JPH0779092B2 - ボ−トロ−ダ−装置 - Google Patents

ボ−トロ−ダ−装置

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JPH0779092B2
JPH0779092B2 JP62187203A JP18720387A JPH0779092B2 JP H0779092 B2 JPH0779092 B2 JP H0779092B2 JP 62187203 A JP62187203 A JP 62187203A JP 18720387 A JP18720387 A JP 18720387A JP H0779092 B2 JPH0779092 B2 JP H0779092B2
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JP
Japan
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boat
wafer
diffusion furnace
moving path
phosphorus
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JP62187203A
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Inventor
正一 中川
英一 辻井
Original Assignee
松下電子工業株式会社
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Publication date
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Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 半導体製造装置とくに熱処理炉に付随するボート挿入引
出に関わるボートローダー装置に関するものである。
従来の技術 近年、ウエハーの大口径化と製造の効率化のため、拡散
炉では大量の大口径ウエハーがバッチ方式で処理されて
いる。ボートに例えば6インチウェハーを50〜100枚と
大量に充填すると、ボートおよびボートを支えるボート
ローダーも強度を増す必要があり、よって大型化し全体
として熱容量も増々大きくなってきている。拡散炉内で
熱処理を終えて引出されてきたウェハーの充填されたボ
ートは温度が上昇したまま、拡散炉外に引出されてくる
ことになる。
第2図,第3図は従来の拡散炉ボートローダー装置説明
図である。第3図は第2図の一点鎖線にA−A′での断
面構成図である。
従来から、拡散炉にボート6を出入れする石英チューブ
2端は開放状態であるため、石英チューブ2内熱気およ
びボート6引出時の熱気を排除するため、スカベンジャ
ー3が石英チューブ2端に部分的に施設されている。
しかし、近年ウェハーの大口径化とボートの大型化によ
って熱容量が増々大きくなってきているので、拡散炉内
で熱処理を終えて引出されてきたボート6が第2図の最
終引出位置に到達してもまだ高温の状態にあり、周囲温
度近傍まで低下するには長時間放置しなければならなく
なってきている。
発明が解決しようとする問題点 拡散炉の熱処理のなかでも、とくにPH3ガス,PoCl3液体
ソースなどをリン不純物源として、リン不純物を蒸着,
拡散する熱処理においては、ボート6が熱処理を終えて
拡散炉外へ引出されてきたときには、ボート,ウェハー
ともまだ高温状態にあるため、同ボート,ウェハー表面
からはリンミストが大量に発散している。第3図の温
度,リンミスト濃度測定点17では、温度は100℃以上、
リンミストを浮遊微粒子として計測器で測定すると0.17
ミクロン以上の粒径総粒子数が数十万ケ/ft3以上に達
する。引き出されてきたときのボート,ウェハー温度が
高ければ高いほどリンミスト発生率は高くなる。このよ
うに、従来の拡散炉においては、ボート6がスカベンジ
ャー4領域を通過し、最終位置に引出されてもなお、リ
ンミストを大量に発生しているため、従来のスカベンジ
ャー4だけではこのリンミストを排除することは不可能
で、第3図のように、フィルター15から送風パンチング
板16を通って水平に吹き出している清浄空気の気流に乗
ってリンミストはボートローダー装置附近全体に飛散す
ることになり、附近一帯がリンミストで汚染されること
になる。リンミストは吸湿性があるため、附近の装置表
面がべたつき、清浄雰囲気を著しく害うという欠点があ
った。また、リンはN型不純物であるから、他の半導体
装置の製品にリン不純物が附着することになり、半導体
装置の製品性能を著しく害うという問題があった。
問題点を解決するための手段 本発明では上記問題点を解決するため、ウエハーが熱処
理される拡散炉と、前記拡散炉に前記ウエハーを出入れ
するために設けられ前記ウエハーが載置されるボート移
動路と、前記拡散炉と前記ボート移動路とを仕切るスカ
ベンジャーと、前記スカベンジャーに配設された排気口
と、前記ボート移動路の前記ウエハーの進行方向の側面
側に設けられた清浄空気送出装置と、前記ボート移動路
の上方部に配設された排気装置と、を備えたボートロー
ダー装置である。
作用 上記構成にすることによって、熱処理を終えて引き出さ
れてきたボート,ウェハーから発散しているリンミスト
をボートローダー装置外へ飛散拡大するのを防止するこ
とができる。
実施例 本発明の一実施例を第1図で説明する。
送風機14により外部から取込んだ空気は、フィルター15
によって清浄空気となりステンレス製送風パンチング板
16から水平方向にボート移動路全域に吹き出している。
ボートローダー外部からダストが侵入しウェハーが附着
汚染さされるのを防止している。ウェハーが熱処理を終
えてボートローダー装置内へ引出されてきたとき、熱気
およびリンミストはウェハーの上方向へ、上昇気流とな
っている。この気流は、ボート移動路の天井部に施設さ
れた排気装置20により、ボート移動路の天井部全領域に
設けられた排気パンチング板を通ってクリーンルーム外
へ排気除外される。なおウェハーが熱処理を終えてボー
トローダー装置内へ引き出されてくるときには、清浄空
気のウェハー部への送出は停止し、排気装置20はダンパ
ー21の開放によって動作させる構成になっている。ウェ
ハーが熱処理を終えてボートローダー装置内へ引き出さ
れてくるとき以外のときには、清浄空気は送出し続け、
排気装置20はダンパー21で閉状態にしておく。
以上説明した構成にすることによって、高温状態で拡散
路から引出されてきたボート,ウェハーから発散する熱
気,リンミストは天井部全域に設けられた排気装置によ
って排除されるので、ボートローダー装置前面から熱
気,リンミストが飛散しクリーンルーム内を汚染し、そ
の他の半導体装置の製品の性能を著しく害うことを防止
することができる。
以上の実施例はリン蒸着拡散炉の場合について説明した
が、他の用途の拡散炉、あるいは熱処理炉についても適
用できることは勿論である。
発明の効果 以上説明したように本発明は、ボートローダー移動路全
域の天井部に排気装置を設け、高温状態で拡散炉からボ
ートが引出されてくるときにのみ排気装置を吸引作動さ
せ、清浄空気の送出を停止させることによって、熱気お
よびリンミストがボートローダー装置前面からクリーン
ルーム内へ飛散するのを防止することができ、ボートロ
ーダー装置周辺の雰囲気を清浄な状態に維持管理するこ
とができ、附近に置いてある他の半導体装置の性能劣化
を防止することができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明による一実施例の概要正断面図、第2図
は従来のボートローダー装置の概要側断面図、第3図は
第2図のA−A′の拡大正断面図である。 1……ヒーター、2……石英チューブ、3……スカベン
ジャー、4……排気口、5……スカベンジャードア、6
……ボート、7……ボートローダーレバー、8……ウェ
ハー、9……ボートローダーモーター、13……ボートロ
ーダー軌道、14……送風機、15……フィルター、16……
送風susパンチング板、17……温度,リンミスト濃度測
定点、20……排気装置、21……ダンパー、22……排気パ
ンチング板。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】ウエハーが熱処理される拡散炉と、前記拡
    散炉に前記ウエハーを出入れするために設けられ前記ウ
    エハーが載置されるボート移動路と、前記拡散炉と前記
    ボート移動路とを仕切るスカベンジャーと、前記スカベ
    ンジャーに配設された排気口と、前記ボート移動路の前
    記ウエハーの進行方向の側面側に設けられた清浄空気送
    出装置と、前記ボート移動路の上方部に配設された排気
    装置とを備えたボートローダー装置。
JP62187203A 1987-07-27 1987-07-27 ボ−トロ−ダ−装置 Expired - Lifetime JPH0779092B2 (ja)

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