、油、石炭のいずれの燃焼排ガスにも広く適用されて
いる。本脱硝方法において、重質油やオリマルジョンの
ような粗悪な燃料油を燃料として燃焼させる排ガス中に
は多量のSOx が含有する。SOx の中でもSO3 は腐
食性のガスであり、後流の空気予熱器や電気集塵器へ硫
酸や硫酸アンモニウム(以下、硫安と略称する)あるい
は酸性硫酸アンモニウム(以下、酸性硫安と略称する)
等の形態で凝縮し、腐食や目詰まりの原因となる。更
に、ボイラ等の負荷が増大する場合、多量の硫安等のミ
ストが瞬時において大量に煙突から排出され、白く着色
した排ガスが排出される問題点が生じている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】粗悪な燃料油の燃焼に
よる排ガス中のSOx はほとんどSO2 であるが、燃焼
方法により多量のSO3 が排出される場合もある。さら
に、脱硝触媒上において、SO2 +1/2O2 →SO3
の副反応によりSO3 濃度が増える不具合が生じる。
よる排ガス中のSOx はほとんどSO2 であるが、燃焼
方法により多量のSO3 が排出される場合もある。さら
に、脱硝触媒上において、SO2 +1/2O2 →SO3
の副反応によりSO3 濃度が増える不具合が生じる。
【0004】そこで、本発明者らは上記不具合を解決す
るために、生成したSO3 を還元除去する触媒の開発を
鋭意行ったところ、ルテニウムを担持した触媒が目的に
かなった特性を有することを見い出し、本発明を完成す
るに至った。
るために、生成したSO3 を還元除去する触媒の開発を
鋭意行ったところ、ルテニウムを担持した触媒が目的に
かなった特性を有することを見い出し、本発明を完成す
るに至った。
【0005】
【課題を解決するための手段】すなわち本発明は(1)
SO3 を含有する燃焼排ガスからSO3 を還元処理する
方法において、Ruを担持した触媒にアンモニアを添加
した該燃焼排ガスを接触させることを特徴とするSO3
還元処理方法及び(2)Ruを担持する触媒の担体がチ
タニア、アルミナ、シリカ、ジルコニア、シリカライト
及びメタロシリケートからなる群から選ばれた1種類以
上のものより構成されたものであることを特徴とする上
記(1)記載のSO3 還元処理方法である。
SO3 を含有する燃焼排ガスからSO3 を還元処理する
方法において、Ruを担持した触媒にアンモニアを添加
した該燃焼排ガスを接触させることを特徴とするSO3
還元処理方法及び(2)Ruを担持する触媒の担体がチ
タニア、アルミナ、シリカ、ジルコニア、シリカライト
及びメタロシリケートからなる群から選ばれた1種類以
上のものより構成されたものであることを特徴とする上
記(1)記載のSO3 還元処理方法である。
【0006】本発明において処理対象となるSO3 を含
有する燃焼排ガスとしては、燃焼排ガス中に一酸化炭
素、炭化水素などのSO3 の還元剤として作用する成分
を含むものでも、またそれらを全く含まないものでもよ
い。
有する燃焼排ガスとしては、燃焼排ガス中に一酸化炭
素、炭化水素などのSO3 の還元剤として作用する成分
を含むものでも、またそれらを全く含まないものでもよ
い。
【0007】本発明におけるRuを担持する担体として
はチタニア、アルミナ、シリカ、ジルコニア、シリカラ
イト及びメタロシリケートが使用される。ここにおい
て、シリカライトとは、ペンタシル型のSiとOとのみ
よりなるシリケートであり、メタロシリケートとは下記
表Aに示されるX線回折パターンを有し、脱水された状
態において酸化物のモル比で表わして、下記の化学式を
有する結晶性シリケートである。
はチタニア、アルミナ、シリカ、ジルコニア、シリカラ
イト及びメタロシリケートが使用される。ここにおい
て、シリカライトとは、ペンタシル型のSiとOとのみ
よりなるシリケートであり、メタロシリケートとは下記
表Aに示されるX線回折パターンを有し、脱水された状
態において酸化物のモル比で表わして、下記の化学式を
有する結晶性シリケートである。
【0008】
【化1】(1±0.8)R2 O・〔aM2 O3 ・bM′
O・cAl2 O3 〕・ySiO2(但し、上記式中、R
はアルカリ金属イオン及び/又は水素イオン、MはVIII
族元素、希土類元素、チタン、バナジウム、クロム、ニ
オブ、アンチモン及びガリウムからなる群より選ばれた
少なくとも1種以上の元素イオン、M′はマグネシウ
ム、カルシウム、ストロンチウム、バリウムのアルカリ
土類金属イオン、a>0、20>b≧0、a+c=1、
3000>y>11。)
O・cAl2 O3 〕・ySiO2(但し、上記式中、R
はアルカリ金属イオン及び/又は水素イオン、MはVIII
族元素、希土類元素、チタン、バナジウム、クロム、ニ
オブ、アンチモン及びガリウムからなる群より選ばれた
少なくとも1種以上の元素イオン、M′はマグネシウ
ム、カルシウム、ストロンチウム、バリウムのアルカリ
土類金属イオン、a>0、20>b≧0、a+c=1、
3000>y>11。)
【0009】
【表1】
【0010】ルテニウムを担持する担体は上記の担体上
に、バナジウム、タングステン等の脱硝活性成分を含有
させて、脱硝性能も付与させることができる。担体は単
一成分だけでなく、チタニア・シリカ等の複合酸化物も
使用することができる。
に、バナジウム、タングステン等の脱硝活性成分を含有
させて、脱硝性能も付与させることができる。担体は単
一成分だけでなく、チタニア・シリカ等の複合酸化物も
使用することができる。
【0011】(作用)アンモニアを用いたSO3 の還元
反応は下記式のとおりである。
反応は下記式のとおりである。
【0012】
【化2】
3SO3 +2NH3 →3SO2 +N2 +3H2 O
【0013】担持するルテニウム量は0.002wt%
以上で活性を有するが、好ましくはは0.02wt%以
上が高い活性を有する。また、ルテニウムの担体への担
持方法は含浸法、イオン交換法等があげられる。ルテニ
ウムを担持した触媒の形状はソリッド形状の一体型押出
し触媒又はハニカム基材へのコート型触媒でも利用でき
る。
以上で活性を有するが、好ましくはは0.02wt%以
上が高い活性を有する。また、ルテニウムの担体への担
持方法は含浸法、イオン交換法等があげられる。ルテニ
ウムを担持した触媒の形状はソリッド形状の一体型押出
し触媒又はハニカム基材へのコート型触媒でも利用でき
る。
【0014】また、燃焼排ガス中のNOx 及びSO3 を
共に処理するために、ハニカム状脱硝触媒(例えばTi
O2 −WO3 −V2 O5 撚り構成された触媒)上に、本
発明で用いる触媒粉末をコートすることにより、アンモ
ニアを用いてNOx ,SO3ともに除去することが可能
である。すなわち、アンモニアを還元剤としてNOx ,
SO3 は下記のよう併発して除去することができる。
共に処理するために、ハニカム状脱硝触媒(例えばTi
O2 −WO3 −V2 O5 撚り構成された触媒)上に、本
発明で用いる触媒粉末をコートすることにより、アンモ
ニアを用いてNOx ,SO3ともに除去することが可能
である。すなわち、アンモニアを還元剤としてNOx ,
SO3 は下記のよう併発して除去することができる。
【0015】
【化3】4NO+4NH3 +O2 →4N2 +6H2 O
3SO3 +2NH3 →3SO2 +N2 +3H2 O
【0016】
【実施例】以下、本発明の具体的な実施例をあげ、本発
明の効果を明らかにする。
明の効果を明らかにする。
【0017】(実施例1)
(触媒の調製法1)
○(メタロシリケートの合成):水ガラス1号(SiO
2 :30%):5616gを水:5429gに溶解し、
この溶液を溶液Aとする。一方、水:4175gに硫酸
アルミニウム:718.9g、塩化第二鉄:110g、
酢酸カルシウム:47.2g、塩化ナトリウム:262
g、濃塩酸:2020gを溶解し、この溶液を溶液Bと
する。溶液Aと溶液Bを一定割合で供給し、沈殿を生成
させ、十分攪拌してpH=8.0のスラリを得る。この
スラリを20リットルのオートクレーブに仕込み、さら
にテトラプロピルアンモニウムブロマイドを500g添
加し、160℃にて72時間水熱合成を行い、合成後水
洗して乾燥させ、さらに500℃、3時間焼成させメタ
ロシリケート1を得る。このメタロシリケート1は酸化
物のモル比で(結晶水を省く)、下記の組成式で表さ
れ、結晶構造はX線回折で前記表Aにて表示されるもの
である。
2 :30%):5616gを水:5429gに溶解し、
この溶液を溶液Aとする。一方、水:4175gに硫酸
アルミニウム:718.9g、塩化第二鉄:110g、
酢酸カルシウム:47.2g、塩化ナトリウム:262
g、濃塩酸:2020gを溶解し、この溶液を溶液Bと
する。溶液Aと溶液Bを一定割合で供給し、沈殿を生成
させ、十分攪拌してpH=8.0のスラリを得る。この
スラリを20リットルのオートクレーブに仕込み、さら
にテトラプロピルアンモニウムブロマイドを500g添
加し、160℃にて72時間水熱合成を行い、合成後水
洗して乾燥させ、さらに500℃、3時間焼成させメタ
ロシリケート1を得る。このメタロシリケート1は酸化
物のモル比で(結晶水を省く)、下記の組成式で表さ
れ、結晶構造はX線回折で前記表Aにて表示されるもの
である。
【0018】
【化4】0.5Na2 O・0.5H2 O・〔0.8Al
2 O3 ・0.2Fe2 O3 ・0.25CaO〕・25S
iO2 上記メタロシリケートを4NH4 Cl水溶液80℃に添
加し、3時間以上2回イオン交換を行い、水洗乾燥後、
500℃、3時間焼成後、H型のメタロシリケート1を
得た。
2 O3 ・0.2Fe2 O3 ・0.25CaO〕・25S
iO2 上記メタロシリケートを4NH4 Cl水溶液80℃に添
加し、3時間以上2回イオン交換を行い、水洗乾燥後、
500℃、3時間焼成後、H型のメタロシリケート1を
得た。
【0019】○(触媒化):次に、上記100部のH型
のメタロシリケート1に対して、塩化ニテニウム(Ru
Cl3 )水溶液を含浸させて、Ruとして0.6部担持
させ、蒸発、乾固後、500℃、5時間焼成を行って粉
末触媒1を得た。本粉末触媒100部に対して、バイン
ダとしてアルミナゾル:3部、シリカゾル:55部(S
iO2 :20%)及び水:200部加え、充分攪拌を行
いウォッシュコート用スラリとした。次にコージェライ
ト用モノリス基材(7.4mmピッチで壁厚0.6mm
・・・・この基材を以下、基材1という)を上記スラリ
に浸漬し、取り出した後余分なスラリを吹きはらい20
0℃で乾燥させた。コート量は基材表面積あたり200
g/m2 担持し、このコート物をハニカムコート触媒l
とする。
のメタロシリケート1に対して、塩化ニテニウム(Ru
Cl3 )水溶液を含浸させて、Ruとして0.6部担持
させ、蒸発、乾固後、500℃、5時間焼成を行って粉
末触媒1を得た。本粉末触媒100部に対して、バイン
ダとしてアルミナゾル:3部、シリカゾル:55部(S
iO2 :20%)及び水:200部加え、充分攪拌を行
いウォッシュコート用スラリとした。次にコージェライ
ト用モノリス基材(7.4mmピッチで壁厚0.6mm
・・・・この基材を以下、基材1という)を上記スラリ
に浸漬し、取り出した後余分なスラリを吹きはらい20
0℃で乾燥させた。コート量は基材表面積あたり200
g/m2 担持し、このコート物をハニカムコート触媒l
とする。
【0020】上記触媒の調製法1におけるメタロシリケ
ート1の合成法において、塩化第二鉄の代わりに塩化コ
バルト、塩化ルテニウム、塩化ロジウム、塩化ランタ
ン、塩化セリウム、塩化チタン、塩化バナジウム、塩化
クロム、塩化アンチモン、塩化ガリウム及び塩化ニオブ
を各々酸化物換算でFe2 O3 と同じモル数だけ添加し
た以外はメタロシリケート1と同様の操作を繰り返して
メタロシリケート2〜12を調製した。これらの結晶構
造はX線回折で前記表Aに表示されるものであり、その
組成は酸化物のモル比(脱水された形態)で表わして、
(1±0.8)R 2 O・(0.2M2 O3 ・0.8Al
2 O3 ・0.25CaO)・25SiO2である。ここ
でRはNa及びH、MはCo,Ru,Rh,La,C
e,Ti,V,Cr,Sb,Ga,Nbである。これら
メタロシリケートの構成は後記の表Bに示す。
ート1の合成法において、塩化第二鉄の代わりに塩化コ
バルト、塩化ルテニウム、塩化ロジウム、塩化ランタ
ン、塩化セリウム、塩化チタン、塩化バナジウム、塩化
クロム、塩化アンチモン、塩化ガリウム及び塩化ニオブ
を各々酸化物換算でFe2 O3 と同じモル数だけ添加し
た以外はメタロシリケート1と同様の操作を繰り返して
メタロシリケート2〜12を調製した。これらの結晶構
造はX線回折で前記表Aに表示されるものであり、その
組成は酸化物のモル比(脱水された形態)で表わして、
(1±0.8)R 2 O・(0.2M2 O3 ・0.8Al
2 O3 ・0.25CaO)・25SiO2である。ここ
でRはNa及びH、MはCo,Ru,Rh,La,C
e,Ti,V,Cr,Sb,Ga,Nbである。これら
メタロシリケートの構成は後記の表Bに示す。
【0021】また、上記触媒の調製法1において、酢酸
カルシウムの代わりに酢酸マグネシウム、酢酸ストロン
チウム、酢酸バリウムを各々酸化物換算でCaOと同じ
モル数だけ添加した以外はメタロシリケート1と同様の
操作を繰り返してメタロシリケート13〜15を調製し
た。これらのメタロシリケートの結晶構造はX線回折で
前記表Aに表示されるものであり、その組成は酸化物の
モル比(脱水された形態)で表わして、0.5Na2 O
・0.5H2 O・(0.2Fe2 O3 ・0.8Al2 O
3 ・0.25MeO)・25SiO2 である。ここでM
eはMg,Sr,Baである。
カルシウムの代わりに酢酸マグネシウム、酢酸ストロン
チウム、酢酸バリウムを各々酸化物換算でCaOと同じ
モル数だけ添加した以外はメタロシリケート1と同様の
操作を繰り返してメタロシリケート13〜15を調製し
た。これらのメタロシリケートの結晶構造はX線回折で
前記表Aに表示されるものであり、その組成は酸化物の
モル比(脱水された形態)で表わして、0.5Na2 O
・0.5H2 O・(0.2Fe2 O3 ・0.8Al2 O
3 ・0.25MeO)・25SiO2 である。ここでM
eはMg,Sr,Baである。
【0022】上記メタロシリケート2〜15を前記触媒
化と同様にH型にし、さらに、粉末触媒1と同様にRu
を担持して、粉末触媒2〜15を得た後、コージェライ
トモノリス基材にコートしてハニカム触媒2〜15を得
た。次に塩化イリジウム水溶液に浸漬し、上記調製法1
と同様にハニカム触媒2〜15を得た。
化と同様にH型にし、さらに、粉末触媒1と同様にRu
を担持して、粉末触媒2〜15を得た後、コージェライ
トモノリス基材にコートしてハニカム触媒2〜15を得
た。次に塩化イリジウム水溶液に浸漬し、上記調製法1
と同様にハニカム触媒2〜15を得た。
【0023】(触媒の調製法2)TiO2 (石原産業製
Mc−90)、γ−Al2 O3 (住友化学製)、Si
O2 (富士シリシア化学製)、ZrO2 (日揮化学
製)、シリカライト(モービル社製)また、上記TiO
2 にV2 O5 :5.3%、WO3 :8%を担持したTi
O2 −V2 O5 −WO3 粉末、さらにTiO2 ・SiO
2 (重量比80:20)、TiO2 ・ZrO2 (重量比
80:20)、TiO2 ・P2 O5 (重量比90:1
0)の各複合酸化物の各粉末を担体に塩化ルテニウム
(RuCl3 )水溶液を粉末あたりのRu担持量0.6
wt%となるように含浸させ、蒸発乾固後、500℃で
5時間窒素雰囲気で焼成を行った。この粉末触媒を7.
4mmピッチ、壁厚0.6mmのコージェライトハニカ
ム基材(基材1)表面積あたり200g/m2 担持し、
ハニカム触媒16〜24を得た。ハニカム触媒1〜24
を表Bに併せて示す。
Mc−90)、γ−Al2 O3 (住友化学製)、Si
O2 (富士シリシア化学製)、ZrO2 (日揮化学
製)、シリカライト(モービル社製)また、上記TiO
2 にV2 O5 :5.3%、WO3 :8%を担持したTi
O2 −V2 O5 −WO3 粉末、さらにTiO2 ・SiO
2 (重量比80:20)、TiO2 ・ZrO2 (重量比
80:20)、TiO2 ・P2 O5 (重量比90:1
0)の各複合酸化物の各粉末を担体に塩化ルテニウム
(RuCl3 )水溶液を粉末あたりのRu担持量0.6
wt%となるように含浸させ、蒸発乾固後、500℃で
5時間窒素雰囲気で焼成を行った。この粉末触媒を7.
4mmピッチ、壁厚0.6mmのコージェライトハニカ
ム基材(基材1)表面積あたり200g/m2 担持し、
ハニカム触媒16〜24を得た。ハニカム触媒1〜24
を表Bに併せて示す。
【0024】
【表2】
【0025】(触媒の調製法3)成分としてV2 O5 :
0.4%、WO3 :8%を含有しTiO2 が主成分の1
体型押し型押し出し触媒(7.4mmピッチ、壁厚1m
m)を基材に使用する(本基材を基材2とする)。本基
材2上に触媒粉末21を基材表面積あたり100g/m
2 コートし、ハニカム触媒25を調製した。さらに上記
基材2をRuCl3 水溶液に浸漬し、均一にRuが基材
あたり0.2%担持できるようにした。本試料を乾燥後
500℃、5時間焼成し、Ruを担持した一体型ハニカ
ム触媒であるハニカム触媒26を調製した。
0.4%、WO3 :8%を含有しTiO2 が主成分の1
体型押し型押し出し触媒(7.4mmピッチ、壁厚1m
m)を基材に使用する(本基材を基材2とする)。本基
材2上に触媒粉末21を基材表面積あたり100g/m
2 コートし、ハニカム触媒25を調製した。さらに上記
基材2をRuCl3 水溶液に浸漬し、均一にRuが基材
あたり0.2%担持できるようにした。本試料を乾燥後
500℃、5時間焼成し、Ruを担持した一体型ハニカ
ム触媒であるハニカム触媒26を調製した。
【0026】(SO3 還元試験)前記触媒の調製法で得
られたハニカム触媒1〜26を用いてSO3 の還元試験
を行った。試験条件は下記のとおり。 ○(ガス組成) NO:150ppm,SO2 :2000ppm,S
O3 :100ppm,NH 3 :200ppm,O2 :1
%,H2 O:10%,N2 :残 ○(試験条件) ガス量:512Nl/h,触媒量:30cc(2セル×
2セル・・・・長さ:120mm),GHSV(触媒体
積あたりのガス量):17100h-1,AV(触媒表面
積あたりのガス量):42m3 /m2 h,温度:400
℃ 触媒1〜26のSO3 還元活性を表Cに示す。なお、S
O3 濃度はミニスパイラル管を用いたアルセナゾIII 法
により分析した。
られたハニカム触媒1〜26を用いてSO3 の還元試験
を行った。試験条件は下記のとおり。 ○(ガス組成) NO:150ppm,SO2 :2000ppm,S
O3 :100ppm,NH 3 :200ppm,O2 :1
%,H2 O:10%,N2 :残 ○(試験条件) ガス量:512Nl/h,触媒量:30cc(2セル×
2セル・・・・長さ:120mm),GHSV(触媒体
積あたりのガス量):17100h-1,AV(触媒表面
積あたりのガス量):42m3 /m2 h,温度:400
℃ 触媒1〜26のSO3 還元活性を表Cに示す。なお、S
O3 濃度はミニスパイラル管を用いたアルセナゾIII 法
により分析した。
【0027】
【表3】
【0028】(実施例2)実施例1のSO3 の還元試験
において、脱硝率の測定も実施した。触媒1、21〜2
6の脱硝活性を、SO3 除去率と併せて表Dに示す。
において、脱硝率の測定も実施した。触媒1、21〜2
6の脱硝活性を、SO3 除去率と併せて表Dに示す。
【0029】
【表4】
本結果より本触媒は全て脱硝活性、SO3 除去活性を有
することがわかった。
することがわかった。
【0030】(実施例3)実施例1のSO3 の還元試験
において、NH3 濃度を150ppm、400ppmに
おいてSO3 還元試験を実施した。また、実施例1と同
様な条件にてO2濃度を0.4〜1.4%において、S
O3 還元試験を行った。上記試験は実施例1の触媒21
を用いて実施し、SO3 還元活性を表Eに示す
において、NH3 濃度を150ppm、400ppmに
おいてSO3 還元試験を実施した。また、実施例1と同
様な条件にてO2濃度を0.4〜1.4%において、S
O3 還元試験を行った。上記試験は実施例1の触媒21
を用いて実施し、SO3 還元活性を表Eに示す
【0031】
【表5】
【0032】
【発明の効果】以上実施例により詳述したように、本発
明方法により、有害なSO3 を還元除去することができ
る。
明方法により、有害なSO3 を還元除去することができ
る。
Claims (2)
- 【請求項1】 SO3 を含有する燃焼排ガスからSO3
を還元処理する方法において、Ruを担持した触媒にア
ンモニアを添加した該燃焼排ガスを接触させることを特
徴とするSO3 還元処理方法。 - 【請求項2】 Ruを担持する触媒の担体がチタニア、
アルミナ、シリカ、ジルコニア、シリカライト及びメタ
ロシリケートからなる群から選ばれた1種類以上のもの
より構成されたものであることを特徴とする請求項1記
載のSO3 還元処理方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP05469697A JP3495548B2 (ja) | 1997-03-10 | 1997-03-10 | 三酸化硫黄の還元除去方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP05469697A JP3495548B2 (ja) | 1997-03-10 | 1997-03-10 | 三酸化硫黄の還元除去方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH10249163A JPH10249163A (ja) | 1998-09-22 |
JP3495548B2 true JP3495548B2 (ja) | 2004-02-09 |
Family
ID=12977979
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP05469697A Expired - Fee Related JP3495548B2 (ja) | 1997-03-10 | 1997-03-10 | 三酸化硫黄の還元除去方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3495548B2 (ja) |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4508597B2 (ja) * | 2003-10-17 | 2010-07-21 | 三菱重工業株式会社 | So3の還元処理が可能な排ガス処理用触媒、その製造方法、及び該排ガス処理用触媒を用いた排ガス処理方法 |
WO2006114831A1 (ja) * | 2005-04-06 | 2006-11-02 | Mitsubishi Heavy Industries, Ltd. | So3の還元処理が可能な排ガス処理用触媒、その製造方法、及び該排ガス処理用触媒を用いた排ガス処理方法 |
US8910468B2 (en) | 2009-02-04 | 2014-12-16 | Mitsubishi Heavy Industries, Ltd. | Exhaust gas treatment catalyst, exhaust gas treatment method, and exhaust gas treatment apparatus |
JP2015120116A (ja) * | 2013-12-24 | 2015-07-02 | トヨタ自動車株式会社 | 三酸化硫黄分解触媒及びその製造方法並びにそれを用いた水素生成方法 |
-
1997
- 1997-03-10 JP JP05469697A patent/JP3495548B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH10249163A (ja) | 1998-09-22 |
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