JPH08183065A - ディスク成形金型 - Google Patents

ディスク成形金型

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JPH08183065A
JPH08183065A JP6328635A JP32863594A JPH08183065A JP H08183065 A JPH08183065 A JP H08183065A JP 6328635 A JP6328635 A JP 6328635A JP 32863594 A JP32863594 A JP 32863594A JP H08183065 A JPH08183065 A JP H08183065A
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JP
Japan
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mirror block
side mirror
cavity
fixed
movable
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JP6328635A
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English (en)
Inventor
Yasuyoshi Sakamoto
泰良 坂本
Takehiko Kitamura
武彦 北村
Shigeru Hatano
成 波多野
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Seikoh Giken Co Ltd
Sumitomo Heavy Industries Ltd
Original Assignee
Seikoh Giken Co Ltd
Sumitomo Heavy Industries Ltd
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Publication date
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    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B29WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
    • B29CSHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
    • B29C45/00Injection moulding, i.e. forcing the required volume of moulding material through a nozzle into a closed mould; Apparatus therefor
    • B29C45/17Component parts, details or accessories; Auxiliary operations
    • B29C45/26Moulds
    • B29C45/263Moulds with mould wall parts provided with fine grooves or impressions, e.g. for record discs
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B29WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
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    • B29C2045/2648Outer peripheral ring constructions
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10STECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S425/00Plastic article or earthenware shaping or treating: apparatus
    • Y10S425/81Sound record

Abstract

(57)【要約】 【目的】タクトタイムが長くなったり、ディスク基盤の
設計に制約が生じたりすることがないディスク成形金型
を提供する。 【構成】固定金型に配設された固定側ミラーブロック1
9と、可動金型に前記固定側ミラーブロック19と対向
させて配設され、該固定側ミラーブロック19との間に
キャビティ空間17を形成する可動側ミラーブロック2
3と、前記固定側ミラーブロック19及び可動側ミラー
ブロック23の一方の径方向外方に配設され、ディスク
基盤の外周縁を設定するキャビリング61とを有する。
前記キャビリング61におけるキャビティ空間17に面
する部分が粗面にされる。したがって、樹脂をキャビテ
ィ空間17に充填(じゅうてん)したときに、粗面にさ
れた部分の凹凸によって、樹脂とキャビリング61の内
周面との間に微小空間が形成される。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、ディスク成形金型に関
するものである。
【0002】
【従来の技術】従来、射出成形機においてディスク基盤
を成形する場合、加熱シリンダ内に供給された樹脂を溶
融させ、ディスク成形金型内に形成されたキャビティ空
間に前記樹脂を充填(じゅうてん)し、冷却して固化さ
せるようにしている。前記ディスク成形金型は固定金型
及び可動金型から成り、型締装置によって可動金型を固
定金型に対して接離させ、型閉じ、型締め及び型開きを
行うことができるようになっている。
【0003】ところで、前記キャビティ空間は、固定金
型に配設された固定側ミラーブロックと可動金型に配設
された可動側ミラーブロックとの間に形成され、ディス
ク基盤の外周縁を設定するために、前記固定側ミラーブ
ロック及び可動側ミラーブロックの一方にキャビリング
が固定される。したがって、型開き後の離型時におい
て、前記ディスク基盤の外周面とキャビリングの内周面
との間に離型抵抗が発生させられる。この場合、ディス
ク基盤が変形して反り角の周変動が生じたり、面振れ量
が多くなったりして、ディスク基盤の品質が低下してし
まう。そこで、離型抵抗を小さくするために、成形後の
ディスク基盤を冷却して十分に収縮させた後に離型を行
ったり、キャビリングの内周面に比較的大きな抜け勾配
(こうばい)を形成したりするようにしている。
【0004】図2は従来のディスク成形金型の要部断面
図である。図において、17はキャビティ空間、19は
固定側ミラーブロック、23は該固定側ミラーブロック
19と対向させて配設された可動側ミラーブロック、2
4はカットパンチ、25はフローティングパンチ、53
は前記固定側ミラーブロック19に配設されたスタン
パ、P.L.はパーティングラインである。
【0005】前記可動側ミラーブロック23におけるキ
ャビティ空間17の外周にキャビリング51が固定され
る。該キャビリング51には、キャビティ空間17内に
成形される図示しないディスク基盤の外周縁を設定する
ための規制部55が、固定側ミラーブロック19側に向
けて突出させて形成される。そして、成形後のディスク
基盤の離型時に発生させられる離型抵抗を小さくするた
めに、前記キャビリング51の内周面S1に比較的大き
な抜け勾配が形成される。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前記従
来のディスク成形金型においては、成形後のディスク基
盤を冷却して十分に収縮させた後に離型を行うようにし
たディスク成形金型の場合、冷却時間を長くする必要が
あり、タクトタイムが長くなって生産効率が低くなって
しまう。
【0007】また、前記キャビリング51の内周面S1
に比較的大きな抜け勾配を形成したディスク成形金型の
場合、ディスク基盤の設計に制約が生じてしまう。本発
明は、前記従来のディスク成形金型の問題点を解決し
て、タクトタイムが長くなったり、ディスク基盤の設計
に制約が生じたりすることがないディスク成形金型を提
供することを目的とする。
【0008】
【課題を解決するための手段】そのために、本発明のデ
ィスク成形金型においては、固定金型に配設された固定
側ミラーブロックと、可動金型に前記固定側ミラーブロ
ックと対向させて配設され、該固定側ミラーブロックと
の間にキャビティ空間を形成する可動側ミラーブロック
と、前記固定側ミラーブロック及び可動側ミラーブロッ
クの一方の径方向外方に配設され、ディスク基盤の外周
縁を設定するキャビリングとを有する。
【0009】また、該キャビリングにおけるキャビティ
空間に面する部分が粗面にされる。
【0010】
【作用】本発明によれば、前記のように、ディスク成形
金型においては、固定金型に配設された固定側ミラーブ
ロックと、可動金型に前記固定側ミラーブロックと対向
させて配設され、該固定側ミラーブロックとの間にキャ
ビティ空間を形成する可動側ミラーブロックと、前記固
定側ミラーブロック及び可動側ミラーブロックの一方の
径方向外方に配設され、ディスク基盤の外周縁を設定す
るキャビリングとを有する。
【0011】この場合、前記キャビティ空間に樹脂を充
填し、冷却することによってディスク基盤が成形され
る。また、前記キャビリングにおけるキャビティ空間に
面する部分が粗面にされる。この場合、樹脂をキャビテ
ィ空間に充填したときに、前記キャビリングにおけるキ
ャビティ空間に面する部分に形成された凹凸によって、
樹脂とキャビリングの内周面との間に微小空間が形成さ
れる。したがって、型開き時又は離型時において、離型
抵抗を小さくすることができる。
【0012】
【実施例】以下、本発明の実施例について図面を参照し
ながら詳細に説明する。図1は本発明の第1の実施例に
おけるディスク成形金型の要部断面図、図3は本発明の
第1の実施例におけるディスク成形金型の断面図であ
る。図において、11は固定金型、12は該固定金型1
1と対向させて接離自在に配設された可動金型であり、
前記固定金型11及び可動金型12によってディスク成
形金型が構成される。また、14は環状のロケートリン
グ、15は中央にスプルー16を有するスプルーブッシ
ュ、17はキャビティ空間である。前記スプルーブッシ
ュ15に当接させられた図示しない射出ノズルから射出
された樹脂は、スプルー16を通ってキャビティ空間1
7に充填される。そして、該キャビティ空間17内で固
化された樹脂は成形品としてのディスク基盤になる。
【0013】また、18は固定側ベースプレート、19
は該固定側ベースプレート18に取り付けられた固定側
ミラーブロック、20は前記スプルーブッシュ15の外
周に配設されたスリーブ状の固定側ブッシュ、21は該
固定側ブッシュ20の外周に配設されたスリーブ状のイ
ンナスタンパホルダ、53は固定側ミラーブロック19
に配設されたスタンパである。
【0014】なお、固定側ベースプレート18と固定側
ブッシュ20との間をOリング22aが、固定側ベース
プレート18と固定側ミラーブロック19との間をOリ
ング22bが、固定側ミラーブロック19とインナスタ
ンパホルダ21との間をOリング22cがそれぞれシー
ルする。そして、23は図示しない可動側ベースプレー
トに取り付けられ、前記固定側ミラーブロック19との
間にキャビティ空間17を形成する可動側ミラーブロッ
ク、61は該可動側ミラーブロック23の径方向外方に
固定された環状のキャビリング、24は前記可動側ミラ
ーブロック23に対して相対的に進退自在に配設された
カットパンチである。
【0015】前記キャビリング61には、キャビティ空
間17内に成形される前記ディスク基盤の外周縁を設定
するための規制部65が、固定側ミラーブロック19側
に突出させて形成される。また、前記キャビリング61
の内周面S2は、パーティングラインP.L.に対して
垂直の方向に形成される。なお、必要に応じて、ディス
ク基盤の設計に制約が生じない程度の抜け勾配を、前記
キャビリング61の内周面S2に形成することもでき
る。
【0016】そして、前記カットパンチ24は、成形中
においてキャビティ空間17に樹脂が充填された後に前
進させられ、ディスク基盤に対して穴あけ加工を施す。
また、25は前記カットパンチ24の外周に配設された
フローティングパンチ、26は前記カットパンチ24の
中央において、該カットパンチ24に対して相対的に進
退自在に配設されたスプルーピンであり、該スプルーピ
ン26は図示しないエジェクタ機構によって進退させら
れ、前進時にスプルー部を突き出す。
【0017】ところで、型開き後の離型時において、前
記フローティングパンチ25が前進させられ、ディスク
基盤を突き出して離型させるようになっている。この場
合、該ディスク基盤の外周面とキャビリング61の内周
面S2との間に離型抵抗が発生させられる。そこで、該
離型抵抗を小さくするために、キャビリング61の内周
面S2におけるキャビティ空間17に面する部分が粗面
にされる。本実施例においては、前記内周面S2におけ
るキャビティ空間17に面する部分だけに2〜20〔μ
m〕の凹凸が形成される。
【0018】この場合、前記樹脂をキャビティ空間17
に充填したときに、前記凹凸によって樹脂とキャビリン
グ61の内周面S2との間に微小空間が形成される。し
たがって、離型時において、フローティングパンチ25
によってディスク基盤を突き出す際の離型抵抗を小さく
することができる。その結果、ディスク基盤が変形して
反り角の周変動が生じたり、面振れ量が多くなったりす
ることがなくなり、ディスク基盤の品質を向上させるこ
とができる。また、成形後のディスク基盤が十分に収縮
する前に離型を行うことができるので、タクトタイムを
短くすることができる。さらに、前記キャビリング61
の内周面S2に比較的大きな抜け勾配を形成する必要が
ないので、ディスク基盤の設計に制約が生じることがな
くなり、設計の自由度が大きくなる。
【0019】次に、本発明の第2の実施例について説明
する。図4は本発明の第2の実施例におけるディスク成
形金型の要部断面図である。図において、17はキャビ
ティ空間、19は固定側ミラーブロック、23は該固定
側ミラーブロック19と対向させて配設された可動側ミ
ラーブロック、24はカットパンチ、25はフローティ
ングパンチ、53は前記可動側ミラーブロック23に固
定されたスタンパ、P.L.はパーティングラインであ
る。
【0020】前記固定側ミラーブロック19におけるキ
ャビティ空間17の外周にキャビリング61が固定され
る。該キャビリング61には、キャビティ空間17内に
成形される図示しないディスク基盤の外周縁を設定する
ための規制部65が、可動側ミラーブロック23側に突
出させて形成される。そして、成形後のディスク基盤の
離型時に発生させられる離型抵抗を小さくするために、
前記キャビリング61の内周面S3におけるキャビティ
空間17に面する部分が粗面にされる。
【0021】この場合、型開き時においてディスク基盤
を可動金型側に残す際の離型抵抗を小さくすることがで
きる。なお、本発明は前記実施例に限定されるものでは
なく、本発明の趣旨に基づいて種々変形させることが可
能であり、それらを本発明の範囲から排除するものでは
ない。
【0022】
【発明の効果】以上詳細に説明したように、本発明によ
れば、ディスク成形金型においては、固定金型に配設さ
れた固定側ミラーブロックと、可動金型に前記固定側ミ
ラーブロックと対向させて配設され、該固定側ミラーブ
ロックとの間にキャビティ空間を形成する可動側ミラー
ブロックと、前記固定側ミラーブロック及び可動側ミラ
ーブロックの一方の径方向外方に配設され、ディスク基
盤の外周縁を設定するキャビリングとを有する。
【0023】また、該キャビリングにおけるキャビティ
空間に面する部分が粗面にされる。この場合、樹脂をキ
ャビティ空間に充填したときに、前記キャビリングにお
けるキャビティ空間に面する部分に形成された凹凸によ
って、樹脂とキャビリングの内周面との間に微小空間が
形成される。したがって、型開き時又は離型時におい
て、離型抵抗を小さくすることができる。
【0024】その結果、ディスク基盤が変形して反り角
の周変動が生じたり、面振れ量が多くなったりすること
がなくなり、ディスク基盤の品質を向上させることがで
きる。また、成形後のディスク基盤が十分に収縮する前
に離型を行うことができるので、タクトタイムを短くす
ることができる。さらに、前記キャビリングの内周面に
比較的大きな抜け勾配を形成する必要がないので、ディ
スク基盤の設計に制約が生じることがなくなり、設計の
自由度が大きくなる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1の実施例におけるディスク成形金
型の要部断面図である。
【図2】従来のディスク成形金型の要部断面図である。
【図3】本発明の第1の実施例におけるディスク成形金
型の断面図である。
【図4】本発明の第2の実施例におけるディスク成形金
型の要部断面図である。
【符号の説明】
11 固定金型 12 可動金型 17 キャビティ空間 19 固定側ミラーブロック 23 可動側ミラーブロック 61 キャビリング S2、S3 内周面
フロントページの続き (72)発明者 波多野 成 千葉県千葉市稲毛区長沼原町731番地の1 住友重機械工業株式会社千葉製造所内

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 (a)固定金型に配設された固定側ミラ
    ーブロックと、(b)可動金型に前記固定側ミラーブロ
    ックと対向させて配設され、該固定側ミラーブロックと
    の間にキャビティ空間を形成する可動側ミラーブロック
    と、(c)前記固定側ミラーブロック及び可動側ミラー
    ブロックの一方の径方向外方に配設され、ディスク基盤
    の外周縁を設定するキャビリングとを有するとともに、
    (d)該キャビリングにおけるキャビティ空間に面する
    部分を粗面にしたことを特徴とするディスク成形金型。
JP6328635A 1994-12-28 1994-12-28 ディスク成形金型 Pending JPH08183065A (ja)

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JP6328635A JPH08183065A (ja) 1994-12-28 1994-12-28 ディスク成形金型
US08/576,314 US5693348A (en) 1994-12-28 1995-12-21 Disc molding die
DE69506079T DE69506079T2 (de) 1994-12-28 1995-12-22 Giessform für eine Platte
AT95120418T ATE173428T1 (de) 1994-12-28 1995-12-22 Giessform für eine platte
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DE (1) DE69506079T2 (ja)

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