JPH08239419A - α−オレフイン低重合体の製造方法 - Google Patents

α−オレフイン低重合体の製造方法

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JPH08239419A
JPH08239419A JP7068604A JP6860495A JPH08239419A JP H08239419 A JPH08239419 A JP H08239419A JP 7068604 A JP7068604 A JP 7068604A JP 6860495 A JP6860495 A JP 6860495A JP H08239419 A JPH08239419 A JP H08239419A
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良剛 荒木
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敬之 青島
Shinji Iwade
慎二 岩出
Takeshi Okano
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  • Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
  • Transition And Organic Metals Composition Catalysts For Addition Polymerization (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】クロム系触媒を使用したα−オレフイン低重合
体の製造方法であって、金属成分の析出を防止すること
により、特に、エチレンから1−ヘキセンを主体とした
α−オレフイン低重合体を高収率かつ高選択率で製造す
ることが出来る工業的有利なα−オレフイン低重合体の
製造方法を提供する。 【構成】少なくとも、クロム化合物(a)、アミン、ア
ミド及びイミドの群から選ばれる1種以上の化合物
(b)、アルキルアルミニウム化合物(c)の組み合わ
せから成る触媒系を使用し、溶媒中でα−オレフインの
低重合を行い、次いで、溶媒に可溶で且つクロムに対し
て配位子形成能を有する化合物を反応液に添加した後、
反応液から各成分を蒸留分離する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、α−オレフイン低重合
体の製造方法に関するものであり、詳しくは、特に、エ
チレンから1−ヘキセンを主体としたα−オレフイン低
重合体を高収率かつ高選択率で製造することが出来る工
業的有利なα−オレフイン低重合体の製造方法に関する
ものである。
【0002】
【従来の技術】従来から、エチレン等のα−オレフイン
の低重合方法として、特定のクロム化合物と特定の有機
アルミニウム化合物の組み合せから成るクロム系触媒を
使用する方法が知られている。例えば、特公昭43−1
8707号公報には、クロムを含むVIA族の遷移金属
化合物とポリヒドロカルビルアルミニウムオキシドから
成る触媒系により、エチレンから1−ヘキセンを得る方
法が記載されている。
【0003】また、特開平3−128904号公報に
は、クロム−ピロリル結合を有するクロム含有化合物と
金属アルキル又はルイス酸とを予め反応させて得られた
触媒を使用してα−オレフインを三量化する方法が記載
されている。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】ところで、上記の様な
クロム系触媒を使用したα−オレフイン低重合体の工業
的製造方法においては金属成分の析出が問題となる。す
なわち、プロセス中で受ける熱履歴により金属成分が不
溶化して析出する。そして、反応液中の各成分の蒸留分
離において、析出した金属成分が蒸留塔のリボイラー等
に付着して種々のトラブルを惹起する。
【0005】本発明は、上記実情に鑑みなされたもので
あり、その目的は、クロム系触媒を使用したα−オレフ
イン低重合体の製造方法であって、金属成分の析出を防
止することにより、特に、エチレンから1−ヘキセンを
主体としたα−オレフイン低重合体を高収率かつ高選択
率で製造することが出来る工業的有利なα−オレフイン
低重合体の製造方法を提供することにある。
【0006】
【課題を解決するための手段】すなわち、本発明の要旨
は、クロム系触媒を使用したα−オレフイン低重合体の
製造方法において、クロム系触媒として、少なくとも、
クロム化合物(a)、アミン、アミド及びイミドの群か
ら選ばれる1種以上の化合物(b)、アルキルアルミニ
ウム化合物(c)の組み合わせから成る触媒系を使用
し、溶媒中でα−オレフインの低重合を行い、次いで、
溶媒に可溶で且つクロムに対して配位子形成能を有する
化合物を反応液に添加した後、反応液から各成分を蒸留
分離することを特徴とするα−オレフイン低重合体の製
造方法に存する。
【0007】以下、本発明を詳細に説明する。本発明に
おいては、クロム系触媒として、少なくとも、クロム化
合物(a)、アミン、アミド及びイミドの群から選ばれ
る1種以上の化合物(b)及びアルキルアルミニウム化
合物(c)の組み合わせから成る触媒系を使用する。そ
して、好ましい態様として、クロム化合物(a)、アミ
ン、アミド及びイミドの群から選ばれる1種以上の化合
物(b)、アルキルアルミニウム化合物(c)及びハロ
ゲン含有化合物(d)の組み合わせから成る触媒系を使
用する。
【0008】本発明で使用するクロム化合物は、一般式
CrXnで表される。但し、一般式中、Xは、任意の有
機基または無機の基もしくは陰性原子、nは1〜6の整
数を表し、そして、nが2以上の場合、Xは同一または
相互に異なっていてもよい。クロムの価数は0〜6価で
あり、上記の式中のnとしては2以上が好ましい。
【0009】有機基としては、炭素数が通常1〜30の
各種の基が挙げられる。具体的には、炭化水素基、カル
ボニル基、アルコキシ基、カルボキシル基、β−ジケト
ナート基、β−ケトカルボキシル基、β−ケトエステル
基およびアミド基などが例示れる。炭化水素基として
は、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アル
キルアリール基、アラルキル基、シクロペンタジエニル
基など等が挙げられる。無機の基としては、硝酸基、硫
酸基などのクロム塩形成基が挙げられ、陰性原子として
は、酸素、ハロゲン等が挙げられる。
【0010】好ましいクロム化合物は、クロムのアルコ
キシ塩、カルボキシル塩、β−ジケトナート塩、β−ケ
トエステルのアニオンとの塩、または、クロムハロゲン
化物であり、具体的には、クロム(IV)tert−ブトキシ
ド、クロム(III) アセチルアセトナート、クロム(III)
トリフルオロアセチルアセトナート、クロム(III) ヘキ
サフルオロアセチルアセトナート、クロム(III)(2,
2,6,6−テトラメチル−3,5−ヘプタンジオナー
ト)、Cr(PhCOCHCOPh)3(但し、ここでP
hはフェニル基を示す。)、クロム(II)アセテート、ク
ロム(III) アセテート、クロム(III) 2−エチルヘキサ
ノエート、クロム(III) ベンゾエート、クロム(III) ナ
フテネート、Cr(CH3 COCHCOOCH3)3 、塩
化第一クロム、塩化第二クロム、臭化第一クロム、臭化
第二クロム、ヨウ化第一クロム、ヨウ化第二クロム、フ
ッ化第一クロム、フッ化第二クロム等が挙げられる。
【0011】また、上記のクロム化合物と電子供与体か
ら成る錯体も好適に使用することが出来る。電子供与体
としては、窒素、酸素、リン又は硫黄を含有する化合物
の中から選択される。
【0012】窒素含有化合物としては、ニトリル、アミ
ン、アミド等が挙げられ、具体的には、アセトニトリ
ル、ピリジン、ジメチルピリジン、ジメチルホルムアミ
ド、N−メチルホルムアミド、アニリン、ニトロベンゼ
ン、テトラメチルエチレンジアミン、ジエチルアミン、
イソプロピルアミン、ヘキサメチルジシラザン、ピロリ
ドン等が挙げられる。
【0013】酸素含有化合物としては、エステル、エー
テル、ケトン、アルコール、アルデヒド等が挙げられ、
具体的には、エチルアセテート、メチルアセテート、テ
トラヒドロフラン、ジオキサン、ジエチルエーテル、ジ
メトキシエタン、ジグライム、トリグライム、アセト
ン、メチルエチルケトン、メタノール、エタノール、ア
セトアルデヒド等が挙げられる。
【0014】リン含有化合物としては、ヘキサメチルフ
ォスフォルアミド、ヘキサメチルフォスフォラストリア
ミド、トリエチルフォスファイト、トリブチルフォスフ
ィンオキシド、トリエチルフォスフィン等が例示され
る。一方、硫黄含有化合物としては、二硫化炭素、ジメ
チルスルフォキシド、テトラメチレンスルフォン、チオ
フェン、ジメチルスルフィド等が例示される。
【0015】従って、クロム化合物と電子供与体から成
る錯体例としては、ハロゲン化クロムのエーテル錯体、
エステル錯体、ケトン錯体、アルデヒド錯体、アルコー
ル錯体、アミン錯体、ニトリル錯体、ホスフィン錯体、
チオエーテル錯体などが挙げられる。具体的には、Cr
Cl3 ・3THF、CrCl3 ・3dioxane、C
rCl3 ・(CH3 CO2 n−C4 9 )、CrCl3
・(CH3 CO2 25 )、CrCl3 ・3(i−C
3 7 OH)、CrCl3 ・3[CH3 (CH2 3
H(C2 5 )CH2 OH]、CrCl3 ・3pyri
dine、CrCl3 ・2(i−C3 7 NH2 )、
[CrCl3 ・3CH3 CN]・CH3 CN、CrCl
3 ・3PPh3 、CrCl2 ・2THF、CrCl2
2pyridine、CrCl2 ・2[(C2 5)2
H]、CrCl2 ・2CH3 CN、CrCl2 ・2[P
(CH3 2 Ph]等が挙げられる。
【0016】クロム化合物としては、炭化水素溶媒に可
溶な化合物が好ましく、クロムのβ−ジケトナート塩、
カルボン酸塩、β−ケトエステルのアニオンとの塩、β
−ケトカルボン酸塩、アミド錯体、カルボニル錯体、カ
ルベン錯体、各種シクロペンタジエニル錯体、アルキル
錯体、フェニル錯体などが挙げられる。クロムの各種カ
ルボニル錯体、カルベン錯体、シクロペンタジエニル錯
体、アルキル錯体、フェニル錯体としては、具体的に
は、Cr(CO)6 、(C6 6)Cr(CO) 3
(CO)5 Cr(=CCH3 (OCH3 ))、(CO)
5 Cr(=CC6 5 (OCH3 ))、CpCrCl2
(ここでCpはシクロペンタジエニル基を示す。)、(
Cp* CrClCH3)2 (ここでCp* はペンタメチル
シクロペンタジエニル基を示す。)、(CH3)2 CrC
l等が例示される。
【0017】クロム化合物は、無機酸化物などの担体に
担持して使用することも出来るが、担体に担持させず
に、他の触媒成分と組み合わせて使用するのが好まし
い。すなわち、本発明において、クロム系触媒は、後述
する特定の接触態様で使用されるが、斯かる態様によれ
ば、クロム化合物の担体への担持を行わなくとも高い触
媒活性が得られる。そして、クロム化合物を担体に担持
させずに使用する場合は、複雑な操作を伴う担体への担
持を省略でき、しかも、担体の使用による総触媒使用量
(担体と触媒成分の合計量)の増大と言う問題をも回避
することが出来る。
【0018】本発明で使用するアミンは、1級または2
級のアミンである。1級アミンとしては、エチルアミ
ン、イソプロピルアミン、シクロヘキシルアミン、ベン
ジルアミン、アニリン、ナフチルアミン等が例示され、
2級アミンとしては、ジエチルアミン、ジイソプロピル
アミン、ジシクロヘキシルアミン、ジベンジルアミン、
ビス(トリメチルシリル)アミン、モルホリン、イミダ
ゾール、インドリン、インドール、ピロール、2,5−
ジメチルピロール、3,4−ジメチルピロール、3,4
−ジクロロピロール、2,3,4,5−テトラクロロピ
ロール、2−アシルピロール、ピラゾール、ピロリジン
等が例示される。
【0019】本発明で使用するアミドとしては、1級ま
たは2級のアミンから誘導される金属アミドが挙げら
れ、例えば、上記の1級または2級のアミンとIA族、
IIA族、IIIB族およびIVB族から選択される金
属との反応により得られるアミドが挙げられる。斯かる
金属アミドとしては、具体的には、リチウムアミド、ナ
トリウムエチルアミド、カルシウムジエチルアミド、リ
チウムジイソプロピルアミド、カリウムベンジルアミ
ド、ナトリウムビス(トリメチルシリル)アミド、リチ
ウムインドリド、ナトリウムピロライド、リチウムピロ
ライド、カリウムピロライド、カリウムピロリジド、ア
ルミニウムジエチルピロライド、エチルアルミニウムジ
ピロライド、アルミニウムトリピロライド等が挙げられ
る。
【0020】本発明においては、上記の2級のアミン、
2級のアミンから誘導される金属アミド又はこれらの混
合物が好適に使用される。特には、2級のアミンとして
は、ピロール、2,5−ジメチルピロール、3,4−ジ
メチルピロール、3,4−ジクロロピロール、2,3,
4,5−テトラクロロピロール、2−アシルピロール、
2級のアミンから誘導される金属アミドとしては、アル
ミニウムピロライド、エチルアルミニウムジピロライ
ド、アルミニウムトリピロライド、ナトリウムピロライ
ド、リチウムピロライド、カリウムピロライドが好適で
ある。そして、ピロール誘導体の中、ピロール環に炭化
水素基を有する誘導体が特に好ましい。
【0021】本発明で使用する前記以外のアミド又はイ
ミド化合物としては、下記一般式(1)〜(3)で表さ
れる化合物などが挙げられる。
【0022】
【化1】
【0023】一般式(1)中、M1 は、水素原子または
周期律表のIA、IIA、 IIIB族から選ばれる金属元素
であり、R1 は、水素原子、炭素数1〜30のアルキル
基、アルケニル基、アラルキル基、置換基を有していて
もよいアリール基、または、ヘテロ元素を含んでいても
よいアリール基を表し、R2 は、水素原子、炭素数1〜
30のアルキル基、アルケニル基、アラルキル基、置換
基を有していてもよいアリール基、ヘテロ元素を含んで
いてもよいアリール基、または、アシル基C(=O)R
3 (R3 はR1 と同じ定義であり、R1 と異なっていて
もよい)を表し、R1 とR2 は環を形成してもよい。
【0024】一般式(2)中、M2 及びM3 は、水素原
子または周期律表のIA、IIA、 IIIB族から選ばれる
金属元素であり、R4 及びR 5は、水素原子、炭素数1
〜30のアルキル基、アルケニル基、アラルキル基、置
換基を有していてもよいアリール基、または、ヘテロ元
素を含んでいてもよいアリール基を表し、R4 とR 5
環を形成していてもよく、Aは不飽和結合を含んでいて
もよいアルキレン基を表す。
【0025】一般式(3)中、M4 は、水素原子または
周期律表のIA、IIA、 IIIB族から選ばれる金属元素
であり、R6 は、水素原子、炭素数1〜30のアルキル
基、アルケニル基、アラルキル基、置換基を有していて
もよいアリール基、または、ヘテロ元素を含んでいても
よいアリール基を表し、R7 は、水素原子、炭素数1〜
30のアルキル基、アルケニル基、アラルキル基、置換
基を有していてもよいアリール基、ヘテロ元素を含んで
いてもよいアリール基、または、SO2 8 基(R8
6 と同じ定義であり、R6 と異なっていてもよい)を
表し、R6 とR7 は環を形成してもよい。
【0026】一般式(1)又は一般式(2)で表される
アミド類としては、例えば、アセトアミド、N−メチル
ヘキサンアミド、スクシンアミド、マレアミド、N−メ
チルベンズアミド、イミダゾール−2−カルボキソアミ
ド、ジ−2−テノイルアミン、β−ラクタム、δ−ラク
タム、ε−カプロラクタム、および、これらと周期律表
のIA、IIAまたは IIIB族の金属との塩が挙げられ。
イミド類としては、例えば、1,2−シクロヘキサンジ
カルボキシイミド、スクシンイミド、フタルイミド、マ
レイミド、2,4,6−ピペリジントリオン、ペルヒド
ロアゼシン−2,10−ジオン、および、これらと周期
律表のIA、IIAまたは IIIB族の金属との塩が挙げら
れる。
【0027】一般式(3)で示されるスルホンアミド類
およびスルホンイミド類としては、例えば、ベンゼンス
ルホンアミド、N−メチルメタンスルホンアミド、N−
メチルトリフルオロメチルスルホンアミド、および、こ
れらと周期律表のIA、IIAまたは IIIB族の金属との
塩が挙げられる。これらのアミド又はイミド化合物の
中、一般式(1)で表される化合物が好ましく、特に、
一般式(1)中のR2 がアシル基C(=O)R3 を表
し、R1 とR2 が環を形成しているイミド化合物が好ま
しい。
【0028】本発明において、アルキルアルミニウム化
合物としては、下記一般式(4)で示されるアルキルア
ルミニウム化合物が好適に使用される。
【0029】
【化2】 R1 m Al(OR2 n p q ・・・(4)
【0030】一般式(4)中、R1 及びR2 は、炭素数
が通常1〜15、好ましくは1〜8の炭化水素基であっ
て互いに同一であっても異なっていてもよく、Xはハロ
ゲン原子を表し、mは0<m≦3、nは0≦n<3、p
は0≦p<3、qは0≦q<3のそれぞれの数であっ
て、しかも、m+n+p+q=3である数を表す。
【0031】上記のアルキルアルミニウム化合物として
は、例えば、下記一般式(5) で示されるトリアルキル
アルミニウム化合物、一般式(6)で示されるハロゲン
化アルキルアルミニウム化合物、一般式(7)で示され
るアルコキシアルミニウム化合物、一般式(8)で水素
化アルキルアルミニウム化合物などが挙げられる。な
お、各式中のR1 、XおよびR2 の意義は前記と同じで
ある。
【0032】
【化3】 R1 3Al ・・・ (5) R1 m AlX3-m (mは1. 5≦m<3) ・・・ (6) R1 m Al(OR2 3-m (mは0<m<3、好ましくは1. 5≦m<3) ・・・(7) R1 m AlH3-m ・・・(8) (mは0<m<3、好ましくは1. 5≦m<3)
【0033】上記のアルキルアルミニウム化合物の具体
例としては、トリメチルアルミニウム、トリエチルアル
ミニウム、トリイソブチルアルミニウム、ジエチルアル
ミニウムモノクロリド、ジエチルアルミニウムエトキシ
ド、ジエチルアルミニウムヒドリド等が挙げられる。こ
れらの中、ポリマーの副生が少ないと言う点でトリアル
キルアルミニウムが特に好ましい。アルキルアルミニウ
ム化合物は、2種以上の混合であってもよい。
【0034】本発明において、ハロゲン含有化合物とし
ては、周期律表のIIIA、IIIB、IVA、IV
B、VA、VB族の群から選ばれる元素を含むハロゲン
含有化合物が好適に使用される。そして、ハロゲンとし
ては、塩素または臭素が好ましい。
【0035】上記のハロゲン含有化合物の具体例として
は、塩化スカンジウム、塩化イットリウム、塩化ランタ
ン、四塩化チタン、四塩化ジルコニウム、四塩化ハフニ
ウム、三塩化ホウ素、塩化アルミニウム、ジエチルアル
ミニウムクロリド、エチルアルミニウムセスキクロリ
ド、塩化ガリウム、四塩化炭素、クロロホルム、塩化メ
チレン、ジクロロエタン、トリクロロエタン、テトラク
ロロエタン、ヘキサクロロベンゼン、1,3,5−トリ
クロロベンゼン、ヘキサクロロシクロヘキサン、トリチ
ルクロリド、四塩化シラン、トリメチルクロロシラン、
四塩化ゲルマニウム、四塩化スズ、トリブチルスズクロ
リド、三塩化リン、三塩化アンチモン、トリチルヘキサ
クロロアンチモネート、五塩化アンチモン、三塩化ビス
マス、三臭化ホウ素、三臭化アルミニウム、四臭化炭
素、ブロモホルム、ブロモベンゼン、ヨードメタン、四
臭化ケイ素、ヘキサフルオロベンゼン、フッ化アルミニ
ウム等が挙げられる。
【0036】上記のハロゲン含有化合物の中、ハロゲン
原子の数が多いものが好ましく、また、反応溶媒に可溶
の化合物が好ましい。特に好ましいハロゲン含有化合物
の例としては、四塩化炭素、クロロホルム、ジクロロエ
タン、テトラクロロエタン、四塩化チタン、四塩化ゲル
マニウム、四塩化スズ等が挙げられる。なお、ハロゲン
含有化合物は、2種以上の混合物として使用することも
出来る。
【0037】本発明においては、クロム化合物(a)と
アルキルアルミニウム化合物(c)とが予め接触しない
態様でα−オレフインとクロム系触媒とを接触させるの
が好ましい。斯かる特定の接触態様により、選択的に三
量化反応を行わせ、原料エチレンから1−ヘキセンを高
収率で得ることが出来る。
【0038】上記の特定の接触態様は、具体的には、
(1)触媒成分(b)〜(d)を含む溶液中にα−オレ
フイン及び触媒成分(a)を導入する方法、(2)触媒
成分(a)、(b)及び(d)を含む溶液中にα−オレ
フイン及び触媒成分(c)を導入する方法、(3)触媒
成分(a)及び(d)を含む溶液中にα−オレフイン、
触媒成分(b)及び(c)を導入する方法、(4)触媒
成分(c)及び(d)を含む溶液中にα−オレフイン、
触媒成分(a)及び(b)を導入する方法、(5)触媒
成分(a)及び(b)を含む溶液中に、α−オレフイ
ン、触媒成分(c)及び(d)を導入する方法、(6)
触媒成分(b)及び(c)を含む溶液中にα−オレフイ
ン、触媒成分(a)及び(d)を導入する方法、(7)
触媒成分(c)を含む溶液中に、α−オレフイン、触媒
成分(a)、(b)及び(d)を導入する方法、(8)
触媒成分(a)を含む溶液中にα−オレフイン、触媒成
分(b)〜(d)を導入する方法、(9)α−オレフイ
ン及び各触媒成分(a)〜(d)をそれぞれ同時かつ独
立に反応系に導入する方法などによって行うことが出来
る。そして、上記の各溶液は、通常、反応溶媒を使用し
て調製される。
【0039】なお、本発明において、「クロム化合物と
アルキルアルミニウム化合物とが予め接触しない態様」
とは、反応の開始時のみならず、その後の追加的なα−
オレフイン及び触媒成分の反応器への供給においても斯
かる態様が維持されることを意味する。しかし、上記の
特定の態様は、触媒の調製の際に要求される好ましい態
様であり、触媒が調製された後は無関係であり、従っ
て、反応系から回収された触媒は、上記の好ましい態様
に反することなくリサイクルすることが出来る。
【0040】クロム化合物とアルキルアルミニウム化合
物とが予め接触する態様でクロム系触媒を使用した場合
にα−オレフインの低重合反応の活性が低くなる理由
は、未だ詳らかではないが、次の様に推定される。
【0041】すなわち、クロム化合物とアルキルアルミ
ニウムを接触させた場合、クロム化合物に配位している
配位子とアルキルアルミニウム化合物中のアルキル基と
の間で配位子交換反応が進行すると考えられる。そし
て、斯かる反応によって生成するアルキル−クロム化合
物は、通常の方法で得られるアルキル−クロム化合物と
異なり、それ自身不安定である。そのため、アルキル−
クロム化合物の分解還元反応が優先して進行し、その結
果、α−オレフインの低重合反応に不適当な脱メタル化
が惹起され、α−オレフインの低重合反応の活性が低下
する。
【0042】本発明において、原料α−オレフインとし
ては、炭素数が2〜30の置換または非置換のα−オレ
フインが使用される。具体的には、エチレン、プロピレ
ン、1−ブテン、1−ヘキセン、1−オクテン、3−メ
チル−1−ブテン、4−メチル−1−ペンテン等が挙げ
られる。特に、原料α−オレフインとしてエチレンが好
適であり、エチレンからその三量体である1−ヘキセン
を高収率かつ高選択率で得ることが出来る。
【0043】本発明において、反応溶媒としては、ブタ
ン、ペンタン、3−メチルペンタン、ヘキサン、ヘプタ
ン、2−メチルヘキサン、オクタン、シクロヘキサン、
メチルシクロヘキサン、2,2,4−トリメチルペンタ
ン、デカリン等の炭素数1〜20の鎖状または脂環式の
飽和炭化水素、ベンゼン、トルエン、キシレン、エチル
ベンゼン、メシチレン、テトラリン等の芳香族炭化水素
などが使用される。これらは、単独で使用する他、混合
溶媒として使用することも出来る。
【0044】また、反応溶媒として、反応原料のα−オ
レフインそれ自体または主原料以外のα−オレフインを
使用することも出来る。反応溶媒用としては、炭素数が
4〜30のα−オレフインが使用されるが、常温で液状
のα−オレフインが特に好ましい。
【0045】特に、反応溶媒としては、炭素数が4〜1
0の鎖状飽和炭化水素または脂環式飽和炭化水素が好ま
しい。これらの溶媒を使用することにより、ポリマーの
副生を抑制することが出来、更に、脂環式炭化水素を使
用した場合は、高い触媒活性が得られると言う利点があ
る。
【0046】本発明において、クロム化合物の使用量
は、溶媒1リットル当たり、通常1.0×10-7〜0.
5mol、好ましくは1.0×10-6〜0.2mol、
更に好ましくは1.0×10-5〜0.05molの範囲
とされる。一方、アルキルアルミニウム化合物の使用量
は、クロム化合物1mol当たり、通常50mmol以
上であるが、触媒活性および三量体の選択率の観点か
ら、0.1mol以上とするのがよい。そして、上限
は、通常1.0×104 molである。また、アミン、
アミド又はイミドの各使用量は、クロム化合物1mol
当たり、通常0.001mol以上であり、好ましくは
0.005〜1000mol、更に好ましくは0.01
〜100molの範囲とされる。また、ハロゲン含有化
合物の使用量は、アミン、アミド又はイミドの使用量と
同一の範囲とされる。
【0047】本発明においては、クロム化合物(a)、
アミン、アミド及びイミドの群から選ばれる1種以上の
化合物(b)、アルキルアルミニウム化合物(c)及び
ハロゲン含有化合物(d)のモル比(a):(b):
(c):(d)は1:0.1〜10:1〜100:0.
1〜20が好ましく、1:1〜5:5〜50:1〜10
が特に好ましい。斯かる特定条件の結合により、α−オ
レフイン低重合体として、例えば、ヘキセンを90%以
上(全生成量に対する割合)の収率で製造することが出
来、しかも、ヘキセン中の1−ヘキセンの純度を99%
以上に高めることが出来る。
【0048】反応温度は、通常0〜250℃、好ましく
は0〜150℃、更に好ましくは20〜100℃であ
る。一方、反応圧力は、常圧ないし250kg/cm2
の範囲から選択し得るが、通常は、100kg/cm2
の圧力で十分である。そして、滞留時間は、通常1分か
ら20時間、好ましくは0.5〜6時間の範囲とされ
る。反応時に水素を共存させるならば、触媒活性および
三量体の選択率の向上が認められるので好ましい。ま
た、水素の共存により、副生するポリマーの性状が付着
性の少ない紛状となる効果も得られる。共存させる水素
の量は、水素分圧として、通常0.1〜100kg/c
2 、好ましくは1.0〜80kg/cm2 の範囲とさ
れる。
【0049】本発明の最大の特徴は、反応液の蒸留分離
に先立ち、溶媒に可溶で且つクロムに対して配位子形成
能を有する化合物(以下、金属可溶化剤と呼ぶ)を反応
液に添加する点にある。金属可溶化剤としては、通常、
−X−H(但し、Xはヘテロ原子、Hは水素原子を表
す)官能基を有する低分子化合物または活性メチレン基
を有する低分子化合物が使用される。前者の例として
は、アルコール類、フェノール類、カルボン酸類、1級
または2級アミン類、アンモニアが挙げられ、後者の例
としては、アセチルアセトン等が挙げられる。
【0050】上記のアルコール類の具体例としては、メ
タノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、ペ
ンタノール、ヘキサノール、ヘプタノール、オクタノー
ル、ノナノール、デカノール、1−ヘキサノール、ベン
ジルアルコール、エチレングリコール、トリメチレング
リコール、プロパンジオール等が挙げられ、フェノール
類の具体例としては、フェノール、クレゾール、ヒドロ
キノン等が挙げられ、カルボン酸類の具体例としては、
酢酸、プロピオン酸、酪酸、吉草酸、ヘキサン酸、ヘプ
タン酸、オクタン酸、ノナン酸、デカン酸、安息香酸、
フェニル酢酸、フタル酸、マロン酸、コハク酸、グルタ
ル酸、アジピン酸、アクリル酸、マレイン酸、フマル
酸、サリチル酸などが挙げられ、1級または2級アミン
類の具体例としては、触媒の一成分として前述した各ア
ミン類が挙げられる。
【0051】金属可溶化剤の使用割合は、極微量から溶
媒量の範囲に亘る広い範囲から選択することが出来る
が、溶媒中の濃度として、好ましくは0.001〜50
重量%、更に好ましくは0.01〜10重量%の範囲で
ある。
【0052】また、金属可溶化剤の添加時期は、反応液
中の各成分の蒸留分離前の任意の段階を選択することが
出来る。そして、蒸留分離工程が複数存在する場合は、
金属成分のメタル化が最も惹起される最終の蒸留工程の
直前に添加してもよいが、反応工程の直後に添加するの
が好ましい。そして、金属可溶化剤の添加により、金属
成分の析出が防止されるが、更に、副生するポリマーの
性状が付着性のない粉状となると言う効果も得られる。
【0053】反応液中の副生ポリマーの分離除去は、公
知の固液分離装置を適宜使用して行われ、回収されたα
−オレフイン低重合体は、必要に応じて精製される。精
製には、通常、蒸留精製が採用され、目的とする成分を
高純度で回収することが出来る。本発明においては、特
に、エチレンから高純度の1−ヘキセンを工業的有利に
製造することが出来る。そして、公知の重合触媒を使用
した重合反応により、本発明の製造方法で得られた1−
ヘキセンから有用な樹脂であるL−LDPEを製造する
ことが出来る。
【0054】
【実施例】以下、本発明を実施例および比較例により更
に詳細に説明するが、本発明は、その要旨を超えない限
り以下の実施例に限定されるものではない。
【0055】実施例1 完全混合槽型反応器、脱ガス槽、エチレン蒸留塔、ヘキ
セン蒸留塔、ヘプタン蒸留塔、蒸発器から成り、反応器
と脱ガス槽との間には脱ガスされたエチレンを反応器に
循環する圧縮機を備えたプロセスに従って、エチレンの
連続低重合反応を行った。なお、完全混合槽型反応器と
しては、2本の供給管を備えた2Lのオートクレーブを
使用し、蒸発器としては、「ハイビスカスエバポレー
タ」(三井造船(株)製商品名)を使用した。また、エ
チレン蒸留塔の段数は15段、ヘキセン蒸留塔およびヘ
プタン蒸留塔の各段数は20段である。
【0056】完全混合槽型反応器の一方の供給管からエ
チレンと共にクロム(III) 2−エチルヘキサノエートの
n−ヘプタン溶液と1,1,2,2−テトラクロルエタ
ンのn−ヘプタン溶液とを連続的に供給し、他方の供給
管から2,5−ジメチルピロールのn−ヘプタン溶液と
トリエチルアルミニウムのn−ヘプタン溶液とを連続的
に供給した。
【0057】反応器から連続的に抜き出された反応液
は、金属可溶化剤としてオクタン酸(2−エチルヘキサ
ン酸)が連続的に添加されている脱ガス槽に供給され
た。脱ガスされた反応液は、順次、エチレン蒸留塔、ヘ
キセン蒸留塔、ヘプタン蒸留塔にて処理された。ヘプタ
ン蒸留塔の塔底液は、蒸発器に供給されて濃縮された。
蒸発器において、蒸発された高沸点成分は凝縮して回収
され、副生ポリエチレンと共に濃縮された触媒成分は、
冷却後に固形分として回収された。
【0058】一方、脱ガス槽にて脱ガスされたエチレン
は、圧縮機にて昇圧されて反応器に循環され、また、ヘ
プタン蒸留塔にて分離されたn−ヘプタンは、循環パイ
プを経て反応器に循環された。なお、脱ガスされた反応
液の一部をサンプリングして濾過することにより、副生
ポリエチレンの性状を確認した結果、粉状であった。
【0059】表1に上記のプロセスにおける各ユニット
の運転条件を示す。また、表2に反応器および脱ガス槽
からの抜き出し液中の組成を示す。表2中の脱ガス槽に
おけるオクタン酸の濃度は、反応溶媒中の濃度に換算す
ると0.022重量%となる。なお、表2中のCr(2EHA)
3 はクロム(III) 2−エチルヘキサノエートを表す。
【0060】
【表1】 反応器 :80℃×35Kg/cm2 G 脱ガス槽 :40℃×5Kg/cm2 G エチレン蒸留塔:塔頂圧力5Kg/cm2 G 還流比(R/D)0.5 ヘキセン蒸留塔:塔頂圧力760mmHg 還流比(R/D)3.0 ヘプタン蒸留塔:塔頂圧力760mmHg 還流比(R/D)3.0 蒸発器 :伝熱面積0.125m2 ヒーター温度230℃ フラッシュドラム圧力100mmHg
【0061】
【表2】
【0062】ヘプタン蒸留塔の塔底液をサンプリング
し、析出金属成分の分析を行ったが、析出金属成分は実
質的に存在していなかった。なお、析出金属成分の分析
は、濾紙(5A)でサンプルを濾過し、濾紙面をn−ヘ
プタン溶液で洗浄した後、10重量%の硝酸水溶液で洗
浄し、硝酸水溶液液中の金属成分の濃度を高周波プラズ
マ発光分光法で測定する方法によって行った。
【0063】実施例2〜5 実施例1において、脱ガス槽に添加する金属可溶化剤と
して、1−ヘキサノール(実施例2)、ヘキシルアミン
(実施例3)、アンモニア(実施例4)、アセチルアセ
トン(実施例5)を使用した以外は、実施例1と同様に
して1−ヘキセンを連続的に製造した。金属可溶化剤の
添加量は、何れの実施例においても、脱ガス槽中の反応
溶媒中の濃度が0.022重量%となる量とした。実施
例1と同様にしてヘプタン蒸留塔の塔底液をサンプリン
グし、析出金属成分の分析を行ったが、何れの実施例に
おいても、析出金属成分は実質的に存在していなかっ
た。
【0064】比較例1 実施例1において、脱ガス槽に2−エチルヘキサン酸を
供給しない以外は、実施例1と同様にして1−ヘキセン
を連続的に製造した。ヘプタン蒸留塔の塔底液をサンプ
リングし、実施例1と同様にして析出金属成分の分析を
行った結果、クロムが検出され、その量は、反応器に供
給した量の96.3%相当であった。なお、脱ガスされ
た反応液の一部をサンプリングして濾過することによ
り、副生ポリエチレンの性状を確認した結果、付着性の
あるフイルム状あった。
【0065】
【発明の効果】以上説明した本発明によれば、クロム系
触媒を使用したα−オレフイン低重合体の製造方法であ
って、メタル化によって惹起される金属成分の析出を防
止することにより、特に、エチレンから1−ヘキセンを
主体としたα−オレフイン低重合体を高収率かつ高選択
率で製造することが出来る工業的有利なα−オレフイン
低重合体の製造方法が提供される。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 // C07B 61/00 300 C07B 61/00 300 (72)発明者 岩出 慎二 岡山県倉敷市潮通三丁目10番地 三菱化学 株式会社水島開発研究所内 (72)発明者 岡野 丈志 岡山県倉敷市潮通三丁目10番地 三菱化学 株式会社水島開発研究所内

Claims (7)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 クロム系触媒を使用したα−オレフイン
    低重合体の製造方法において、クロム系触媒として、少
    なくとも、クロム化合物(a)、アミン、アミド及びイ
    ミドの群から選ばれる1種以上の化合物(b)、アルキ
    ルアルミニウム化合物(c)の組み合わせから成る触媒
    系を使用し、溶媒中でα−オレフインの低重合を行い、
    次いで、溶媒に可溶で且つクロムに対して配位子形成能
    を有する化合物を反応液に添加した後、反応液から各成
    分を蒸留分離することを特徴とするα−オレフイン低重
    合体の製造方法。
  2. 【請求項2】 クロム系触媒が、クロム化合物(a)、
    アミン、アミド及びイミドの群から選ばれる1種以上の
    化合物(b)、アルキルアルミニウム化合物(c)及び
    ハロゲン含有化合物(d)の組み合わせから成る請求項
    1に記載のα−オレフイン低重合体の製造方法。
  3. 【請求項3】 触媒成分のモル比(a):(b):
    (c)が1:0.1〜10:1〜100である請求項1
    に記載のα−オレフイン低重合体の製造方法。
  4. 【請求項4】 触媒成分のモル比(a):(b):
    (c):(d)が1:0.1〜10:1〜100:0.
    1〜20である請求項2に記載のα−オレフイン低重合
    体の製造方法。
  5. 【請求項5】 クロム化合物(a)とアルキルアルミニ
    ウム化合物(c)とが予め接触しない態様でα−オレフ
    インとクロム系触媒とを接触させてα−オレフインの低
    重合を行う請求項1〜4の何れかに記載のα−オレフイ
    ン低重合体の製造方法。
  6. 【請求項6】 配位子形成能を有する化合物が、−X−
    H(但し、Xはヘテロ原子、Hは水素原子を表す)官能
    基を有する化合物または活性メチレン基を有する化合物
    である請求項1〜5の何れかに記載のα−オレフイン低
    重合体の製造方法。
  7. 【請求項7】 配位子形成能を有する化合物が、アルコ
    ール類、フェノール類、カルボン酸類、1級または2級
    アミン類、アンモニア及びアセチルアセトンの群から選
    択される化合物である請求項1〜6の何れかに記載のα
    −オレフイン低重合体の製造方法。
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