JPH0812327A - 酸化第二銅の製造法 - Google Patents
酸化第二銅の製造法Info
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- JPH0812327A JPH0812327A JP17315894A JP17315894A JPH0812327A JP H0812327 A JPH0812327 A JP H0812327A JP 17315894 A JP17315894 A JP 17315894A JP 17315894 A JP17315894 A JP 17315894A JP H0812327 A JPH0812327 A JP H0812327A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 高品質の酸化第二銅を濾過性および洗浄性な
どの作業性よく簡便な方法で製造する方法を提供する。 【構成】 銅塩水溶液と苛性アルカリ水溶液とを反応し
て酸化第二銅を製造する方法において、該反応液中のＣ
Ｏ3 ／ＣｕＯのモル比が０．００５以上の炭酸イオンの
存在下に、ｐＨが９．５〜１２．０で反応させる酸化第
二銅の製造法。銅塩水溶液にはプリント基板エッチング
排液を利用できる。
どの作業性よく簡便な方法で製造する方法を提供する。 【構成】 銅塩水溶液と苛性アルカリ水溶液とを反応し
て酸化第二銅を製造する方法において、該反応液中のＣ
Ｏ3 ／ＣｕＯのモル比が０．００５以上の炭酸イオンの
存在下に、ｐＨが９．５〜１２．０で反応させる酸化第
二銅の製造法。銅塩水溶液にはプリント基板エッチング
排液を利用できる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、酸化第二銅の製造法に
関し、特に酸化第二銅を濾過性および作業性よく容易に
製造する方法に関する。
関し、特に酸化第二銅を濾過性および作業性よく容易に
製造する方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来より酸化第二銅は、顔料、触媒、ガ
ラスおよび陶器の着色剤、弱電部品、条虫駆除剤、肥
料、他の銅化合物原料、電子複写機用キャリアー・トナ
ー用として使用されている。
ラスおよび陶器の着色剤、弱電部品、条虫駆除剤、肥
料、他の銅化合物原料、電子複写機用キャリアー・トナ
ー用として使用されている。
【０００３】その製造法は、 亜酸化銅、銅の伸線・伸延時に副生するミルスケール
および電解銅粉の微粒子を流動床あるいは移動床で４０
０〜６００℃に加熱して酸化し、粉砕、分級する加熱酸
化法、 酸化銅、硫酸銅、硝酸銅などの銅化合物を５００℃以
上に加熱して分解後、粉砕、分級する熱分解法、
および電解銅粉の微粒子を流動床あるいは移動床で４０
０〜６００℃に加熱して酸化し、粉砕、分級する加熱酸
化法、 酸化銅、硫酸銅、硝酸銅などの銅化合物を５００℃以
上に加熱して分解後、粉砕、分級する熱分解法、
【０００４】塩化第二銅、硫酸銅あるいは硝酸銅など
の銅化合物の溶液を８０〜１００℃に加熱しつつアルカ
リ溶液によってｐＨを１２以上にして酸化を生成させ、
水洗、乾燥後、粉砕する直接湿式法、 塩化第二銅、硫酸銅あるいは硝酸銅などの銅化合物の
溶液を常温〜微加温でアルカリ溶液によって中性付近で
中和して、水酸化銅あるいは炭酸銅をまず製造し、５０
０℃以上に加熱して分解させ、粉砕、分級する間接湿式
法、 等がある。
の銅化合物の溶液を８０〜１００℃に加熱しつつアルカ
リ溶液によってｐＨを１２以上にして酸化を生成させ、
水洗、乾燥後、粉砕する直接湿式法、 塩化第二銅、硫酸銅あるいは硝酸銅などの銅化合物の
溶液を常温〜微加温でアルカリ溶液によって中性付近で
中和して、水酸化銅あるいは炭酸銅をまず製造し、５０
０℃以上に加熱して分解させ、粉砕、分級する間接湿式
法、 等がある。
【０００５】また、最近では、塩化第二銅を含むプリ
ント基板のエッチング排液を苛性アルカリでｐＨ１まで
中和し、この銅の溶液と苛性アルカリ水溶液とを、温度
４０〜５０℃に保持した水溶液中に同時に滴下混合し
て、その溶液のｐＨを４〜１０の範囲に保持しながら銅
の水和物を生成させ、次いでｐＨを１０以上にして加熱
酸化して、析出した反応生成物を水洗かつ固液分離する
方法が開発されている。
ント基板のエッチング排液を苛性アルカリでｐＨ１まで
中和し、この銅の溶液と苛性アルカリ水溶液とを、温度
４０〜５０℃に保持した水溶液中に同時に滴下混合し
て、その溶液のｐＨを４〜１０の範囲に保持しながら銅
の水和物を生成させ、次いでｐＨを１０以上にして加熱
酸化して、析出した反応生成物を水洗かつ固液分離する
方法が開発されている。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記の
従来の製造方法である〜の方法は、高温で加熱酸化
させるために所定の加熱炉と熱源とを必要とし、また炭
酸銅を経由する方法では、不純物となるＣｌイオンを取
り込み易く、高純度な酸化第二銅が得られないといった
欠点がある。また、これらの方法によって得られる酸化
第二銅は、粒子径が不揃いで用途に応じて粉砕、分級の
工程が必要となっている。
従来の製造方法である〜の方法は、高温で加熱酸化
させるために所定の加熱炉と熱源とを必要とし、また炭
酸銅を経由する方法では、不純物となるＣｌイオンを取
り込み易く、高純度な酸化第二銅が得られないといった
欠点がある。また、これらの方法によって得られる酸化
第二銅は、粒子径が不揃いで用途に応じて粉砕、分級の
工程が必要となっている。
【０００７】また、上記のの方法は、エッチング排液
に含まれる銅を酸化第二銅として回収するために、安価
に製造できる利点はあるが、酸化第二銅中の不純物であ
るＣｌイオンは未だ充分除去することができず、かつ粒
子径もあまり大きくすることができない。
に含まれる銅を酸化第二銅として回収するために、安価
に製造できる利点はあるが、酸化第二銅中の不純物であ
るＣｌイオンは未だ充分除去することができず、かつ粒
子径もあまり大きくすることができない。
【０００８】本発明は、前記の問題点に鑑み、鋭意研究
をおこなった結果完成したものであり、高品質の酸化第
二銅を濾過性および洗浄性などの作業性よく容易な簡便
な方法で得ることができる酸化第二銅の製造法を提供す
るものである。
をおこなった結果完成したものであり、高品質の酸化第
二銅を濾過性および洗浄性などの作業性よく容易な簡便
な方法で得ることができる酸化第二銅の製造法を提供す
るものである。
【０００９】
【課題を解決するための手段】即ち、本発明は、銅塩水
溶液と苛性アルカリ水溶液とを反応して酸化第二銅を製
造する方法において、該反応液中のＣＯ3 ／ＣｕＯのモ
ル比が０．００５以上の炭酸イオンの存在下に、ｐＨが
９．５〜１２．０で反応させることを特徴とする酸化第
二銅の製造法に係るものである。
溶液と苛性アルカリ水溶液とを反応して酸化第二銅を製
造する方法において、該反応液中のＣＯ3 ／ＣｕＯのモ
ル比が０．００５以上の炭酸イオンの存在下に、ｐＨが
９．５〜１２．０で反応させることを特徴とする酸化第
二銅の製造法に係るものである。
【００１０】以下、本発明を詳細に説明する。本発明に
おいて使用する銅塩水溶液に含有される銅塩は、特に限
定されるものではなく工業的に入手できるものであれよ
いが、例えば硫酸銅、塩化銅、硝酸銅等の一種または二
種以上を含有する銅塩が挙げられる。それらの銅塩の中
でも塩化銅を含むプリント基板のエッチング排液は、資
源のリサイクル化を図ることができるのみならず、酸化
第二銅を安価に製造できることから好ましく、その組成
は特に限定されない。
おいて使用する銅塩水溶液に含有される銅塩は、特に限
定されるものではなく工業的に入手できるものであれよ
いが、例えば硫酸銅、塩化銅、硝酸銅等の一種または二
種以上を含有する銅塩が挙げられる。それらの銅塩の中
でも塩化銅を含むプリント基板のエッチング排液は、資
源のリサイクル化を図ることができるのみならず、酸化
第二銅を安価に製造できることから好ましく、その組成
は特に限定されない。
【００１１】本発明の特徴は、上記銅塩水溶液と苛性ア
ルカリ水溶液とを反応して酸化第二銅を生成する方法に
おいて、該反応液中のＣＯ3 ／ＣｕＯのモル比が０．０
０５以上、好ましくは０．０１〜０．１の炭酸イオンを
存在させ、且つ反応中のｐＨを９．５〜１２．０、好ま
しくは１０．０〜１１．５に調整しながら反応をさせる
ことにある。
ルカリ水溶液とを反応して酸化第二銅を生成する方法に
おいて、該反応液中のＣＯ3 ／ＣｕＯのモル比が０．０
０５以上、好ましくは０．０１〜０．１の炭酸イオンを
存在させ、且つ反応中のｐＨを９．５〜１２．０、好ま
しくは１０．０〜１１．５に調整しながら反応をさせる
ことにある。
【００１２】該反応中のＣＯ3 ／ＣｕＯのモル比が０．
００５未満の場合、得られる酸化第二銅は非常に微細に
なり、濾過性等が悪くなる。また、ＣＯ3 ／ＣｕＯのモ
ル比が、好ましくは０．０１〜０．１の範囲の炭酸イオ
ンを存在させると、特に生成する酸化第二銅の粒径が大
となり、濾過性、洗浄性が良くなるが、その上限は特に
制限されるものではない。
００５未満の場合、得られる酸化第二銅は非常に微細に
なり、濾過性等が悪くなる。また、ＣＯ3 ／ＣｕＯのモ
ル比が、好ましくは０．０１〜０．１の範囲の炭酸イオ
ンを存在させると、特に生成する酸化第二銅の粒径が大
となり、濾過性、洗浄性が良くなるが、その上限は特に
制限されるものではない。
【００１３】また、反応中のｐＨが９．５未満の場合に
は塩化水酸化銅が生成し、また１２．０を越える場合に
は微細な酸化第二銅が生成してしまい、共に好ましくな
い。特に好ましくはｐＨ１０．０〜１１．５の範囲であ
り、この範囲では粒径が大なる粒子が生成し濾過性、洗
浄性とも良好となり望ましい。
は塩化水酸化銅が生成し、また１２．０を越える場合に
は微細な酸化第二銅が生成してしまい、共に好ましくな
い。特に好ましくはｐＨ１０．０〜１１．５の範囲であ
り、この範囲では粒径が大なる粒子が生成し濾過性、洗
浄性とも良好となり望ましい。
【００１４】反応液中の炭酸イオンの原料としては、炭
酸ガスや炭酸塩であればよく特に制限する必要はない
が、例えば炭酸ナトリウムの無水塩及び含水塩、炭酸水
素ナトリウムの無水塩及び含水塩、炭酸アンモニウム、
炭酸ガス等が挙げられる。
酸ガスや炭酸塩であればよく特に制限する必要はない
が、例えば炭酸ナトリウムの無水塩及び含水塩、炭酸水
素ナトリウムの無水塩及び含水塩、炭酸アンモニウム、
炭酸ガス等が挙げられる。
【００１５】本発明の酸化第二銅の製造法において、反
応系の調製は、上記の条件を制御しさえすれば特に限定
する必要はないが、好ましい方法としては、例えば無水
炭酸ナトリウム等で所定濃度の炭酸ナトリウム水溶液を
予め調製しておき、次いで苛性アルカリを添加した後、
反応液中のｐＨを制御しながら銅塩水溶液を添加反応さ
せればよい。この時、炭酸ナトリウム水溶液の如き炭酸
源は、所定量の一部を予め添加した後、該反応液に連続
的に添加してもよい。
応系の調製は、上記の条件を制御しさえすれば特に限定
する必要はないが、好ましい方法としては、例えば無水
炭酸ナトリウム等で所定濃度の炭酸ナトリウム水溶液を
予め調製しておき、次いで苛性アルカリを添加した後、
反応液中のｐＨを制御しながら銅塩水溶液を添加反応さ
せればよい。この時、炭酸ナトリウム水溶液の如き炭酸
源は、所定量の一部を予め添加した後、該反応液に連続
的に添加してもよい。
【００１６】反応温度は室温〜１００℃、反応時間は
０．１時間以上が好ましい。反応終了後、生成した酸化
第二銅のスラリーは、常法により、洗浄、濾過、乾燥
し、必要に応じて粉砕を行って製品とする。
０．１時間以上が好ましい。反応終了後、生成した酸化
第二銅のスラリーは、常法により、洗浄、濾過、乾燥
し、必要に応じて粉砕を行って製品とする。
【００１７】
【作用】本発明に係わる酸化第二銅の製造法は、次の
（１）式および（２）式のような反応により行なわれる
と考えられる。
（１）式および（２）式のような反応により行なわれる
と考えられる。
【００１８】
【化１】 ４ＣｕＳＯ4 ＋Ｎａ2 ＣＯ3 ＋６ＮａＯＨ → ３Ｃｕ（ＯＨ）2 ・ＣｕＣＯ3 ↓＋４Ｎａ2 ＳＯ4 （１） ３Ｃｕ（ＯＨ）2 ・ＣｕＣＯ3 ＋２ＮａＯＨ → ４ＣｕＯ↓＋Ｎａ2 ＣＯ3 ＋４Ｈ2 Ｏ （２）
【００１９】すなわち、（１）式に示すように、反応液
のｐＨを制御しながら反応させると、反応液中に存在す
る炭酸イオンにより、まず塩基性炭酸銅が生成し沈澱す
る。次いで、更に苛性ソーダを添加することにより
（２）式のような反応となり、酸化第二銅が生成する。
この時、炭酸ソーダが再生し、（１）式の反応に再使用
される。よって本発明においては、該反応液中には少な
い炭酸イオンが存在していれば良く、上記反応により得
られた酸化第二銅は粒子径が大きく、洗浄性が良好で、
濾過性の良い粒子が形成されると共に、粒子表面に付着
する陰イオン等の不純物を極めて容易に除去することが
できるようになる。
のｐＨを制御しながら反応させると、反応液中に存在す
る炭酸イオンにより、まず塩基性炭酸銅が生成し沈澱す
る。次いで、更に苛性ソーダを添加することにより
（２）式のような反応となり、酸化第二銅が生成する。
この時、炭酸ソーダが再生し、（１）式の反応に再使用
される。よって本発明においては、該反応液中には少な
い炭酸イオンが存在していれば良く、上記反応により得
られた酸化第二銅は粒子径が大きく、洗浄性が良好で、
濾過性の良い粒子が形成されると共に、粒子表面に付着
する陰イオン等の不純物を極めて容易に除去することが
できるようになる。
【００２０】
【実施例】本発明を、実施例によって更に詳細に説明す
る。
る。
【００２１】実施例１ ［Ａ液］３０重量％水酸化ナトリウム水溶液 ［Ｂ液］濃度１モル／ｌ硫酸銅水溶液 内容量５リッターのガラス製ビーカーに、無水炭酸ナト
リウム１．６ｇを入れ、水に溶解して１リッターとし
た。温度を５０〜６０℃に保持しつつ、攪拌下に［Ｂ
液］２リッターを３０ｍ１／分で定量供給した。同時
に、反応系内のｐＨが１０．５±０．２を維持できる様
に、［Ａ液］を供給し反応させた。生成したスラリー
は、濾過時間を測定した後、常法により洗浄、濾過、乾
燥、粉砕して酸化第二銅粉末を得た。
リウム１．６ｇを入れ、水に溶解して１リッターとし
た。温度を５０〜６０℃に保持しつつ、攪拌下に［Ｂ
液］２リッターを３０ｍ１／分で定量供給した。同時
に、反応系内のｐＨが１０．５±０．２を維持できる様
に、［Ａ液］を供給し反応させた。生成したスラリー
は、濾過時間を測定した後、常法により洗浄、濾過、乾
燥、粉砕して酸化第二銅粉末を得た。
【００２２】実施例２ ［Ａ液］３０重量％水酸化ナトリウム水溶液 ［Ｂ液］濃度１モル／ｌ硫酸銅水溶液 内容量５リッターのガラス製ビーカーに、無水炭酸ナト
リウム３．２ｇを入れ、水に溶解して１リッターとし
た。温度を５０〜６０℃に保持しつつ、攪拌下に［Ｂ
液］２リッターを３０ｍ１／分で定量供給した。同時
に、反応系内のｐＨが１１．０±０．３を維持できる様
に、［Ａ液］を供給し反応させた。生成したスラリー
は、濾過時間を測定した後、常法により洗浄、濾過、乾
燥、粉砕して酸化第二銅粉末を得た。
リウム３．２ｇを入れ、水に溶解して１リッターとし
た。温度を５０〜６０℃に保持しつつ、攪拌下に［Ｂ
液］２リッターを３０ｍ１／分で定量供給した。同時
に、反応系内のｐＨが１１．０±０．３を維持できる様
に、［Ａ液］を供給し反応させた。生成したスラリー
は、濾過時間を測定した後、常法により洗浄、濾過、乾
燥、粉砕して酸化第二銅粉末を得た。
【００２３】実施例３ ［Ａ液］３０重量％水酸化ナトリウム水溶液 ［Ｂ液］濃度１モル／ｌ硫酸銅水溶液 内容量５リッターのガラス製ビーカーに、無水炭酸ナト
リウム８．０ｇを入れ、水に溶解して１リッターとし
た。温度を４０〜５０℃に保持しつつ、攪拌下に［Ｂ
液］２リッターを３０ｍ１／分で定量供給した。同時
に、反応系内のｐＨが１１．５±０．２を維持できる様
に、［Ａ液］を供給し反応させた。生成したスラリー
は、濾過時間を測定した後、常法により洗浄、濾過、乾
燥、粉砕して酸化第二銅粉末を得た。
リウム８．０ｇを入れ、水に溶解して１リッターとし
た。温度を４０〜５０℃に保持しつつ、攪拌下に［Ｂ
液］２リッターを３０ｍ１／分で定量供給した。同時
に、反応系内のｐＨが１１．５±０．２を維持できる様
に、［Ａ液］を供給し反応させた。生成したスラリー
は、濾過時間を測定した後、常法により洗浄、濾過、乾
燥、粉砕して酸化第二銅粉末を得た。
【００２４】実施例４ ［Ａ液］３０重量％水酸化ナトリウム水溶液 ［Ｂ液］濃度１モル／ｌ硫酸銅水溶液 内容量５リッターのガラス製ビーカーに、無水炭酸ナト
リウム１６．０ｇを入れ、水に溶解して１リッターとし
た。温度を７０〜８０℃に保持しつつ、攪拌下に［Ｂ
液］２リッターを５０ｍ１／分で定量供給した。同時
に、反応系内のｐＨが１０．０±０．３を維持できる様
に、［Ａ液］を供給し反応させた。生成したスラリー
は、濾過時間を測定した後、常法により洗浄、濾過、乾
燥、粉砕して酸化第二銅粉末を得た。
リウム１６．０ｇを入れ、水に溶解して１リッターとし
た。温度を７０〜８０℃に保持しつつ、攪拌下に［Ｂ
液］２リッターを５０ｍ１／分で定量供給した。同時
に、反応系内のｐＨが１０．０±０．３を維持できる様
に、［Ａ液］を供給し反応させた。生成したスラリー
は、濾過時間を測定した後、常法により洗浄、濾過、乾
燥、粉砕して酸化第二銅粉末を得た。
【００２５】実施例５ ［Ａ液］３０重量％水酸化ナトリウム水溶液 ［Ｂ液］濃度１モル／ｌ硫酸銅水溶液 内容量５リッターのガラス製ビーカーに、無水炭酸ナト
リウム３２．０ｇを入れ、水に溶解して１リッターとし
た。温度を７０〜８０℃に保持しつつ、攪拌下に［Ｂ
液］２リッターを８０ｍ１／分で定量供給した。同時
に、反応系内のｐＨが１０．０±０．３を維持できる様
に、［Ａ液］を供給し反応させた。生成したスラリー
は、濾過時間を測定した後、常法により洗浄、濾過、乾
燥、粉砕して酸化第二銅粉末を得た。
リウム３２．０ｇを入れ、水に溶解して１リッターとし
た。温度を７０〜８０℃に保持しつつ、攪拌下に［Ｂ
液］２リッターを８０ｍ１／分で定量供給した。同時
に、反応系内のｐＨが１０．０±０．３を維持できる様
に、［Ａ液］を供給し反応させた。生成したスラリー
は、濾過時間を測定した後、常法により洗浄、濾過、乾
燥、粉砕して酸化第二銅粉末を得た。
【００２６】実施例６ ［Ａ液］３０重量％水酸化ナトリウム水溶液 ［Ｂ液］濃度１モル／ｌ塩化銅水溶液 内容量５リッターのガラス製ビーカーに、炭酸ナトリウ
ム１０水塩２２．０ｇを入れ、水に溶解して１リッター
とした。温度を４０〜５０℃に保持しつつ、攪拌下に
［Ｂ液］２リッターを３０ｍ１／分で定量供給した。同
時に、反応系内のｐＨが１１．５±０．２を維持できる
様に、［Ａ液］を供給し反応させた。生成したスラリー
は、濾過時間を測定した後、常法により洗浄、濾過、乾
燥、粉砕して酸化第二銅粉末を得た。
ム１０水塩２２．０ｇを入れ、水に溶解して１リッター
とした。温度を４０〜５０℃に保持しつつ、攪拌下に
［Ｂ液］２リッターを３０ｍ１／分で定量供給した。同
時に、反応系内のｐＨが１１．５±０．２を維持できる
様に、［Ａ液］を供給し反応させた。生成したスラリー
は、濾過時間を測定した後、常法により洗浄、濾過、乾
燥、粉砕して酸化第二銅粉末を得た。
【００２７】実施例７ ［Ａ液］３０重量％水酸化ナトリウム水溶液 ［Ｂ液］濃度１モル／ｌ塩化銅水溶液 内容量５リッターのガラス製ビーカーに、無水炭酸ナト
リウム６．４ｇを入れ、水に溶解して１リッターとし
た。温度を４０〜５０℃に保持しつつ、攪拌下に［Ｂ
液］２リッターを３０ｍ１／分で定量供給した。同時
に、反応系内のｐＨが１１．５±０．２を維持できる様
に、［Ａ液］を供給し反応させた。生成したスラリー
は、濾過時間を測定した後、常法により洗浄、濾過、乾
燥、粉砕して酸化第二銅粉末を得た。
リウム６．４ｇを入れ、水に溶解して１リッターとし
た。温度を４０〜５０℃に保持しつつ、攪拌下に［Ｂ
液］２リッターを３０ｍ１／分で定量供給した。同時
に、反応系内のｐＨが１１．５±０．２を維持できる様
に、［Ａ液］を供給し反応させた。生成したスラリー
は、濾過時間を測定した後、常法により洗浄、濾過、乾
燥、粉砕して酸化第二銅粉末を得た。
【００２８】実施例８ プリント基板エッチング排液（Ｃｕ2+：１２０ｇ／ｌ、
Ｃｕ+ ：７ｇ／ｌ、遊離ＨＣ１：６０ｇ／ｌを含有）５
リッターに、３０重量％過酸化水素水３１．２ｇを加え
てＣｕ+ をＣｕ2+に酸化した後、水を加えて１０リッタ
ーに調製した。３リッター反応容器に、実施例４で得ら
れた反応濾液２リッターを入れ、５０〜６０℃に保ちつ
つ、攪拌下、上記処理済みエッチング排液を６０ｍｌ／
分で、無水炭酸ナトリウム８０ｇを水に溶解して１リッ
ターとした溶液を６ｍｌ／分で、定量供給し（ＣＯ3 ／
ＣｕＯ＝０．０７５モル比）、同時に反応系内のｐＨを
１１．０±０．３に保持出来る様に、３０重量％水酸化
ナトリウム水溶液を供給した。反応中、液面が一定とな
る様に反応器底部からスラリーを抜き出した。抜き出し
たスラリーは、濾過時間を測定した後、常法により洗
浄、濾過、乾燥して粉末とした。得られた酸化第二銅粉
末のＣｌイオンの含有量は０．０１％であった。
Ｃｕ+ ：７ｇ／ｌ、遊離ＨＣ１：６０ｇ／ｌを含有）５
リッターに、３０重量％過酸化水素水３１．２ｇを加え
てＣｕ+ をＣｕ2+に酸化した後、水を加えて１０リッタ
ーに調製した。３リッター反応容器に、実施例４で得ら
れた反応濾液２リッターを入れ、５０〜６０℃に保ちつ
つ、攪拌下、上記処理済みエッチング排液を６０ｍｌ／
分で、無水炭酸ナトリウム８０ｇを水に溶解して１リッ
ターとした溶液を６ｍｌ／分で、定量供給し（ＣＯ3 ／
ＣｕＯ＝０．０７５モル比）、同時に反応系内のｐＨを
１１．０±０．３に保持出来る様に、３０重量％水酸化
ナトリウム水溶液を供給した。反応中、液面が一定とな
る様に反応器底部からスラリーを抜き出した。抜き出し
たスラリーは、濾過時間を測定した後、常法により洗
浄、濾過、乾燥して粉末とした。得られた酸化第二銅粉
末のＣｌイオンの含有量は０．０１％であった。
【００２９】比較例１ ［Ａ液］３０重量％水酸化ナトリウム水溶液 ［Ｂ液］濃度１モル／ｌ硫酸銅水溶液 内容量５リッターを有するガラス製ビーカーに、水１リ
ッターを入れ、攪拌下に、温度を５０〜６０℃に保持し
つつ、［Ｂ液］２リッターを３０ｍ１／分で定量供給し
た。同時に、反応系内のｐＨが１０．０±０．２を維持
できる様に、［Ａ液］を供給し反応させた。生成したス
ラリーは、濾過時間を測定した後、常法により洗浄、濾
過、乾燥、粉砕して酸化第二銅粉末を得た。
ッターを入れ、攪拌下に、温度を５０〜６０℃に保持し
つつ、［Ｂ液］２リッターを３０ｍ１／分で定量供給し
た。同時に、反応系内のｐＨが１０．０±０．２を維持
できる様に、［Ａ液］を供給し反応させた。生成したス
ラリーは、濾過時間を測定した後、常法により洗浄、濾
過、乾燥、粉砕して酸化第二銅粉末を得た。
【００３０】比較例２ ［Ａ液］３０重量％水酸化ナトリウム水溶液 ［Ｂ液］濃度１モル／ｌ塩化銅水溶液 内容量５リッターのガラス製ビーカーに、無水炭酸ナト
リウム１６．０ｇを入れ、水に溶解して１リッターとし
た。温度を５０〜６０℃に保持しつつ、攪拌下に［Ｂ
液］２リッターを５０ｍ１／分で定量供給した。同時
に、反応系内のｐＨが９．０±０．３を維持できる様
に、［Ａ液］を供給し反応させた。生成したスラリー
は、濾過時間を測定した後、常法により洗浄、濾過、乾
燥、粉砕して粉末を得た。得られた粉末のＳＯ4イオン
の含有量は６．４％であった。
リウム１６．０ｇを入れ、水に溶解して１リッターとし
た。温度を５０〜６０℃に保持しつつ、攪拌下に［Ｂ
液］２リッターを５０ｍ１／分で定量供給した。同時
に、反応系内のｐＨが９．０±０．３を維持できる様
に、［Ａ液］を供給し反応させた。生成したスラリー
は、濾過時間を測定した後、常法により洗浄、濾過、乾
燥、粉砕して粉末を得た。得られた粉末のＳＯ4イオン
の含有量は６．４％であった。
【００３１】比較例３ ［Ａ液］３０重量％水酸化ナトリウム水溶液 ［Ｂ液］濃度１モル／ｌ硫酸銅水溶液 内容量５リッターのガラス製ビーカーに、無水炭酸ナト
リウム１６．０ｇを入れ、水に溶解して１リッターとし
た。温度を７０〜８０℃に保持しつつ、攪拌下に［Ｂ
液］２リッターを５０ｍ１／分で定量供給した。同時
に、反応系内のｐＨが１２．５±０．３を維持できる様
に、［Ａ液］を供給し反応させた。生成したスラリー
は、濾過時間を測定した後、常法により洗浄、濾過、乾
燥、粉砕して酸化第二銅粉末を得た。
リウム１６．０ｇを入れ、水に溶解して１リッターとし
た。温度を７０〜８０℃に保持しつつ、攪拌下に［Ｂ
液］２リッターを５０ｍ１／分で定量供給した。同時
に、反応系内のｐＨが１２．５±０．３を維持できる様
に、［Ａ液］を供給し反応させた。生成したスラリー
は、濾過時間を測定した後、常法により洗浄、濾過、乾
燥、粉砕して酸化第二銅粉末を得た。
【００３２】以上の実施例１〜８、比較例１〜３の測定
結果を下記の表１に示す。また、実施例１〜８で得られ
た酸化第二銅の品質は、含有アニオン（ＣｌまたはＳＯ
4）が０．０２％以下の高品質であった。
結果を下記の表１に示す。また、実施例１〜８で得られ
た酸化第二銅の品質は、含有アニオン（ＣｌまたはＳＯ
4）が０．０２％以下の高品質であった。
【００３３】
【表１】
【００３４】（注） 注１）Ｒ５０：コールターカウンター法による平均粒子
径（μｍ） 注２）濾過時間：東洋濾紙（株）社製の５Ａ−１２５ｍ
ｍφを用い、減圧（１００ｔｏｒｒ）濾過にてスラリー
１リッターを濾過するのに必要とした時間（分） 注３）（＊）は、ＣｕＯとＣｕＣｌ2 ・３Ｃｕ（ＯＨ）
2 の混合相（Ｘ線回折による）を示す。
径（μｍ） 注２）濾過時間：東洋濾紙（株）社製の５Ａ−１２５ｍ
ｍφを用い、減圧（１００ｔｏｒｒ）濾過にてスラリー
１リッターを濾過するのに必要とした時間（分） 注３）（＊）は、ＣｕＯとＣｕＣｌ2 ・３Ｃｕ（ＯＨ）
2 の混合相（Ｘ線回折による）を示す。
【００３５】上記の表１の結果から、実施例１〜８は比
較例１〜３に比較して、反応により生成したスラリーの
濾過時間が極めて短く、作業性に優れている。また、得
られた酸化第二銅はＸ線回折上ＣｕＯ単一相であり、粒
子径は大きく、このために濾過性および洗浄性が良い。
較例１〜３に比較して、反応により生成したスラリーの
濾過時間が極めて短く、作業性に優れている。また、得
られた酸化第二銅はＸ線回折上ＣｕＯ単一相であり、粒
子径は大きく、このために濾過性および洗浄性が良い。
【００３６】
【発明の効果】以上説明した様に、本発明の酸化第二銅
の製造法によれば、高品質の酸化第二銅を濾過性および
洗浄性などの作業性よく容易な簡便な方法で得ることが
でき、工業的に極めて有利な方法である。
の製造法によれば、高品質の酸化第二銅を濾過性および
洗浄性などの作業性よく容易な簡便な方法で得ることが
でき、工業的に極めて有利な方法である。
Claims (2)
- 【請求項１】 銅塩水溶液と苛性アルカリ水溶液とを反
応して酸化第二銅を製造する方法において、該反応液中
のＣＯ3 ／ＣｕＯのモル比が０．００５以上の炭酸イオ
ンの存在下に、ｐＨが９．５〜１２．０で反応させるこ
とを特徴とする酸化第二銅の製造法。 - 【請求項２】 銅塩水溶液はプリント基板エッチング排
液である請求項１記載の酸化第二銅の製造法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17315894A JPH0812327A (ja) | 1994-07-04 | 1994-07-04 | 酸化第二銅の製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17315894A JPH0812327A (ja) | 1994-07-04 | 1994-07-04 | 酸化第二銅の製造法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0812327A true JPH0812327A (ja) | 1996-01-16 |
Family
ID=15955179
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP17315894A Pending JPH0812327A (ja) | 1994-07-04 | 1994-07-04 | 酸化第二銅の製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0812327A (ja) |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6261953B1 (en) * | 2000-01-25 | 2001-07-17 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Method of forming a copper oxide film to etch a copper surface evenly |
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| JP2008127266A (ja) * | 2006-11-24 | 2008-06-05 | Nittetsu Mining Co Ltd | 銅エッチング廃液から酸化第２銅を製造する方法 |
| JP2010006658A (ja) * | 2008-06-27 | 2010-01-14 | Tsurumi Soda Co Ltd | 塩基性炭酸銅の製造方法及びこの方法により製造した塩基性炭酸銅 |
| CN102491402A (zh) * | 2011-12-05 | 2012-06-13 | 广州科城环保科技有限公司 | 一种利用酸性蚀刻废液生产精制氧化铜的方法 |
| WO2013176110A1 (ja) * | 2012-05-24 | 2013-11-28 | 水ｉｎｇ株式会社 | 銅含有酸性廃液からの酸化銅の回収方法及び装置 |
| WO2021106907A1 (ja) * | 2019-11-28 | 2021-06-03 | カサイ工業株式会社 | 黒色顔料の製造方法 |
-
1994
- 1994-07-04 JP JP17315894A patent/JPH0812327A/ja active Pending
Cited By (15)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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