JP3138535B2 - フィルタ試験における微粒子の発生方法 - Google Patents
フィルタ試験における微粒子の発生方法Info
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、半導体製造設備のクリ
ーンルームや給気で最終段階に使われる超高性能エアフ
ィルタとしてのＨＥＰＡフィルタや、これよりもさらに
高効率のＵＬＰＡフィルタ等の気体用フィルタを試験す
る際に用いられる、フィルタ試験における微粒子の発生
方法に関するものである。
ーンルームや給気で最終段階に使われる超高性能エアフ
ィルタとしてのＨＥＰＡフィルタや、これよりもさらに
高効率のＵＬＰＡフィルタ等の気体用フィルタを試験す
る際に用いられる、フィルタ試験における微粒子の発生
方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】図４は、従来のエアフィルタ効率試験装
置の一例を概略的に示す全体構成ブロック図である。図
４に示すエアフィルタ効率試験装置において、符号１０
１は試験に必要な空気を高性能フィルタを通して送風す
る部分としての送風機及び前処理フィルタ部で、この送
風機及び前処理フィルタ部１０１では、通常、大気中に
含まれる塵埃は１０5 〜１０6 個／ｃｆ（０．１μｍ以
上）であるが、これを１０2 個／ｃｆ以下にした空気と
して送風するものである。１０２はＤＯＰ（フタル酸ジ
オクチル）粒子発生部、１０３はＤＯＰ粒子発生部１０
２で発生した高濃度ＤＯＰと清浄空気を混合することに
よって効率及びリーク試験に使用する適度な濃度のＤＯ
Ｐを供給するミキシング・チャンバーである。１０４は
フィルタ上流及び下流側の流量等を計測表示する計器パ
ネル、１０５は効率またはリーク試験を行うテスト・フ
ィルタ、１０６はテスト・フィルタ１０５の上流及び下
流側を粒径別に個数測定するための計測器としてのエア
ロゾル・スペクトロメータ、１０７はバイパス流量測定
部、１０８はバイパス流量調整用のボール・バルブ、１
０９はヒーター、１１０はクーラー、１１１はオリフィ
ス・プレートである。
置の一例を概略的に示す全体構成ブロック図である。図
４に示すエアフィルタ効率試験装置において、符号１０
１は試験に必要な空気を高性能フィルタを通して送風す
る部分としての送風機及び前処理フィルタ部で、この送
風機及び前処理フィルタ部１０１では、通常、大気中に
含まれる塵埃は１０5 〜１０6 個／ｃｆ（０．１μｍ以
上）であるが、これを１０2 個／ｃｆ以下にした空気と
して送風するものである。１０２はＤＯＰ（フタル酸ジ
オクチル）粒子発生部、１０３はＤＯＰ粒子発生部１０
２で発生した高濃度ＤＯＰと清浄空気を混合することに
よって効率及びリーク試験に使用する適度な濃度のＤＯ
Ｐを供給するミキシング・チャンバーである。１０４は
フィルタ上流及び下流側の流量等を計測表示する計器パ
ネル、１０５は効率またはリーク試験を行うテスト・フ
ィルタ、１０６はテスト・フィルタ１０５の上流及び下
流側を粒径別に個数測定するための計測器としてのエア
ロゾル・スペクトロメータ、１０７はバイパス流量測定
部、１０８はバイパス流量調整用のボール・バルブ、１
０９はヒーター、１１０はクーラー、１１１はオリフィ
ス・プレートである。
【０００３】そして、本装置は、ＤＯＰ粒子発生部１０
２で０．３μｍ程度のＤＯＰ粒子を発生させて、このＤ
ＯＰ粒子をテスト・フィルタ１０５の上流部に供給し、
そのテスト・フィルタ１０５を通過する前後のＤＯＰ粒
子数（空気中に含まれている粒子を含む。以下同じ。）
を測定してテスト・フィルタ１０５に捕集された粒子を
計算し、このテスト・フィルタの粒子捕集効率を求める
ものである。
２で０．３μｍ程度のＤＯＰ粒子を発生させて、このＤ
ＯＰ粒子をテスト・フィルタ１０５の上流部に供給し、
そのテスト・フィルタ１０５を通過する前後のＤＯＰ粒
子数（空気中に含まれている粒子を含む。以下同じ。）
を測定してテスト・フィルタ１０５に捕集された粒子を
計算し、このテスト・フィルタの粒子捕集効率を求める
ものである。
【０００４】図５は、テスト・フィルタ１０５のリーク
試験部における構成を示したものである。このリーク試
験部は、テスト・フィルタ１０５の下流側に、このテス
ト・フィルタ１０５の全面にわたってＸ−Ｙ方向にスキ
ャンするようにしてサンプリング吸引口１１２を設け、
このサンプリング吸引口１１２をサンプリングチューブ
１１３を介して微粒子計測器１１４に接続している。そ
して、Ｘ−Ｙ方向にスキャンしながらサンプリング吸引
口１１２より吸引された微粒子数を微粒子計測器１１４
で測定し、この値からテスト・フィルタ１０５全面のリ
ークの有無を測定するもので、この測定結果の記録等は
コンピュータ１１５で行われる。
試験部における構成を示したものである。このリーク試
験部は、テスト・フィルタ１０５の下流側に、このテス
ト・フィルタ１０５の全面にわたってＸ−Ｙ方向にスキ
ャンするようにしてサンプリング吸引口１１２を設け、
このサンプリング吸引口１１２をサンプリングチューブ
１１３を介して微粒子計測器１１４に接続している。そ
して、Ｘ−Ｙ方向にスキャンしながらサンプリング吸引
口１１２より吸引された微粒子数を微粒子計測器１１４
で測定し、この値からテスト・フィルタ１０５全面のリ
ークの有無を測定するもので、この測定結果の記録等は
コンピュータ１１５で行われる。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述し
た従来構成のエアフィルタ効率試験装置では、微粒子と
してＤＯＰを使用するため、テスト・フィルタ１０５に
捕集されたＤＯＰが再飛散し、これがシリコン・ウエハ
に付着して特性変動を起こすと言う問題点があった。ま
た、ＤＯＰの人体への健康上の安全性を気惧する意見も
ある。このため、ＤＯＰに代えて大気塵を使う方法も試
みられている。しかし、大気塵の場合には、成分及び個
数を目的の値（特に１０7 個／ｃｆ以上の高濃度にはで
きない）に制御することができないと言う問題があり、
一般には使われていない。
た従来構成のエアフィルタ効率試験装置では、微粒子と
してＤＯＰを使用するため、テスト・フィルタ１０５に
捕集されたＤＯＰが再飛散し、これがシリコン・ウエハ
に付着して特性変動を起こすと言う問題点があった。ま
た、ＤＯＰの人体への健康上の安全性を気惧する意見も
ある。このため、ＤＯＰに代えて大気塵を使う方法も試
みられている。しかし、大気塵の場合には、成分及び個
数を目的の値（特に１０7 個／ｃｆ以上の高濃度にはで
きない）に制御することができないと言う問題があり、
一般には使われていない。
【０００６】本発明は、上記問題点に鑑みてなされたも
のであり、その目的は人体や半導体シリコンウエハ等に
対する有害成分の発生が少なくして、安全性を向上させ
ることのできるフィルタ試験における微粒子の発生方法
を提供することにある。
のであり、その目的は人体や半導体シリコンウエハ等に
対する有害成分の発生が少なくして、安全性を向上させ
ることのできるフィルタ試験における微粒子の発生方法
を提供することにある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】上記問題を達成するため
に本発明に係るフィルタ試験における微粒子の発生方法
は、気体用フィルタの上流部に微粒子を混合させた気体
を供給し、前記気体フィルタを通過する前後の粒子数を
測定する際に用いられるものであって、前記気体用フィ
ルタの上流部における空気中にシランガスを放出させ、
この空気とシランガスとを反応させて前記微粒子として
使用するＳｉＯ２を発生させるようにしたものである。
に本発明に係るフィルタ試験における微粒子の発生方法
は、気体用フィルタの上流部に微粒子を混合させた気体
を供給し、前記気体フィルタを通過する前後の粒子数を
測定する際に用いられるものであって、前記気体用フィ
ルタの上流部における空気中にシランガスを放出させ、
この空気とシランガスとを反応させて前記微粒子として
使用するＳｉＯ２を発生させるようにしたものである。
【０００８】
【作用】この構成によれば、微粒子として、人体や半導
体シリコンウエハ等に対する有害成分の発生が少ないＳ
ｉＯ２（二酸化珪素）を使用するので、安全性が向上す
るとともに、半導体製造現場のフィルタとして用いても
特性変動を起こすようなことがなくなる。しかも、空気
中にシランガスを放出させてＳｉＯ２微粒子を発生させ
るので、そのＳｉＯ２微粒子を簡単に作ることができ
る。
体シリコンウエハ等に対する有害成分の発生が少ないＳ
ｉＯ２（二酸化珪素）を使用するので、安全性が向上す
るとともに、半導体製造現場のフィルタとして用いても
特性変動を起こすようなことがなくなる。しかも、空気
中にシランガスを放出させてＳｉＯ２微粒子を発生させ
るので、そのＳｉＯ２微粒子を簡単に作ることができ
る。
【０００９】
【実施例】以下、本発明の実施例について図面を用いて
詳細に説明する。図１は、本発明の一実施例として示す
エアフィルタ効率試験装置の全体構成ブロック図であ
る。図１に示すエアフィルタ効率試験装置において、符
号１は試験に必要な空気を高性能フィルタを通して送風
する部分としての送風機及び前処理フィルタ部である。
この送風機及び前処理フィルタ部１は、送風用モータ・
ファン１Ａと前処理フィルタ１Ｂとで構成されており、
送風用モータ・ファン１Ａで前処理フィルタ１Ｂに空気
を送り込んで大気中に含まれる塵埃を１０2 個／ｃｆ以
下にした空気として送風するものである。２はＳｉＯ2
（二酸化珪素）微粒子を発生させるＳｉＯ2 発生部、３
はＳｉＯ2 発生部２で発生したＳｉＯ2 微粒子を適当な
数含んだ清浄空気の流量を計測してコントロール及び表
示を行う計器パネル、４は効率またはリーク試験を行う
テスト・フィルタ、５はテスト・フィルタ４の上流及び
下流側を粒径別に個数測定するための計測器としてのエ
アロゾル・スペクトロメータ、６はバイパス流量測定
部、７はバイパス流量調整用のボール・バルブである。
詳細に説明する。図１は、本発明の一実施例として示す
エアフィルタ効率試験装置の全体構成ブロック図であ
る。図１に示すエアフィルタ効率試験装置において、符
号１は試験に必要な空気を高性能フィルタを通して送風
する部分としての送風機及び前処理フィルタ部である。
この送風機及び前処理フィルタ部１は、送風用モータ・
ファン１Ａと前処理フィルタ１Ｂとで構成されており、
送風用モータ・ファン１Ａで前処理フィルタ１Ｂに空気
を送り込んで大気中に含まれる塵埃を１０2 個／ｃｆ以
下にした空気として送風するものである。２はＳｉＯ2
（二酸化珪素）微粒子を発生させるＳｉＯ2 発生部、３
はＳｉＯ2 発生部２で発生したＳｉＯ2 微粒子を適当な
数含んだ清浄空気の流量を計測してコントロール及び表
示を行う計器パネル、４は効率またはリーク試験を行う
テスト・フィルタ、５はテスト・フィルタ４の上流及び
下流側を粒径別に個数測定するための計測器としてのエ
アロゾル・スペクトロメータ、６はバイパス流量測定
部、７はバイパス流量調整用のボール・バルブである。
【００１０】さらに、ＳｉＯ2 微粒子を発生するＳｉＯ
2 発生部２の構造を説明すると、このＳｉＯ2 発生部２
には、送風機及び前処理フィルタ部１と計器パネル３と
の間に、送風機及び前処理フィルタ部１を通った清浄空
気が送られて来るバーニングチャンバ２１が設けられて
いる。このバーニングチャンバー２１には、ＳｉＨ4ボ
ンベ２２からマスフローコントローラ２３を通してＳｉ
Ｈ4 （シラン）ガスが供給される。そのＳｉＨ4 ガス
は、バーニングチャンバー２１内のチューブ先端部２４
から放出されるが、このときバーニングチャンバー２１
内に送り込まれている空気中のＯ2 （酸素）と反応して
（この反応は一般的には燃焼と呼ばれる）、ＳｉＯ2及
びＨ2 Ｏ（水）を発生する。このとき、チューブ先端部
２４の形状とＳｉＨ4の流量を適当に選ぶことで、Ｓｉ
Ｏ2 微粒子の粒径と個数を目的の値に制御することがで
きる。
2 発生部２の構造を説明すると、このＳｉＯ2 発生部２
には、送風機及び前処理フィルタ部１と計器パネル３と
の間に、送風機及び前処理フィルタ部１を通った清浄空
気が送られて来るバーニングチャンバ２１が設けられて
いる。このバーニングチャンバー２１には、ＳｉＨ4ボ
ンベ２２からマスフローコントローラ２３を通してＳｉ
Ｈ4 （シラン）ガスが供給される。そのＳｉＨ4 ガス
は、バーニングチャンバー２１内のチューブ先端部２４
から放出されるが、このときバーニングチャンバー２１
内に送り込まれている空気中のＯ2 （酸素）と反応して
（この反応は一般的には燃焼と呼ばれる）、ＳｉＯ2及
びＨ2 Ｏ（水）を発生する。このとき、チューブ先端部
２４の形状とＳｉＨ4の流量を適当に選ぶことで、Ｓｉ
Ｏ2 微粒子の粒径と個数を目的の値に制御することがで
きる。
【００１１】そして、このように構成されたエアフィル
タ効率試験装置は、上述したようにしてＳｉＯ2 発生部
２でＳｉＯ2 微粒子を発生させて清浄空気と共にテスト
・フィルタ４の上流部に供給し、このテスト・フィルタ
４を通過する前後のＳｉＯ2微粒子数をエアロゾル・ス
ペクトロメータ５で測定し、テスト・フィルタ４に捕集
された粒子を計算して粒子捕集効率を求めるものであ
る。
タ効率試験装置は、上述したようにしてＳｉＯ2 発生部
２でＳｉＯ2 微粒子を発生させて清浄空気と共にテスト
・フィルタ４の上流部に供給し、このテスト・フィルタ
４を通過する前後のＳｉＯ2微粒子数をエアロゾル・ス
ペクトロメータ５で測定し、テスト・フィルタ４に捕集
された粒子を計算して粒子捕集効率を求めるものであ
る。
【００１２】図２は、テスト・フィルタ４のリーク試験
部における構成を示したものである。このリーク試験部
では、テスト・フィルタ４の上流側におけるＳｉＯ2 微
粒子が局所的に下流側に漏れるのを調べるもので、この
テスト・フィルタ４の全面にわたってＸ−Ｙ方向にスキ
ャンするサンプリング吸引口８を設け、このサンプリン
グ吸引口８をサンプリングチューブ９を介して微粒子計
測器１０に接続している。そして、Ｘ−Ｙ方向にスキャ
ンしながらサンプリング吸引口８より吸引された微粒子
数を微粒子計測器１０で測定する。このとき、リーク場
所では微粒子数が多く計測されるため、予め定めた基準
数との比較でテスト・フィルタ４全面のリークの有無を
測定する。また、この測定結果の記録などはコンピュー
タ１１で行われる。
部における構成を示したものである。このリーク試験部
では、テスト・フィルタ４の上流側におけるＳｉＯ2 微
粒子が局所的に下流側に漏れるのを調べるもので、この
テスト・フィルタ４の全面にわたってＸ−Ｙ方向にスキ
ャンするサンプリング吸引口８を設け、このサンプリン
グ吸引口８をサンプリングチューブ９を介して微粒子計
測器１０に接続している。そして、Ｘ−Ｙ方向にスキャ
ンしながらサンプリング吸引口８より吸引された微粒子
数を微粒子計測器１０で測定する。このとき、リーク場
所では微粒子数が多く計測されるため、予め定めた基準
数との比較でテスト・フィルタ４全面のリークの有無を
測定する。また、この測定結果の記録などはコンピュー
タ１１で行われる。
【００１３】図３はエアフィルタ効率試験装置の一変形
例を示す概略全体構成ブロック図である。図３において
図１と同一符号を付したものは図１と同一のもを示して
いる。そして、図１に示したエアフィルタ効率試験装置
とこの変形例におけるエアフィルタ効率試験装置とで大
きく異なる点は、この変形例の装置では、送風機及び前
処理フィルタ部１と計器パネル３との間に、送風機及び
前処理フィルタ部１を通った清浄空気が送られて来るダ
クト１６とは別に、このダクト１６より分岐させてＳｉ
Ｏ2 微粒子を発生するＳｉＯ2 発生部２を設け、このＳ
ｉＯ2 発生部２の下流側にダクト１６を通って来る清浄
空気とＳｉＯ2 発生部２で発生したＳｉＯ2 微粒子とを
混合して計器パネル４側へ流すミキシング・チャンバー
１７とを設けている点にある。
例を示す概略全体構成ブロック図である。図３において
図１と同一符号を付したものは図１と同一のもを示して
いる。そして、図１に示したエアフィルタ効率試験装置
とこの変形例におけるエアフィルタ効率試験装置とで大
きく異なる点は、この変形例の装置では、送風機及び前
処理フィルタ部１と計器パネル３との間に、送風機及び
前処理フィルタ部１を通った清浄空気が送られて来るダ
クト１６とは別に、このダクト１６より分岐させてＳｉ
Ｏ2 微粒子を発生するＳｉＯ2 発生部２を設け、このＳ
ｉＯ2 発生部２の下流側にダクト１６を通って来る清浄
空気とＳｉＯ2 発生部２で発生したＳｉＯ2 微粒子とを
混合して計器パネル４側へ流すミキシング・チャンバー
１７とを設けている点にある。
【００１４】すなわち、この変形例のエアフィルタ効率
試験装置でのＳｉＯ2 微粒子の発生方法は、バーニング
チャンバー２１内にＳｉＨ4 ボンベ２２からマスフロー
コントローラ２３を通してＳｉＨ4 ガスがチューブ先端
部２４から放出されると、このＳｉＨ4 ガスがダクト１
６より分岐されてバーニングチャンバー２１内に送り込
まれている空気中のＯ2 （酸素）と反応して燃焼し、Ｓ
ｉＯ2 及びＨ2 Ｏ（水）を発生することになる。このと
き、チューブ先端部２４の形状とＳｉＨ4 の流量を適当
に選ぶことで、ＳｉＯ2 微粒子の粒径と個数を目的の値
に制御することができる。そして、この変形例の構造で
はＳｉＯ2 発生部２をダクト１６より分岐させて設けて
いるので、バーニングチャンバー２１内での空気流速の
調整を簡単に行うことができ、ＳｉＯ2 微粒子の粒径と
個数の制御性が良くなる。
試験装置でのＳｉＯ2 微粒子の発生方法は、バーニング
チャンバー２１内にＳｉＨ4 ボンベ２２からマスフロー
コントローラ２３を通してＳｉＨ4 ガスがチューブ先端
部２４から放出されると、このＳｉＨ4 ガスがダクト１
６より分岐されてバーニングチャンバー２１内に送り込
まれている空気中のＯ2 （酸素）と反応して燃焼し、Ｓ
ｉＯ2 及びＨ2 Ｏ（水）を発生することになる。このと
き、チューブ先端部２４の形状とＳｉＨ4 の流量を適当
に選ぶことで、ＳｉＯ2 微粒子の粒径と個数を目的の値
に制御することができる。そして、この変形例の構造で
はＳｉＯ2 発生部２をダクト１６より分岐させて設けて
いるので、バーニングチャンバー２１内での空気流速の
調整を簡単に行うことができ、ＳｉＯ2 微粒子の粒径と
個数の制御性が良くなる。
【００１５】
【発明の効果】以上説明したとおり、本発明によれば、
微粒子として、人体や半導体シリコンウエハ等に対する
有害成分の発生が少ないＳｉＯ2 （二酸化珪素）を使用
するので、安全性が向上するとともに、半導体製造現場
のフィルタとして用いても特性変動を起こすことがなく
なる。また、微粒子として使用するＳｉＯ2 微粒子も簡
単に作ることができる。さらに、微粒子として使用する
ＳｉＯ2 微粒子の粒径と個数の制御性を良くするとがで
きる。
微粒子として、人体や半導体シリコンウエハ等に対する
有害成分の発生が少ないＳｉＯ2 （二酸化珪素）を使用
するので、安全性が向上するとともに、半導体製造現場
のフィルタとして用いても特性変動を起こすことがなく
なる。また、微粒子として使用するＳｉＯ2 微粒子も簡
単に作ることができる。さらに、微粒子として使用する
ＳｉＯ2 微粒子の粒径と個数の制御性を良くするとがで
きる。
【図１】本発明の一実施例として示すエアフィルタ効率
試験装置の全体構成ブロック図である。
試験装置の全体構成ブロック図である。
【図２】図１に示した同上装置のリーク試験部における
概略構成図である。
概略構成図である。
【図３】本発明の他の実施例として示すエアフィルタ効
率試験装置の全体構成ブロック図である。
率試験装置の全体構成ブロック図である。
【図４】従来のエアフィルタ効率試験装置の概略全体構
成ブロック図である。
成ブロック図である。
【図５】図４に示した同上リーク試験部の概略構成図で
ある。
ある。
２ ＳｉＯ2 発生部 ４ テスト・フィルタ（気体フィルタ） ２２ ＳｉＨ4 ボンベ
Claims (1)
- 【請求項１】 気体用フィルタの上流部に微粒子を混合
させた気体を供給し、前記気体フィルタを通過する前後
の粒子数を測定するフィルタ試験における前記微粒子の
発生方法において、 前記気体用フィルタの上流部における空気中にシランガ
スを放出させ、この空気とシランガスとを反応させて前
記微粒子として使用するＳｉＯ２を発生させることを特
徴とするフィルタ試験における微粒子の発生方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP04163442A JP3138535B2 (ja) | 1992-05-29 | 1992-05-29 | フィルタ試験における微粒子の発生方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP04163442A JP3138535B2 (ja) | 1992-05-29 | 1992-05-29 | フィルタ試験における微粒子の発生方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05332892A JPH05332892A (ja) | 1993-12-17 |
| JP3138535B2 true JP3138535B2 (ja) | 2001-02-26 |
Family
ID=15773973
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP04163442A Expired - Fee Related JP3138535B2 (ja) | 1992-05-29 | 1992-05-29 | フィルタ試験における微粒子の発生方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3138535B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| USD732789S1 (en) | 2014-01-29 | 2015-06-23 | Tippmann Companies Llc | Palletized product spacer |
| KR20210066069A (ko) * | 2019-11-27 | 2021-06-07 | 방극진 | 마스크 성능 시험장치 |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2695754B2 (ja) * | 1994-11-04 | 1998-01-14 | ニッタ株式会社 | エアーフィルタのリーク検査方法 |
-
1992
- 1992-05-29 JP JP04163442A patent/JP3138535B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| USD732789S1 (en) | 2014-01-29 | 2015-06-23 | Tippmann Companies Llc | Palletized product spacer |
| KR20210066069A (ko) * | 2019-11-27 | 2021-06-07 | 방극진 | 마스크 성능 시험장치 |
| KR102272982B1 (ko) | 2019-11-27 | 2021-07-05 | 방극진 | 마스크 성능 시험장치 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH05332892A (ja) | 1993-12-17 |
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