JPH0797563B2 - 熱処理装置 - Google Patents

熱処理装置

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JPH0797563B2
JPH0797563B2 JP60175802A JP17580285A JPH0797563B2 JP H0797563 B2 JPH0797563 B2 JP H0797563B2 JP 60175802 A JP60175802 A JP 60175802A JP 17580285 A JP17580285 A JP 17580285A JP H0797563 B2 JPH0797563 B2 JP H0797563B2
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JP
Japan
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load station
heat treatment
section
treatment equipment
dust
Prior art date
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JP60175802A
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JPS6236817A (ja
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慎也 三浦
勉 半野
正敏 駒谷
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Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
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Publication date
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Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の利用分野〕 本発明は拡散装置や酸化装置等の熱処理装置に係り、特
に本部位上方ダウンフロータイプクリーンフィルターユ
ニットを持つシステムにおいて本部位にエアー滞留部を
発生させず全域層流エアーを確保するのに好適な熱処理
装置に関する。
〔発明の背景〕
本出願人が知る本発明に最も近い先行技術（調査範囲：
国内公開特許55年〜59年６月国際分類H01L21/22）とし
ては特開昭57−201016号公報であるが、この公報には反
応炉およびガス配管系内を清掃する技術が記載されてお
り、ロードステーション又はワークステーションに関す
る記載はない。
〔発明の目的〕
本発明の目的は拡散装置等の熱処理装置のロードステー
ションにおいてダウンフローエアーの滞留がない形状を
提供することにある。
〔発明の概要〕 ロードステーション３において滞留は空気流れがどこに
も抜けられない箇所に渦を伴い生じるので、本発明の実
施例によれば通風路10,11,12をロードステーションテー
ブル3b上奥側等に設けることで機構部からの塵を含む空
気を後方に排出することができる。
〔発明の実施例〕
第３図により拡散装置のロードステーション部の全体構
造につき説明する。
拡散装置のロードステーション３には半導体ウエハーを
プロセスチューブ内外へ挿入・引出しするローダ機構２
がレイアウトされるが、この機構からの発塵は避け難
い。即ちロードステーション３の上方にはフィルターユ
ニット１が配置されダウンフローエアーを供給するよう
になっており機構部からの発塵のスムーズな排出と作業
エリアからの人の移動による塵の侵入を極力排除するこ
とをその狙いとなっている。
ロードステーションは第３図にも示した如く前面開放で
上方にフィルターユニット１を持ち側面の一方が炉体５
のスカベンジャー４に接続されている以外はパネル貼り
となっている。ここで現今の市販品でみられるようにロ
ードステーションの背面或は台６上に門口が設けられて
いないと仮定すると、第２図に示すようにダウンフロー
エアーはテーブル６上奥側で滞留部を形成し上部のロー
ダ機構部からの塵が集合することとなり、前方の作業エ
リアでの作業者の移動により空気の流れが乱れ、塵がま
き散らされる。この塵はウエハー上に付着し歩留を低下
させる要因となる。
本発明では第１図の側面図及び第４図の正面図に示すよ
うにロードステーションにおけるエアー滞留をなくすた
めテーブル上、バックパネル８の少なくとも一箇所に通
風路又は開口10,11,12を設ける。特に効果的な箇所とし
ては炉体寄りのウエハーを挿入・引出しする領域に設け
ることでローダ機構からの発塵のウエハーへの影響を低
減出来る。
〔発明の効果〕
本発明によれば塵の滞留が低減出来るので、ウエハー付
着異物による不良率が減る。
【図面の簡単な説明】
第１図は本発明によるロードステーションでの空気流れ
を説明する側面図、第２図は従来のロードステーション
でのダウンフローシステムの空気流れ説明図、第３図は
拡散装置の斜視図、第４図は第１図の正面図である。 １……フィルターユニット、２……ローダ機構、３……
ロードステーション、４……スカベンジャー、５……炉
体、６……台、８……バックパネル、10,11,12……通風
路（開口部）。
フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭55−158626（ＪＰ，Ａ) 特開 昭51−51051（ＪＰ，Ａ) 実開 昭50−68400（ＪＰ，Ｕ)

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】ウエハーのローダ部（２）と、該ローダ部
    （２）の背後に位置する背面パネル部（８）と、上記ロ
    ーダ部（２）の下方に位置するテーブル部（６）と、上
    方から下方に空気を流す手段とを具備して成るロードス
    テーションと該ロードステーションの横方向に配置され
    た炉体（５）とを具備して成り、上記テーブル（６）と
    上記背面パネル部（８）との接する辺に沿って、該接す
    る辺の近傍で上記テーブル（６）又は上記背面パネル部
    （８）の少なくも一箇所に通風用の開口を設けたことを
    特徴とする熱処理装置。
JP60175802A 1985-08-12 1985-08-12 熱処理装置 Expired - Lifetime JPH0797563B2 (ja)

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Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0779092B2 (ja) * 1987-07-27 1995-08-23 松下電子工業株式会社 ボ−トロ−ダ−装置
JPH0672710B2 (ja) * 1988-09-05 1994-09-14 日本電気株式会社 半導体ウェハー処理装置
US5221201A (en) * 1990-07-27 1993-06-22 Tokyo Electron Sagami Limited Vertical heat treatment apparatus
JP3108459B2 (ja) * 1991-02-26 2000-11-13 東京エレクトロン株式会社 縦型熱処理装置

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JPS5243176Y2 (ja) * 1973-10-22 1977-09-30
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JPS55158626A (en) * 1979-05-30 1980-12-10 Chiyou Lsi Gijutsu Kenkyu Kumiai Heat treating apparatus

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