JPH0813198A - 接触導通用電極及びそれを用いた半導体製造装置 - Google Patents

接触導通用電極及びそれを用いた半導体製造装置

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JPH0813198A
JPH0813198A JP15214594A JP15214594A JPH0813198A JP H0813198 A JPH0813198 A JP H0813198A JP 15214594 A JP15214594 A JP 15214594A JP 15214594 A JP15214594 A JP 15214594A JP H0813198 A JPH0813198 A JP H0813198A
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JP
Japan
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contact
electrode
cover
manufacturing apparatus
semiconductor manufacturing
Prior art date
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Application number
JP15214594A
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English (en)
Inventor
Shigenori Nasu
繁則 那須
Junichi Suzuki
順一 鈴木
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Hitachi Ltd
Renesas Eastern Japan Semiconductor Inc
Original Assignee
Hitachi Tokyo Electronics Co Ltd
Hitachi Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 電気メッキ装置の電極部へのメッキ付着等の
作業環境による電極への影響を排除することが可能な技
術を提供する。 【構成】 対象物に押圧され対象物と電気的な導通を行
なう接点を有する接触導通用電極に、対象物に密着する
密着部と該密着部を電極当接時に対象物に付勢する弾性
部とを有するカバーを取付けて、該カバーが形成する空
間内に前記接点を収容する。電極当接時に弾性部の変形
によって、接触部が付勢され対象物の表面に密着する。
これによって、接点がカバー及び対象物によって包囲さ
れ、作業環境と接触しない。 【効果】 作業環境による電極への影響を排除すること
が可能となる。例えば、電気メッキ時の電極部電着物の
付着を防止し、電極のメインテナンス頻度低減が可能と
なる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、接触導通用電極および
それを用いた半導体製造装置に関し、特に、メッキ液等
の環境による影響から電極を保護するのに適用して有効
な技術に関するものである。
【0002】
【従来の技術】半導体装置の製造では、樹脂封止型半導
体装置のアウターリードメッキ或いはプリント基板への
メッキ等にメッキ技術、特に高速ハンダメッキの技術が
用いられている。
【0003】例えば、アウターリードのメッキでは、接
続端子となるリードの耐久性或いはハンダ濡れ性を向上
させるために錫或いは錫鉛合金であるハンダを表面に付
着させるリード表面処理として行なわれている。このよ
うなメッキ装置に関しては、(株)リアライズ社発行
「超LSI工場最新技術集成 第2編最新プロセスと自
動化」の279頁乃至282頁に記載されている。
【0004】このようなメッキ工程では、半導体チップ
を実装したリードフレームを封止体にて封入した後に、
メッキ用のラックにセットし、ラックを電解脱脂槽にセ
ットして電解脱脂を行ない、次にエッチング及び酸洗浄
槽にセットしてリード素材表面の清浄化を行なった後
に、メッキ槽にセットし電流を流してメッキを行なう。
メッキを施したリードフレームは水洗槽を数段通して洗
浄した後に温風乾燥してメッキ工程を終了する。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】このような従来のメッ
キ工程では、対象物に押圧され対象物と電気的な導通を
行なう接点を有する接触導通用電極を対象物に当接さ
せ、対象物をメッキ槽に治具ごと浸漬し電流を流してい
る。このため、前記電極の接点もメッキ液に浸漬される
こととなり、該接点とメッキ液とが接触した場合には該
接点にもメッキが電着してしまう。
【0006】このような電着を防止するために、その接
触面を除いてシリコーンゴム等によって被覆した接点を
使用したが、電着を完全に防止するのは困難であった。
【0007】例えば、リードフレームの搬送・位置決め
のために設けられたガイド孔に接点が位置することによ
ってガイド孔部分の接触面が露出する、リードフレーム
の端に接触面が位置し部分的にリードフレームから外れ
たことによって接触面が露出する、前記被覆が不完全と
なった、接点がリードフレームに対して垂直に接触して
いないために隙間が生じる等、種々の原因によって接触
面に電着物が付着することがある。
【0008】このようにして接点に電着物が付着する
と、該電着物によって接触面の平坦性が損われて隙間が
生じ、この隙間から電着物が付着し電着物は急激に増加
する。接点の接触面に多量の電着物が付着すると、治具
搬送時の搬送不良が発生する、或いは、接触面積が減少
し、電気抵抗が増加してしまう等の問題が生じる。
【0009】こうした事態を防止するために、メッキ電
極に付着した電着物を剥離除去するメンテナンスが行な
われており、剥離除去の方法としては、薬品による電着
物の除去が行なわれている。しかしながらこのようなメ
ンテナンスでは、その為の設備が必要となり、場所及び
経費が必要となる。また、剥離のための薬品がメッキ槽
に混入する危険性があり、このような混入が生じた場合
には、装置全体の洗浄が必要となり、生産を大きく阻害
することとなる。
【0010】このため電極接点への電着物の付着を防止
し、電極部をメンテナンスフリーとすることが可能な技
術が求められている。
【0011】本発明の目的は、作業環境による電極への
影響を排除することが可能な技術を提供することにあ
る。
【0012】本発明の前記ならびにその他の目的と新規
な特徴は、本明細書の記述及び添付図面によって明らか
になるであろう。
【0013】
【課題を解決するための手段】本願において開示される
発明のうち、代表的なものの概要を簡単に説明すれば、
下記のとおりである。
【0014】対象物に押圧され対象物と電気的な導通を
行なう接点を有する接触導通用電極に、対象物に密着す
る密着部と該密着部を電極当接時に対象物に付勢する弾
性部とを有するカバーを取付けて、該カバーが形成する
空間内に前記接点を収容する。
【0015】
【作用】上述した手段によれば、電極当接時に弾性部の
変形によって、接触部が付勢され対象物の表面に密着す
る。これによって、接点がカバー及び対象物によって包
囲され、作業環境と接触するのを防止できる。これによ
って作業環境による電極への影響を排除することが可能
となる。
【0016】以下、本発明の構成について、実施例とと
もに説明する。
【0017】なお、実施例を説明するための全図におい
て、同一機能を有するものは同一符号を付け、その繰り
返しの説明は省略する。
【0018】
【実施例】図1に示すのは、本発明の一実施例である半
導体製造用の電気メッキ装置に用いる接触導通用電極を
示す断面図である。
【0019】図中、1は電気メッキの負極となる電極で
あり、電極1は支持体2の先端に接点3を取付け、接点
3をカバー5によって覆ってある。電極1は、対をなす
2つの電極1を対向させて、被メッキ物である樹脂封止
完了後のリードフレーム4に両側から押圧して接触導通
させる。
【0020】支持体2は、ステンレスを用い、メッキ液
との接触を防止し電着材の付着を防止するためにビニル
コーティングが施されている。接点3には銅を用い円柱
形に形成し、一端を支持体2に固着し他端を被メッキ物
であるリードフレーム4に当接する接触面とする。カバ
ー5はフッ素ゴムを用い、接点が嵌合する基部5aを中
空円柱形とし、先端までを拡径した中空略円錐状に成形
する。略円錐状部分の先端部分が被メッキ物に接触する
接触部5cとなり接触部5cと基部5aとの間に弾性部
5bがある。カバー5は弾性部5bから接触部5cに向
かってその厚みを減少させ、先端を薄く形成することに
よって接触部5cを変形容易としている。更に、カバー
5は略円錐形状を内方に膨曲させることによって、接触
部5cの面積を増加させリードフレーム4との密着性を
高めている。
【0021】接点3の接触面は接触部5cよりも内側に
設けられ、弾性部5bと接触部5cの内側の空間に接触
面を収容する。接点がリードフレーム4と導通した状態
で接触部5cはリードフレーム4に密着し、弾性部5b
は変形によって生じる弾性力によって接触部5cをリー
ドフレーム4に押圧する。
【0022】接触導通時には、電極1が両側からリード
フレーム4に接近し、先ずカバー5先端の接触部5cが
リードフレーム4に接触する。更に接近すると、弾性部
5bが変形し、接点3の接触面がリードフレーム4に接
触し、リードフレーム4を挟持する。これによって電極
1とリードフレーム4との接触導通が行なわれる。弾性
部5bの変形によって、接触部5cが付勢されリードフ
レーム4の表面に密着する。これによって、メッキ槽内
でもメッキ液がカバー5内に浸入することがなく、メッ
キ液と接点3との接触を防止することができる。この状
態の電極1の一方のみを図中破線にて示す。
【0023】また、リードフレーム4のガイド孔に接点
が位置した場合、リードフレーム4の端に接触面が位置
した場合、接点3が垂直に接触していない場合等でも、
リードフレーム4の形状に対応して接触部5cが変形し
相互に密着し、接点3とメッキ液との接触を防止するこ
とによって接点3を保護することができる。
【0024】この電極を取付けた電気メッキ装置にてメ
ッキを行なう場合を図2乃至図4を用いて説明する。図
2はメッキ槽に浸漬前の電極1及びリードフレーム4の
状態を示す縦断面図、図3はメッキ槽に浸漬後の電極1
及びリードフレーム4の状態を示す縦断面図、図4は図
3のA‐A線に沿った部分縦断面図である。
【0025】図2に示すように、樹脂モールドの完了し
たリードフレーム4は、メッキ用のラック6に収容した
状態で、上下に移動するアーム7に取付けられる。電極
1はアーム7に取付けられアーム7に対して移動可能と
なっている。対向して設けた対をなす電極1が図中水平
方向に接近し、リードフレーム4を挟持することによっ
て、リードフレーム4と電極1との接触導通が行なわれ
る。
【0026】図3及び図4に示すように、接触導通の完
了したリードフレーム4及び電極1はアーム7の下降に
よって、メッキ液8が満たされたメッキ槽9に浸漬され
る。この状態にて、メッキ槽9中に固定された電極10
を陽極とし、電極1を陰極として所定の電圧が加えられ
る。これによって電極10表面の金属が溶解して、電極
1に導通したリードフレーム4に析出し、リードフレー
ム4に溶解した金属の電気メッキが施される。
【0027】この際、弾性を有する耐薬品性絶縁材料の
カバー5で電極1が覆われメッキ液と接触しないため電
極1の接点3へのメッキ付着が低減し、メインテナンス
頻度を減少させることができる。例えば、従来の電極を
用いたものでは1回/日であった電極のメインテナンス
を、本実施例の電極1を使用することにより、1回/6
0日とすることが可能となった。
【0028】また電極1を対にして対向して設け被メッ
キ物であるリードフレーム4を挟持する構成としたこと
により、接触部5cが変形して相互に密着し、接点3と
メッキ液との接触を防止することによって接点3を保護
することができる。
【0029】また、本実施例ではカバー5を中空円錐状
に形成する構成としたことにより、弾性部5b及び接触
部5cの変形量を充分に確保できるので、より多くの状
況に対応することが可能となる。
【0030】なお、本実施例では電気メッキ装置を例と
して本発明を説明したが、メッキ装置以外にも腐食性の
環境等悪影響を受ける可能性のある他の環境にて使用す
る電極に本発明を適用しても効果を奏するものである。
【0031】以上、本発明者によってなされた発明を、
前記実施例に基づき具体的に説明したが、本発明は、前
記実施例に限定されるものではなく、その要旨を逸脱し
ない範囲において種々変更可能であることは勿論であ
る。
【0032】例えば、前記実施例ではカバーを拡径した
中空円錐状に形成したが、他の形状によって本発明を実
施することも可能であり、弾性部及び接触部を中空半球
形状とする、または、全体を円筒形状とし、その中間を
弾性部として単数若しくは複数回ジャバラ状に折り曲げ
る、或いはその中間を弾性部として部分的に薄くする、
若しくは先端に向けて内径のみを拡げて先端を薄くする
等の構成とすることも可能である。
【0033】また、カバーを一体に形成せずに、個別に
形成した弾性部と接触部とを組み立てる構成としても本
発明を実施することが可能である。
【0034】更に、カバーの材料として前記実施例では
フッ素ゴムを用いたが、シリコーンゴム或いはクロロプ
レンゴム(ネオプレン)等他の弾性を有する耐薬品性絶
縁物を用いてもよい。
【0035】
【発明の効果】本願において開示される発明のうち代表
的なものによって得られる効果を簡単に説明すれば、下
記のとおりである。
【0036】(1)本発明によれば、作業時に電極がメ
ッキ液等の作業環境と接触することがないという効果が
ある。
【0037】(2)前記効果(1)によれば、電気メッ
キ時の電極部への電着物の付着を防止することができる
という効果がある。
【0038】(3)前記効果(2)によれば、電極部へ
のメンテナンス頻度を低減できるという効果がある。
【0039】(4)前記効果(2)によれば、電極部の
形状変化が少なくなるので、作業効果が安定するという
効果がある。
【0040】(5)前記効果(2)によれば、陽極電極
の消耗を押えることができるという効果がある。
【0041】(6)前記効果(2)によれば、電着物の
除去によって生じる産業廃棄物が減少するという効果が
ある。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施例である接触導通用電極を示す
部分断面図、
【図2】本発明の一実施例であるメッキ装置のメッキ槽
浸漬前の状態を示す縦断面図、
【図3】本発明の一実施例であるメッキ装置のメッキ槽
浸漬後の状態を示す縦断面図、
【図4】本発明の一実施例であるメッキ装置のメッキ槽
浸漬後の状態を示す部分縦断面図である。
【符号の説明】
1…電極(陰電極)、2…支持体、3…接点、4…リー
ドフレーム、5…カバー、5a…基部、5b…弾性部、
5c…接触部、6…ラック、7…アーム、8…メッキ
液、9…メッキ槽、10…電極(陽電極)。

Claims (7)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 対象物に押圧され対象物と電気的な導通
    を行なう接点を有する接触導通用電極において、対象物
    に密着する密着部と該密着部を電極当接時に対象物に付
    勢する弾性部とを有するカバーを該電極に取付け、該カ
    バーが形成する空間内に前記接点を収容することを特徴
    とする接触導通用電極。
  2. 【請求項2】 対象物に押圧され対象物と電気的な導通
    を行なう接点を有する接触導通用電極において、対象物
    に密着する密着部と該密着部を電極当接時に対象物に付
    勢する弾性部とを有するカバーを該電極に取付け、該カ
    バーが中空略円錐状に先端に向かって拡径しかつ内方に
    膨曲させ先端に向かって厚みを減少させて、弾性体によ
    って一体に形成し、該カバーが形成する空間内に前記接
    点を収容することを特徴とする接触導通用電極。
  3. 【請求項3】 電気メッキ用の負極として用いられるこ
    とを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の接触導通
    用電極。
  4. 【請求項4】 対象物に押圧され対象物と電気的な導通
    を行なう接点を有する接触導通用電極を備えた半導体製
    造装置において、対象物に密着する密着部と該密着部を
    電極当接時に対象物に付勢する弾性部とを有するカバー
    を該電極に取付け、該カバーが形成する空間内に前記接
    点を収容する接触導通用電極を備えたことを特徴とする
    半導体製造装置。
  5. 【請求項5】 対象物に押圧され対象物と電気的な導通
    を行なう接点を有する接触導通用電極を備えた半導体製
    造装置において、対象物に密着する密着部と該密着部を
    電極当接時に対象物に付勢する弾性部とを有するカバー
    を該電極に取付け、該カバーが中空略円錐状に先端に向
    かって拡径しかつ内方に膨曲させ先端に向かって厚みを
    減少させて、弾性体によって一体に形成し、該カバーが
    形成する空間内に前記接点を収容する接触導通用電極を
    備えたことを特徴とする半導体製造装置。
  6. 【請求項6】 前記接触導通用電極を電気メッキ用の負
    極として用いた電気メッキ装置であることを特徴とする
    請求項4又は請求項5に記載の半導体製造装置。
  7. 【請求項7】 対向して設けた対をなす前記接触導通用
    電極によって被メッキ物を挾み接触導通を行なうことを
    特徴とする請求項4乃至請求項6の何れかに記載の半導
    体製造装置。
JP15214594A 1994-07-04 1994-07-04 接触導通用電極及びそれを用いた半導体製造装置 Pending JPH0813198A (ja)

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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO1999035309A1 (en) * 1998-01-12 1999-07-15 Ebara Corporation Plating jig of wafer
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KR20220043849A (ko) 2020-09-29 2022-04-05 가부시키가이샤 에바라 세이사꾸쇼 접점 구조, 기판 홀더, 도금 장치 및 기판에 급전하는 방법

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