JP2001203134A - 除電機能付き熱処理装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 生産部材の除電操作も熱処理と同時に行うこ
とのできる除電装置を備えた熱処理装置を提供する。 【解決手段】 機械室３を熱処理室１の下方に配置し、
機械室３と熱処理室１の仕切り壁４に窓を設けて軟Ｘ線
を透過する材料で形成した遮蔽部材３８により遮蔽し、
機械室３内に設けた軟Ｘ線照射装置３０により窓を通し
て熱処理室１内の加熱空気流または冷却空気流に対し軟
Ｘ線を上向きに照射するように構成している。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、多数の平板状物品
を間隔をあけてほぼ平行に支持し，当該平板状物品の間
隙に加熱空気又は冷却空気を送風して熱処理をする熱処
理装置に関するもので、詳しくは、同熱処理装置おいて
当該平板状物品の静電気を除去する装置（以下、除電装
置という）を備えた熱処理装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】このような熱処理装置で処理されるワー
クは、通常、ロボットハンド等によって装置内へ搬入さ
れる時又はその前工程もしくは搬送工程中に、帯電した
静電気を保持した状態になっている。そして、特に近年
量産されるようになったＴＦＴ（薄膜トランジスタ）を
有する基板では，これに帯電した電荷の放電時における
ＴＦＴの破壊が問題になっている。

【０００３】従来の除電装置としては、例えば特開平９
−２１３５９７号公報に記載されているように、コロナ
放電によるイオン化気体を帯電体に吹きつけて除電する
方法が知られている。しかし、この方法では帯電体が電
極から離れていると、折角生成したイオンが帯電体まで
到達せず有効な方法とは言えないので、本発明における
ようにに多段に格納された平板状物体を同時に除電する
ことが困難である。

【０００４】そのほか、特開平８ー４５６９５号公報に
記載されているように、軟Ｘ線を使用した除電装置が提
案されている。この装置にあっては、軟Ｘ線照射部を覆
うような気体流れを形成する手段を有し、軟Ｘ線照射部
に塵埃等が付着するのを照射部を流れるガスによって吹
き飛ばして回避したのち、帯電体と軟Ｘ線照射部との間
の空間部で生成されたガスイオンが帯電体に移送される
とともに、軟Ｘ線照射部から照射された軟Ｘ線が帯電体
に到達した位置で、正・負のイオン化気体が生成されて
帯電体が除電される。同装置の場合、軟Ｘ線の直射照射
が必要で、帯電体を個別に除電することはできるが、本
発明のように多段に格納された平板状物体の除電するの
は手間がかかるために、不向きである。また、通常の除
電装置の構成では、熱処理装置に適用しようとすると、
処理熱によって除電装置（軟Ｘ線照射装置）そのものが
破壊されるおそれがある。さらに、除電装置の耐熱性に
限界があるために、熱処理装置の内部に組み込んで除電
することが困難である。すなわち、例えば軟Ｘ線照射用
ヘッドは常温下では８０００時間の寿命があるが，２８
０℃を越える環境では瞬時に使用不能となってしまうと
いう不都合がある。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、上述したよ
うなＴＦＴを有する基板の生産の高能率や量産化の要請
に応えて、それらの部材の生産工程において使用される
熱処理装置が多段で同時または順次に熱処理が行われる
ようになって来たのに対応し、生産部材の除電操作も熱
処理と同時に行うことのできる除電装置を備えた熱処理
装置を提供しようとするものである。

【０００６】

【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
めに本発明に係る除電装置付き熱処理装置は、請求項１
に記載のように、多数の平板状物品を間隔をあけてほぼ
平行に支持し、該平板状物品の間隙に加熱空気または冷
却空気を送風して熱処理を行う熱処理装置であって、前
記加熱空気または冷却空気を該平板状物品へ送風する通
路の外方に軟Ｘ線照射装置を設けるとともに、該通路を
構成する壁の一部に窓を設けて該窓に軟Ｘ線を透過する
材料で形成した遮蔽部材を嵌め込み、前記窓を通して前
記加熱空気流または冷却空気流の前記平板状物品より上
流側に対し前記軟Ｘ線照射装置により軟Ｘ線を照射可能
に構成し、前記熱処理装置全体を、軟Ｘ線を透過しない
壁材により実質的に囲繞したことを特徴としている。

【０００７】上記の構成を有する請求項１に係る除電装
置付き熱処理装置によれば、間隔をあけてほぼ平行に支
持された多段の平行状物品に加熱空気または冷却空気が
吹き付けられ、各平板状物品は熱処理される。この状態
で、各平板状物品に対する加熱空気又は冷却空気の流れ
の上流側に軟Ｘ線が軟Ｘ線照射装置より照射され、この
軟Ｘ線の照射作用によって各平板状物品の上流側部分に
＋（プラス）／−（マイナス）が同量のイオンが熱処理
用空気流中に高濃度で生成され、生成された＋／−イオ
ンを伴って各平板状物品に熱処理用空気が接触しながら
流れ去る。これにより、平板状物品が帯電されている場
合には熱処理と同時に除電される。また、熱処理用空気
は各平板状物品の間隙を流通し、各平板状物品に満遍な
く接触するので、例えばゴンドラなどの枠体に多段で挿
入して収納されている場合でも、確実に除電することが
できる。一方、軟Ｘ線照射装置は通路の外方に軟Ｘ線照
射装置を設け、通路を構成する壁の一部に設けた窓を介
して軟Ｘ線照射装置を熱処理用空気の流通路と遮断して
いるので、軟Ｘ線照射装置が著しく加熱されたり、寿命
が短くなったりしない。

【０００８】請求項２に記載のように、前記機械室を前
記熱処理室の下方に配置し、前記熱処理装置を熱処理室
と機械室とに仕切るとともに、機械室と熱処理室の仕切
り壁に前記窓を設けて軟Ｘ線を透過する材料で形成した
遮蔽部材を嵌め込み、前記機械室内に設けた前記軟Ｘ線
照射装置により前記窓を通して前記熱処理室内の加熱空
気流または冷却空気流に対し軟Ｘ線を上向きに照射する
ように構成するのが好ましい。

【０００９】請求項２に記載の除電装置付き熱処理装置
によれば、軟Ｘ線照射装置が熱処理室の下方に位置する
ので、熱処理室が高温環境に保たれてもその処理熱の影
響を受けにくいうえに、仮に窓の軟Ｘ線透過性の遮蔽部
材が破損するようなことがあっても、軟Ｘ線照射装置へ
の影響は最小限に抑えられる。

【００１０】

【発明の実施の形態】以下に、本発明をゴンドラ昇降式
熱処理装置に適用した実施の形態を図面に基づいて説明
する。

【００１１】図１および図２は本発明の一実施例に係る
ゴンドラ昇降式熱処理装置の概略全体構成を示す。

【００１２】本例の熱処理装置Ａは，多数の平板状物
品，例えば多数のＬＣＤ（液晶画像形成装置）ガラス基
板から成るワークＷを、上下方向に間隔をあけて平行に
多段に支持し、これらのワークＷに矢印方向に加熱空気
または冷却空気を送風してワークＷを熱処理する装置で
ある。そして、図３および図４に詳細構造を示すように
熱処理装置Ａ内に配置させた軟Ｘ線照射装置をイオナイ
ザ３０として備えている。

【００１３】熱処理装置Ａは通常の主要構成部分とし
て、図１・図２のように、熱処理室１の上部に空調室２
を設け、熱処理室１の下方に機械室３を備えている。熱
処理室１および空調室２は共通の断熱壁４により囲繞さ
せるとともに、機械室３も別の共通する断熱壁４により
囲繞させている。また、機械室３はケーシングを構成す
るチャンネル材等から成る構造体５により枠体状に形成
されている。熱処理室１の正面には開口部を設けて保守
用扉６により開閉可能に構成し、熱処理室１の背面に
は、シャッター７で開閉される開口部として断熱壁４の
一部分にワークＷの出し入れ用のスリット状の開口１５
が開けられている。

【００１４】熱処理室１内には、ワークＷを多段で上下
に間隔をあけて挿入可能な枠体状のゴンドラ１１が昇降
可能に配設され、ゴンドラ１１から所定の空間１０をあ
けて上流側（図１の右側）に除塵フィルター９が配設さ
れている。除塵フィルター９としてＨＥＰＡフィルター
と通称される高性能フィルターも使用することができ
る。除塵フィルター９の入口側に送気ダクト８が上部の
空調室２に連通させて設けられ、またゴンドラ１１の出
口側に排気ダクト１２が上部の空調室２に連通させて設
けられている。空調室２内の中央部に加熱器１３が配設
され、その下流側（図１の右側）に一対の送風機１４が
配設されており、各送風機１４の電動部１４ｍは図２の
ように正面側と背面側とにそれぞれ突出している。一
方、機械室３内にはゴンドラ昇降機構２０等が配備され
ている。

【００１５】なお、熱処理室１の背面側には、図示して
いないが，ワークＷが発生するフォトレジスト等の昇華
物ガスを連続排出したり、内部温度を降下させるときに
使用する給排気ファンやダクト等が適宜設けられる。ま
た、イオナイザ３０およびそのコントローラ３１は機械
室３内に配置されている。

【００１６】ゴンドラ１１は，図示していないワーク受
けを３０段程度有していて，それぞれの段でワークＷを
支持する。本例のゴンドラ昇降機構２０は、下部支持型
になっており、詳細な図示は省略しているが、ゴンドラ
１１を下面側から支持して昇降させる昇降軸２１をゴン
ドラ１１の下面から下向きに延設している。昇降軸２１
の下端部にこれを昇降させるナット２２が連結部材を介
して連結されている。ナット２２の中心ネジ部に螺合す
るボールネジ２４が、上下の軸受２５を介して回動自在
に支持されている。ボールネジ２４は、図示しないモー
タにプーリ２３を介して接続されており、モータが回転
されることによってボールネジ２４が回転してナット２
２を昇降させる。また昇降軸２１はその下端側が連結部
材を介して一対のスライダー２６に接続されており、一
対のリニアガイドレール２７に沿って昇降軸２１の昇降
がスライダー２６とともに案内される。

【００１７】上記のように構成される熱処理装置Ａにお
いて、ワークＷの出し入れは次のようの態様で行われ
る。すなわち、シャッター７を開放した状態で、スリッ
ト状の開口１５の位置でワークＷの出し入れが行われる
から、ゴンドラ１１を段階的に上下方向に昇降させるこ
とにより、ゴンドラ１１内に収納されているワークＷを
順次出し入れできる。

【００１８】次に、イオナイザ３０の取付部分の構造例
について詳しく説明する。

【００１９】図３・図４に示すように、イオナイザ３０
の取付部分は、機械室３を構成する構造体５に固定され
た環状の支持体３２、この支持体３２に上端が取り付け
られるケース３３、中間取付板３４および取付ブラケッ
ト３５を介して所定位置に取り付けられたイオナイザ３
０、図３に示す矢印方向に空気を吹き出してケース３３
の内部雰囲気を清掃したり冷却するためのファン３６、
その排気ダクト３７などを備えている。

【００２０】ファン３６はケース３３の一側面に装着さ
れ、ファン３６と対向する面に排気ダクト３７の一端が
接続されている。熱処理室１との間の構造体５の一部
に、仕切枠部材３８によってイオナイザ３０の軟Ｘ線の
出力窓３０ａから照射される軟Ｘ線が通過する開口
（窓）が形成されている。この開口は熱処理室１と機械
室３との間に位置し、軟Ｘ線透過性の遮蔽材（以下、透
過窓材という）３９を嵌め込むが、本例では透過窓材３
９は間隔をあけて二重に設けられている。なお、図４中
の符号９ａは除塵フィルター９（図１）の多孔板ケーシ
ングである。

【００２１】イオナイザ３０は軟Ｘ線照射方式の除電装
置であって、Ｘ線と言っても微弱Ｘ線であるので、防御
しやすく、普通のＸ線放射装置に比べて安全性が高い。
この軟Ｘ線照射によると、被照射全域においてプラス／
マイナスの双方のイオンが同時に等量、しかも高濃度で
生成されるために、逆帯電効果も無く，帯電物体には逆
符号のイオンが吸着され、帯電電荷を中和するので、極
めて効果的な除電効果を発揮する。

【００２２】イオナイザ３０は、熱処理室１とは一部構
造体５等により隔離された機械室３の中に設置され、透
過窓材３９を通して熱処理室１内へ向けて上向きに軟Ｘ
線が照射される。この軟Ｘ線の照射位置は、熱処理室１
内においてゴンドラ１１へ向けて送気される加熱空気流
または冷却空気流を照射するように設定されている。上
記したとおり、透過窓材３９は二重構造となっていて加
熱空気または冷却空気を遮断するだけでなく、断熱効果
も有する。また透過窓材３９は，軟Ｘ線を透過するもの
であればよく、ポリイミド材（商品名カプトンフィル
ム）やベリリューム金属薄板等を使用できる。イオナイ
ザ３０からの軟Ｘ線は透過窓材３９を通過して熱処理室
１内の空間１０に照射され、そこを通過する加熱空気中
または冷却空気中にイオンを生成させる。

【００２３】したがって、その加熱空気または冷却空気
によってワークＷが熱処理されると同時に、加熱空気中
または冷却空気中のイオンの作用によって、ゴンドラ１
１内にワークＷが多段に積み上げられていても効果的に
除電が行われる。軟Ｘ線の照射角度α・βは本実施例で
は仕切枠部材３８によって幅Ｂ方向にα＝３０°、奥行
Ｄ方向にβ＝６０°に設定されている。

【００２４】ところで、イオナイザ３０のヘッドは使用
時間によって老朽化するために、いずれはヘッドの交換
が必要となるが、本例ではイオナイザ３０を機械室３の
内に配置しているために、熱による寿命の低下が起こら
ない。言うまでもないが、イオナイザ３０が熱風通路内
にあると、その交換間隔は極端に短かくなてしまう。

【００２５】上記のようにして構成される熱処理装置Ａ
に適用した本例の除電装置は、以下のような優れた除電
効果が発揮される。すなわち、一般的に、軟Ｘ線による
除電効果は直接帯電体に軟Ｘ線を照射することによって
得られるが、そのような構成にすると、本例における熱
処理装置Ａのようにゴンドラ１１の中にワークＷを多段
で挿入したものを熱処理するときには、熱処理室１内の
ワークＷを除電することができない。このため、例えば
先行技術（特開平９ー２１３５９７号公報）に記載され
ているように、搬送中にワークを一枚ずつ除電しなけれ
ばならず、極めて効率が悪いことになる。これに比べ
て、上記実施例ではゴンドラ１１内に挿入されたワーク
Ｗの全てを、熱処理と同時に一度に除電できるので、極
めて効率的であり、その除電効果も均一でかつ確実であ
る。

【００２６】さて、上記したように、本発明の場合には
帯電体（ワークＷ）対して直接に軟Ｘ線を照射せず、貫
流する空気に照射し、その空気を介することによって除
電するという全く新規な解決手段を用いたので、本発明
の実効性を立証するために発明者らは次の実験を行っ
た。

【００２７】図６は軟Ｘ線照射装置の除電効果を確認す
るために行った実験装置の概略配置を示すもので、本図
においても、図１〜図４に示した部材と同様の機能をも
つ部材には同じ符号を付している。この実験で使用した
平板状ワークＷは比較的寸法の大きい（５５０ｍｍ×６
５０ｍｍ）の素ガラス基板である。ゴンドラ１１内の上
段、中断および下段のそれぞれのワークＷ_1-1、Ｗ_2-2お
よびＷ_3-3を摩擦帯電させ、他のワーク（符号なし）を
帯電していないダミー基板とした。それぞれのワークで
は〜で示した９箇所の位置および図６(ａ)において
四角印で示した４箇所の位置の電位を測定した。使用し
たイオナイザ３０は１０ＶＡのものである。

【００２８】上記した実験結果として、それぞれのワー
クＷ_1-1、Ｗ_2-2およびＷ_3-3における〜の位置にお
ける電位の測定値を、表１〜表３に示す。なお，これら
の表１〜３では四角印の位置における測定値を省略して
いるが、位置によっては多少のばらつきはあったが、四
角印の４箇所の位置においても同程度の測定値が得られ
ている。

【００２９】

【表１】（上段の除電効果を示す表）

【００３０】

【表２】（中段の除電効果を示す表）

【００３１】

【表３】（下段の除電効果を示す表）

【００３２】上記の表１〜表３から分かるように、実際
の熱処理装置Ａにおける帯電電位と同程度又はそれ以上
の約−２ｋＶ〜−６ｋＶの初期電位のときに、上段、中
段、下段のワークＷ_1-1・Ｗ_2-2・Ｗ_3-3の電位をほぼ１
００〜２００Ｖ程度の除電電位にするための軟Ｘ線の照
射時間は、それぞれ３０秒、１２０秒、４０秒という結
果が得られた。なお、A，B，C点では、空気の流速がそ
れぞれ０.４８ｍ／ｓ、０.３２ｍ／ｓ、０.４７ｍ／ｓ
であった。

【００３３】実際の熱処理装置Ａでは，１枚のワークＷ
は約３０分間で熱処理され、イオナイザ３０はこの間に
約１５分間作動させるので、上記実験結果によれば、実
際の装置においては，ワークＷへの帯電電荷をほぼ確実
に除電できることが判明した。また、図５は軟Ｘ線照射
装置（イオナイザ３０）の照射口からの帯電体の距離と
除電に要する照射時間との関係を示すものである。

【００３４】なお、本発明の実施例として熱処理室１の
片側に開口１５を１箇所のみ設け、ゴンドラ１１を上下
方向に昇降させることによりワークＷを順次出入させて
熱処理を行う構造の装置を開示しているが、熱処理装置
としては、多数の平板状ワークを間隔をあけてほぼ平行
（水平方向に限らない）に支持し、平板状ワークの隙間
に加熱空気または冷却空気を送風して熱処理を行う構造
の熱処理装置であれば、どのような装置に対してもこの
除電装置を適用できることは言う迄もない。

【００３５】具体的には、上記の実施例では、熱処理装
置がゴンドラ１１の下部支持昇降式である場合の例を示
したが、例えば側部に支持昇降機構を備えたゴンドラ昇
降式のもの（この場合は、機械室３は熱処理室１の側部
に設けられる）、上昇側及び下降側の２列の多段ワーク
積載部のそれぞれのワークを昇降軸によって１段づつ支
持替えして昇降させると共に列間の積載および搬入／搬
出機構を備えた枚葉支持替え昇降式のもの、複数のカセ
ットを循環させると共にカセット内に多段にワークを積
載して開口部から出し入れすつカセット搬送式のものな
どの種々の形式の熱処理装置に適用可能である。

【００３６】また、上記のような平板状物品自体が熱処
理させるワークである場合に限らず、例えばバーンイン
装置のように、平板状物品である多段支持されたバーン
インボードにＩＣ等のワークを装着し、熱処理によって
製品の加速寿命検査をするような装置に対しても本発明
を適用することができる。

【００３７】ただし、軟Ｘ線といっても、もともと有害
なＸ線の１種であるからその構造、材質は軟Ｘ線を漏洩
しないものとする必要があり、例えば装置全体を囲繞す
る壁材は鋼板なら厚さ０．５ｍｍ以上、ガラスなら厚さ
１ｍｍ以上の厚さにする必要がある。さらに、Ｘ線の屈
折、乱反射等の影響で予想外の所からＸ線が洩れること
もあるので、本装置全体を軟Ｘ線を漏洩しないような密
閉構造とする必要がある。また、扉やシャッタなどの開
閉機構とイオナイザ３０の作動とはインタロックを設け
るなどして、開口部を開放しているときにはイオナイザ
３０の作動をさせない等の留意が必要である。

【００３８】

【発明の効果】以上の如く本発明によれば、下記のよう
な優れた効果がある。

【００３９】(1) 請求項１に記載の発明では、多数の平
板状物品を平行に支持してこれに加熱または冷却空気を
供給して熱処理する熱処理装置において、平板状物品に
対する空気流れの上流側部分に軟Ｘ線を照射するように
したので、各平板状物品に熱処理用空気が吹き付けら
れ、平板状物品が帯電されている場合には熱処理と同時
に除電される。また、熱処理用空気は各平板状物品の隙
間を流通し、各平板状物品に満遍なく接触するので、例
えばゴンドラなどの枠体に多段で挿入して収納されてい
る場合でも、確実に除電することができる。

【００４０】一方、軟Ｘ線照射装置は通路の外方に軟Ｘ
線照射装置を設け、通路を構成する壁の一部に設けた窓
を介して軟Ｘ線照射装置を熱処理用空気の流通路と遮断
しているので、軟Ｘ線照射装置が著しく加熱されたり、
寿命が短くなったりしない。

【００４１】つまり上記した通り軟Ｘ線を照射して平板
状物品に対する高温空気流れの上流側にイオンを形成す
ればよいので、軟Ｘ線照射装置自体を高温空気流れの中
に設ける必要はないから、軟Ｘ線を透過可能な適当な空
気遮断部材を用いることにより、照射装置自体を常温又
はこれに近い良好な環境部分に配置することができ、そ
の結果、高温雰囲気で熱処理されるべき被処理物（平板
状物品）であっても、これに帯電した静電気を熱処理装
置内で除電することができ、軟Ｘ線照射装置の熱損も防
ぐことができる。

【００４２】(2) 請求項２に記載の発明では、軟Ｘ線照
射装置が熱処理室の下方に位置するので、熱処理室が高
温環境に保たれている場合にもその処理熱の影響を受け
にくいうえに、仮に窓の軟Ｘ線透過性の遮蔽部材（透過
窓材）が破損するようなことがあっても、高温空気が機
械室に流れ込まないので、軟Ｘ線照射装置への影響は最
小限に抑えられる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の一実施例に係るゴンドラ昇降式熱処理
装置の概略全体構成を示すもので、図１(ａ)は平面視断
面図、図１(ｂ)は正面視断面図である。

【図２】図１のゴンドラ昇降式熱処理装置の側面視断面
図である。

【図３】図１の熱処理装置Ａ内に配置させた軟Ｘ線照射
装置（イオナイザ３０）の取付構造を拡大して詳細に示
す側面視断面図である。

【図４】図３の取付構造と軟Ｘ線の照射状態を拡大して
詳細に示す正面視断面図である。

【図５】軟Ｘ線照射装置の照射口からの帯電体の距離と
除電に要する照射時間との関係を示す説明図である。

【図６】軟Ｘ線照射装置の除電効果を確認するために行
った実験装置の概略配置を示すもので、図６(ａ)は平面
図、図６(ｂ)は側面図、図６(ｃ)は正面図である。

【符号の説明】

１ 熱処理室 ２ 空調室 ３ 機械室 ４ 断熱壁 ５ 構造体 ６ 保守用扉 ７ シャッター ８ 送気ダクト ９ 除塵フィルター １１ ゴンドラ １２ 排気ダクト １３ 加熱器 １４ 送風機 １５ スリット状開口 ２０ ゴンドラ昇降機構 ３０ イオナイザ（軟Ｘ線照射装置） Ａ 熱処理装置 Ｗ ワーク（平板状物品）

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (71)出願人 000236436 浜松ホトニクス株式会社 静岡県浜松市市野町1126番地の１ (72)発明者 梶山 利治 大阪府大阪市北区天神橋３丁目５番６号 タバイエスペック株式会社内 (72)発明者 山本 稔 兵庫県神戸市西区高塚台４丁目３番１号 ホシデン・フィリップス・ディスプレイ株 式会社内 (72)発明者 鋒 治幸 大阪府大阪市中央区南船場２丁目10番14号 原田産業株式会社内 (72)発明者 石川 昌義 静岡県浜松市市野町1126番地の１ 浜松ホ トニクス株式会社内 Ｆターム(参考） 5G067 AA21 AA42 DA40

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 多数の平板状物品を間隔をあけてほぼ平
   行に支持し、該平板状物品の間隙に加熱空気または冷却
   空気を送風して熱処理を行う熱処理装置であって、 前記加熱空気または冷却空気を該平板状物品へ送風する
   通路の外方に軟Ｘ線照射装置を設けるとともに、該通路
   を構成する壁の一部に窓を設けて該窓に軟Ｘ線を透過す
   る材料で形成した遮蔽部材を嵌め込み、前記窓を通して
   前記加熱空気流または冷却空気流の前記平板状物品より
   上流側に対し前記軟Ｘ線照射装置により軟Ｘ線を照射可
   能に構成し、 前記熱処理装置全体を、軟Ｘ線を透過しない壁材により
   実質的に囲繞したことを特徴とする除電機能付き熱処理
   装置。
2. 【請求項２】 前記機械室を前記熱処理室の下方に配置
   し、該熱処理装置を熱処理室と機械室とに仕切るととも
   に、機械室と熱処理室の仕切り壁に前記窓を設けて軟Ｘ
   線を透過する材料で形成した遮蔽部材を嵌め込み、前記
   機械室内に設けた前記軟Ｘ線照射装置により前記窓を通
   して前記熱処理室内の加熱空気流または冷却空気流に対
   し軟Ｘ線を上向きに照射するように構成した請求項１記
   載の除電機能付き熱処理装置。