JPH08181549A - バッファ回路およびバイアス回路 - Google Patents

バッファ回路およびバイアス回路

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JPH08181549A
JPH08181549A JP6322327A JP32232794A JPH08181549A JP H08181549 A JPH08181549 A JP H08181549A JP 6322327 A JP6322327 A JP 6322327A JP 32232794 A JP32232794 A JP 32232794A JP H08181549 A JPH08181549 A JP H08181549A
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 トランジスタの閾値電圧のバラツキによる出
力電圧の変動を調整する機能を備えたバッファ回路等を
提供すること。 【構成】 PMOS1−3のソースSを電源電位V
ccに、ドレインDをNMOS1−5のゲートGに、ゲー
トGを出力端子Oに接続する。また、NMOS1−5の
ドレインDを電源電位Vccに、ソースSを出力端子Oに
接続する。同様に、PMOS1−4のソースSを電源電
位Vccに、ドレインDをNMOS1−6のゲートGに、
ゲートGを出力端子OBに接続する。また、NMOS1
−6のドレインDを電源電位Vccに、ソースSを出力端
子OBに接続する。このようにPMOSおよびNMOS
を接続することにより、PMOSに負帰還がかかり、出
力ノードのレベルが高くなり過ぎたり、低くなり過ぎた
りするのを抑える。したがって、出力端子O,OBより
出力される小振幅信号に及ぼす影響が少なくて済む。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は小振幅信号を入出力する
バッファ回路またはバイアス回路に関する。
【0002】
【従来の技術】小振幅信号を入出力するバッファ回路
は、飽和領域でスイッチング動作を行うトランジスタに
より構成されるバッファ回路に比べて高速に信号の伝達
を行えるため、高速動作を必要とする各種電子回路に用
いられている。このようなバッファ回路は、信号入力側
トランジスタに閾値付近の電圧レベルの小振幅信号を入
力するとともに、信号出力側トランジスタより出力先回
路における入力側トランジスタの閾値付近の電圧レベル
の小振幅信号を出力する。
【0003】図2は、このような小振幅信号を入出力す
るバッファ回路の従来技術を示した回路図である。この
バッファ回路は、トランジスタのPMOS2−3および
PMOS2−4を備え、これらトランジスタはそれぞれ
ソースSが電源電位Vccに接続され、ゲートGが接地電
位Vssに接続されている。このように、PMOS2−3
およびPMOS2−4はゲートGが接地電位Vssに接続
されているため、ソースSとドレインD間が常時導通状
態であり、PMOS2−3のドレインDが接続されてい
るノード2−3、PMOS2−4のドレインDが接続さ
れているノード2−4に常に同じ状態で電源電位Vcc
供給している。
【0004】バッファ回路はまた、相補の小振幅信号を
入力するNMOS2−1とNMOS2−2を備えてい
る。NMOS2−1は、ゲートGが相補信号の一方を入
力する入力端子Dに接続され、ドレインDがノード2−
3と接続されている。また、NMOS2−2は、ゲート
Gが相補信号の他方を入力する入力端子DBに接続さ
れ、ドレインDがノード2−4と接続されている。これ
らNMOS2−1およびNMOS2−2のソースSと接
地電位Vssの間には電流源2−8が接続されている。
【0005】バッファ回路はさらに、相補の小振幅信号
を出力する出力端子に接続されるNMOS2−5とNM
OS2−6を備えている。NMOS2−5は、ドレイン
Dが電源電位Vccに、ゲートGがノード2−3に、ソー
スSが一方の出力端子Oと接続される出力ノードΦ2−
1に接続されている。NMOS2−6は、ドレインDが
電源電位Vccに、ゲートGがノード2−4に、ソースS
が他方の出力端子OBと接続される出力ノードΦ2−2
に接続されている。出力ノードΦ2−1およびΦ2−2
はそれぞれ、電流源2−7、2−9を介して接地電位V
ssと接続されている。
【0006】次に、図2に示した従来技術におけるバッ
ファ回路の動作を説明する。このバッファ回路は、入力
端子D、DBに相補の小振幅信号を入力すると、これに
対応した相補の小振幅信号を出力端子O、OBより出力
する。より詳細に説明すると、たとえば相補信号が入力
される入力端子Dの電圧が高くなると入力端子DBの電
圧は低くなる。これら電圧がNMOS2−1とNMOS
2−2のゲートGに印加されると、NMOS2−1とN
MOS2−2を流れる電流差によりノード2−3の電圧
が下がり、ノード2−3の電圧に追従して出力ノードΦ
2−1も下がる。一方、ノード2−4の電圧は上がり、
ノード2−4の電圧に追従して出力ノードΦ2−2の電
圧も上がる。
【0007】次にトランジスタの閾値電圧に注目する。
たとえば半導体基板中にNチャネル型トランジスタを形
成する工程において、プロセスバラツキ等の誤差により
Nチャネル型トランジスタの閾値電圧Vtnが目標値より
も上がった場合を考える。Nチャネル型トランジスタの
閾値電圧Vtnが目標値よりも上がると、NMOS2−1
の導通状態は、閾値電圧Vtnが目標値である時よりも弱
くなる。したがって、ノード2−3の電圧は、閾値電圧
tnが目標値である時よりも上がる。
【0008】また、NMOS2−5の閾値電圧Vtnも上
がっているので出力ノードΦ2−1の電圧もノード2−
3の電圧に追従して上がる。また、Pチャネル型トラン
ジスタの閾値電圧Vtpがずれた場合には、PMOS2−
3が十分にオン状態にならなくなりノード2−3の電位
が目標値よりも下がり、出力ノードΦ2−1の電圧はノ
ード2−3に追従して下がる。
【0009】
【発明が解決しようとしている課題】しかしながらこの
ような小振幅信号を出力するバッファ回路では、出力電
圧のレベルが所定のレベルの範囲からずれて大きく変化
すると、正確に信号の伝達ができなくなる場合がある。
一方、トランジスタの製造バラツキなどによる閾値電圧
(Vtn、Vtp)のバラツキをすべての製品について完全
に無くすことは非常に困難であり、結果として、バッフ
ァ回路を含んだ製品全体としての歩留りが極端に悪化す
る。また、閾値電圧はトランジスタの温度などの動作環
境によっても変化するため、出荷時に製造のバラツキを
無くしても常に安定した小振幅出力信号を得られる保証
はない。
【0010】本発明はこのような従来技術の欠点を解消
し、回路設計側でトランジスタの閾値電圧のバラツキに
より生じる出力レベルの変動を調整する機能を備えたバ
ッファ回路およびバイアス回路を提供することを目的と
する。
【0011】
【課題を解決するための手段】本発明は上述の課題を解
決するために、第1端子が第1の電流源に、第2端子が
第1のノードに、制御電極が第1の入力端子にそれぞれ
接続される第1のトランジスタと、第1端子が第1の電
流源に、第2端子が第2のノードに、制御電極が第1の
入力端子と相補の信号を入力する第2の入力端子にそれ
ぞれ接続される第2のトランジスタと、第1端子が第1
の電源に、第2端子が第1のノードに、制御電極が第1
の出力端子にそれぞれ接続される第3のトランジスタ
と、第1端子が第1の電源に、第2端子が第2のノード
に、制御電極が前記第1の出力端子と相補の信号を出力
する第2の出力端子にそれぞれ接続される第3のトラン
ジスタと、第1端子が第1の出力端子および第2の電流
源に、第2端子が第1の電源に、制御電極が前記第1の
ノードにそれぞれ接続される第5のトランジスタと、第
1端子が第2の出力端子および第3の電流源に、第2端
子が第1の電源に、制御電極が前記第2のノードにそれ
ぞれ接続される第5のトランジスタとを有する。
【0012】また、本発明によれば、第1端子が第1の
電源に、第2端子が第1のノードに、制御電極が第1の
出力端子にそれぞれ接続される第1のトランジスタと、
第1端子が抵抗器に、第2端子が第1の電源に、制御電
極が前記第1のノードにそれぞれ接続される第2のトラ
ンジスタと、第1端子が第1の出力端子に、第2端子が
第1の電源に、制御電極が前記第1のノードにそれぞれ
接続される第3のトランジスタと、第1端子が第2の電
源に、第2端子が第1のノードに、制御電極が第2の出
力端子にそれぞれ接続される第4のトランジスタと、第
1端子が第2の電源に接続され、第2端子および制御電
極が抵抗器を介して第2のトランジスタの第1端子と第
2の出力端子に接続される第5のトランジスタと、第1
端子が第2の電源に、第2端子が第3のトランジスタの
第1端子に、制御電極が前記第2の出力端子にそれぞれ
接続される第6のトランジスタとを有する。
【0013】
【作用】本発明によれば、第1のノードの電位が上がる
とNチャネル型トランジスタの制御電極の電位が上がる
ので第2のノードの電位が上がり、第2のノードが上が
るとPチャネル型トランジスタの制御電極の電位が上が
るので第1のノードに流れる電流が制限される。また、
第1のノードの電位が下がるとNチャネル型トランジス
タの制御電極の電位が下がるので第2のノードの電位が
下がり、第2のノードが下がるとPチャネル型トランジ
スタの制御電極の電位が下がるので第1のノードに流れ
る電流が増加する。
【0014】また、本発明によれば、第1の入力端子に
入力される信号の電位が上がると、第1のノードに流れ
る電流が増加し、第1のノードの電位が上昇する。第1
のノードの電位が上がると、第5のトランジスタの第1
端子と第2端子間に流れる電流が増加するため第1の出
力端子の電位が上がる。第1の出力端子の電位が上がる
と、第3のトランジスタは第1端子と第2端子間の抵抗
を増加して第1のノードに流れる電流を制限する。一
方、第2の入力端子には第1の入力端子と相補の信号が
入力されるため、第2の入力端子に入力される信号の電
位は下がる。第2の入力端子に入力される信号の電位が
下がると、第6のトランジスタの制御電極の電圧が下が
るためこのトランジスタの第1端子と第2端子間の抵抗
が上がり、第2の出力端子より出力される信号の電位が
下がる。第2の出力端子の電位が下がると、第4のトラ
ンジスタの第1端子と第2端子間の抵抗が減少し、第2
のノードに流れる電流を増加する。
【0015】さらに、本発明によれば、Nチャネルトラ
ンジスタの閾値レベルが上がると第1、第2のノードに
流れる電流が減少し、第3、第4のトランジスタの制御
電極の電位が下がる。第3、第4のトランジスタの制御
電極の電位が下がると、この2つのトランジスタの第1
端子と第2端子間の抵抗が増加し、第1、第2の出力端
子より出力されるバイアス電圧が下がる方に制御され
る。しかし、第1、第2の出力端子の電位が下がると第
1、第2のトランジスタの第1端子と第2端子間の抵抗
が減少し、第3、第4のトランジスタの制御電極に加わ
る電位が上昇する。このため、第3、第4のトランジス
タの第1端子と第2端子間の抵抗が減少し、第1、第2
の出力端子の電位が上がる方に制御される。これによ
り、Nチャネルトランジスタの閾値レベルが上がっても
第1、第2の出力端子より出力されるバイアス電圧の変
化が抑えられる。同様に、Nチャネルトランジスタの閾
値レベルが下がっても上記と逆の制御が行われ、第1、
第2の出力端子より出力されるバイアス電圧の変化が抑
えられる。また、Pチャネルトランジスタの閾値レベル
の絶対値が上がると、第1、第2のノードに流れる電流
が減少し、上記と同様に第1、第2の出力端子より出力
されるバイアス電圧の変化が抑えられる。
【0016】
【実施例】次に添付図面を参照して本発明によるバッフ
ァ回路およびバイアス回路の実施例を詳細に説明する。
【0017】図1を参照すると、本発明による電界効果
トランジスタで構成される小振幅信号を入出力するバッ
ファ回路の実施例を示す回路図が示されている。このバ
ッファ回路は、構成要素である電界効果トランジスタの
閾値の変化に影響を受けること無く、入力端子D、DB
に入力された相補の小振幅信号を、これに対応した相補
の小振幅信号として出力端子O、OBより出力するバッ
ファ回路である。
【0018】このバッファ回路は、相補の小振幅信号を
入力する同一の寸法であるNMOS1−1とNMOS1
−2を備えている。NMOS1−1は、ゲートGが相補
信号の一方を入力する入力端子Dに接続され、ドレイン
Dがノード1−3と接続されている。また、NMOS1
−2は、ゲートGが相補信号の他方を入力する入力端子
DBに接続され、ドレインDがノード1−4と接続され
ている。これらNMOS1−1およびNMOS1−2の
ソースSと接地電位Vssの間には電流源1−8が接続さ
れている。
【0019】このバッファ回路はまた、負帰還制御され
る同一の寸法のPMOS1−3およびPMOS1−4を
備えている。PMOS1−3は、ソースSが電源電位V
ccに、ドレインDがノード1−3に、ゲートGが出力ノ
ードΦ1−1を介して出力端子Oにそれぞれ接続されて
いる。また、PMOS1−4は、ソースSが電源電位V
ccに、ドレインDがノード1−4に、ゲートGが出力ノ
ードΦ1−2を介して出力端子OBにそれぞれ接続され
ている。これらPMOS1−3およびPMOS1−4
は、出力ノードΦ1−1,Φ1−2の電位により、ソー
スSとドレインD間の抵抗値が制御される。
【0020】バッファ回路はさらに、同一の寸法のNM
OS1−5とNMOS1−6を備えている。NMOS1
−5は、ドレインDが電源電位Vccに、ゲートGがノー
ド1−3に、ソースSが出力ノードΦ1−1を介して出
力端子Oと接続されている。また、NMOS1−6は、
ドレインDが電源電位Vccに、ゲートGがノード1−4
に、ソースSが出力ノードΦ1−2を介して出力端子O
Bと接続されている。また、出力ノードΦ1−1と接地
電位Vss間には電流源1−7が、出力ノードΦ1−2と
接地電位Vss間には電流源1−9がそれぞれ接続されて
いる。
【0021】次に、図1に示したバッファ回路の動作を
説明する。入力端子D、DBに相補の信号が入力され
る。たとえば、入力端子Dに入力した小振幅信号の電圧
が高くなると、NMOS1−1に流れる電流が増加する
とともに、NMOS1−2を流れる電流が減少し、ノー
ド1−3の電圧が下がる。ノード1−3の電圧が下がる
とNMOS1−5のゲートGの電位が下降し、このトラ
ンジスタのソースSとドレインD間の抵抗値が増加す
る。したがって、ノードΦ1−1の電圧は電流源Φ1−
7により決定される電圧になる。つまり、ノード1−3
の電圧に追従して出力ノードΦ1−1の電圧も下がる。
【0022】一方、出力ノードΦ1−1の電圧が低くな
り、非飽和領域で可変抵抗として動作するPMOS1−
3のゲートGに印加される電位が下がると、このトラン
ジスタのソースSとドレインD間の抵抗が減少し、この
間を流れる電流が増加し、出力ノードΦ1−1の電位が
低くなり過ぎることがないように負帰還がかかる。よっ
て出力端子Oより安定した小振幅信号を出力することが
できる。
【0023】また、このとき、入力端子DBの電圧は低
くなりNMOS1−2のゲートGに加わる電位が低くな
るので、このトランジスタのソースSとドレインD間に
流れる電流は減少する。これにより、ノード1−4の電
圧が上がりNMOS1−6のゲートGの電位が高くなる
ので、このトランジスタのソースSとドレインD間に流
れる電流が増加し、ノード1−4の電圧に追従して出力
ノードΦ1−2も上がる。
【0024】出力ノードΦ1−2の電圧が上がることに
より非飽和領域で可変抵抗として動作するPMOS1−
4のゲート電位が上がるので、このトランジスタのソー
スSとドレインD間に流れる電流が減少する。つまり、
出力ノードΦ1−2の電位が高くなり過ぎることがない
ように負帰還がかかる。よって、出力端子OBよりトラ
ンジスタの閾値の変動に対して安定した小振幅信号を得
ることができる。また、出力ノードのレベルの変化がお
こってから負帰還がかかるためノード1−3、ノード1
−4のレベルの初期変化に影響しないのでスピードも早
い。
【0025】次に、トランジスタの閾値(NMOS:V
tn、PMOS:Vtp)がずれた場合について説明する。
たとえばトランジスタの閾値のずれは4つの場合が考え
られる。第1の場合として回路の左部分ではPMOS1
−3の閾値電圧Vtpが目標値より上がってノード1−3
の電圧が目標値よりも下がった場合である。このとき
は、出力ノードΦ1−1の電圧も下がるためPMOS1
−3に多く電流が流れ、ノード1−3の電圧の低下を抑
えられる。また、回路の右部分でも同様に動作する。
【0026】第2の場合として回路の左部分では、PM
OS1−3のVtpが下がり、ノード1−3の電圧が目標
値よりも上がった場合である。このときは、出力ノード
Φ1−1の電圧も上がるためPMOS1−3に流れる電
流が絞られ、ノードN1−3の電圧の上昇を抑えられ
る。また、回路の右部分でも同様に動作する。
【0027】第3の場合として回路の左部分では、NM
OS1−1のVtnが下がって出力ノードΦ1−1の電圧
が目標値よりも下がった場合である。このときは、PM
OS1−3に多く電流が流れノード1−3の電圧が上が
り、ノード1−3が上がることによって出力ノードΦ1
−1の電圧の低下を抑えられる。また、回路の右部分で
も同様に動作する。
【0028】第4の場合として回路の左部分では、NM
OS1−1のVtnが上がって出力ノードΦ1−1の電圧
が目標値よりも上がった場合である。このときは、PM
OS1−3に流れる電流が絞られノード1−3の電圧が
下がり、ノード1−3が下がることによって出力ノード
Φ1−1の電圧の上昇を抑えられる。また、回路の右部
分でも同様に動作する。
【0029】このように、トランジスタの閾値(Vtn
tp)が目標値よりずれた場合でも、出力ノード1−
3、1−4に流れる電流を補償するので、出力端子O,
OBより出力される小振幅信号の電圧のずれが少ない。
【0030】以上詳細に説明したように図1に示したバ
ッファ回路の実施例によれば、PMOS1−3のゲート
Gを出力端子Oに接続し、PMOS1−4のゲートGを
出力端子OBに接続することにより、負帰還がかかり、
出力ノードのレベルが高くなり過ぎたり、低くなり過ぎ
たりするのを抑える。また、出力ノードのレベルの変化
が起こってから負帰還がかかるためスピードも早い。さ
らに、トランジスタの閾値(Vtn、Vtp)がずれた場合
でも、PMOS1−3,PMOS1−4のソースSとド
レインD間の抵抗値がこのずれを補正するように適宜調
節される。したがって、NMOS1−5,NMOS1−
6のゲートGに印加される電圧が調節され、出力端子
O,OBより出力される小振幅信号に及ぼす影響が少な
くて済む。
【0031】図3は本発明による負荷回路を含むバイア
ス回路において、負荷回路に帰還をかけた実施例を示す
回路図である。このバイアス回路10は、トランジスタ
の閾値電圧のバラツキに依存されないバイアス電圧を出
力する出力端子VRPGと、電源電位Vccに依存されな
いバイアス電圧を出力する出力端子VRNGを備えたバ
イアス回路であり、PMOS3−1とNMOS3−2〜
NMOS3−6および抵抗器3−8により構成されてい
る。
【0032】PMOS3−1は、ソースSが電源電位V
ccに、ドレインDがノード3−7に、ゲートGが出力ノ
ードΦ3−1を介して出力端子VRPGにそれぞれ接続
されている。NMOS3−2とNMOS3−3は、同じ
寸法のトランジスタであり、それぞれのドレインDが電
源電位Vccに、ゲートGがノード3−7に接続されてい
る。
【0033】また、NMOS3−2のソースSは抵抗器
3−8を介してNMOS3−4のドレインDに接続され
ている。また、NMOS3−3のソースSは、NMOS
3−6のドレインDに接続されるとともに、PMOS3
−1を負帰還制御するように出力ノードΦ3−1に接続
されている。PMOS3−1とNMOS3−3が上記の
ように接続されることにより、出力端子VRPGより出
力されるバイアス電圧は、これらPMOS3−1とNM
OS3−3の閾値のバラツキに依存されない電圧を出力
することができる。
【0034】NMOS3−4とNMOS3−6は同じ寸
法のトランジスタであり、ソースSが接地電位Vssに、
ゲートGが出力ノードΦ3−2を介して出力端子VRN
Gにそれぞれ接続されている。また、NMOS3−4の
ゲートGはドレインDにも接続されている。NMOS3
−5は、ソースSが接地電位Vssに、ドレインDがノー
ド3−7に、ゲートGが出力ノードΦ3−2を介して出
力端子VRNGに接続されている。
【0035】上記バイアス回路10の動作について説明
する。PMOSまたはNMOSトランジスタの閾値電圧
t がずれたときにはたとえば4つの場合がある。第1
の場合はPMOS3−1の閾値電圧Vtpの絶対値が目標
値よりも上がった場合である。この場合には、PMOS
3−1の導通状態は閾値電圧Vtpが目標値である時より
も弱くなる。したがって、ノード3−7の電圧は、閾値
電圧Vtpが目標値である時よりも下がる。したがって、
NMOSトランジスタ3−3のゲートGに加わる電位が
目標値よりも下がるので、出力ノードΦ3−1の電位レ
ベルも下がるが、この電位レベルがPMOS3−1のゲ
ートに加わるため、PMOS3−1を流れる電流が増え
て、ノード3−7の電位レベルの低下を抑えるように調
節される。このようにPMOS3−1に負帰還がかかる
ので、PMOS3−1の閾値電圧Vtpが目標値よりも上
がった場合でも、出力端子VRPGより出力されるバイ
アス電圧への影響が少なくて済む。
【0036】第2の場合はPMOS3−1の閾値電圧V
tpの絶対値が目標値よりも下がってノード3−7の電位
レベルが目標値よりも上がった場合である。この場合に
は、出力ノードΦ3−1の電位レベルも上がり、PMO
S3−1を流れる電流が絞られてノード3−7の電位レ
ベルの上昇を抑えようという負帰還がかかる。
【0037】第3の場合はNMOS3−3の閾値電圧V
tnが目標値よりも下がって出力ノードΦ3−1の電位レ
ベルが目標値よりも上がった場合である。この場合に
は、ノード3−7の電位レベルが下がり、出力ノードΦ
3−1の電位レベルの上昇を抑えようという負帰還がか
かる。
【0038】第4の場合はNMOS3−3の閾値電圧V
tnが目標値よりも上がって出力ノードΦ3−1の電位レ
ベルが目標値よりも下がった場合である。この場合に
は、ノード3−7の電位レベルが上がり、出力ノードΦ
3−1の電位レベルの低下を抑えようという負帰還がか
かる。このように、上記PMOS3−1への負帰還によ
り、出力ノードΦ3−1はトランジスタの閾値電圧のバ
ラツキの範囲ΔVtpとΔVtnによる影響が少なくなる。
よって出力端子VRPGからはトランジスタの閾値電圧
のバラツキに影響されない一定電圧を出力することが可
能となる。
【0039】また、NMOS3−2とNMOS3−3の
ゲートGはノード3−7に接続されているので出力ノー
ドΦ3−1を流れる電流iRと出力ノードΦ3−2を流
れる電流iLは同じである。したがって、 iL=iR また、ノードsの電圧値Vs と出力ノードΦ3−1の電
圧値Vrpg は等しい。 Vs =Vrpg 電圧値Vrpg は、NMOS3−3の電圧降下分Vnoを電
源電位Vccから引いた電圧と等しい。 Vrpg =Vcc−Vno 抵抗器3−8の電圧降下分Vroは抵抗器3−8の抵抗値
R(Ω)と電流値iLによって求まる。 Vro=R*iL よって出力ノードΦ3−2の電圧値Vrng は、 Vrng =Vrpg −Vro =Vcc−Vno−iL*R iLとVccは比例関係なので Vrng =Vcc(1−kR)−Vno となる。Vrng はRを大きくすることによりVtp、Vcc
の依存性のないリファレンスレベルが得られる。
【0040】このように図3に示したバイアス回路10
によれば、PMOS3−1のゲートGとNMOS3−3
のドレインDを接続し、PMOS3−1のドレインDと
NMOS3−3のゲートGを接続することにより、ΔV
tpとΔVtnによる影響が少ないリファレンスレベルV
rpg が得られる。
【0041】また、NMOS3−2のソースSとNMO
S3−4のドレインDの間に十分大きな抵抗器3−8を
接続し、NMOS3−2と同じ寸法のNMOS3−3の
ソースとNMOS3−4と同じ寸法のNMOS3−6の
ドレインを接続し、NMOS3−2とNMOS3−3の
ゲートを共通のノードに接続し、NMOS3−4のドレ
インとゲートとNMOS3−6のゲートを出力ノードΦ
3−2に接続することにより、ΔVtpとVccの依存性の
ないリファレンスレベルVrng が得られる。
【0042】図4はバイアス回路の第2の実施例を示す
回路図である。このバイアス回路は、入出力端子VRN
と出力端子VRNNを備えたバイアス回路であり、図3
に示したバイアス回路10とNMOS4−1およびNM
OS4−2のトランジスタにより構成されている。入出
力端子VRNはバイアス回路10の出力端子VRNGに
接続されている。NMOS4−1は、ゲートGが入出力
端子VRNに、ドレインDが出力端子VRNNに、ソー
スSが接地電位Vssに接続されている。また、NMOS
4−2は、ドレインDおよびゲートGが電源電位V
ccに、ソースSが出力端子VRNNに接続されている。
【0043】次に図4に示したバイアス回路の動作につ
いて説明する。VRN端子は、バイアス回路10の出力
端子VRNGに接続されているので、図3に示したNM
OS3−4の閾値電圧Vtnが目標値よりも上がると、N
MOS3−4のドレインDの電圧が上がるので、入出力
端子VRNの電圧も追従して上昇する。したがって、入
出力端子VRNも上昇する。
【0044】製造のバラツキまたは温度特性の変化はN
MOS3−4の閾値電圧Vtnと同様の影響をNMOS4
−1も受ける。したがって、Nチャネル型トランジスタ
の閾値電圧Vtnの上昇によってNMOS4−1のゲート
電圧が上がるが、NMOS4−1の閾値電圧Vtnも同様
に上昇するので、NMOS4−1の導通状態は、閾値電
圧Vtnが目標値である時とほぼ等しくなる。その結果、
NMOS4−1のソースSとドレインD間を流れる電流
は変化せず一定となる。さらにNMOS4−2を流れる
電流はこのトランジスタの閾値電圧Vtnに関係無く一定
であるので、閾値電圧Vtnが上がるとNMOS4−2の
GSは大きくなる。NMOS4−2のゲートGの電圧V
g はVccなので、閾値電圧Vtnが上がるとVRNNはΔ
tn分だけ下がったリファレンスレベルを出力する。
【0045】このように第2の実施例のバイアス回路に
よれば、入出力端子VRNをバイアス回路10の出力端
子VRNGに接続し、NMOS4−1のゲートGを入出
力端子VRNに接続し、NMOS4−1のドレインをN
MOS4−2のソースに接続し、その接続ノードを出力
端子VRNNに接続することにより、閾値電圧Vtnが目
標値より上がると閾値電圧Vtnが上がった分だけ降下す
るリファレンスレベルを出力端子VRNNに得ることが
できる。
【0046】このように、閾値電圧Vtnのバラツキに対
して、負の依存性をもつリファレンスレベルを、たとえ
ば図2に示したバッファ回路における電流源1−7と電
流源1−9に利用することにより、ノードΦ1−1、ノ
ードΦ1−2から出力される小振幅信号の中心電位の閾
値電圧Vtnの依存性を低減できる。
【0047】図5はバイアス回路の第3の実施例を示し
たものである。このバイアス回路は、図3に示したバイ
アス回路10とNMOS5−1およびPMOS5−2に
より構成されている。PMOS5−2は、ソースSが電
源電位Vccに、ゲートGがバイアス回路10の出力端子
VRPGに、ドレインDが出力端子VRNに接続されて
いる。また、NMOS5−1は、ソースが接地電位Vss
に、ドレインDおよびゲートGが出力端子VRNに接続
されている。
【0048】上記バイアス回路の動作について説明す
る。バイアス回路10の出力端子VRPGのリファレン
スレベルは、この回路10を構成するトランジスタの閾
値電圧VtnとVtpに依存していない。したがって、閾値
電圧Vtpが目標値よりも上がるとPMOS5−2に流れ
る電流が少くなくなり、出力端子VRNのリファレンスレ
ベルはこの閾値電圧の変動分だけ下がる。また、閾値電
圧Vtnが目標値よりも上がるとNMOS5−1における
ソースSとドレインD間の抵抗値が大きくなり、出力端
子VRNのリファレンスレベルはこの閾値電圧の変動分
だけ上がる。
【0049】このようにバイアス回路の第3の実施例に
よれば、PMOS5−2のゲートGをバイアス回路10
の出力端子VRPGに接続し、PMOS5−1のドレイ
ンDとNMOS5−1のドレインDとゲートGを出力端
子VRNに接続することにより、PMOSトランジスタ
の閾値電圧Vtpが上がると出力端子VRNのレベルはそ
の変動分だけ下がったリファレンスレベルを、NMOS
トランジスタの閾値電圧Vtnが上がると出力端子VRN
のレベルはその変動分だけ上がったリファレンスレベル
を得ることができる。
【0050】また、このリファレンスレベルを図2に示
したバッファ回路の電流源1−8の制御に使うことによ
り、閾値電圧Vtnおよび閾値電圧Vtpのずれに対する影
響を少なくすることができる。
【0051】図3、図4および図5に示したバイアス回
路は、図1に示したバッファ回路の電流源などの制御に
用いることができるが、たとえば電圧制御型ディレイセ
ルなどの電流源などの制御に用いることにより、製造バ
ラツキや温度特性の変化などによる閾値電圧のずれに対
する出力の影響を少なくすることが可能となる。
【0052】なお、ここで説明したこれら実施例は本発
明を説明するものであって、本発明は必ずしもこれに限
定されるものではない。すなわち、本実施例では本発明
が有利に適用される電界効果トランジスタにより回路を
構成した例を説明したが、バイポーラトランジスタにも
本発明の技術思想を適用することが可能である。
【0053】
【発明の効果】このように本発明の出力調整機能付電子
回路によれば、製造のバラツキ等による閾値電圧のバラ
ツキがある場合でも、Pチャネル型トランジスタの負荷
抵抗がこれに応じて変化するため、第2のノードの電位
の変化を抑えることが可能となる。
【0054】また、本発明のバッファ回路によれば、出
力側電位の負帰還制御を行うことにより、製造のバラツ
キ等による閾値電圧のバラツキがある場合でも、安定し
た小振幅信号の出力を行うことができる。
【0055】さらに、本発明のバイアス回路によれば、
出力側電位の負帰還制御を行うことにより、製造のバラ
ツキ等による閾値電圧のバラツキがある場合でも、安定
したバイアス電圧を出力することができる。また、抵抗
器の抵抗値を十分大きな値にすることにより、第1の電
源の変動に依存されないバイアス電圧を出力することが
できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明によるバッファ回路の実施例を示す回路
図である。
【図2】従来技術におけるバッファ回路の回路図であ
る。
【図3】本発明によるバイアス回路の実施例を示す回路
図である。
【図4】本発明によるバイアス回路の第2の実施例を示
す回路図である。
【図5】本発明によるバイアス回路の第3の実施例を示
す回路図である。
【符号の説明】
1−1,1−2,1−5,1−6,2−1,2−2,2
−5,2−6,3−2〜3−6,4−1,4−2,5−
1 NMOS 1−3,1−4,3−1,5−2 PMOS 3−8 抵抗器 10 バイアス回路

Claims (11)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 第1端子が第1の電流源に、第2端子が
    第1のノードに、制御電極が第1の入力端子にそれぞれ
    接続される第1のトランジスタと、 第1端子が前記第1の電流源に、第2端子が第2のノー
    ドに、制御電極が前記第1の入力端子と相補の信号を入
    力する第2の入力端子にそれぞれ接続される第2のトラ
    ンジスタと、 第1端子が第1の電源に、第2端子が前記第1のノード
    に、制御電極が第1の出力端子にそれぞれ接続される第
    3のトランジスタと、 第1端子が前記第1の電源に、第2端子が前記第2のノ
    ードに、制御電極が前記第1の出力端子と相補の信号を
    出力する第2の出力端子にそれぞれ接続される第4のト
    ランジスタと、 第1端子が前記第1の出力端子および第2の電流源に、
    第2端子が前記第1の電源に、制御電極が前記第1のノ
    ードにそれぞれ接続される第5のトランジスタと、 第1端子が前記第2の出力端子および第3の電流源に、
    第2端子が前記第1の電源に、制御電極が前記第2のノ
    ードにそれぞれ接続される第6のトランジスタとを有す
    ることを特徴とするバッファ回路。
  2. 【請求項2】 請求項3に記載のバッファ回路におい
    て、前記第3のトランジスタおよび第4のトランジスタ
    はPMOSトランジスタであり、第5のトランジスタお
    よび第6のトランジスタはNMOSトランジスタである
    ことを特徴とするバッファ回路。
  3. 【請求項3】 請求項4に記載のバッファ回路におい
    て、このバッファ回路は小振幅信号を入出力することを
    特徴とするバッファ回路。
  4. 【請求項4】第1端子が第1の電源に、第2端子が第1
    のノードに、制御電極が第1の出力端子にそれぞれ接続
    される第1のトランジスタと、 第1端子が抵抗器に、第2端子が前記第1の電源に、制
    御電極が前記第1のノードにそれぞれ接続される第2の
    トランジスタと、 第1端子が前記第1の出力端子に、第2端子が前記第1
    の電源に、制御電極が前記第1のノードにそれぞれ接続
    される第3のトランジスタと、 第1端子が第2の電源に、第2端子が前記第1のノード
    に、制御電極が第2の出力端子にそれぞれ接続される第
    4のトランジスタと、 第1端子が第2の電源に接続され、第2端子および制御
    電極が前記抵抗器を介して第2のトランジスタの第1端
    子と第2の出力端子に接続される第5のトランジスタ
    と、 第1端子が第2の電源に、第2端子が前記第3のトラン
    ジスタの第1端子に、制御電極が前記第2の出力端子に
    それぞれ接続される第6のトランジスタとを有すること
    を特徴とするバイアス回路。
  5. 【請求項5】 請求項6に記載のバイアス回路におい
    て、前記第1のトランジスタはPMOSトランジスタで
    あり、前記第2および第3のトランジスタはNMOSト
    ランジスタであることを特徴とするバイアス回路。
  6. 【請求項6】 請求項6記載のバイアス回路を有し、こ
    のバイアス回路の前記第2の出力端子に第1の入出力端
    子が接続され、 第1端子が第2の電源に、第2端子が第3の出力端子
    に、制御電極が前記第2の出力端子および前記第1の入
    出力端子にそれぞれ接続される第7のトランジスタと、 第1端子が前記第3の出力端子に、第2端子および制御
    電極が第1の電源にそれぞれ接続される第8のトランジ
    スタとを有することを特徴とするバイアス回路。
  7. 【請求項7】 請求項8に記載のバイアス回路におい
    て、前記第7のトランジスタおよび第8のトランジスタ
    はNMOSトランジスタであることを特徴とするバイア
    ス回路。
  8. 【請求項8】 請求項8に記載のバイアス回路におい
    て、この回路は請求項1に記載の第2の電流源および第
    3の電流源に適用されることを特徴とするバイアス回
    路。
  9. 【請求項9】 請求項6に記載のバイアス回路と、 第1端子に第1の電源が、第2端子に第3の出力端子
    が、制御電極に請求項6に記載のバイアス回路の前記第
    1の出力端子がそれぞれ接続される第7のトランジスタ
    と、 第1端子に第2の電源が、第2端子および制御電極が前
    記第7のトランジスタの第2端子に接続される第8のト
    ランジスタとを有することを特徴とするバイアス回路。
  10. 【請求項10】 請求項11に記載のバイアス回路にお
    いて、前記第7のトランジスタはPMOSトランジスタ
    であり、前記第8のトランジスタはNMOSトランジス
    タであることを特徴とするバイアス回路。
  11. 【請求項11】 請求項11に記載のバイアス回路にお
    いて、この回路は請求項1に記載の第1の電流源の制御
    に適用されることを特徴とするバイアス回路。
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