JPS6236817A - 熱処理装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の利用分野〕 本発明は拡散装置や酸化装置等の熱処理装置に係り、特
に本部位上方ダウンフロータイブクリーンフィルターユ
ニットを持つシステムにおいて本部位にエアー滞留部を
発生させず全域層流エアーを確保するのに好適な熱処理
装置に関する。

〔発明の背景〕

本出願人が知る本発明に最も近い先行技術（ｍｉ！査範
囲：国内公開特許５５年〜５９年６月国際分類Ｈ０１Ｌ
２１／２２）としては特開昭５７−２０１０１６号公報
であるが、この公報には反応炉およびガス配管系内を清
掃する技術が記載されており、ロードステーション又は
ワークステーションに関する記載はない。

（発明の目的〕 本発明の目的は拡散装置等の熱処理装置のロードステー
ションにおいてダウンフローエアーの滞留がない形状を
提供することにある。

〔発明の概要〕

ロードステーション３において滞留は空気流れがどこに
も抜けられない箇所に渦を伴い生じるので、本発明の実
施例によれば通風路１０，１１゜１２をロードステーシ
ョンテーブル３ｂ上奥側等析・ に設けることで械構部からの塵を含む空気を後方に排出
することができる。

〔発明の実施例〕

第３図により拡散装置のロードステーション部の全体構
造につき説明する・ 拡散装置のロードステーション３には半導体ウェハーを
プロセスチューブ内外へ挿入・引出しするローダ機構２
がレイアウトされるが、この機構からの発塵は避は難い
。即ちロードステーション３の上方にはフィルターユニ
ット１が配置されダウンフローエアーを供給するように
なっており機構部からの発塵のスムーズな排出と作業エ
リアからの人の移動による塵の侵入を極力排除すること
がその狙いとなっている。

ロードステーションは第３図にも示した如く（カタログ
添付）前面開放で上方にフィルターユニット１を持ち側
面の一方が炉体５のスカベンジャー４に接続されている
以外はパネル貼りどなっている。ここで現今の市販品で
みられるようにロードステーションの背面或は台６上に
門口が設けられていないと仮定すると、第２図に示すよ
うにダウンフローエアーはテーブル６上奥側で滞留部を
形成し上部のローダ機構部からの塵が集合することとな
り、前方の作業エリアでの作業者の移動により空気の流
れが乱れ、塵がまき散らされる。

この塵はウェハー上に付着し歩留を低下させる要因とな
る。

本発明では第３図の側面図及び第４図の正面図に示すよ
うにロードステーションにおけるエアー滞留をなくすた
めテーブル上、バックパネル８の少なくとも一箇所に通
風路又は開口１０，１１゜１２を設ける。特に効果的な
箇所としては炉体寄りのウェハーを挿入・引出しする領
域に設けることでローダ機構からの発塵のウェハーへの
影響を低減出来る。

〔発明の効果〕

本発明によれば塵の滞留が低減出来るので、ウェハー付
着異物による不良率が減る。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明によるロードステーションでの空気流れ
を説明する側面図、第２図は従来のロードステーション
でのダウンフローシステムの空気流れ説明図、第３図は
拡散装置の斜視図、第４図は第１図の正面図である。 １・・・フィルターユニット、２・・・ローダ機１．３
・・・ロードステーション、４・・・スカベンジャー、
５・・・炉体、６・・・台、８・・・バックパネル、１
０，１１．１２・・・通風路（開口部）。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 　ウェハーのローダ部（２）と、該ローダ部（２）の背
   後に位置する背面パネル部（８）と、上記ローダ部（２
   ）の下方に位置するテーブル部（６）と、上方から下方
   に空気を流す手段とを具備とて成るロードステーション
   と該ロードステーションの横方向に配置された炉体（５
   ）とを具備して成り、上記テーブル（６）の奥に通風用
   の開口を設けたことを特徴とする熱処理装置。