JPH08100049A - 半導体封止材料用エポキシ樹脂組成物 - Google Patents

半導体封止材料用エポキシ樹脂組成物

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JPH08100049A
JPH08100049A JP6237129A JP23712994A JPH08100049A JP H08100049 A JPH08100049 A JP H08100049A JP 6237129 A JP6237129 A JP 6237129A JP 23712994 A JP23712994 A JP 23712994A JP H08100049 A JPH08100049 A JP H08100049A
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JP
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epoxy resin
bisphenol
resin
type epoxy
diglycidyl ether
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JP6237129A
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Katsuji Takahashi
勝治 高橋
Masashi Miyazawa
賢史 宮澤
Ichiro Ogura
一郎 小椋
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Dainippon Ink and Chemicals Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【構成】 ビスフェノールA型エポキシ樹脂の重合度0
の化合物が80重量%以上であるビスフェノールA型エ
ポキシ樹脂と、フェノールノボラック樹脂と、粉末状シ
リカとを必須成分とする半導体封止材料。 【効果】 硬化性、耐熱性、耐湿信頼性が良好。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は新規な特に硬化性、耐熱
性、耐水性、高温物性、流動性、成形性、耐湿信頼性に
優れ、加え低内部応力性にも優れ、その上さらに耐ハン
ダクラック性に優れた半導体封止材用エポキシ樹脂組成
物に関する。
【0002】
【従来の技術】特に半導体封止材料用途においては、近
年、高実装密度化に対応するため半導体のパッケージが
薄型化する傾向にあり、厚さが1mm以下のTSOP型
パッケージも使用される様になった。従ってこれらに対
応するため、流動性が高い封止材料が求められている。
また、半導体の実装方法が表面実装方法に転換するに伴
い、耐ハンダクラック性に優れる、すなわち、ハンダの
熱により封止材料中の水の膨張でクラックを防止するた
めに低吸水で、かつ、フィラー(粉末シリカ)の高充填
された、かつ、耐熱性の高い材料が求められている。
【0003】従来より、フィラーの高充填可能なエポキ
シ樹脂として、高分子量のビスフェノール型エポキシ樹
脂を使用した半導体封止材用組成物が知られている。
【0004】
【解決しようとする課題】しかし、高分子量のビスフェ
ノール型エポキシ樹脂を使用した半導体封止材用エポキ
シ組成物は、その粘度の高さからフィラーの充填率を充
分に高められず、耐水性、耐ハンダクラック性に劣る
他、更に耐熱性にも劣るという課題を有するものであっ
た。
【0005】本発明が解決しようとする課題は、半導体
封止材料として無機充填剤の高充填が可能で、耐水性、
耐ハンダクラック性および耐熱性に優れる半導体封止材
料を提供することにある。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明者等は鋭意検討し
た結果、ビスフェノール型エポキシ樹脂において、重合
度が0であるジグリシジルエーテルを80重量%以上含
有するものを用いることにより上記課題を解決できるこ
とを見いだし本発明を完成するに至った。
【0007】即ち、本発明は、重合度0のビスフェノー
ルジグリシジルエーテルを80重量%以上含有するビス
フェノール型エポキシ樹脂と、フェノールノボラック系
硬化剤と、無機系充填剤とを必須成分とすることを特徴
とする半導体封止材料用エポキシ樹脂組成物に関する。
【0008】本発明で用いられるビスフェノール型エポ
キシ樹脂は、重合度0のビスフェノールジグリシジルエ
ーテル、即ち、エポキシ化合物と原料ビスフェノールと
の重合によって生ずる高分子体を含まないジグリシジル
エーテル体を80重量%以上含有するものであり、それ
により無機充填剤の充填率を高められ、吸水性、耐ハン
ダクラック性に劣る他、更に耐熱性も良好なものとな
る。また、ビスフェノール型エポキシ樹脂中のビスフェ
ノールのジグリシジルエーテルの含有量は95重量%以
上であることが更にこれらの効果が顕著となる点から好
ましい。
【0009】ここでビスフェノール型エポキシ樹脂の分
子構造は、特に限定されるものではないが、例えば、以
下の構造式で表わされるものが挙げられる。ビスフェノ
ール型エポキシ樹脂は、通常、下記構造式におけるn=
0〜50の混合物として用いられるが、本発明では、ビ
スフェノールのジグリシジルエーテル、即ち、n=0の
ものが80重量%以上、好ましくは95重量%以上の割
合で存在しているものである。
【0010】
【化1】
【0011】(上記構造式において、R1、R2は、それ
ぞれ独立した水素原子または炭素原子数1〜10のアル
キル基若しくは芳香族炭化水素基であり、nは0〜50
の整数である)
【0012】この構造式を満足するエポキシ樹脂とし
て、具体的には、例えばビスフェノールA型エポキシ樹
脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、ビスフェノール
AD型エポキシ樹脂、ビスフェノールC型エポキシ樹脂
等を挙げることができる。
【0013】この様なビスフェノール型エポキシ樹脂を
得る方法は特に限定されるものではないが、例えば、ビ
スフェノールF、ビスフェノールAD、ビスフェノール
Cに代表されるビスフェノールに、大過剰のエピハロヒ
ドヒンを反応させる方法が挙げられる。
【0014】具体的には、上述したビスフェノール1モ
ルに対してエピハロヒドヒンの6〜15モルを塩基性触
媒の存在下、30〜90℃の温度条件で反応させ、反応
終了後、水洗することによりビスフェノール型エポキシ
樹脂とすることができる。
【0015】本発明においては、水洗して得られたビス
フェノール型エポキシ樹脂を、更に高真空下で蒸留する
か、あるいはまた、ビスフェノール型エポキシ樹脂を適
当な溶剤により再結晶することにより目的とするエポキ
シ樹脂を得ることができる。
【0016】なかでも、ビスフェノール型エポキシ樹脂
を高真空下で蒸留することにより得る方法が、特にビス
フェノールのジグリシジルエーテル体を95重量%以上
の純度にするため簡便であり好ましい。
【0017】この際に蒸留の条件は特に制限されない
が、0.1〜50mmHgで200〜260℃で行なう
ことが好ましい。
【0018】本発明においてはこの様な蒸留工程を経る
ことによって、さらにビスフェノール型エポキシ樹脂中
の塩素含有量を1000ppm以下という極めて低濃度
にすることができ、それによって半導体封止材料として
硬化性と耐湿信頼性とが極めて優れたものとなる。
【0019】また、本発明に用いられるフェノールノボ
ラック系硬化剤としては、例えばフェノールノボラック
樹脂、オルソクレゾールノボラック樹脂、ビスフェノー
ルAノボラック樹脂、ビスフェノールFノボラック樹
脂、アルキルフェノールノボラック樹脂、ナフトールノ
ボラック樹脂、レゾルシン、カテコール、ハテドロキノ
ン等の2価フェノールノボラック樹脂、2価フェノール
と1価フェノールとの共縮ノボラック樹脂、フェノール
類−ジシクロペンタジエン付加型樹脂、ジヒドロキシナ
フタレンノボラック樹脂、キシリデンを結接基としたポ
リフェノール樹脂類およびポリナフトール樹脂、ヒドロ
キシベンツアルデヒドとフェノールとの縮合物等を挙げ
ることができるが、必ずしもこれらのものに限定される
ものでは無く、フェノール性の水酸基を2個以上有する
化合物は全て使用することができる。中でも上記フェノ
ールノボラック樹脂が耐熱性や耐吸湿性に優れる点から
好ましい。
【0020】本発明に用いられるフェノールノボラック
系硬化剤の使用量は特に制限されるものではないが、ビ
スフェノール型エポキシ樹脂のエポキシ基1当量に対
し、芳香族水酸基が0.7〜1.2当量になる量である
ことが、耐熱性の点から好ましい。なかでも好ましく
は、ビスフェノール型エポキシ樹脂のエポキシ基の数
と、硬化剤中の芳香族性水酸基の数が当量となる量であ
る。
【0021】上記された如き各化合物を硬化剤として用
いる際は、硬化促進剤を適宜使用することができる。硬
化促進剤としては公知慣用のものがいずれも使用できる
が、例えば、第3級アミン類、イミダゾール類、有機酸
金属塩類、アミン錯塩、トリフェニルホスフィン等のリ
ン系化合物等が挙げられ、これらは単独のみならず2種
以上の併用も可能である。
【0022】次に、本発明の組成物において必須の成分
である無機充填剤は、硬化物の機械強度を高めることの
みならず、低吸水率、低線膨張係数を達成し、耐湿性及
びハンダクラック防止効果を高めるための必須の成分で
ある。
【0023】無機充填剤の配合量は、特に限定されるも
のではないが、本発明においては、この配合量を従来に
比べ著しく高めることができ、それによって一層、耐湿
性、耐ハンダクラック性および耐熱性を高めることがで
きる。具体的にはこれらの効果が顕著となる点から組成
物中85〜95重量%の範囲で用いることが好ましい。
【0024】この様な無機充填剤としては特に限定され
るものではないが、例えば粉末シリカ、アルミナ、タル
ク、クレー、ガラス繊維等が挙げられるが、特に耐湿性
および耐ハンダクラック性に優れる点から粉末シリカが
好ましい。
【0025】無機充填剤として最も好ましく使用できる
粉末シリカとしては、特に限定されないが溶融シリカ、
結晶シリカ、球状シリカ、粉砕シリカ等が挙げられる
が、特に流動性に優れる点から溶融シリカが好ましい。
【0026】粉末シリカの粒径としては、特に限定され
ないが、5ミクロン以下等の小粒径が好ましい。また、
流動性を良くするために、種々の粒径分布を持ったもの
を使用してもよい。
【0027】また本発明の組成物は、必須成分である上
述したビスフェノール型エポキシ樹脂に加え、さらに本
発明の組成物の特性を損なわない範囲で、その他のエポ
キシ樹脂を併用しても構わない。
【0028】この際に用いられるエポキシ樹脂として
は、公知慣用のものが何れも使用でき、例えばビスフェ
ノールAジグリシジルエーテル型エポキシ樹脂、フェノ
ールノボラック型エポキシ樹脂、オルソクレゾールノボ
ラック型エポキシ樹脂、ビスフェノールAノボラック型
エポキシ樹脂、ビスフェノールFノボラック型エポキシ
樹脂、臭素化フェノールノボラック型エポキシ樹脂、ナ
フトールノボラック型エポキシ樹脂、ビフェニル型2官
能エポキシ樹脂、ヒドロキシベンツアルデヒドとフェノ
ール類との縮合物のポリグリシジルエーテル等が挙げら
れるが、これらに限定されるものではない。これらの中
でも、特に耐熱性に優れる点からオルソクレゾールノボ
ラック型エポキシ樹脂が、また流動性に優れる点からビ
フェニル型2官能エポキシ樹脂が好ましい。
【0029】また必要に応じて、着色剤、難燃剤、離型
剤、シリコーンオイルあるいはシリコーン樹脂等の低応
力化剤、カップリング剤、また、他の無機フィラー、例
えば、アルミナ、タルク、クレー、ガラス繊維等などの
公知慣用の各種の添加剤成分も適宜配合せしめることが
できる。
【0030】また、本発明のエポキシ樹脂組成物から半
導体封止材料を調製するには、エポキシ樹脂、硬化剤、
硬化促進剤、無機充填剤、その他の添加剤をミキサー等
によって十分に均一に混合した後、更に熱ロールまたは
ニーダ−等で溶融混練し、冷却後粉砕し、さらに成型機
でタブレット状に成型する事により為される。
【0031】この様にして得られる本発明のエポキシ樹
脂組成物は、特に、低吸水で耐ハンダクラック性に著し
く優れ、また、耐熱性にも優れる為に半導体封止材料用
として極めて有用である。
【0032】
【実施例】次に本発明を製造例、実施例およびその比較
例により具体的に説明する。尚、例中において部は特に
断りのない限りすべて重量部である。
【0033】尚、溶融粘度は50HzのもとにおいてRe
seach equipment LTD.製「ICI CONE & P
LATE VISCOMETER」で測定した。
【0034】重合度が0のビスフェノールジグリシジル
エーテルは、東ソー(株)製「ゲルパーミュエーション
クロマトグラフィー(GPC)」(測定条件:流速=
1.0ml/分間,圧力=92Kg/cm2、カラム=G
4,3,2,2HXL、検出器=RI 32×10-6
IUFS)で測定した。全塩素含有量は次の測定法で測
定した。樹脂0.3gをn−BuOH20mlで溶解
後、金属ナトリウム1gを添加し、120℃で3時間加
熱処理をする。それを硝酸銀水溶液を用い適定法して、
その適定量から、全塩素含有量を算出した。また耐湿信
頼性の評価は、硬化物の30〜1009メッシュ通過粉
砕物をプレッシャークッカーテスト(PCT)処理後し
て、その抽出水中の塩素イオン量をイオンクロマト測定
器で測定することにより評価した。PCTの条件は硬化
物5g/蒸留水50g、160℃×20時間を用いた。
ゲルタイムは、配合物を175℃で加熱攪拌し、流動性
が失われた時点とした。
【0035】製造例1 攪拌機、温度計、冷却器付きデカンターを付した4つ口
フラスコにビスフェノールA228gにエピクロルヒド
リン1018g(12モル)を入れ溶解する。それに減
圧下、80℃で48%NaOH水溶液158g(1.9
モル)を3時間かけて攪拌しながら滴下した。その間、
フラスコを加熱してエピクロルヒドリンと水を蒸留し、
デカンターで冷却器で凝縮したエピクロルヒドリンと水
を分離し、エピクロルヒドリンをフラスコ内に戻し続け
た。さらに30分間攪拌を続けてその後、水を448g
を加え静置した。下層の食塩水を棄却し、エピクロルヒ
ドリンを150℃で蒸留回収した後、粗樹脂にMIBK
400gを加え、さらに3%NaOH水溶液水250g
を加え80℃にて1時間攪拌した。そして下層の水層を
棄却した。その後、さらにMIBK層を水300gで水
洗し、水を棄却した後、脱水、濾過を経てMIBKを1
50℃で脱溶剤して目的のエポキシ樹脂(イ)335g
を得た。この樹脂は液状で、150℃での溶融粘度5セ
ンチポイズ、エポキシ当量は175g/eq、重合度が0の
ビスフェノールジグリシジルエーテルの含有量が84
%、全塩素量が1450ppmであった。
【0036】製造例2 エピクロルヒドリンを555g(6モル)に変更した以
外は製造例1と同様にして、エポキシ樹脂334gを得
た。この樹脂は150℃での溶融粘度10センチポイ
ズ、エポキシ当量は194g/eq、重合度が0のビスフェ
ノールジグリシジルエーテルの含有量が80%あった。
この樹脂をフィルムエバポレーターを用いて、真空度
0.2torrで温度200℃の条件下で分子蒸留して
エポキシ樹脂(ロ)240gを得た。この樹脂は150
℃での溶融粘度3センチポイズ、エポキシ当量は170
g/eq、重合度が0のビスフェノールジグリシジルエーテ
ルの含有量は99%、全塩素含有量は700ppmであ
った。
【0037】製造例3 ビスフェノールA228gの代わりにp,p’−ビスフ
ェノールF200gを使用する以外は製造例1と同様に
して、エポキシ樹脂(ハ)306gを得た。この樹脂は
150℃での溶融粘度3センチポイズ、エポキシ当量は
162g/eq、重合度が0のビスフェノールジグリシジル
エーテルの含有量が85%、全塩素含有量は1340p
pmであった。
【0038】製造例4 ビスフェノールA228gの代わりにp,p’−ビスフ
ェノールF200gを使用する事とエピクロルヒドリン
を555g(6モル)に変更した以外は製造例1と同様
にして、エポキシ樹脂304gを得た。この樹脂は15
0℃での溶融粘度5センチポイズ、エポキシ当量は16
8g/eq、重合度が0のビスフェノールジグリシジルエー
テルの含有量が80%あった。この樹脂をフィルムエバ
ポレーターを用いて、真空度0.2torrで温度20
0℃の条件下で分子蒸留してエポキシ樹脂(ニ)210
gを得た。この樹脂は150℃での溶融粘度2センチポ
イズ、エポキシ当量は156g/eq、重合度が0のビスフ
ェノールジグリシジルエーテルの含有量が98%、全塩
素含有量は620ppmであった。
【0039】製造例5 ビスフェノールAの代わりにビスフェノールADを使用
する以外は製造例1と同様にして、エポキシ樹脂(ホ)
336gを得た。この樹脂は150℃での溶融粘度3セ
ンチポイズ、エポキシ当量は177g/eq、重合度が0の
ビスフェノールジグリシジルエーテルの含有量は82
%、全塩素含有量は1220ppmであった。
【0040】製造例6 ビスフェノールAの代わりにビスフェノールADを使用
する事とエピクロルヒドリンを555g(6モル)に変
更した以外は製造例1と同様にして、エポキシ樹脂33
4gを得た。この樹脂は150℃での溶融粘度10セン
チポイズ、エポキシ当量は193g/eq、重合度が0のビ
スフェノールジグリシジルエーテルの含有量が80%あ
った。この樹脂をフィルムエバポレーターを用いて、真
空度0.2torrで温度200℃の条件下で分子蒸留
してエポキシ樹脂(ヘ)230gを得た。この樹脂は1
50℃での溶融粘度3センチポイズ、エポキシ当量は1
70g/eq、重合度が0のビスフェノールジグリシジルエ
ーテルの含有量が99%、全塩素含有量は650ppm
であった。
【0041】製造例7 エピクロルヒドリンを925g(10モル)に変更した
以外は製造例1と同様にして、エポキシ樹脂(ト)33
4gを得た。この樹脂は150℃での溶融粘度7センチ
ポイズ、エポキシ当量は181g/eq、重合度が0のビス
フェノールジグリシジルエーテルの含有量が82%、全
塩素含有量は1320ppmであった。
【0042】製造比較例1 エピクロルヒドリンを555g(5モル)に変更した以
外は製造例1と同様にして、エポキシ樹脂(チ)334
gを得た。この樹脂は150℃での溶融粘度10センチ
ポイズ、エポキシ当量は198g/eq、重合度が0のビス
フェノールジグリシジルエーテルの含有量が74%、全
塩素含有量は1320ppmであった。
【0043】製造比較例2 ビスフェノールA228gの代わりにp,p’−ビスフ
ェノールF200gを使用する事とエピクロルヒドリン
を555g(5モル)に変更した以外は製造例1と同様
にして、エポキシ樹脂(リ)304gを得た。この樹脂
は150℃での溶融粘度5センチポイズ、エポキシ当量
は174g/eq、重合度が0のビスフェノールジグリシジ
ルエーテルの含有量が72%、全塩素含有量は1460
ppmであった。
【0044】製造比較例3 ビスフェノールAの代わりにビスフェノールADを使用
する事とエピクロルヒドリンを555g(5モル)に変
更した以外は製造例1と同様にして、エポキシ樹脂
(ヌ)334gを得た。この樹脂は150℃での溶融粘
度10センチポイズ、エポキシ当量は199g/eq、重合
度が0のビスフェノールジグリシジルエーテルの含有量
が73%、全塩素含有量は1290ppmであった。
【0045】製造比較例4 エピクロルヒドリンを740g(5.5モル)に変更し
た以外は製造例1と同様にして、エポキシ樹脂(ル)3
34gを得た。この樹脂は150℃での溶融粘度7セン
チポイズ、エポキシ当量は192g/eq、重合度が0のビ
スフェノールジグリシジルエーテルの含有量が78%、
全塩素含有量は1450ppmであった。
【0046】実施例1〜7及び比較例1〜5 第1表および第2表で表される配合に従って調製した混
合物を熱ロールにて100℃で8分間混練りし、その後
粉砕したものをプレス成形機にて30Kg/cm2、金型温度
175℃、成形時間100秒の条件下にて封止し、厚さ
2mmの評価用試験片を作成した。その後175℃で8時
間の後硬化を施した。尚、溶融シリカの配合量は、得ら
れた配合物の流動性が同一になるように調整された。ま
た、フェノールノボラック硬化剤として、フェノライト
TD−2131(大日本インキ化学工業(株)製:水酸基
当量 104g/eq.、核体数 5)を使用した。
【0047】この評価用試験片を用い、85℃・85%
RH条件下での吸水率、DMAによるガラス転移温度お
よび動的粘弾性率を測定した。また、試験片を85℃・
85%RHの雰囲気下中72時間放置し、吸湿処理を行
った後、これを260℃のハンダ浴に10秒浸せきし、
その際のクラック発生率を調べて耐ハンダクラック性を
評価した。試験片数は20個。この結果を同じく第1表
および第2表に示す。
【0048】
【表1】
【0049】
【表2】
【0050】
【発明の効果】本発明によれば、低吸水率で耐ハンダク
ラックの防止効果に優れ、かつ硬化性、耐熱性、耐湿信
頼性の優れる半導体封止材用エポキシ樹脂組成物を提供
できる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 H01L 23/29 23/31

Claims (7)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 重合度0のビスフェノールジグリシジル
    エーテルを80重量%以上含有するビスフェノール型エ
    ポキシ樹脂と、フェノールノボラック系硬化剤と、無機
    系充填剤とを必須成分とすることを特徴とする半導体封
    止材料用エポキシ樹脂組成物。
  2. 【請求項2】 ビスフェノール型エポキシ樹脂が、重合
    度0のビスフェノールジグリシジルエーテルを95重量
    %以上含有するものである請求項1記載の組成物。
  3. 【請求項3】 ビスフェノール型エポキシ樹脂の塩素含
    有量が1000ppm以下である請求項2記載の組成
    物。
  4. 【請求項4】 ビスフェノール型エポキシ樹脂がビスフ
    ェノールA型エポキシ樹脂である請求項1〜3記載の半
    導体封止材用エポキシ樹脂組成物。
  5. 【請求項5】 ビスフェノール型エポキシ樹脂のエポキ
    シ基1当量に対し、フェノールノボラック系硬化剤の芳
    香族性水酸基が0.7〜1.2当量となる割合で用いる
    請求項1〜4の何れか1つに記載の組成物。
  6. 【請求項6】 無機充填剤の使用量が、組成物中85〜
    95重量%である請求項1〜5の何れか1つに記載の組
    成物。
  7. 【請求項7】 無機充填剤が、粉末状シリカである請求
    項6記載の組成物。
JP6237129A 1994-09-30 1994-09-30 半導体封止材料用エポキシ樹脂組成物 Pending JPH08100049A (ja)

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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