JPH08143544A - アミド化合物の製造方法 - Google Patents
アミド化合物の製造方法Info
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- JPH08143544A JPH08143544A JP6290058A JP29005894A JPH08143544A JP H08143544 A JPH08143544 A JP H08143544A JP 6290058 A JP6290058 A JP 6290058A JP 29005894 A JP29005894 A JP 29005894A JP H08143544 A JPH08143544 A JP H08143544A
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- oxime
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- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/52—Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts
Landscapes
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
- Other In-Based Heterocyclic Compounds (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【構成】 一般式（Ｉ）
【化１】 ＲｅmＸn …（Ｉ）
（式中、Ｘは酸素原子、ハロゲン原子、水素原子、置換
基を有していてもよいアルキル基、アリール基、アラル
キル基もしくはアルケニル基、カルボニル基、ホスフィ
ン配位子および含窒素配位子からなる群から選ばれた１
以上のものを表し、ｍは１〜５、ｎは１〜４０の数を示
す。）で表わされるレニウム化合物の存在下、オキシム
化合物を転位させることを特徴とするアミド化合物の製
造方法。 【効果】 本発明によれば、酸を用いないので、装置腐
食を少なくすることができ、また、反応後のアルカリ中
和工程が不要であり、工業的に有利にアミド化合物を製
造することができる。
基を有していてもよいアルキル基、アリール基、アラル
キル基もしくはアルケニル基、カルボニル基、ホスフィ
ン配位子および含窒素配位子からなる群から選ばれた１
以上のものを表し、ｍは１〜５、ｎは１〜４０の数を示
す。）で表わされるレニウム化合物の存在下、オキシム
化合物を転位させることを特徴とするアミド化合物の製
造方法。 【効果】 本発明によれば、酸を用いないので、装置腐
食を少なくすることができ、また、反応後のアルカリ中
和工程が不要であり、工業的に有利にアミド化合物を製
造することができる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明はオキシム化合物の転位に
よってアミド化合物を製造する方法に関する。
よってアミド化合物を製造する方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】オキシム化合物のアミド化合物への転位
反応は、ベックマン転位反応として知られており、例え
ば、シクロヘキサノンオキシムの転位によるε−カプロ
ラクタムの工業的製造においては、触媒として発煙硫酸
を用いた気相系の反応が採用されている。しかし、この
方法ではアミド化合物を分離回収するために、通常、硫
酸等の強酸をアンモニアで中和する必要があり、大量の
硫酸アンモニウムが副生すること、また、装置の腐食な
ど工程上の問題も多く、効率的な転位用触媒の開発が期
待されている。
反応は、ベックマン転位反応として知られており、例え
ば、シクロヘキサノンオキシムの転位によるε−カプロ
ラクタムの工業的製造においては、触媒として発煙硫酸
を用いた気相系の反応が採用されている。しかし、この
方法ではアミド化合物を分離回収するために、通常、硫
酸等の強酸をアンモニアで中和する必要があり、大量の
硫酸アンモニウムが副生すること、また、装置の腐食な
ど工程上の問題も多く、効率的な転位用触媒の開発が期
待されている。
【０００３】比較的反応条件が温和である液相における
ベックマン転位反応としては、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルム
アミドとクロルスルホン酸の反応で得られるイオン対
（ビスマイヤー錯体）を触媒とする方法（M.A.Kira and
Y.M.Shaker,Egypt.J.Chem.,16,55(1990))、シキロヘキ
サノンオキシムをヘプタン溶媒中でリン酸を用いて転位
させる方法（特開昭６２−１４９６６５号公報）、強酸
またはその誘導体の存在下、過レニウム酸塩を触媒とし
てオキシム化合物を転位させる方法（特開平５−５１３
６６号公報）が提案されている。
ベックマン転位反応としては、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルム
アミドとクロルスルホン酸の反応で得られるイオン対
（ビスマイヤー錯体）を触媒とする方法（M.A.Kira and
Y.M.Shaker,Egypt.J.Chem.,16,55(1990))、シキロヘキ
サノンオキシムをヘプタン溶媒中でリン酸を用いて転位
させる方法（特開昭６２−１４９６６５号公報）、強酸
またはその誘導体の存在下、過レニウム酸塩を触媒とし
てオキシム化合物を転位させる方法（特開平５−５１３
６６号公報）が提案されている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、これら
の方法では、酸を共存させているため、反応後、アルカ
リでの中和工程を必要としたり、大量の触媒を必要とす
るという問題がある。
の方法では、酸を共存させているため、反応後、アルカ
リでの中和工程を必要としたり、大量の触媒を必要とす
るという問題がある。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明者は上記の課題に
鑑み鋭意検討した結果、特定のレニウム化合物の存在
下、オキシム化合物をベックマン転位させるとアミド化
合物が工業的有利に製造できることを見出し本発明に到
達した。すなわち、本発明の要旨は 一般式（Ｉ）
鑑み鋭意検討した結果、特定のレニウム化合物の存在
下、オキシム化合物をベックマン転位させるとアミド化
合物が工業的有利に製造できることを見出し本発明に到
達した。すなわち、本発明の要旨は 一般式（Ｉ）
【０００６】
【化２】 ＲｅmＸn …（Ｉ） （式中、Ｘは酸素原子、ハロゲン原子、水素原子、置換
基を有していてもよいアルキル基、アリール基、アラル
キル基もしくはアルケニル基、カルボニル基、ホスフィ
ン配位子および含窒素配位子からなる群から選ばれた１
以上のものを表し、ｍは１〜５、ｎは１〜４０の数を示
す。）で表わされるレニウム化合物の存在下、オキシム
化合物を転位させることを特徴とするアミド化合物の製
造方法に存する。
基を有していてもよいアルキル基、アリール基、アラル
キル基もしくはアルケニル基、カルボニル基、ホスフィ
ン配位子および含窒素配位子からなる群から選ばれた１
以上のものを表し、ｍは１〜５、ｎは１〜４０の数を示
す。）で表わされるレニウム化合物の存在下、オキシム
化合物を転位させることを特徴とするアミド化合物の製
造方法に存する。
【０００７】以下、本発明を詳細に説明する。本発明は
上記一般式（Ｉ）で表わされるレニウム化合物の存在下
オキシム化合物をベックマン転位させることを特徴とす
る。一般式（Ｉ）中、Ｘとしては、酸素原子、ハロゲン
原子、水素原子、置換基を有していてもよいアルキル
基、アリール基、アラルキル基もしくはアルケニル基、
カルボニル基、ホスフィン配位子および含窒素配位子か
らなる群から選ばれた１以上のものを表し、好ましく
は、酸素原子、塩素原子、フッ素原子、臭素原子、ヨウ
素原子等のハロゲン原子、水素原子、炭素数１〜４のア
ルキル基、炭素数１〜４のアルコキシ基またはハロゲン
原子で置換されていてもよい炭素数１〜１０のアルキル
基、炭素数１〜４のアルコキシ基またはハロゲン原子で
置換されていてもよい炭素数６〜１０のアリール基、炭
素数１〜４のアルコキシ基またはハロゲン原子で置換さ
れていてもよい炭素数７〜１１のアラルキル基、炭素数
１〜４のアルキル基、炭素数１〜４のアルコキシ基また
はハロゲン原子で置換されていてもよい鎖状または環状
アルケニル基、カルボニル基、Ｍｅ3Ｐ、ＰｈＭｅ2Ｐ、
Ｐｈ3Ｐなどのホスフィン配位子およびＰｈＮ、ＢｕＮ
などの含窒素配位子からなる群から選ばれた１以上のも
のを表す。すなわち、Ｘは、単一でも異なる数種のもの
でもよい。
上記一般式（Ｉ）で表わされるレニウム化合物の存在下
オキシム化合物をベックマン転位させることを特徴とす
る。一般式（Ｉ）中、Ｘとしては、酸素原子、ハロゲン
原子、水素原子、置換基を有していてもよいアルキル
基、アリール基、アラルキル基もしくはアルケニル基、
カルボニル基、ホスフィン配位子および含窒素配位子か
らなる群から選ばれた１以上のものを表し、好ましく
は、酸素原子、塩素原子、フッ素原子、臭素原子、ヨウ
素原子等のハロゲン原子、水素原子、炭素数１〜４のア
ルキル基、炭素数１〜４のアルコキシ基またはハロゲン
原子で置換されていてもよい炭素数１〜１０のアルキル
基、炭素数１〜４のアルコキシ基またはハロゲン原子で
置換されていてもよい炭素数６〜１０のアリール基、炭
素数１〜４のアルコキシ基またはハロゲン原子で置換さ
れていてもよい炭素数７〜１１のアラルキル基、炭素数
１〜４のアルキル基、炭素数１〜４のアルコキシ基また
はハロゲン原子で置換されていてもよい鎖状または環状
アルケニル基、カルボニル基、Ｍｅ3Ｐ、ＰｈＭｅ2Ｐ、
Ｐｈ3Ｐなどのホスフィン配位子およびＰｈＮ、ＢｕＮ
などの含窒素配位子からなる群から選ばれた１以上のも
のを表す。すなわち、Ｘは、単一でも異なる数種のもの
でもよい。
【０００８】ｍは１〜５、好ましくは１または２、ｎは
１〜４０、好ましくは１〜１６の数を示す。これらの化
合物としては、具体的には、Ｒｅ2Ｏ7、ＲｅＯ3、Ｒｅ2
Ｏ5、Ｒｅ2Ｏ2、ＨＲｅＯ4、ＭｅＲｅＯ3、ＥｔＲｅ
Ｏ3、n-ＰｒＲｅＯ3、i-ＰｒＲｅＯ3、n-ＢｕＲｅＯ3、
t-ＢｕＲｅＯ3、ＰｈＲｅＯ3、（Ｃ5Ｈ5）ＲｅＯ3、
（Ｃ5Ｍｅ5）ＲｅＯ3、Ｍｅ3ＲｅＯ2、Ｅｔ3ＲｅＯ2、n
-Ｐｒ3ＲｅＯ2、i-Ｐｒ3ＲｅＯ2、n-Ｂｕ3ＲｅＯ2、Ｍ
ｅ4ＲｅＯ、Ｅｔ4ＲｅＯ、n-Ｐｒ4ＲｅＯ、n-Ｂｕ4Ｒｅ
Ｏ等のレニウム酸化物、ＲｅＦ7、ＲｅＣｌ7、ＲｅＢｒ
7、ＲｅＩ7、ＲｅＣｌ6、ＲｅＣｌ5、ＲｅＢｒ5、Ｒｅ
Ｉ4、ＲｅＣｌ3、ＲｅＢｒ2、（Ｃ5Ｈ5）ＲｅＣｌ4、
（Ｃ5Ｍｅ5）ＲｅＣｌ4等のレニウムハロゲン化物、Ｒ
ｅ2（ＣＯ）10、ＰｈＲｅ（ＣＯ）3、（Ｃ5Ｈ5）Ｒｅ
（ＣＯ）3、（Ｃ5Ｍｅ5）Ｒｅ（ＣＯ）3、（Ｃ5Ｈ5）Ｈ
2Ｒｅ（ＣＯ）2、（Ｃ5Ｈ5）Ｍｅ2Ｒｅ（ＣＯ）2、（Ｃ
5Ｈ5）Ｅｔ2Ｒｅ（ＣＯ）2、Ｒｅ3Ｈ（ＣＯ）14等のレ
ニウムカルボニル化合物、ＲｅＯ3Ｃｌ、ＲｅＯＦ4、Ｒ
ｅＯＦ3、Ｒｅ（ＣＯ）5Ｃｌ、（Ｃ5Ｈ5）ＲｅＯＭｅＣ
ｌ、（Ｃ5Ｍｅ5）ＲｅＯＭｅＣｌ、［Ｒｅ（ＣＯ）4Ｃ
ｌ］2、
１〜４０、好ましくは１〜１６の数を示す。これらの化
合物としては、具体的には、Ｒｅ2Ｏ7、ＲｅＯ3、Ｒｅ2
Ｏ5、Ｒｅ2Ｏ2、ＨＲｅＯ4、ＭｅＲｅＯ3、ＥｔＲｅ
Ｏ3、n-ＰｒＲｅＯ3、i-ＰｒＲｅＯ3、n-ＢｕＲｅＯ3、
t-ＢｕＲｅＯ3、ＰｈＲｅＯ3、（Ｃ5Ｈ5）ＲｅＯ3、
（Ｃ5Ｍｅ5）ＲｅＯ3、Ｍｅ3ＲｅＯ2、Ｅｔ3ＲｅＯ2、n
-Ｐｒ3ＲｅＯ2、i-Ｐｒ3ＲｅＯ2、n-Ｂｕ3ＲｅＯ2、Ｍ
ｅ4ＲｅＯ、Ｅｔ4ＲｅＯ、n-Ｐｒ4ＲｅＯ、n-Ｂｕ4Ｒｅ
Ｏ等のレニウム酸化物、ＲｅＦ7、ＲｅＣｌ7、ＲｅＢｒ
7、ＲｅＩ7、ＲｅＣｌ6、ＲｅＣｌ5、ＲｅＢｒ5、Ｒｅ
Ｉ4、ＲｅＣｌ3、ＲｅＢｒ2、（Ｃ5Ｈ5）ＲｅＣｌ4、
（Ｃ5Ｍｅ5）ＲｅＣｌ4等のレニウムハロゲン化物、Ｒ
ｅ2（ＣＯ）10、ＰｈＲｅ（ＣＯ）3、（Ｃ5Ｈ5）Ｒｅ
（ＣＯ）3、（Ｃ5Ｍｅ5）Ｒｅ（ＣＯ）3、（Ｃ5Ｈ5）Ｈ
2Ｒｅ（ＣＯ）2、（Ｃ5Ｈ5）Ｍｅ2Ｒｅ（ＣＯ）2、（Ｃ
5Ｈ5）Ｅｔ2Ｒｅ（ＣＯ）2、Ｒｅ3Ｈ（ＣＯ）14等のレ
ニウムカルボニル化合物、ＲｅＯ3Ｃｌ、ＲｅＯＦ4、Ｒ
ｅＯＦ3、Ｒｅ（ＣＯ）5Ｃｌ、（Ｃ5Ｈ5）ＲｅＯＭｅＣ
ｌ、（Ｃ5Ｍｅ5）ＲｅＯＭｅＣｌ、［Ｒｅ（ＣＯ）4Ｃ
ｌ］2、
【０００９】
【化３】
【００１０】等の複数のＸを含有する化合物、
【００１１】
【化４】
【００１２】等のレニウム−ホスフィン錯体等のホスフ
ィン配位子を含有する化合物、Ｐｈ（ＰｈＮ）3Ｒｅ、
（ＰｈＮ）3ＲｅＯ、（２，６−Ｍｅ2Ｃ6Ｈ3Ｎ）3Ｒｅ
Ｏ、（t-ＢｕＮ）3ＲｅＯ等のレニウム−イミド錯体等
含窒素配位子を含有する化合物等が挙げられる。これら
の化学式において、Ｍｅはメチル基、Ｅｔはエチル基、
Ｐｒはプロピル基、Ｂｕはブチル基、Ｐｈはフェニル基
を表す。
ィン配位子を含有する化合物、Ｐｈ（ＰｈＮ）3Ｒｅ、
（ＰｈＮ）3ＲｅＯ、（２，６−Ｍｅ2Ｃ6Ｈ3Ｎ）3Ｒｅ
Ｏ、（t-ＢｕＮ）3ＲｅＯ等のレニウム−イミド錯体等
含窒素配位子を含有する化合物等が挙げられる。これら
の化学式において、Ｍｅはメチル基、Ｅｔはエチル基、
Ｐｒはプロピル基、Ｂｕはブチル基、Ｐｈはフェニル基
を表す。
【００１３】これらのＲｅ化合物の使用量はオキシム化
合物に対し、通常０．０１〜５０モル％、好ましくは
０．１〜２０モル％である。本発明におけるオキシム化
合物は、特に限られるものではないが、具体的には、シ
クロヘキサノンオキシム、シクロペンタノンオキシム、
シクロドデカノンオキシム、アセトンオキシム、２−ブ
タノンオキシム、アセトフェノンオキシム、ベンゾフェ
ノンオキシム等が挙げられる。得られるアミド化合物の
工業的用途を考慮すると、シクロヘキサノンオキシム、
シクロペンタノンオキシムを用いるのが一般的である。
合物に対し、通常０．０１〜５０モル％、好ましくは
０．１〜２０モル％である。本発明におけるオキシム化
合物は、特に限られるものではないが、具体的には、シ
クロヘキサノンオキシム、シクロペンタノンオキシム、
シクロドデカノンオキシム、アセトンオキシム、２−ブ
タノンオキシム、アセトフェノンオキシム、ベンゾフェ
ノンオキシム等が挙げられる。得られるアミド化合物の
工業的用途を考慮すると、シクロヘキサノンオキシム、
シクロペンタノンオキシムを用いるのが一般的である。
【００１４】本発明の転位反応は、通常、溶媒の存在下
に行われる。溶媒としては例えば、テトラヒドロフラ
ン、ジエチレングリコールジメチルエーテル、トリエチ
レングリコールジメチルエーテル、テトラエチレングリ
コールジメチルエーテル等のエーテル、メタノール、エ
タノール、プロパノール、ブタノール、ペンタノール、
ヘキサノール、シクロヘキサノール、オクタノール等の
アルコール、１，２，３−トリクロロプロパン、テトラ
クロルエチレン、１，１，２，２−テトラクロロエタ
ン、１，２−ジクロロエタン等のハロゲン化脂肪族炭化
水素、シクロヘキサン、ヘキサン、オクタン等の脂肪族
炭化水素、ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレ
ン、モノクロロベンゼン、ジクロロベンゼン、ニトロベ
ンゼン、スクアラン等の芳香族炭化水素、Ｎ，Ｎ−ジメ
チルホルムアミド、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチル
尿素等のアミド類、ジメチルスルホキシド、スルホラン
等のスルホキシド類、アセトニトリル、プロパンニトリ
ル、ベンゾニトリル等のニトリル類、酢酸エチル、プロ
ピオン酸メチル、エナント酸メチル、リノール酸メチ
ル、ステアリン酸メチル等のエステル類が用いられる。
以上の溶媒の使用量は反応原料と触媒の合量に対して、
通常０．０１〜１０．０重量％である。
に行われる。溶媒としては例えば、テトラヒドロフラ
ン、ジエチレングリコールジメチルエーテル、トリエチ
レングリコールジメチルエーテル、テトラエチレングリ
コールジメチルエーテル等のエーテル、メタノール、エ
タノール、プロパノール、ブタノール、ペンタノール、
ヘキサノール、シクロヘキサノール、オクタノール等の
アルコール、１，２，３−トリクロロプロパン、テトラ
クロルエチレン、１，１，２，２−テトラクロロエタ
ン、１，２−ジクロロエタン等のハロゲン化脂肪族炭化
水素、シクロヘキサン、ヘキサン、オクタン等の脂肪族
炭化水素、ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレ
ン、モノクロロベンゼン、ジクロロベンゼン、ニトロベ
ンゼン、スクアラン等の芳香族炭化水素、Ｎ，Ｎ−ジメ
チルホルムアミド、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチル
尿素等のアミド類、ジメチルスルホキシド、スルホラン
等のスルホキシド類、アセトニトリル、プロパンニトリ
ル、ベンゾニトリル等のニトリル類、酢酸エチル、プロ
ピオン酸メチル、エナント酸メチル、リノール酸メチ
ル、ステアリン酸メチル等のエステル類が用いられる。
以上の溶媒の使用量は反応原料と触媒の合量に対して、
通常０．０１〜１０．０重量％である。
【００１５】転位反応は通常、オキシム化合物および一
般式（Ｉ）で表わされるレニウム化合物を溶媒に溶解
後、加熱することによって行われる。反応は、通常空気
または転位反応に不活性なガスの存在下、好ましくは転
位反応に不活性なガスの存在下で行う。転位反応に不活
性なガスとしては、窒素、ヘリウム、アルゴン等が挙げ
られる。
般式（Ｉ）で表わされるレニウム化合物を溶媒に溶解
後、加熱することによって行われる。反応は、通常空気
または転位反応に不活性なガスの存在下、好ましくは転
位反応に不活性なガスの存在下で行う。転位反応に不活
性なガスとしては、窒素、ヘリウム、アルゴン等が挙げ
られる。
【００１６】反応温度は、通常室温〜３００℃、好まし
くは８０〜２５０℃、更に好ましくは１００〜２２０℃
である。また、反応は開放系で行うこともできるが、例
えば、オートクレーブ等の密閉系で行うと反応中のオキ
シム化合物の昇華や溶媒の蒸発を防止することができる
ので好ましい。
くは８０〜２５０℃、更に好ましくは１００〜２２０℃
である。また、反応は開放系で行うこともできるが、例
えば、オートクレーブ等の密閉系で行うと反応中のオキ
シム化合物の昇華や溶媒の蒸発を防止することができる
ので好ましい。
【００１７】
【実施例】次に、本発明を実施例により、具体的に説明
するが、本発明はこれらの実施例により何ら限定される
ものではない。なお、反応生成物の分析はガスクロマト
グラフィーにより行った。触媒ターンオーバー数はレニ
ウム１ｇ原子から１時間あたりに生成されるアミド化合
物のモル数であり、反応速度と同義である。 実施例１ ７０ｍｌミクロオートクレーブに七酸化二レニウム（Ｒ
ｅ2Ｏ7）０．０２５ｍｍｏｌ、シクロヘキサノンオキシ
ム０．５ｍｍｏｌ、ジエチレングリコールジメチルエー
テル１０ｍｌを仕込み、２００℃で２時間反応させた。
その結果、シクロヘキサノンオキシム転化率は１００
％、ε−カプロラクタム収率は４０．０％、触媒ターン
オーバー数は２．０（mol-ラクタム／mol-Ｒｅ・ｈｒ）
であった。 実施例２ シクロヘキサノンオキシムを２．５ｍｍｏｌ用いた他は
実施例１の方法と同様に行った。その結果、シクロヘキ
サノンオキシム転化率は９１．２％、ε−カプロラクタ
ム収率は２５．８％、触媒ターンオーバー数は６．５
（mol-ラクタム／mol-Ｒｅ・ｈｒ）であった。
するが、本発明はこれらの実施例により何ら限定される
ものではない。なお、反応生成物の分析はガスクロマト
グラフィーにより行った。触媒ターンオーバー数はレニ
ウム１ｇ原子から１時間あたりに生成されるアミド化合
物のモル数であり、反応速度と同義である。 実施例１ ７０ｍｌミクロオートクレーブに七酸化二レニウム（Ｒ
ｅ2Ｏ7）０．０２５ｍｍｏｌ、シクロヘキサノンオキシ
ム０．５ｍｍｏｌ、ジエチレングリコールジメチルエー
テル１０ｍｌを仕込み、２００℃で２時間反応させた。
その結果、シクロヘキサノンオキシム転化率は１００
％、ε−カプロラクタム収率は４０．０％、触媒ターン
オーバー数は２．０（mol-ラクタム／mol-Ｒｅ・ｈｒ）
であった。 実施例２ シクロヘキサノンオキシムを２．５ｍｍｏｌ用いた他は
実施例１の方法と同様に行った。その結果、シクロヘキ
サノンオキシム転化率は９１．２％、ε−カプロラクタ
ム収率は２５．８％、触媒ターンオーバー数は６．５
（mol-ラクタム／mol-Ｒｅ・ｈｒ）であった。
【００１８】実施例３ ７０ｍｌミクロオートクレーブに三酸化レニウム（Ｒｅ
Ｏ3）０．０５ｍｍｏｌ、シクロヘキサノンオキシム
２．５ｍｍｏｌ、ジエチレングリコールジメチルエーテ
ル１０ｍｌを仕込み、２００℃で２時間反応させた。そ
の結果、シクロヘキサノンオキシム転化率は８２．７
％、ε−カプロラクタム収率は２２．４％、触媒ターン
オーバー数は５．６（mol-ラクタム／mol-Ｒｅ・ｈｒ）
であった。 実施例４ ７０ｍｌミクロオートクレーブにレニウムトリクロリド
（ＲｅＣｌ3）０．０５ｍｍｏｌ、シクロヘキサノンオ
キシム２．５ｍｍｏｌ、ジエチレングリコールジメチル
エーテル１０ｍｌを仕込み、２００℃で２時間反応させ
た。その結果、シクロヘキサノンオキシム転化率は８
８．９％、ε−カプロラクタム収率は１６．４％、触媒
ターンオーバー数は４．１（mol-ラクタム／mol-Ｒｅ・
ｈｒ）であった。
Ｏ3）０．０５ｍｍｏｌ、シクロヘキサノンオキシム
２．５ｍｍｏｌ、ジエチレングリコールジメチルエーテ
ル１０ｍｌを仕込み、２００℃で２時間反応させた。そ
の結果、シクロヘキサノンオキシム転化率は８２．７
％、ε−カプロラクタム収率は２２．４％、触媒ターン
オーバー数は５．６（mol-ラクタム／mol-Ｒｅ・ｈｒ）
であった。 実施例４ ７０ｍｌミクロオートクレーブにレニウムトリクロリド
（ＲｅＣｌ3）０．０５ｍｍｏｌ、シクロヘキサノンオ
キシム２．５ｍｍｏｌ、ジエチレングリコールジメチル
エーテル１０ｍｌを仕込み、２００℃で２時間反応させ
た。その結果、シクロヘキサノンオキシム転化率は８
８．９％、ε−カプロラクタム収率は１６．４％、触媒
ターンオーバー数は４．１（mol-ラクタム／mol-Ｒｅ・
ｈｒ）であった。
【００１９】実施例５ ７０ｍｌミクロオートクレーブにＲｅ2（ＣＯ）10０．
０２５ｍｍｏｌ、シクロヘキサノンオキシム０．５ｍｍ
ｏｌ、ジエチレングリコールジメチルエーテル１０ｍｌ
を仕込み、２００℃で２時間反応させた。その結果、シ
クロヘキサノンオキシム転化率は１００％、ε−カプロ
ラクタム収率は１４．３％、触媒ターンオーバー数は
０．７（mol-ラクタム／mol-Ｒｅ・ｈｒ）であった。 実施例６ ７０ｍｌミクロオートクレーブに五塩化レニウム（Ｒｅ
Ｃｌ5）０．０５ｍｍｏｌ、シクロヘキサノンオキシム
２．５ｍｍｏｌ、ジエチレングリコールジメチルエーテ
ル１０ｍｌを仕込み、２００℃で２時間反応させた。そ
の結果、シクロヘキサノンオキシム転化率は９５．０
％、ε−カプロラクタム収率は１７．９％、触媒ターン
オーバー数は４．５（mol-ラクタム／mol-Ｒｅ・ｈｒ）
であった。
０２５ｍｍｏｌ、シクロヘキサノンオキシム０．５ｍｍ
ｏｌ、ジエチレングリコールジメチルエーテル１０ｍｌ
を仕込み、２００℃で２時間反応させた。その結果、シ
クロヘキサノンオキシム転化率は１００％、ε−カプロ
ラクタム収率は１４．３％、触媒ターンオーバー数は
０．７（mol-ラクタム／mol-Ｒｅ・ｈｒ）であった。 実施例６ ７０ｍｌミクロオートクレーブに五塩化レニウム（Ｒｅ
Ｃｌ5）０．０５ｍｍｏｌ、シクロヘキサノンオキシム
２．５ｍｍｏｌ、ジエチレングリコールジメチルエーテ
ル１０ｍｌを仕込み、２００℃で２時間反応させた。そ
の結果、シクロヘキサノンオキシム転化率は９５．０
％、ε−カプロラクタム収率は１７．９％、触媒ターン
オーバー数は４．５（mol-ラクタム／mol-Ｒｅ・ｈｒ）
であった。
【００２０】
【発明の効果】本発明によれば、酸を用いないので、装
置腐食を少なくすることができ、また、反応後のアルカ
リ中和工程が不要であり、工業的に有利にオキシム化合
物を製造することができる。
置腐食を少なくすることができ、また、反応後のアルカ
リ中和工程が不要であり、工業的に有利にオキシム化合
物を製造することができる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｃ０７Ｃ 233/04 9547−4Ｈ Ｃ０７Ｄ 223/10 // Ｃ０７Ｂ 61/00 ３００
Claims (3)
- 【請求項１】 一般式（Ｉ） 【化１】 ＲｅmＸn …（Ｉ） （式中、Ｘは酸素原子、ハロゲン原子、水素原子、置換
基を有していてもよいアルキル基、アリール基、アラル
キル基もしくはアルケニル基、カルボニル基、ホスフィ
ン配位子および含窒素配位子からなる群から選ばれた１
以上のものを表し、ｍは１〜５、ｎは１〜４０の数を示
す。）で表わされるレニウム化合物の存在下、オキシム
化合物を転位させることを特徴とするアミド化合物の製
造方法。 - 【請求項２】オキシム化合物がシクロヘキサノンオキシ
ムであることを特徴とする請求項１に記載のアミド化合
物の製造方法。 - 【請求項３】オキシム化合物の転位を液相で行うことを
特徴とする請求項１または２に記載のアミド化合物の製
造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6290058A JPH08143544A (ja) | 1994-11-24 | 1994-11-24 | アミド化合物の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6290058A JPH08143544A (ja) | 1994-11-24 | 1994-11-24 | アミド化合物の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08143544A true JPH08143544A (ja) | 1996-06-04 |
Family
ID=17751246
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6290058A Pending JPH08143544A (ja) | 1994-11-24 | 1994-11-24 | アミド化合物の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH08143544A (ja) |
-
1994
- 1994-11-24 JP JP6290058A patent/JPH08143544A/ja active Pending
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